JP7024600B2 - 精錬用ランス、精錬用ランス装置、及びrh型精錬装置並びに極低硫溶鋼の製造方法 - Google Patents
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Description
(1)先端に主孔ノズルを有する精錬用ランスであって、
前記主孔ノズルはラバール形状であって、スロート部と、スロート部の下流側に順次径が拡大する末広部を有し、
前記主孔ノズルに酸素ガスを供給したり、キャリヤーガスとともに粉体を供給したりする主孔ガス流路と、
前記主孔ノズルの末広部に開口する複数の副孔と、前記各副孔にガスを供給する副孔ガス流路と、前記各副孔ガス流路を流れるガス流量を副孔ごとに独立に制御することのできる副孔ガス流量調整装置とを有し、前記副孔ガス流量調整装置は、前記各副孔に副孔ガスを流しつつ副孔間の副孔ガス流量を異ならせることができ、
前記副孔は、前記主孔ノズルの末広部の起点から主孔ノズル出口方向にスロート部直径以上の距離に配置されており、前記複数の副孔のうち少なくとも2つの副孔は前記主孔ノズルの中心軸に対して対称の位置に設けていることを特徴とする精錬用ランス。
(2)上記(1)に記載の精錬用ランスを用いた精錬用ランス装置であって、前記主孔ガス流路に非酸化性ガスと酸素ガスとを切り替えて供給することのできる主孔ガス供給装置と、前記主孔ガス流路に前記粉体を供給する粉体供給装置を有することを特徴とする精錬用ランス装置。
(3)上記(2)に記載の精錬用ランス装置を備えたRH型精錬装置であって、前記精錬用ランスがRH型精錬装置の真空槽内に配置されていることを特徴とするRH型精錬装置。
(4)上記(1)に記載の精錬用ランスが真空槽内に配置されているRH型精錬装置を用いて行う極低硫鋼の製造方法であって、
前記副孔ガス流量調整装置によって前記各副孔に副孔ガスを流しつつ副孔間の副孔ガス流量を異ならせることにより、前記粉体としての脱硫剤が真空槽の上昇管直上に到達する条件にて前記キャリヤーガスとともに前記粉体を吹付けて脱硫処理を実施し、その後、
主孔ノズル供給ガスを酸素ガスに切り替えて、前記各副孔のガス流量を同じとして前記主孔ノズルからの流体噴出方向をノズル軸方向とし、鋼中のアルミ燃焼によるアルミ昇熱を実施することを特徴とする、極低硫溶鋼の製造方法。
図1、2は、本発明による精錬用ランス構造の一例を水冷ランスにて構成する場合の図面であり、また、図3は図1、2に示した構造のランスを具備したRH型精錬装置による操業形態を示したものである。ここで、本発明は、図1~3に限られたものではなく、本発明の請求項で規定される範囲にて、適宜その効果を溶鋼精錬プロセスにて発現するものである。ここで、図1(A)は精錬用ランスの縦断面図を示し、図1(B)はB-B矢視平面断面図を示し、図1(C)は下方から見た精錬用ランス先端部を示している。図2も同様である。
また、副孔の設置数を4個とした場合には、図1におけるa系統とd系統のガス流量を操作することで、噴流の方向をc系統の副孔の方に偏向させることに加えて、aとdを結ぶ方向にも偏向させることが可能になる。但し、副孔の数は多くするほど噴流方向の制御は容易になるが、多くするほどランスの構造が複雑になるほか、設備費用も嵩むので、6個程度までが適当といえる。
2:冷却水循環管
3:冷却水外側通路
4:内管
5:外管
6:外管流路分割板
7:主孔ノズル
8:スロート部
9:末広部
10:副孔
11:主孔ガス流路
12:副孔ガス流路
13:最外管
14:精錬用ランス
16:主孔ガス供給装置
16a:酸素ガス系
16b:非酸化性ガス系
17:粉体供給装置
18:主孔ガス流量調整弁
19:主孔ガス配管
20:副孔ガス流量調整弁
21:副孔ガス配管
22:副孔ガス流量調整装置
31:取鍋
32:真空槽
33:上昇管
34:下降管
42:溶鋼
45:流体噴出角度
46:噴流
51:ノズル軸
Claims (4)
- 先端に主孔ノズルを有する精錬用ランスであって、
前記主孔ノズルはラバール形状であって、スロート部と、スロート部の下流側に順次径が拡大する末広部を有し、
前記主孔ノズルに酸素ガスを供給したり、キャリヤーガスとともに粉体を供給したりする主孔ガス流路と、
前記主孔ノズルの末広部に開口する複数の副孔と、前記各副孔にガスを供給する副孔ガス流路と、前記各副孔ガス流路を流れるガス流量を副孔ごとに独立に制御することのできる副孔ガス流量調整装置とを有し、前記副孔ガス流量調整装置は、前記各副孔に副孔ガスを流しつつ副孔間の副孔ガス流量を異ならせることができ、
前記副孔は、前記主孔ノズルの末広部の起点から主孔ノズル出口方向にスロート部直径以上の距離に配置されており、前記複数の副孔のうち少なくとも2つの副孔は前記主孔ノズルの中心軸に対して対称の位置に設けていることを特徴とする精錬用ランス。 - 請求項1に記載の精錬用ランスを用いた精錬用ランス装置であって、前記主孔ガス流路に非酸化性ガスと酸素ガスとを切り替えて供給することのできる主孔ガス供給装置と、前記主孔ガス流路に前記粉体を供給する粉体供給装置を有することを特徴とする精錬用ランス装置。
- 請求項2に記載の精錬用ランス装置を備えたRH型精錬装置であって、前記精錬用ランスがRH型精錬装置の真空槽内に配置されていることを特徴とするRH型精錬装置。
- 請求項1に記載の精錬用ランスが真空槽内に配置されているRH型精錬装置を用いて行う極低硫鋼の製造方法であって、
前記副孔ガス流量調整装置によって前記各副孔に副孔ガスを流しつつ副孔間の副孔ガス流量を異ならせることにより、前記粉体としての脱硫剤が真空槽の上昇管直上に到達する条件にて前記キャリヤーガスとともに前記粉体を吹付けて脱硫処理を実施し、その後、
主孔ノズル供給ガスを酸素ガスに切り替えて、前記各副孔のガス流量を同じとして前記主孔ノズルからの流体噴出方向をノズル軸方向とし、鋼中のアルミ燃焼によるアルミ昇熱を実施することを特徴とする、極低硫溶鋼の製造方法。
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2018
- 2018-05-23 JP JP2018098447A patent/JP7024600B2/ja active Active
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