JP7018295B2 - Conductive paste - Google Patents

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Description

本発明は、導電性ペーストに関する。 The present invention relates to a conductive paste.

近年、伸縮性配線基板を構成する配線に用いる材料について様々な開発がなされている。この種の技術としては、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。同文献によれば、バインダーゴムポリマーと導電粉とを2:8(重量比)で混合し、3本ロールミルにて分散した後、溶剤にて粘度調整を行い導電性ペーストとした、と記載されている(特許文献1の段落0037)。 In recent years, various developments have been made on materials used for wiring constituting elastic wiring boards. As a technique of this kind, for example, the technique described in Patent Document 1 is known. According to the same document, it is described that the binder rubber polymer and the conductive powder were mixed at a ratio of 2: 8 (weight ratio), dispersed in a three-roll mill, and then the viscosity was adjusted with a solvent to obtain a conductive paste. (Paragraph 0037 of Patent Document 1).

特開2015-55615号公報JP-A-2015-55615

しかしながら、本発明者が検討したところ、上記文献に記載の導電性ペーストにおいて、印刷性や耐久性の点で、改善の余地を有していることが判明した。 However, as a result of examination by the present inventor, it has been found that the conductive paste described in the above document has room for improvement in terms of printability and durability.

本発明者はさらに検討したところ、導電性フィラーを含有する導電性ペーストに対して、さらにシリカ粒子を加えることにより、導電性ペーストを用いた配線などの導電性樹脂膜において、印刷性や耐久性を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of further studies, the present inventor has further investigated and found that by further adding silica particles to a conductive paste containing a conductive filler, printability and durability are obtained in a conductive resin film such as wiring using the conductive paste. It was found that the present invention can be improved, and the present invention has been completed.

本発明によれば、
シリカ粒子(C)を含有するエラストマー組成物と、
導電性フィラーと、
溶剤と、を含む導電性ペーストであって、
前記導電性フィラーは、リン片状の金属粉(G)を含み、
前記導電性フィラーの含有量が、前記導電性ペースト全体に対して、40質量%以上85質量%以下であり、
前記エラストマー組成物の含有量が、前記導電性ペースト全体に対して、1質量%以上25質量%以下であり、
前記シリカ粒子(C)の含有量が、前記導電性ペースト全体に対して、1質量%以上15質量%以下であり、かつ、前記シリカ粒子(C)および前記導電性フィラーの合計量100質量%に対して、1質量%以上20質量%以下であり、
室温25℃における、せん断速度20〔1/s〕で測定した時の当該導電性ペーストの粘度が、1Pa・s以上100Pa・s以下である、
導電性ペーストが提供される。
According to the present invention
An elastomer composition containing silica particles (C) and
With conductive filler ,
A conductive paste containing a solvent and
The conductive filler contains a lint-like metal powder (G) and contains.
The content of the conductive filler is 40 % by mass or more and 85% by mass or less with respect to the entire conductive paste.
The content of the elastomer composition is 1% by mass or more and 25% by mass or less with respect to the entire conductive paste.
The content of the silica particles (C) is 1% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the entire conductive paste , and the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler is 100% by mass. 1% by mass or more and 20% by mass or less with respect to%.
The viscosity of the conductive paste as measured at a shear rate of 20 [1 / s] at room temperature of 25 ° C. is 1 Pa · s or more and 100 Pa · s or less.
A conductive paste is provided.

本発明によれば、印刷性や耐久性に優れた導電性ペーストを提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a conductive paste having excellent printability and durability.

本実施形態における電子装置の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of the electronic apparatus in this embodiment. 本実施形態における電子装置の製造工程の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the electronic device in this embodiment.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、本明細書中において、「~」は特に断りがなければ以上から以下を表す。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all drawings, similar components are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. Further, in the present specification, "-" indicates the following from the above unless otherwise specified.

本実施形態の導電性ペーストの概要について説明する。
本実施形態の導電性ペーストは、シリカ粒子(C)を含有するエラストマー組成物と、
導電性フィラーと、溶剤と、を含むことができる。
The outline of the conductive paste of this embodiment will be described.
The conductive paste of the present embodiment contains an elastomer composition containing silica particles (C) and
It can contain a conductive filler and a solvent.

本実施形態の導電性ペーストは、溶剤を含むペースト状の導電性樹脂組成物で構成されているため、基板上に対する塗布性や成膜性に優れており、またスクリーン印刷等の印刷性に優れている。したがって、本実施形態の導電性ペーストは、例えば、伸縮性配線基板を構成する配線を形成する用途に適することができる。 Since the conductive paste of the present embodiment is composed of a paste-like conductive resin composition containing a solvent, it is excellent in coatability and film forming property on a substrate, and is also excellent in printability such as screen printing. ing. Therefore, the conductive paste of the present embodiment can be suitable for, for example, an application for forming wiring constituting an elastic wiring board.

本実施形態の導電性ペーストは、導電性フィラーに加えてシリカ粒子を含有するため、当該導電性ペーストの硬化物等で構成されるエラストマーの機械的強度や耐久性を向上させることができる。このような導電性ペーストからなるエラストマーを、伸縮性配線基板を構成する配線などの導電性樹脂膜に適用することによって、その導電性樹脂膜の機械的強度や耐久性を向上させることができる。これにより、本実施形態の導電性ペーストで形成された配線を備える伸縮性配線基板の伸縮電気特性を高めることができる。 Since the conductive paste of the present embodiment contains silica particles in addition to the conductive filler, it is possible to improve the mechanical strength and durability of the elastomer composed of the cured product of the conductive paste. By applying an elastomer made of such a conductive paste to a conductive resin film such as wiring constituting a stretchable wiring board, the mechanical strength and durability of the conductive resin film can be improved. This makes it possible to enhance the stretchable electrical characteristics of the stretchable wiring board provided with the wiring formed of the conductive paste of the present embodiment.

以下、本実施形態の導電性ペーストの各成分について説明する。 Hereinafter, each component of the conductive paste of the present embodiment will be described.

本実施形態の導電性ペーストは、エラストマー組成物を含むことがきる。これにより、導電性ペーストからなるエラストマーを配線などに利用した際も、当該エラストマーに対して適度な伸縮性を発現することができる。また、本実施形態の導電性ペーストは、シリカ粒子(C)を含有することができる。これにより、エラストマーの耐久性や機械的強度を向上させることができる。 The conductive paste of this embodiment can contain an elastomer composition. As a result, even when an elastomer made of a conductive paste is used for wiring or the like, appropriate elasticity can be exhibited with respect to the elastomer. Further, the conductive paste of the present embodiment can contain silica particles (C). This makes it possible to improve the durability and mechanical strength of the elastomer.

エラストマー組成物は、上記エラストマーを形成するために用いるものであり、例えば、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴムからなる群から選択される一種以上の熱硬化性エラストマーを形成するために用いる熱硬化性エラストマー組成物を含むことができ、好ましくは、シリコーンゴム系硬化性組成物を含むことができる。 The elastomer composition is used for forming the above-mentioned elastomer, and is, for example, thermosetting used for forming one or more thermosetting elastomers selected from the group consisting of silicone rubber, urethane rubber, and fluororubber. It can contain an elastomer composition, preferably a silicone rubber-based curable composition.

(エラストマー)
上記エラストマーとしては、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、スチレンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム等を用いることができる。この中でも、エラストマーは、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴムからなる群から選択される一種以上の熱硬化性エラストマーを含むことができる。また、エラストマーは、化学的に安定であり、また、機械的強度にも優れる観点からシリコーンゴムを含むことができる。
上記熱硬化性エラストマーは、熱硬化性エラストマー組成物の硬化物で構成することができる。例えば、上記シリコーンゴムは、シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物で構成することができる。なお熱可塑性エラストマーは、熱可塑性エラストマーの乾燥物で構成することができる。本明細書中、導電性ペーストのエラストマーとは、導電性ペーストを乾燥または硬化して形成されたエラストマーを意味するものとする。
(Elastomer)
As the elastomer, silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, acrylic rubber, styrene rubber, chloroprene rubber, ethylene propylene rubber and the like can be used. Among these, the elastomer can include one or more thermosetting elastomers selected from the group consisting of silicone rubber, urethane rubber, and fluororubber. Further, the elastomer can contain silicone rubber from the viewpoint of being chemically stable and having excellent mechanical strength.
The thermosetting elastomer can be composed of a cured product of the thermosetting elastomer composition. For example, the silicone rubber can be composed of a cured product of a silicone rubber-based curable composition. The thermoplastic elastomer can be composed of a dried product of the thermoplastic elastomer. In the present specification, the elastomer of the conductive paste means an elastomer formed by drying or curing the conductive paste.

以下、本実施形態のエラストマーの一例であるシリコーンゴムとして、シリコーンゴム系硬化性組成物を用いた場合について説明する。 Hereinafter, a case where a silicone rubber-based curable composition is used as the silicone rubber as an example of the elastomer of the present embodiment will be described.

本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を含むことができる。ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物の主成分となる重合物である。 The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain a vinyl group-containing organopolysiloxane (A). The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) is a polymer which is a main component of the silicone rubber-based curable composition of the present embodiment.

上記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、直鎖構造を有するビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を含むことができる。 The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) can include a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) having a linear structure.

上記ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、直鎖構造を有し、かつ、ビニル基を含有しており、かかるビニル基が硬化時の架橋点となる。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) has a linear structure and contains a vinyl group, and the vinyl group serves as a cross-linking point at the time of curing.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)のビニル基の含有量は、特に限定されないが、例えば、分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ15モル%以下であるのが好ましく、0.01~12モル%であるのがより好ましい。これにより、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)中におけるビニル基の量が最適化され、後述する各成分とのネットワークの形成を確実に行うことができる。本実施形態において、「~」は、その両端の数値を含むことを意味する。 The content of the vinyl group of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably, for example, having two or more vinyl groups in the molecule and 15 mol% or less. , 0.01-12 mol%, more preferably. As a result, the amount of vinyl groups in the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is optimized, and a network with each component described later can be reliably formed. In the present embodiment, "to" means to include the numerical values at both ends thereof.

なお、本明細書中において、ビニル基含有量とは、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を構成する全ユニットを100モル%としたときのビニル基含有シロキサンユニットのモル%である。ただし、ビニル基含有シロキサンユニット1つに対して、ビニル基1つであると考える。 In the present specification, the vinyl group content is the mol% of the vinyl group-containing siloxane unit when all the units constituting the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) are 100 mol%. .. However, it is considered that there is one vinyl group for each vinyl group-containing siloxane unit.

また、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の重合度は、特に限定されないが、例えば、好ましくは1000~10000程度、より好ましくは2000~5000程度の範囲内である。なお、重合度は、例えばクロロホルムを展開溶媒としたGPC(ゲル透過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算の数平均重合度(又は数平均分子量)等として求めることができる。 The degree of polymerization of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably in the range of, for example, preferably about 1000 to 10000, and more preferably about 2000 to 5000. The degree of polymerization can be determined, for example, as the polystyrene-equivalent number average degree of polymerization (or number average molecular weight) in GPC (gel permeation chromatography) using chloroform as a developing solvent.

さらに、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の比重は、特に限定されないが、0.9~1.1程度の範囲であるのが好ましい。 Further, the specific gravity of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably in the range of about 0.9 to 1.1.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)として、上記のような範囲内の重合度および比重を有するものを用いることにより、得られるシリコーンゴムの耐熱性、難燃性、化学的安定性等の向上を図ることができる。 By using a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) having a degree of polymerization and specific gravity within the above range, the silicone rubber obtained has heat resistance, flame retardancy, chemical stability, etc. Can be improved.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)としては、特に、下記式(1)で表される構造を有するものであるが好ましい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) preferably has a structure represented by the following formula (1).

Figure 0007018295000001
Figure 0007018295000001

式(1)中、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられ、中でも、ビニル基が好ましい。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基等が挙げられる。 In formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and the like, and among them, a vinyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group and the like.

また、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Further, R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

また、Rは炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Further, R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group.

さらに、式(1)中のRおよびRの置換基としては、例えば、メチル基、ビニル基等が挙げられ、Rの置換基としては、例えば、メチル基等が挙げられる。 Further, examples of the substituent of R 1 and R 2 in the formula (1) include a methyl group, a vinyl group and the like, and examples of the substituent of R 3 include a methyl group and the like.

なお、式(1)中、複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。さらに、R、およびRについても同様である。 In the equation (1), the plurality of R 1s are independent of each other and may be different from each other or may be the same. The same applies to R 2 and R 3 .

さらに、m、nは、式(1)で表されるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を構成する繰り返し単位の数であり、mは0~2000の整数、nは1000~10000の整数である。mは、好ましくは0~1000であり、nは、好ましくは2000~5000である。 Further, m and n are the number of repeating units constituting the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) represented by the formula (1), m is an integer of 0 to 2000, and n is 1000 to 10000. Is an integer of. m is preferably 0 to 1000, and n is preferably 2000 to 5000.

また、式(1)で表されるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の具体的構造としては、例えば下記式(1-1)で表されるものが挙げられる。 Moreover, as a specific structure of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) represented by the formula (1), for example, the one represented by the following formula (1-1) can be mentioned.

Figure 0007018295000002
Figure 0007018295000002

式(1-1)中、RおよびRは、それぞれ独立して、メチル基またはビニル基であり、少なくとも一方がビニル基である。 In formula (1-1), R 1 and R 2 are each independently a methyl group or a vinyl group, and at least one of them is a vinyl group.

さらに、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)としては、ビニル基含有量が分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ0.4モル%以下である第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、ビニル基含有量が0.5~15モル%である第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを含有するものであるのが好ましい。シリコーンゴムの原料である生ゴムとして、一般的なビニル基含有量を有する第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、ビニル基含有量が高い第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを組み合わせることで、ビニル基を偏在化させることができ、シリコーンゴムの架橋ネットワーク中に、より効果的に架橋密度の疎密を形成することができる。その結果、より効果的にシリコーンゴムの引裂強度を高めることができる。 Further, the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) contains a first vinyl group having a vinyl group content of 2 or more in the molecule and 0.4 mol% or less. It contains a linear organopolysiloxane (A1-1) and a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) having a vinyl group content of 0.5 to 15 mol%. It is preferable to have it. As raw rubber which is a raw material of silicone rubber, a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) having a general vinyl group content and a second vinyl group-containing direct having a high vinyl group content. By combining with a chain organopolysiloxane (A1-2), the vinyl group can be unevenly distributed, and the cross-linking density can be more effectively formed in the cross-linking network of the silicone rubber. As a result, the tear strength of the silicone rubber can be increased more effectively.

具体的には、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)として、例えば、上記式(1-1)において、Rがビニル基である単位および/またはRがビニル基である単位を、分子内に2個以上有し、かつ0.4モル%以下を含む第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、Rがビニル基である単位および/またはRがビニル基である単位を、0.5~15モル%含む第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを用いるのが好ましい。 Specifically, as the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1), for example, in the above formula (1-1), a unit in which R 1 is a vinyl group and / or a unit in which R 2 is a vinyl group is used. , A first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) having two or more in the molecule and containing 0.4 mol% or less, and a unit in which R 1 is a vinyl group and / or R. It is preferable to use a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) containing 0.5 to 15 mol% of the unit in which 2 is a vinyl group.

また、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)は、ビニル基含有量が0.01~0.2モル%であるのが好ましい。また、第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)は、ビニル基含有量が、0.8~12モル%であるのが好ましい。 Further, the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) preferably has a vinyl group content of 0.01 to 0.2 mol%. Further, the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) preferably has a vinyl group content of 0.8 to 12 mol%.

さらに、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを組み合わせて配合する場合、(A1-1)と(A1-2)の比率は特に限定されないが、例えば、重量比で(A1-1):(A1-2)が50:50~95:5であるのが好ましく、80:20~90:10であるのがより好ましい。 Further, when the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) and the second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) are blended in combination (A1-1). The ratio of and (A1-2) is not particularly limited, but for example, the weight ratio of (A1-1) :( A1-2) is preferably 50:50 to 95: 5, and 80:20 to 90: It is more preferably 10.

なお、第1および第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)および(A1-2)は、それぞれ1種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The first and second vinyl group-containing linear organopolysiloxanes (A1-1) and (A1-2) may be used alone or in combination of two or more. good.

また、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、分岐構造を有するビニル基含有分岐状オルガノポリシロキサン(A2)を含んでもよい。 Further, the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) may contain a vinyl group-containing branched organopolysiloxane (A2) having a branched structure.

<<オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)を含むことができる。
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)は、直鎖構造を有する直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐構造を有する分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)とに分類され、これらのうちのいずれか一方または双方を含むことができる。
<< Organohydrogen Polysiloxane (B) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain organohydrogenpolysiloxane (B).
The organohydrogenpolysiloxane (B) is classified into a linear organohydrogenpolysiloxane (B1) having a linear structure and a branched organohydrogenpolysiloxane (B2) having a branched structure. Either one or both can be included.

直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、直鎖構造を有し、かつ、Siに水素が直接結合した構造(≡Si-H)を有し、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)のビニル基の他、シリコーンゴム系硬化性組成物に配合される成分が有するビニル基とヒドロシリル化反応し、これらの成分を架橋する重合体である。 The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) has a linear structure and a structure (≡Si—H) in which hydrogen is directly bonded to Si, and is a vinyl group-containing organopolysiloxane (A). In addition to the vinyl group, it is a polymer that undergoes a hydrosilylation reaction with the vinyl group contained in the components contained in the silicone rubber-based curable composition to crosslink these components.

直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の分子量は特に限定されないが、例えば、重量平均分子量が20000以下であるのが好ましく、1000以上、10000以下であることがより好ましい。 The molecular weight of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is not particularly limited, but for example, the weight average molecular weight is preferably 20000 or less, and more preferably 1000 or more and 10000 or less.

なお、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の重量平均分子量は、例えばクロロホルムを展開溶媒としたGPC(ゲル透過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算により測定することができる。 The weight average molecular weight of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) can be measured, for example, by polystyrene conversion in GPC (gel permeation chromatography) using chloroform as a developing solvent.

また、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、通常、ビニル基を有しないものであるのが好ましい。これにより、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の分子内において架橋反応が進行するのを的確に防止することができる。 Further, the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is usually preferably one having no vinyl group. This makes it possible to accurately prevent the cross-linking reaction from proceeding in the molecule of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1).

以上のような直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)としては、例えば、下記式(2)で表される構造を有するものが好ましく用いられる。 As the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) as described above, for example, one having a structure represented by the following formula (2) is preferably used.

Figure 0007018295000003
Figure 0007018295000003

式(2)中、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、これらを組み合わせた炭化水素基、またはヒドリド基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 In formula (2), R4 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, a hydrocarbon group combining these, or a hydride group. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and the like. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

また、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、これらを組み合わせた炭化水素基、またはヒドリド基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Further, R5 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, a hydrocarbon group combining these, or a hydride group. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group and a propyl group, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and the like. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

なお、式(2)中、複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。Rについても同様である。ただし、複数のRおよびRのうち、少なくとも2つ以上がヒドリド基である。 In the equation (2), the plurality of R 4s are independent of each other and may be different from each other or may be the same. The same applies to R5. However, of the plurality of R 4 and R 5 , at least two or more are hydride groups.

また、Rは炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。 Further, R 6 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group. The plurality of R6s are independent of each other and may be different from each other or may be the same.

なお、式(2)中のR,R,Rの置換基としては、例えば、メチル基、ビニル基等が挙げられ、分子内の架橋反応を防止する観点から、メチル基が好ましい。 Examples of the substituent of R 4 , R 5 , and R 6 in the formula (2) include a methyl group and a vinyl group, and a methyl group is preferable from the viewpoint of preventing an intramolecular cross-linking reaction.

さらに、m、nは、式(2)で表される直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)を構成する繰り返し単位の数であり、mは2~150整数、nは2~150の整数である。好ましくは、mは2~100の整数、nは2~100の整数である。 Further, m and n are the number of repeating units constituting the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) represented by the formula (2), where m is an integer of 2 to 150 and n is an integer of 2 to 150. Is. Preferably, m is an integer of 2 to 100 and n is an integer of 2 to 100.

なお、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) may be used alone or in combination of two or more.

分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、分岐構造を有するため、架橋密度が高い領域を形成し、シリコーンゴムの系中の架橋密度の疎密構造形成に大きく寄与する成分である。また、上記直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)同様、Siに水素が直接結合した構造(≡Si-H)を有し、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)のビニル基の他、シリコーンゴム系硬化性組成物に配合される成分のビニル基とヒドロシリル化反応し、これら成分を架橋する重合体である。 Since the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure, it forms a region having a high crosslink density and is a component that greatly contributes to the formation of a dense structure having a crosslink density in the silicone rubber system. Further, like the linear organohydrogenpolysiloxane (B1), it has a structure (≡Si—H) in which hydrogen is directly bonded to Si, and in addition to the vinyl group of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silicone. It is a polymer that hydrosilylates with the vinyl group of the component contained in the rubber-based curable composition and crosslinks these components.

また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の比重は、0.9~0.95の範囲である。 The specific gravity of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is in the range of 0.9 to 0.95.

さらに、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、通常、ビニル基を有しないものであるのが好ましい。これにより、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の分子内において架橋反応が進行するのを的確に防止することができる。 Further, the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is usually preferably one having no vinyl group. This makes it possible to accurately prevent the cross-linking reaction from proceeding in the molecule of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2).

また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)としては、下記平均組成式(c)で示されるものが好ましい。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is preferably represented by the following average composition formula (c).

平均組成式(c)
(H(R3-aSiO1/2(SiO4/2
(式(c)において、Rは一価の有機基、aは1~3の範囲の整数、mはH(R3-aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である)
Average composition formula (c)
(H a (R 7 ) 3-a SiO 1/2 ) m (SiO 4/2 ) n
(In the formula (c), R 7 is a monovalent organic group, a is an integer in the range of 1 to 3, m is a number of Ha (R 7 ) 3-a SiO 1/2 units, and n is SiO 4 /. It is a number of 2 units)

式(c)において、Rは一価の有機基であり、好ましくは、炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 In formula (c), R 7 is a monovalent organic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in combination thereof. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

式(c)において、aは、ヒドリド基(Siに直接結合する水素原子)の数であり、1~3の範囲の整数、好ましくは1である。 In the formula (c), a is the number of hydride groups (hydrogen atoms directly bonded to Si), and is an integer in the range of 1 to 3, preferably 1.

また、式(c)において、mはH(R3-aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である。 Further, in the formula ( c ), m is the number of Ha (R 7 ) 3-a SiO 1/2 unit, and n is the number of SiO 4/2 unit.

分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は分岐状構造を有する。直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、その構造が直鎖状か分岐状かという点で異なり、Siの数を1とした時のSiに結合するアルキル基Rの数(R/Si)が、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)では1.8~2.1、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)では0.8~1.7の範囲となる。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure. The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) differ in that their structure is linear or branched, and the Si is the same as when the number of Si is 1. The number of alkyl groups R to be bonded (R / Si) is 1.8 to 2.1 for the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and 0.8 to 1 for the branched organohydrogenpolysiloxane (B2). It is in the range of 0.7.

なお、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、分岐構造を有しているため、例えば、窒素雰囲気下、1000℃まで昇温速度10℃/分で加熱した際の残渣量が5%以上となる。これに対して、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、直鎖状であるため、上記条件で加熱した後の残渣量はほぼゼロとなる。 Since the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure, for example, the residual amount when heated to 1000 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere is 5% or more. Will be. On the other hand, since the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is linear, the amount of residue after heating under the above conditions is almost zero.

また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の具体例としては、下記式(3)で表される構造を有するものが挙げられる。 Further, specific examples of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) include those having a structure represented by the following formula (3).

Figure 0007018295000004
Figure 0007018295000004

式(3)中、Rは炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基、もしくは水素原子である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。Rの置換基としては、例えば、メチル基等が挙げられる。 In formula (3), R 7 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in combination thereof, or a hydrogen atom. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group. Examples of the substituent of R 7 include a methyl group and the like.

なお、式(3)中、複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。 In the equation (3), the plurality of R 7s are independent of each other and may be different from each other or may be the same.

また、式(3)中、「-O-Si≡」は、Siが三次元に広がる分岐構造を有することを表している。 Further, in the equation (3), "-O-Si≡" indicates that Si has a branched structure that spreads three-dimensionally.

なお、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) may be used alone or in combination of two or more.

また、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)において、Siに直接結合する水素原子(ヒドリド基)の量は、それぞれ、特に限定されない。ただし、シリコーンゴム系硬化性組成物において、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)中のビニル基1モルに対し、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の合計のヒドリド基量が、0.5~5モルとなる量が好ましく、1~3.5モルとなる量がより好ましい。これにより、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)および分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)と、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)との間で、架橋ネットワークを確実に形成させることができる。 Further, in the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2), the amount of hydrogen atoms (hydride groups) directly bonded to Si is not particularly limited. However, in the silicone rubber-based curable composition, the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpoly are added to 1 mol of the vinyl group in the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1). The total amount of hydride groups of siloxane (B2) is preferably 0.5 to 5 mol, more preferably 1 to 3.5 mol. This ensures that a crosslinked network is formed between the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) and the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1). Can be made to.

本実施形態において、導電性ペースト中におけるエラストマー組成物の含有量は、導電性ペースト全体に対して、1質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましい。また、導電性ペースト中におけるエラストマー組成物の含有量は、導電性ペースト全体に対して、25質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、15質量%以下であることがさらに好ましい。
エラストマー組成物の含有量を上記下限値以上とすることにより、導電性ペーストのエラストマーが適度な柔軟性を持つことができる。また、エラストマー組成物の含有量を上記上限値以下とすることにより、エラストマーの機械的強度の向上を図ることができる。
In the present embodiment, the content of the elastomer composition in the conductive paste is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass, based on the entire conductive paste. The above is more preferable. The content of the elastomer composition in the conductive paste is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less with respect to the entire conductive paste. Is even more preferable.
By setting the content of the elastomer composition to the above lower limit value or more, the elastomer of the conductive paste can have appropriate flexibility. Further, by setting the content of the elastomer composition to the above upper limit value or less, the mechanical strength of the elastomer can be improved.

<<シリカ粒子(C)>>
本実施形態の導電性ペーストは、必要に応じ、シリカ粒子(C)を含むことができる。これにより、導電性ペーストから形成されるエラストマーの硬さや機械的強度の向上を図ることができる。
<< Silica particles (C) >>
The conductive paste of the present embodiment may contain silica particles (C), if necessary. This makes it possible to improve the hardness and mechanical strength of the elastomer formed from the conductive paste.

シリカ粒子(C)としては、特に限定されないが、例えば、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、沈降シリカ等が用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The silica particles (C) are not particularly limited, but for example, fumed silica, calcined silica, precipitated silica and the like are used. These may be used alone or in combination of two or more.

シリカ粒子(C)は、例えば、BET法による比表面積が例えば50~400m/gであるのが好ましく、100~400m/gであるのがより好ましい。また、シリカ粒子(C)の平均一次粒径は、例えば1~100nmであるのが好ましく、5~20nm程度であるのがより好ましい。 For example, the specific surface area of the silica particles (C) by the BET method is preferably, for example, 50 to 400 m 2 / g, and more preferably 100 to 400 m 2 / g. The average primary particle size of the silica particles (C) is preferably, for example, 1 to 100 nm, and more preferably about 5 to 20 nm.

シリカ粒子(C)として、かかる比表面積および平均粒径の範囲内であるものを用いることにより、形成されるシリコーンゴムの硬さや機械的強度の向上、特に引張強度の向上をさせることができる。 By using the silica particles (C) within the range of the specific surface area and the average particle size, it is possible to improve the hardness and mechanical strength of the formed silicone rubber, particularly the tensile strength.

本実施形態において、導電性ペースト中におけるシリカ粒子(C)の含有量は、導電性ペーストの全体に対して、1質量%以上であることが好ましく、2質量%以上であることがより好ましく、3質量%以上であることがさらに好ましい。また、導電性ペースト中におけるシリカ粒子(C)の含有量は、導電性ペーストの全体に対して、15質量%以下であることが好ましく、12質量%以下であることがより好ましく、10質量%以下であることがさらに好ましい。
シリカ粒子(C)の含有量を上記下限値以上とすることにより、導電性ペーストのエラストマーが適度な機械的強度を持つことができる。また、シリカ粒子(C)の含有量を上記上限値以下とすることにより、エラストマーが適度な導電特性を持つことができる。
In the present embodiment, the content of the silica particles (C) in the conductive paste is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, based on the whole of the conductive paste. It is more preferably 3% by mass or more. The content of the silica particles (C) in the conductive paste is preferably 15% by mass or less, more preferably 12% by mass or less, and 10% by mass with respect to the whole of the conductive paste. The following is more preferable.
By setting the content of the silica particles (C) to the above lower limit value or more, the elastomer of the conductive paste can have an appropriate mechanical strength. Further, by setting the content of the silica particles (C) to the above upper limit value or less, the elastomer can have an appropriate conductive property.

<<シランカップリング剤(D)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、シランカップリング剤(D)を含むことができる。
シランカップリング剤(D)は、加水分解性基を有することができる。加水分解基が水により加水分解されて水酸基になり、この水酸基がシリカ粒子(C)表面の水酸基と脱水縮合反応することで、シリカ粒子(C)の表面改質を行うことができる。
<< Silane Coupling Agent (D) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain a silane coupling agent (D).
The silane coupling agent (D) can have a hydrolyzable group. The hydrolyzing group is hydrolyzed by water to become a hydroxyl group, and this hydroxyl group undergoes a dehydration condensation reaction with the hydroxyl group on the surface of the silica particles (C), whereby the surface of the silica particles (C) can be modified.

また、このシランカップリング剤(D)は、疎水性基を有するシランカップリング剤を含むことができる。これにより、シリカ粒子(C)の表面にこの疎水性基が付与されるため、シリコーンゴム系硬化性組成物中ひいてはシリコーンゴム中において、シリカ粒子(C)の凝集力が低下(シラノール基による水素結合による凝集が少なくなる)し、その結果、シリコーンゴム系硬化性組成物中のシリカ粒子の分散性が向上すると推測される。これにより、シリカ粒子とゴムマトリックスとの界面が増加し、シリカ粒子の補強効果が増大する。さらに、ゴムのマトリックス変形の際、マトリックス内でのシリカ粒子の滑り性が向上すると推測される。そして、シリカ粒子(C)の分散性の向上及び滑り性の向上によって、シリカ粒子(C)によるシリコーンゴムの機械的強度(例えば、引張強度や引裂強度など)が向上する。 Further, the silane coupling agent (D) can include a silane coupling agent having a hydrophobic group. As a result, this hydrophobic group is imparted to the surface of the silica particles (C), so that the cohesive force of the silica particles (C) is reduced in the silicone rubber-based curable composition and thus in the silicone rubber (hydrogen due to the silanol group). Aggregation due to bonding is reduced), and as a result, it is presumed that the dispersibility of the silica particles in the silicone rubber-based curable composition is improved. As a result, the interface between the silica particles and the rubber matrix increases, and the reinforcing effect of the silica particles increases. Further, it is presumed that the slipperiness of the silica particles in the matrix is improved when the rubber matrix is deformed. Then, by improving the dispersibility and slipperiness of the silica particles (C), the mechanical strength (for example, tensile strength, tear strength, etc.) of the silicone rubber due to the silica particles (C) is improved.

さらに、シランカップリング剤(D)は、ビニル基を有するシランカップリング剤を含むことができる。これにより、シリカ粒子(C)の表面にビニル基が導入される。そのため、シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化の際、すなわち、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)が有するビニル基と、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)が有するヒドリド基とがヒドロシリル化反応して、これらによるネットワーク(架橋構造)が形成される際に、シリカ粒子(C)が有するビニル基も、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)が有するヒドリド基とのヒドロシリル化反応に関与するため、ネットワーク中にシリカ粒子(C)も取り込まれるようになる。これにより、形成されるシリコーンゴムの低硬度化および高モジュラス化を図ることができる。 Further, the silane coupling agent (D) can include a silane coupling agent having a vinyl group. As a result, a vinyl group is introduced on the surface of the silica particles (C). Therefore, when the silicone rubber-based curable composition is cured, that is, the vinyl group of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the hydride group of the organohydrogenpolysiloxane (B) undergo a hydrosilylation reaction. When the network (crosslinked structure) formed by these is formed, the vinyl group of the silica particles (C) is also involved in the hydrosilylation reaction with the hydride group of the organohydrogenpolysiloxane (B). Silica particles (C) will also be incorporated into. As a result, it is possible to reduce the hardness and increase the modulus of the formed silicone rubber.

シランカップリング剤(D)としては、疎水性基を有するシランカップリング剤およびビニル基を有するシランカップリング剤を併用することができる。 As the silane coupling agent (D), a silane coupling agent having a hydrophobic group and a silane coupling agent having a vinyl group can be used in combination.

シランカップリング剤(D)としては、例えば、下記式(4)で表わされるものが挙げられる。 Examples of the silane coupling agent (D) include those represented by the following formula (4).

-Si-(X)4-n・・・(4)
上記式(4)中、nは1~3の整数を表わす。Yは、疎水性基、親水性基またはビニル基を有するもののうちのいずれかの官能基を表わし、nが1の時は疎水性基であり、nが2または3の時はその少なくとも1つが疎水性基である。Xは、加水分解性基を表わす。
Y n -Si- (X) 4-n ... (4)
In the above equation (4), n represents an integer of 1 to 3. Y represents any functional group having a hydrophobic group, a hydrophilic group or a vinyl group, and when n is 1, it is a hydrophobic group, and when n is 2 or 3, at least one of them is. It is a hydrophobic group. X represents a hydrolyzable group.

疎水性基は、炭素数1~6のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基等が挙げられ、中でも、特に、メチル基が好ましい。 The hydrophobic group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a phenyl group, and the like. Methyl groups are preferred.

また、親水性基は、例えば、水酸基、スルホン酸基、カルボキシル基またはカルボニル基等が挙げられ、中でも、特に、水酸基が好ましい。なお、親水性基は、官能基として含まれていてもよいが、シランカップリング剤(D)に疎水性を付与するという観点からは含まれていないのが好ましい。 Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, a carbonyl group and the like, and a hydroxyl group is particularly preferable. The hydrophilic group may be contained as a functional group, but is preferably not contained from the viewpoint of imparting hydrophobicity to the silane coupling agent (D).

さらに、加水分解性基は、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、クロロ基またはシラザン基等が挙げられ、中でも、シリカ粒子(C)との反応性が高いことから、シラザン基が好ましい。なお、加水分解性基としてシラザン基を有するものは、その構造上の特性から、上記式(4)中の(Y-Si-)の構造を2つ有するものとなる。 Further, examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, a chloro group or a silazane group, and among them, a silazane group is preferable because it has high reactivity with the silica particles (C). A group having a silazane group as a hydrolyzable group has two structures of ( Yn —Si—) in the above formula (4) due to its structural characteristics.

上記式(4)で表されるシランカップリング剤(D)の具体例は、例えば、官能基として疎水性基を有するものとして、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシランのようなアルコキシシラン;メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシランのようなクロロシラン;ヘキサメチルジシラザンが挙げられ、官能基としてビニル基を有するものとして、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシランのようなアルコキシシラン;ビニルトリクロロシラン、ビニルメチルジクロロシランのようなクロロシラン;ジビニルテトラメチルジシラザンが挙げられるが、中でも、上記記載を考慮すると、特に、疎水性基を有するものとしてはヘキサメチルジシラザン、ビニル基を有するものとしてはジビニルテトラメチルジシラザンであるのが好ましい。 Specific examples of the silane coupling agent (D) represented by the above formula (4) include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and methyltri, as those having a hydrophobic group as a functional group. Alkoxysilanes such as ethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane; methyltrichlorosilane , Chlorosilanes such as dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, phenyltrichlorosilane; hexamethyldisilazane, examples of which have a vinyl group as a functional group include methacrypropyltriethoxysilane, methacrypropyltrimethoxysilane, methacryoxy. Ekalkylsilanes such as propylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane; chlorosilanes such as vinyltrichlorosilane, vinylmethyldichlorosilane; divinyltetramethyldi Examples thereof include silazanes, but in consideration of the above description, hexamethyldisilazane is particularly preferable as having a hydrophobic group, and divinyltetramethyldisilazane is preferable as having a vinyl group.

本実施形態において、シランカップリング剤(D)の含有量の下限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対して、1質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましい。また、シランカップリング剤(D)の含有量上限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対して、100質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、40質量%以下であることがさらに好ましい。
シランカップリング剤(D)の含有量を上記下限値以上とすることにより、導電性ペーストのエラストマーが基板との適度な密着性を持ち、また、シリカ粒子(C)を用いる場合においては、エラストマー全体としての機械的強度の向上に資することができる。また、シランカップリング剤(D)の含有量を上記上限値以下とすることにより、エラストマーが適度な機械特性を持つことができる。
In the present embodiment, the lower limit of the content of the silane coupling agent (D) is preferably 1% by mass or more with respect to 100 parts by weight of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). It is more preferably 5% by mass or more, and further preferably 5% by mass or more. The upper limit of the content of the silane coupling agent (D) is preferably 100% by mass or less, preferably 80% by mass or less, based on 100 parts by mass of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). It is more preferably present, and further preferably 40% by mass or less.
By setting the content of the silane coupling agent (D) to the above lower limit value or more, the elastomer of the conductive paste has an appropriate adhesion to the substrate, and when the silica particles (C) are used, the elastomer It can contribute to the improvement of mechanical strength as a whole. Further, by setting the content of the silane coupling agent (D) to the above upper limit value or less, the elastomer can have appropriate mechanical properties.

<<白金または白金化合物(E)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、白金または白金化合物(E)を含むことができる。
白金または白金化合物(E)は、硬化の際の触媒として作用する触媒成分である。白金または白金化合物(E)の添加量は触媒量である。
<< Platinum or platinum compound (E) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain platinum or a platinum compound (E).
Platinum or the platinum compound (E) is a catalytic component that acts as a catalyst during curing. The amount of platinum or the platinum compound (E) added is the amount of the catalyst.

白金または白金化合物(E)としては、公知のものを使用することができ、例えば、白金黒、白金をシリカやカーボンブラック等に担持させたもの、塩化白金酸または塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とオレフィンの錯塩、塩化白金酸とビニルシロキサンとの錯塩等が挙げられる。 As the platinum or the platinum compound (E), known ones can be used, for example, platinum black, platinum supported on silica, carbon black or the like, platinum chloride acid or an alcohol solution of platinum chloride acid, chloride. Examples thereof include a complex salt of platinum acid and olefin, and a complex salt of platinum chloride acid and vinyl siloxane.

なお、白金または白金化合物(E)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the platinum or the platinum compound (E), only one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

本実施形態において、導電性ペースト中における白金または白金化合物(E)の含有量は、導電性ペーストの全体に対して、0.0001質量%以上であることが好ましく、0.0002質量%以上であることがより好ましく、0.0003質量%以上であることがさらに好ましい。また、導電性ペースト中における白金または白金化合物(E)の含有量は、導電性ペーストの全体に対して、1質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがより好ましく、0.1質量%以下であることがさらに好ましい。
白金または白金化合物(E)の含有量を上記下限値以上とすることにより、導電性ペーストが適切な速度で硬化することが可能となる。また、白金または白金化合物(E)の含有量を上記上限値以下とすることにより、導電性ペーストを作製する際のコストの削減に資することができる。
In the present embodiment, the content of platinum or the platinum compound (E) in the conductive paste is preferably 0.0001% by mass or more, preferably 0.0002% by mass or more, based on the total amount of the conductive paste. It is more preferably present, and further preferably 0.0003% by mass or more. The content of platinum or the platinum compound (E) in the conductive paste is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, based on the whole conductive paste. , 0.1% by mass or less is more preferable.
By setting the content of platinum or the platinum compound (E) to the above lower limit value or more, the conductive paste can be cured at an appropriate rate. Further, by setting the content of platinum or the platinum compound (E) to the above upper limit value or less, it is possible to contribute to the reduction of the cost when producing the conductive paste.

<<水(F)>>
また、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物には、上記成分(A)~(E)以外に、水(F)が含まれていてもよい。
<< Water (F) >>
Further, the silicone rubber-based curable composition of the present embodiment may contain water (F) in addition to the above components (A) to (E).

水(F)は、シリコーンゴム系硬化性組成物に含まれる各成分を分散させる分散媒として機能するとともに、シリカ粒子(C)とシランカップリング剤(D)との反応に寄与する成分である。そのため、シリコーンゴム中において、シリカ粒子(C)とシランカップリング剤(D)とを、より確実に互いに連結したものとすることができ、全体として均一な特性を発揮することができる。 Water (F) functions as a dispersion medium for dispersing each component contained in the silicone rubber-based curable composition, and is a component that contributes to the reaction between the silica particles (C) and the silane coupling agent (D). .. Therefore, in the silicone rubber, the silica particles (C) and the silane coupling agent (D) can be more reliably connected to each other, and uniform characteristics can be exhibited as a whole.

さらに、水(F)を含有する場合、その含有量は、適宜設定することができるが、具体的には、シランカップリング剤(D)100重量部に対して、例えば、10~100重量部の範囲であるのが好ましく、30~70重量部の範囲であるのがより好ましい。これにより、シランカップリング剤(D)とシリカ粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 Further, when water (F) is contained, the content thereof can be appropriately set, but specifically, for example, 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silane coupling agent (D). It is preferably in the range of 30 to 70 parts by weight, and more preferably in the range of 30 to 70 parts by weight. This makes it possible to more reliably proceed the reaction between the silane coupling agent (D) and the silica particles (C).

(その他の成分)
さらに、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、上記(A)~(F)成分以外に、他の成分をさらに含むことができる。この他の成分としては、例えば、珪藻土、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、ガラスウール、マイカ等のシリカ粒子(C)以外の無機充填材、反応阻害剤、分散剤、顔料、染料、帯電防止剤、酸化防止剤、難燃剤、熱伝導性向上剤等の添加剤が挙げられる。
(Other ingredients)
Further, the silicone rubber-based curable composition of the present embodiment may further contain other components in addition to the above components (A) to (F). Other components include silica particles (C) such as diatomaceous earth, iron oxide, zinc oxide, titanium oxide, barium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, glass wool, and mica. Examples thereof include additives such as inorganic fillers, reaction inhibitors, dispersants, pigments, dyes, antioxidants, antioxidants, flame retardants, and thermal conductivity improvers.

(導電性フィラー)
本実施形態の導電性ペーストは、導電性フィラーを含むことができる。この導電性フィラーとしては、公知の導電材料を用いてもよいが、以下のような金属粉(G)を含むことができる。
この金属粉(G)を構成する金属は特に限定はされないが、例えば、銅、銀、金、ニッケル、錫、鉛、亜鉛、ビスマス、アンチモン、或いはこれらを合金化した金属粉のうち少なくとも一種類、あるいは、これらのうちの二種以上を含むことができる。
これらのうち、金属粉(G)としては、導電性の高さや入手容易性の高さから、銀または銅を含むこと、すなわち、銀粉または銅粉を含むことが好ましい。
なお、これらの金属粉(G)は他種金属でコートしたものも使用できる。
(Conductive filler)
The conductive paste of the present embodiment may contain a conductive filler. As the conductive filler, a known conductive material may be used, but the following metal powder (G) can be contained.
The metal constituting the metal powder (G) is not particularly limited, but for example, at least one of copper, silver, gold, nickel, tin, lead, zinc, bismuth, antimon, or an alloyed metal powder thereof. , Or two or more of these can be included.
Of these, the metal powder (G) preferably contains silver or copper, that is, silver powder or copper powder, because of its high conductivity and high availability.
As these metal powders (G), those coated with other kinds of metals can also be used.

本実施形態において、金属粉(G)の形状には制限がないが、樹枝状、球状、リン片状等の従来から用いられているものが使用できる。この中でも、リン片状の金属粉(G)を用いてもよい。 In the present embodiment, the shape of the metal powder (G) is not limited, but conventionally used metal powders (G) such as dendritic, spherical, and lint-like can be used. Among these, phosphorus flake-shaped metal powder (G) may be used.

また、金属粉(G)の粒径も制限されないが、たとえば平均粒径D50で0.001μm以上であることが好ましく、より好ましくは0.01μm以上であり、さらに好ましくは0.1μm以上である。金属粉(G)の粒径は、たとえば平均粒径D50で1,000μm以下であることが好ましく、より好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下である。
平均粒径D50をこのような範囲に設定することで、導電性ペーストのエラストマーとして適度な導電性を発揮することができる。
なお、金属粉(G)の粒径は、たとえば、導電性ペーストあるいはこのエラストマーについて透過型電子顕微鏡等で観察の上、画像解析を行い、任意に選んだ金属粉200個の平均値として定義することができる。
Further, the particle size of the metal powder (G) is not limited, but for example, the average particle size D50 is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, still more preferably 0.1 μm or more. be. The particle size of the metal powder (G) is, for example, preferably 1,000 μm or less, more preferably 100 μm or less, and further preferably 20 μm or less with an average particle size D50 .
By setting the average particle size D 50 in such a range, it is possible to exhibit appropriate conductivity as an elastomer of the conductive paste.
The particle size of the metal powder (G) is defined as an average value of 200 arbitrarily selected metal powders, for example, by observing the conductive paste or this elastomer with a transmission electron microscope or the like and performing image analysis. be able to.

本実施形態において、導電性ペースト中における導電性フィラーの含有量は、導電性ペーストの全体に対して、30質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、50質量%以上であることがさらに好ましい。また、導電性ペースト中における導電性フィラーの含有量は、導電性ペーストの全体に対して、85質量%以下であることが好ましく、75質量%以下であることがより好ましく、65質量%以下であることがさらに好ましい。
金属粉(G)の含有量を上記下限値以上とすることにより、導電性ペーストのエラストマーが適度な導電特性を持つことができる。また、金属粉(G)の含有量を上記上限値以下とすることにより、エラストマーが適度な柔軟性を持つことができる。
In the present embodiment, the content of the conductive filler in the conductive paste is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and 50% by mass, based on the whole of the conductive paste. % Or more is more preferable. The content of the conductive filler in the conductive paste is preferably 85% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and 65% by mass or less with respect to the whole of the conductive paste. It is more preferable to have.
By setting the content of the metal powder (G) to the above lower limit value or more, the elastomer of the conductive paste can have appropriate conductive properties. Further, by setting the content of the metal powder (G) to the above upper limit value or less, the elastomer can have appropriate flexibility.

また、本実施形態の導電性ペースト中における上記シリカ粒子(C)の含有量の下限値は、シリカ粒子(C)および導電性フィラーの合計量100質量%に対して、例えば、1質量%以上であり、好ましくは3質量%以上であり、より好ましくは5質量%以上とすることができる。これにより、導電性ペーストのエラストマーの機械的強度を向上させることができる。一方で、上記導電性ペースト中における上記シリカ粒子(C)の含有量の上限値は、シリカ粒子(C)および導電性フィラーの合計量100質量%に対して、例えば、20質量%以下であり、好ましくは15質量%以下であり、より好ましくは10質量%以下である。これにより、導電性ペーストのエラストマーにおける伸縮電気特性と機械的強度のバランスを図ることができる。 Further, the lower limit of the content of the silica particles (C) in the conductive paste of the present embodiment is, for example, 1% by mass or more with respect to 100% by mass of the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler. It is preferably 3% by mass or more, and more preferably 5% by mass or more. This makes it possible to improve the mechanical strength of the elastomer of the conductive paste. On the other hand, the upper limit of the content of the silica particles (C) in the conductive paste is, for example, 20% by mass or less with respect to 100% by mass of the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler. It is preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less. This makes it possible to balance the expansion and contraction electrical characteristics and the mechanical strength of the elastomer of the conductive paste.

(溶剤)
本実施形態の導電性ペーストは、溶剤を含むものである。この溶剤としては、公知の各種溶剤を用いることができるが、例えば、高沸点溶剤を含むことができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(solvent)
The conductive paste of this embodiment contains a solvent. As the solvent, various known solvents can be used, and for example, a high boiling point solvent can be included. These may be used alone or in combination of two or more.

上記高沸点溶剤の沸点の下限値は、例えば、100℃以上であり、好ましくは130℃以上であり、より好ましくは150℃以上である。これにより、スクリーン印刷などの印刷安定性を向上させることができる。一方で、上記高沸点溶剤の沸点の上限値は、特に限定されないが、例えば、300℃以下でもよく、290℃以下でもよく、280℃以下でもよい。これにより、配線形成時においての過度の熱履歴を抑制できるので、下地基板へのダメージや、導電性ペーストで形成された配線の形状を良好に維持することができる。 The lower limit of the boiling point of the high boiling point solvent is, for example, 100 ° C. or higher, preferably 130 ° C. or higher, and more preferably 150 ° C. or higher. This makes it possible to improve printing stability such as screen printing. On the other hand, the upper limit of the boiling point of the high boiling point solvent is not particularly limited, but may be, for example, 300 ° C. or lower, 290 ° C. or lower, or 280 ° C. or lower. As a result, excessive heat history at the time of wiring formation can be suppressed, so that damage to the underlying substrate and the shape of the wiring formed of the conductive paste can be satisfactorily maintained.

また、本実施形態の溶剤としては、エラストマー組成物の溶解性や沸点の観点から適切に選択できるが、例えば、炭素数5以上20以下の脂肪族炭化水素、好ましくは炭素数8以上18以下の脂肪族炭化水素、より好ましくは炭素数10以上15以下の脂肪族炭化水素を含むことができる。 The solvent of the present embodiment can be appropriately selected from the viewpoint of solubility and boiling point of the elastomer composition. For example, an aliphatic hydrocarbon having 5 or more and 20 or less carbon atoms, preferably 8 or more and 18 or less carbon atoms. Aliphatic hydrocarbons, more preferably aliphatic hydrocarbons having 10 or more and 15 or less carbon atoms can be contained.

また、本実施形態の溶剤の一例としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカンなどの脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン、トリフルオロメチルベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、シクロペンチルエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル-n-プロピルエーテル、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタンなどのハロアルカン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのカルボン酸アミド類;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド類、ジエチルカーボネートなどのエステル類などを例示することができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ここで用いられる溶媒は、上記の導電性ペースト中の組成成分を均一に溶解ないし分散させることのできる溶媒の中から適宜選択すればよい。
Further, examples of the solvent of the present embodiment include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, octane, decane, dodecane and tetradecane; benzene, toluene, ethylbenzene and xylene. , Aromatic hydrocarbons such as mesitylene, trifluoromethylbenzene, benzotrifluoride; diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentylmethyl ether, cyclopentyl ethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol mono Ethers such as butyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl-n-propyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran; dichloromethane, chloroform, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane , 1,1,1-Trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane and other haloalkanes; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and other carboxylic acid amides; , Esters such as diethyl carbonate can be exemplified. These may be used alone or in combination of two or more.
The solvent used here may be appropriately selected from the solvents capable of uniformly dissolving or dispersing the composition components in the above-mentioned conductive paste.

上記溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの極性項(δ)の上限値が、例えば、10MPa1/2以下であり、好ましくは7MPa1/2以下であり、より好ましくは5.5MPa1/2以下である第1溶剤を含むことができる。これにより、導電性ペースト中においてシリコーンゴム系硬化性樹脂組成物などのエラストマー組成物の分散性や溶解性を良好なものとすることができる。この第1溶剤の上記極性項(δ)の下限値は、特に限定されないが、例えば、0Pa1/2以上でもよい。 The upper limit of the polarity term (δ p ) of the Hansen solubility parameter of the solvent is, for example, 10 MPa 1/2 or less, preferably 7 MPa 1/2 or less, and more preferably 5.5 MPa 1/2 or less. It can contain a first solvent. This makes it possible to improve the dispersibility and solubility of the elastomer composition such as the silicone rubber-based curable resin composition in the conductive paste. The lower limit of the polarity term (δ p ) of the first solvent is not particularly limited, but may be, for example, 0 Pa 1/2 or more.

上記第1溶剤におけるハンセン溶解度パラメータの水素結合項(δ)の上限値が、例えば、20MPa1/2以下であり、好ましくは10MPa1/2以下であり、より好ましくは7MPa1/2以下である。これにより、導電性ペースト中において、シリコーンゴム系硬化性樹脂組成物などのエラストマー組成物の分散性や溶解性を良好なものとすることができる。この第1溶剤の上記水素結合項(δ)の下限値は、特に限定されないが、例えば、0Pa1/2以上でもよい。 The upper limit of the hydrogen bond term (δ h ) of the Hansen solubility parameter in the first solvent is, for example, 20 MPa 1/2 or less, preferably 10 MPa 1/2 or less, and more preferably 7 MPa 1/2 or less. be. Thereby, in the conductive paste, the dispersibility and solubility of the elastomer composition such as the silicone rubber-based curable resin composition can be improved. The lower limit of the hydrogen bond term (δ h ) of the first solvent is not particularly limited, but may be, for example, 0 Pa 1/2 or more.

ハンセンの溶解度パラメータ(HSP)は、ある物質が他のある物質にどのくらい溶けるのかという溶解性を表す指標である。HSPは、溶解性を3次元のベクトルで表す。この3次元ベクトルは、代表的には、分散項(δ)、極性項(δ)、水素結合項(δ)で表すことができる。そしてベクトルが似ているもの同士は、溶解性が高いと判断できる。ベクトルの類似度をハンセン溶解度パラメータの距離(HSP距離)で判断することが可能である。 The Hansen solubility parameter (HSP) is an indicator of how soluble a substance is in another substance. HSP represents solubility as a three-dimensional vector. This three-dimensional vector can be typically represented by a dispersion term (δ d ), a polarity term (δ p ), and a hydrogen bond term (δ h ). And it can be judged that those having similar vectors have high solubility. It is possible to judge the similarity of vectors by the distance of Hansen solubility parameter (HSP distance).

本明細書で用いている、ハンセン溶解度パラメーター(HSP値)は、HSPiP(Hansen Solubility Parameters in Practice)というソフトを用いて算出することができる。ここで、ハンセンとアボットが開発したコンピューターソフトウエアHSPiPには、HSP距離を計算する機能と様々な樹脂と溶剤もしくは非溶剤のハンセンパラメーターを記載したデータベースが含まれている。
各樹脂の純溶剤および良溶剤と貧溶剤の混合溶剤に対する溶解性を調べ、HSPiPソフトにその結果を入力し、D:分散項、P:極性項、H:水素結合項、R0:溶解球半径を算出する。
The Hansen solubility parameter (HSP value) used in the present specification can be calculated using software called HSPiP (Hansen Solubility Parameter in Practice). Here, the computer software HSPiP developed by Hansen and Abbott includes a function to calculate the HSP distance and a database describing various resin and solvent or non-solvent Hansen parameters.
The solubility of each resin in a pure solvent and a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent was investigated, and the results were input to the HSPiP software. Is calculated.

本実施形態の溶剤としては、例えば、エラストマーやエラストマーを構成する構成単位と溶剤との、HSP距離、極性項や水素結合項の差分が小さいもの選択することができる。 As the solvent of the present embodiment, for example, an elastomer or a solvent having a small difference in HSP distance, polarity term and hydrogen bond term between the constituent unit constituting the elastomer and the solvent can be selected.

室温25℃においてせん断速度20〔1/s〕で測定した時の導電性ペーストの粘度の下限値は、例えば、1Pa・s以上であり、好ましくは5Pa・s以上であり、より好ましくは10Pa・s以上である。これにより、成膜性を向上させることができる。また、厚膜形成時においても形状保持性を高めることができる。一方で、室温25℃における導電性ペーストの粘度の上限値は、例えば、100Pa・s以下であり、好ましくは90Pa・s以下であり、より好ましくは80Pa・s以下である。これにより、導電性ペーストにおける印刷性を向上させることができる。 The lower limit of the viscosity of the conductive paste when measured at a room temperature of 25 ° C. and a shear rate of 20 [1 / s] is, for example, 1 Pa · s or more, preferably 5 Pa · s or more, and more preferably 10 Pa · s. s or more. Thereby, the film forming property can be improved. In addition, the shape retention can be improved even when a thick film is formed. On the other hand, the upper limit of the viscosity of the conductive paste at room temperature of 25 ° C. is, for example, 100 Pa · s or less, preferably 90 Pa · s or less, and more preferably 80 Pa · s or less. This makes it possible to improve the printability of the conductive paste.

本実施形態における導電性ペーストにおいて、室温25℃において、せん断速度1〔1/s〕で測定した時の粘度をη1とし、せん断速度5〔1/s〕で測定した時の粘度をη5とし、チキソ指数を粘度比(η1/η5)とする。このとき、このチキソ指数の下限値は、例えば、1.0以上であり、好ましくは1.1以上であり、より好ましくは1.2以上である。これにより、印刷法で得られた配線の形状を安定的に保持することができる。一方で、上記チキソ指数の上限値は、例えば、3.0以下であり、好ましくは2.5以下であり、より好ましくは2.0以下である。これにより、導電性ペーストの印刷容易性を向上させることができる。 In the conductive paste in the present embodiment, the viscosity measured at a shear rate of 1 [1 / s] at room temperature of 25 ° C. is η1, and the viscosity measured at a shear rate of 5 [1 / s] is η5. The thixotropy is defined as the viscosity ratio (η1 / η5). At this time, the lower limit of the thixotropic index is, for example, 1.0 or more, preferably 1.1 or more, and more preferably 1.2 or more. As a result, the shape of the wiring obtained by the printing method can be stably maintained. On the other hand, the upper limit of the thixotropic index is, for example, 3.0 or less, preferably 2.5 or less, and more preferably 2.0 or less. This makes it possible to improve the printability of the conductive paste.

本実施形態では、たとえば導電性ペースト中に含まれる各成分の種類や配合量、導電性ペーストの調製方法等を適切に選択することにより、上記粘度およびチキソ指数を制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、疎水性の溶剤、炭化水素系溶剤、印刷に適した高沸点の溶剤または極性項や水素結合項が小さい溶剤などの溶剤の種類を適切に選択すること、シリカ粒子(C)の配合量、導電性フィラーの配合量およびこれら配合比率、末端にビニル基を有するビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を使用することにより樹脂の架橋密度や架橋構造の偏在を制御すること、シリカ粒子(C)のシランカップリング剤(D)で表面改質すること、水を添加すること等のシランカップリング剤(D)とシリカ粒子(C)との反応をより確実に進行させることなどが、上記粘度およびチキソ指数を所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。 In the present embodiment, the viscosity and thixotropic index can be controlled by appropriately selecting, for example, the type and blending amount of each component contained in the conductive paste, the method for preparing the conductive paste, and the like. Among these, for example, the type of solvent such as a hydrophobic solvent, a hydrocarbon solvent, a solvent having a high boiling point suitable for printing, or a solvent having a small polar term or a hydrogen bond term should be appropriately selected, and silica particles (C). ), The amount and ratio of the conductive filler, and the use of a vinyl group-containing organopolysiloxane (A) having a vinyl group at the end to control the crosslink density of the resin and the uneven distribution of the crosslink structure. To more reliably proceed the reaction between the silane coupling agent (D) and the silica particles (C), such as surface modification of the silica particles (C) with the silane coupling agent (D) and addition of water. And the like are mentioned as factors for setting the above-mentioned viscosity and the thixoindex in a desired numerical range.

(導電性ペーストの製造方法)
以下、本実施形態に係る導電性ペーストの製造方法について説明する。
(Manufacturing method of conductive paste)
Hereinafter, a method for producing a conductive paste according to this embodiment will be described.

本実施形態の導電性ペーストは、たとえば、以下に示すような工程を経ることにより製造することができる。 The conductive paste of the present embodiment can be produced, for example, by going through the following steps.

まず、シリコーンゴム系硬化性組成物の各成分を、任意の混練装置により、均一に混合してシリコーンゴム系硬化性組成物を調製する。 First, each component of the silicone rubber-based curable composition is uniformly mixed by an arbitrary kneading device to prepare a silicone rubber-based curable composition.

[1]たとえば、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、シリカ粒子(C)と、シランカップリング剤(D)とを所定量秤量し、その後、任意の混練装置により、混練することで、これら各成分(A)、(C)、(D)を含有する混練物を得る。 [1] For example, a vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silica particles (C), and a silane coupling agent (D) are weighed in a predetermined amount and then kneaded by an arbitrary kneading device. A kneaded product containing each of these components (A), (C) and (D) is obtained.

なお、この混練物は、予めビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とシランカップリング剤(D)とを混練し、その後、シリカ粒子(C)を混練(混合)して得るのが好ましい。これにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)中におけるシリカ粒子(C)の分散性がより向上する。 The kneaded product is preferably obtained by kneading the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the silane coupling agent (D) in advance, and then kneading (mixing) the silica particles (C). This further improves the dispersibility of the silica particles (C) in the vinyl group-containing organopolysiloxane (A).

また、この混練物を得る際には、水(F)を必要に応じて、各成分(A)、(C)、および(D)の混練物に添加するようにしてもよい。これにより、シランカップリング剤(D)とシリカ粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 Further, when obtaining this kneaded product, water (F) may be added to the kneaded product of each component (A), (C), and (D) as needed. This makes it possible to more reliably proceed the reaction between the silane coupling agent (D) and the silica particles (C).

さらに、各成分(A)、(C)、(D)の混練は、第1温度で加熱する第1ステップと、第2温度で加熱する第2ステップとを経るようにするのが好ましい。これにより、第1ステップにおいて、シリカ粒子(C)の表面をカップリング剤(D)で表面処理することができるとともに、第2ステップにおいて、シリカ粒子(C)とカップリング剤(D)との反応で生成した副生成物を混練物中から確実に除去することができる。その後、必要に応じて、得られた混練物に対して、成分(A)を添加し、更に混練してもよい。これにより、混練物の成分のなじみを向上させることができる。 Further, it is preferable that the kneading of each component (A), (C), and (D) goes through a first step of heating at the first temperature and a second step of heating at the second temperature. Thereby, in the first step, the surface of the silica particles (C) can be surface-treated with the coupling agent (D), and in the second step, the silica particles (C) and the coupling agent (D) are combined. By-products produced by the reaction can be reliably removed from the kneaded product. Then, if necessary, the component (A) may be added to the obtained kneaded product and further kneaded. This makes it possible to improve the familiarity of the components of the kneaded product.

第1温度は、例えば、40~120℃程度であるのが好ましく、例えば、60~90℃程度であるのがより好ましい。第2温度は、例えば、130~210℃程度であるのが好ましく、例えば、160~180℃程度であるのがより好ましい。 The first temperature is preferably, for example, about 40 to 120 ° C., and more preferably about 60 to 90 ° C., for example. The second temperature is, for example, preferably about 130 to 210 ° C, more preferably about 160 to 180 ° C.

また、第1ステップにおける雰囲気は、窒素雰囲気下のような不活性雰囲気下であるのが好ましく、第2ステップにおける雰囲気は、減圧雰囲気下であるのが好ましい。 Further, the atmosphere in the first step is preferably under an inert atmosphere such as under a nitrogen atmosphere, and the atmosphere in the second step is preferably under a reduced pressure atmosphere.

さらに、第1ステップの時間は、例えば、0.3~1.5時間程度であるのが好ましく、0.5~1.2時間程度であるのがより好ましい。第2ステップの時間は、例えば、0.7~3.0時間程度であるのが好ましく、1.0~2.0時間程度であるのがより好ましい。 Further, the time of the first step is preferably, for example, about 0.3 to 1.5 hours, and more preferably about 0.5 to 1.2 hours. The time of the second step is, for example, preferably about 0.7 to 3.0 hours, and more preferably about 1.0 to 2.0 hours.

第1ステップおよび第2ステップを、上記のような条件とすることで、前記効果をより顕著に得ることができる。 By setting the first step and the second step under the above-mentioned conditions, the above-mentioned effect can be obtained more remarkably.

[2]次に、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)と、白金または白金化合物(E)とを所定量秤量し、その後、任意の混練装置を用いて、上記工程[1]で調製した混練物に、各成分(B)、(E)を混練することで、シリコーンゴム系硬化性組成物(エラストマー組成物)を得る。 [2] Next, the organohydrogenpolysiloxane (B) and platinum or the platinum compound (E) are weighed in a predetermined amount, and then the kneaded product prepared in the above step [1] using an arbitrary kneading device. , Each component (B) and (E) is kneaded to obtain a silicone rubber-based curable composition (elastomer composition).

なお、この各成分(B)、(E)の混練の際には、予め上記工程[1]で調製した混練物とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)とを、上記工程[1]で調製した混練物と白金または白金化合物(E)とを混練し、その後、それぞれの混練物を混練するのが好ましい。これにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応を進行させることなく、各成分(A)~(E)をシリコーンゴム系硬化性組成物中に確実に分散させることができる。 When kneading the respective components (B) and (E), the kneaded product previously prepared in the above step [1] and the organohydrogenpolysiloxane (B) were prepared in the above step [1]. It is preferable to knead the kneaded product with platinum or the platinum compound (E), and then knead the respective kneaded products. This ensures that each component (A) to (E) is contained in the silicone rubber-based curable composition without proceeding with the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B). Can be dispersed in.

各成分(B)、(E)を混練する際の温度は、ロール設定温度として、例えば、10~70℃程度であるのが好ましく、25~30℃程度であるのがより好ましい。 The temperature at which each component (B) and (E) is kneaded is preferably, for example, about 10 to 70 ° C., more preferably about 25 to 30 ° C. as the roll set temperature.

さらに、混練する時間は、例えば、5分~1時間程度であるのが好ましく、10~40分程度であるのがより好ましい。 Further, the kneading time is preferably, for example, about 5 minutes to 1 hour, and more preferably about 10 to 40 minutes.

上記工程[1]および上記工程[2]において、温度を上記範囲内とすることにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応の進行をより的確に防止または抑制することができる。また、上記工程[1]および上記工程[2]において、混練時間を上記範囲内とすることにより、各成分(A)~(E)をシリコーンゴム系硬化性組成物中により確実に分散させることができる。 By setting the temperature within the above range in the above step [1] and the above step [2], the progress of the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) is more accurately performed. Can be prevented or suppressed. Further, in the above steps [1] and the above steps [2], by setting the kneading time within the above range, each component (A) to (E) is more reliably dispersed in the silicone rubber-based curable composition. Can be done.

なお、各工程[1]、[2]において使用される混練装置としては、特に限定されないが、例えば、ニーダー、2本ロール、バンバリーミキサー(連続ニーダー)、加圧ニーダー等を用いることができる。 The kneading device used in each of the steps [1] and [2] is not particularly limited, and for example, a kneader, a two-roll, a Banbury mixer (continuous kneader), a pressurized kneader, or the like can be used.

また、本工程[2]において、混練物中に1-エチニルシクロヘキサノールのような反応抑制剤を添加するようにしてもよい。これにより、混練物の温度が比較的高い温度に設定されたとしても、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応の進行をより的確に防止または抑制することができる。 Further, in this step [2], a reaction inhibitor such as 1-ethynylcyclohexanol may be added to the kneaded product. As a result, even if the temperature of the kneaded product is set to a relatively high temperature, the progress of the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) is more accurately prevented or suppressed. be able to.

[3]次に、工程[2]で得られたエラストマー組成物(シリコーンゴム系硬化性組成物)を、溶剤に溶解させ、金属粉(G)を加えることで、本実施形態の導電性ペーストを得ることができる。 [3] Next, the elastomer composition (silicone rubber-based curable composition) obtained in the step [2] is dissolved in a solvent, and a metal powder (G) is added to the conductive paste of the present embodiment. Can be obtained.

[用途]
以下、本実施形態の導電性ペーストの用途の一例について、図1を示しながら説明する。図1には、係る配線を備えた電子装置100の概略を断面図として図示している。
[Use]
Hereinafter, an example of the use of the conductive paste of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows an outline of an electronic device 100 provided with such wiring as a cross-sectional view.

電子装置100は、図1に示すように、配線基板50と、電子部品60と、を備えることができる。この配線基板50は、基板20上に配線10を備えることにより構成される。基板20は、伸縮性を有する絶縁基板を用いることできる。一方、配線10は、本実施形態の導電性ペーストを硬化させた硬化物で構成することができる。電子部品60は、このような伸縮性配線基板(配線基板50)を構成する配線10に電気的に接続するように構成されていてもよい。 As shown in FIG. 1, the electronic device 100 can include a wiring board 50 and an electronic component 60. The wiring board 50 is configured by providing the wiring 10 on the board 20. As the substrate 20, an insulating substrate having elasticity can be used. On the other hand, the wiring 10 can be made of a cured product obtained by curing the conductive paste of the present embodiment. The electronic component 60 may be configured to be electrically connected to the wiring 10 constituting such an elastic wiring board (wiring board 50).

本実施形態の導電性ペーストは、得られる硬化物に対して機械的強度を高めつつも、繰り返し伸縮したときの伸縮電気特性を維持することができるため、接続信頼性や耐久性に優れた電子装置100の構造を実現することができる。
本実施形態の電子装置100は、たとえばウェアラブルデバイスとして用いられるものであり、各方向に繰り返し伸縮される装置に好適に用いることができる。
The conductive paste of the present embodiment can maintain the expansion and contraction electrical characteristics when repeatedly expanded and contracted while increasing the mechanical strength against the obtained cured product, so that the electrons have excellent connection reliability and durability. The structure of the device 100 can be realized.
The electronic device 100 of the present embodiment is used, for example, as a wearable device, and can be suitably used for a device that is repeatedly expanded and contracted in each direction.

また、本実施形態の電子装置100を構成する基板20は、通常、柔軟性を有する材料により構成される。
この材料としては、前述のエラストマーと同様のものを採用することができる。具体的には、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、スチレンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム等エラストマーを用いることができ、用途等に応じ、この材料を適宜選択することができる。また、基板20は、上記のシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物で構成されていてもよい。
Further, the substrate 20 constituting the electronic device 100 of the present embodiment is usually made of a flexible material.
As this material, the same material as the above-mentioned elastomer can be adopted. Specifically, elastomers such as silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, acrylic rubber, styrene rubber, chloroprene rubber, and ethylene propylene rubber can be used, and this material can be appropriately selected depending on the application and the like. can. Further, the substrate 20 may be composed of a cured product of the above-mentioned silicone rubber-based curable composition.

また、基板20は、上述のエラストマー組成物からなるエラストマーを用いることができる。また、このエラストマーは、シリカ粒子を含有するエラストマー組成物と溶剤とを含む絶縁性ペーストを用いて構成されていてもよい。この溶剤としては、前述の溶剤と同様の上述の溶剤種を用いることができるが、この中でも上記導電性ペーストや導電性ペーストの硬化物である導電性シートに対して溶解性を示す溶剤を用いることができる。具体的な絶縁性ペーストの溶剤としては、例えば、高沸点溶剤やHSPの極性項(δ)や水素結合項(δ)が上記上限値以下の溶剤を用いることができる。 Further, as the substrate 20, an elastomer composed of the above-mentioned elastomer composition can be used. Further, the elastomer may be composed of an insulating paste containing an elastomer composition containing silica particles and a solvent. As the solvent, the same solvent type as the above-mentioned solvent can be used, and among these, a solvent exhibiting solubility in the above-mentioned conductive paste or a conductive sheet which is a cured product of the above-mentioned conductive paste is used. be able to. As a specific solvent for the insulating paste, for example, a solvent having a high boiling point or a solvent having a polar term (δ p ) or a hydrogen bond term (δ h ) of HSP of not more than the above upper limit can be used.

また、上記電子部品60は、用途に応じ、公知の部品の中から適宜選択すればよい。具体的には、半導体素子、及び半導体素子以外の抵抗やコンデンサ等を挙げることができる。半導体素子としては、たとえば、トランジスタや、ダイオード、LED、コンデンサ等を挙げることができる。本実施形態の電子装置100において、この電子部品60は配線10により導通が図られている。 Further, the electronic component 60 may be appropriately selected from known components according to the intended use. Specific examples thereof include semiconductor devices and resistors and capacitors other than semiconductor devices. Examples of the semiconductor element include a transistor, a diode, an LED, a capacitor and the like. In the electronic device 100 of the present embodiment, the electronic component 60 is electrically connected by the wiring 10.

また、本実施形態の電子装置100は、必要に応じ、カバー材30が備えられていてもよい。このカバー材30を備えることにより、配線10、電子部品60が損傷されることを防ぐことができる。カバー材30は、電子部品60や、基板20上の配線10を覆うように構成されていてもよい。
また、このカバー材30は、基板20と同様の材料により構成することができる。このようなカバー材30が基板20や配線10の伸縮に追従することから、電子装置100全体として、偏りなく伸縮することができ、この電子装置100の長寿命化にも資することができる。
Further, the electronic device 100 of the present embodiment may be provided with the cover material 30 as needed. By providing the cover material 30, it is possible to prevent the wiring 10 and the electronic component 60 from being damaged. The cover material 30 may be configured to cover the electronic component 60 and the wiring 10 on the substrate 20.
Further, the cover material 30 can be made of the same material as the substrate 20. Since the cover material 30 follows the expansion and contraction of the substrate 20 and the wiring 10, the electronic device 100 as a whole can be expanded and contracted without bias, and can contribute to extending the life of the electronic device 100.

次に、本実施形態の電子装置100の製造工程の一例について図2を用いて説明する。
図2は、本実施形態における電子装置100の製造工程の概略を示す断面図である。
Next, an example of the manufacturing process of the electronic device 100 of the present embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an outline of the manufacturing process of the electronic device 100 in the present embodiment.

まず図2(a)に示すように、作業台110上に支持体120を設置し、その支持体120上に絶縁性ペースト130を塗工する。塗工方法としては、各種の方法を用いることができるが、例えば、スキージ140を用いたスキージ方法などの印刷法を用いることができる。続いて、塗膜状の絶縁性ペースト130を乾燥させて、支持体120上に絶縁層132(乾燥した絶縁性シート)を形成することができる。乾燥条件は、絶縁性ペースト130中の溶剤の種類や量に応じて適宜設定することができるが、例えば、乾燥温度を150℃~180℃、乾燥時間を1分~30分等とすることができる。 First, as shown in FIG. 2A, the support 120 is installed on the workbench 110, and the insulating paste 130 is applied onto the support 120. As the coating method, various methods can be used, and for example, a printing method such as a squeegee method using a squeegee 140 can be used. Subsequently, the coating film-like insulating paste 130 can be dried to form an insulating layer 132 (dried insulating sheet) on the support 120. The drying conditions can be appropriately set according to the type and amount of the solvent in the insulating paste 130, and for example, the drying temperature may be 150 ° C. to 180 ° C., the drying time may be 1 minute to 30 minutes, or the like. can.

続いて、図2(b)に示すように、絶縁層132上に、所定の開口パターン形状を有するマスク160を配置する。そして、図2(b)、(c)に示すように、マスク160を介して、絶縁層132上に導電性ペースト150を塗工する。塗工方法は、絶縁性ペースト130の塗工方法と同様の手法を用いることができ、例えば、スキージ140によるスキージ印刷を用いてもよい。ここで、絶縁性ペースト130および導電性ペースト150がそれぞれ熱硬化性エラストマー組成物を含む場合、乾燥した絶縁層132上に、所定のパターン形状を有する導電性塗膜(導電層152)を積層した後、これらを一括して硬化処理してもよい。硬化処理としては、熱硬化性エラストマー組成物に応じて適宜設定できるが、例えば、硬化温度を160℃~220℃、硬化時間を1時間~3時間等とすることができる。硬化処理後または硬化処理前に、図2(d)に示すように、マスク160を取り外すことができる。これにより、絶縁層132の硬化物で構成される基板上に、所定のパターン形状を有する、導電層152の硬化物である配線を形成することができる。 Subsequently, as shown in FIG. 2B, a mask 160 having a predetermined opening pattern shape is arranged on the insulating layer 132. Then, as shown in FIGS. 2 (b) and 2 (c), the conductive paste 150 is applied onto the insulating layer 132 via the mask 160. As the coating method, the same method as the coating method of the insulating paste 130 can be used, and for example, squeegee printing with the squeegee 140 may be used. Here, when the insulating paste 130 and the conductive paste 150 each contain a thermosetting elastomer composition, a conductive coating film (conductive layer 152) having a predetermined pattern shape is laminated on the dried insulating layer 132. After that, these may be collectively cured. The curing treatment can be appropriately set depending on the thermosetting elastomer composition, and for example, the curing temperature can be 160 ° C. to 220 ° C., the curing time can be 1 hour to 3 hours, or the like. As shown in FIG. 2D, the mask 160 can be removed after the curing treatment or before the curing treatment. As a result, it is possible to form wiring which is a cured product of the conductive layer 152 and has a predetermined pattern shape on the substrate composed of the cured product of the insulating layer 132.

続いて、図2(e)に示すように、絶縁層132およびパターン状の導電層152の上に、さらに絶縁性ペースト170を塗工し、図2(f)に示すように絶縁層172を形成することができる。これらの工程を適宜、繰り返してもよい。また、絶縁層132から支持体120を分離することも可能である。
以上により、図2(f)に示す電子装置100を得ることができる。
Subsequently, as shown in FIG. 2 (e), the insulating paste 170 is further coated on the insulating layer 132 and the patterned conductive layer 152, and the insulating layer 172 is provided as shown in FIG. 2 (f). Can be formed. These steps may be repeated as appropriate. It is also possible to separate the support 120 from the insulating layer 132.
As a result, the electronic device 100 shown in FIG. 2 (f) can be obtained.

なお、絶縁性ペーストに代えて絶縁性シートを使用する場合、図2(b)に示す工程から開始してもよい。すなわち、支持体120上に絶縁性シートを設置し、所定の乾燥を行った後、その絶縁性シート上にマスク160を介して導電性ペースト150を塗布してもよい。以後の工程は、上述の工程に従って行うことができる。これにより、図2(f)に示す電子装置100を得ることが可能である。 When an insulating sheet is used instead of the insulating paste, the process may be started from the step shown in FIG. 2 (b). That is, the insulating sheet may be placed on the support 120, dried for a predetermined period, and then the conductive paste 150 may be applied onto the insulating sheet via the mask 160. Subsequent steps can be performed according to the above steps. This makes it possible to obtain the electronic device 100 shown in FIG. 2 (f).

なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
以下、参考形態の例を付記する。
1. シリカ粒子(C)を含有するエラストマー組成物と、
導電性フィラーと、
溶剤と、を含む、導電性ペースト。
2. 1.に記載の導電性ペーストであって、
前記エラストマー組成物が、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴムからなる群から選択される一種以上のエラストマーを形成するための熱硬化性エラストマー組成物を含む、導電性ペースト。
3. 1.または2.に記載の導電性ペーストであって、
伸縮性配線基板を構成する配線を形成するために用いられる、導電性ペースト。
4. 1.から3.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記溶剤が、沸点が100℃以上300℃以下である高沸点溶剤を含む、導電性ペースト。
5. 1.から4.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記溶剤が、炭素数5以上20以下の脂肪族炭化水素を含む、導電性ペースト。
6. 1.から5.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの極性項(δ )が10MPa 1/2 以下である第1溶剤を含む、導電性ペースト。
7. 1.から6.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
室温25℃における、せん断速度20〔1/s〕で測定した時の当該導電性ペーストの粘度が、1Pa・s以上100Pa・s以下である、導電性ペースト。
8. 1.から7.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
当該導電性ペーストについて、室温25℃において、せん断速度1〔1/s〕で測定した時の粘度をη1とし、せん断速度5〔1/s〕で測定した時の粘度をη5としたとき、粘度比(η1/η5)であるチキソ指数が、1.0以上3.0以下である、導電性ペースト。
9. 1.から8.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記導電性フィラーは、金属粉(G)を含む、導電性ペースト。
10. 1.から9.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記導電性フィラーの含有量が、当該導電性ペースト全体に対して、30質量%以上85質量%以下である、導電性ペースト。
11. 1.から10.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記シリカ粒子(C)の含有量が、前記シリカ粒子(C)および前記導電性フィラーの合計量100質量%に対して、1質量%以上20質量%以下である、導電性ペースト。
12. 1.から11.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記エラストマー組成物が、シリコーンゴム系硬化性組成物を含む、導電性ペースト。
13. 12.に記載の導電性ペーストであって、
前記シリコーンゴム系硬化性組成物が、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を含む、導電性ペースト。
14. 12.または13.に記載の導電性ペーストであって、
前記シリコーンゴム系硬化性組成物が、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)をさらに含む、導電性ペースト。
15. 12.から14.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記シリコーンゴム系硬化性組成物が、白金又は白金化合物(E)をさらに含む、導電性ペースト。
16. 1.から15.のいずれか1つに記載の導電性ペーストであって、
前記エラストマー組成物の含有量が、当該導電性ペースト全体に対して、1質量%以上25質量%以下である、導電性ペースト。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like to the extent that the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.
Hereinafter, an example of the reference form will be added.
1. 1. An elastomer composition containing silica particles (C) and
With conductive filler,
Conductive paste, including solvent.
2. 2. 1. 1. The conductive paste described in 1.
A conductive paste, wherein the elastomer composition comprises a thermosetting elastomer composition for forming one or more elastomers selected from the group consisting of silicone rubber, urethane rubber, and fluororubber.
3. 3. 1. 1. Or 2. The conductive paste described in 1.
A conductive paste used to form the wiring that makes up an elastic wiring board.
4. 1. 1. From 3. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste containing a high boiling point solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower.
5. 1. 1. From 4. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste in which the solvent contains an aliphatic hydrocarbon having 5 or more and 20 or less carbon atoms.
6. 1. 1. From 5. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste containing a first solvent in which the polarity term (δ p ) of the Hansen solubility parameter is 10 MPa 1/2 or less.
7. 1. 1. From 6. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste having a viscosity of 1 Pa · s or more and 100 Pa · s or less when measured at a shear rate of 20 [1 / s] at a room temperature of 25 ° C.
8. 1. 1. From 7. The conductive paste according to any one of the above.
The viscosity of the conductive paste when measured at a shear rate of 1 [1 / s] at a room temperature of 25 ° C. is η1, and the viscosity when measured at a shear rate of 5 [1 / s] is η5. A conductive paste having a thixotropy index of 1.0 or more and 3.0 or less, which is a ratio (η1 / η5).
9. 1. 1. From 8. The conductive paste according to any one of the above.
The conductive filler is a conductive paste containing metal powder (G).
10. 1. 1. From 9. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste in which the content of the conductive filler is 30% by mass or more and 85% by mass or less with respect to the entire conductive paste.
11. 1. 1. From 10. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste in which the content of the silica particles (C) is 1% by mass or more and 20% by mass or less with respect to 100% by mass of the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler.
12. 1. 1. From 11. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste in which the elastomer composition contains a silicone rubber-based curable composition.
13. 12. The conductive paste described in 1.
A conductive paste in which the silicone rubber-based curable composition contains a vinyl group-containing organopolysiloxane (A).
14. 12. Or 13. The conductive paste described in 1.
A conductive paste in which the silicone rubber-based curable composition further contains organohydrogenpolysiloxane (B).
15. 12. From 14. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste in which the silicone rubber-based curable composition further contains platinum or a platinum compound (E).
16. 1. 1. From 15. The conductive paste according to any one of the above.
A conductive paste in which the content of the elastomer composition is 1% by mass or more and 25% by mass or less with respect to the entire conductive paste.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例および比較例において用いた材料は以下の通りである。
(ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A))
(A1-1):第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン:ビニル基含有量は0.13モル%、Mn=227,734、Mw=573,903、IV値(dl/g)=0.89)、下記の合成スキーム1により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(上記式(1-1)で表わされる構造)
(A1-2):第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン:ビニル基含有量は0.92モル%、下記の合成スキーム2により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(上記式(1-1)で表わされる構造でRおよびRがビニル基である構造)
The materials used in the examples and comparative examples are as follows.
(Vinyl group-containing organopolysiloxane (A))
(A1-1): First vinyl group-containing linear organopolysiloxane: Vinyl group content is 0.13 mol%, Mn = 227,734, Mw = 573,903, IV value (dl / g) = 0.89), Vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized by the following synthesis scheme 1 (structure represented by the above formula (1-1)).
(A1-2): Second vinyl group-containing linear organopolysiloxane: Vinyl group content is 0.92 mol%, vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized by the following synthesis scheme 2 (the above formula (1-). Structure represented by 1) in which R 1 and R 2 are vinyl groups)

(オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B))
(B1):オルガノハイドロジェンポリシロキサン:モメンティブ社製、「88466」
(Organohydrogenpolysiloxane (B))
(B1): Organohydrogenpolysiloxane: Momentive, "88466"

(シリカ粒子(C))
(C1):シリカ微粒子(粒径7nm、比表面積300m/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL300」
(Silica particles (C))
(C1): Silica fine particles (particle size 7 nm, specific surface area 300 m 2 / g), manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., "AEROSIL 300"

(シランカップリング剤(D))
(D1):ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、Gelest社製、「HEXAMETHYLDISILAZANE(SIH6110.1)」
(Silane Coupling Agent (D))
(D1): Hexamethyldisilazane (HMDZ), manufactured by Gelest, "HEXAMETHYLDISILAZANE (SIH6110.1)".

(白金または白金化合物(E))
(E1):白金化合物、PLATINUM DIVINYLTETRAMETHYLDISILOXANE COMPLEX(in xylene) (Gelest社製、商品名「SIP6831.2」)
(Platinum or platinum compound (E))
(E1): Platinum compound, PLATINUM DIVINYLTETRAMETHYLDISILOXANE COMPLEX (in xylene) (manufactured by Gelest, trade name "SIP6831.2")

(水(F))
(F1):純水
(Water (F))
(F1): Pure water

(添加剤)
(反応阻害剤1):1-エチニル-1-シクロヘキサノール(東京化成社製)
(Additive)
(Reaction inhibitor 1): 1-ethynyl-1-cyclohexanol (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.)

(金属粉(G))
(G1):銀粉、徳力化学研究所社製、商品名「TC-101」、メジアン径d50:8.0μm、アスペクト比16.4、平均長径4.6μm
(Metal powder (G))
(G1): Silver powder, manufactured by Tokuriki Kagaku Kenkyusho, trade name "TC-101", median diameter d 50 : 8.0 μm, aspect ratio 16.4, average major axis 4.6 μm

(ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合成)
[合成スキーム1:第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)の合成]
下記式(7)にしたがって、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を合成した。
すなわち、Arガス置換した、冷却管および攪拌翼を有する300mLセパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)、カリウムシリコネート0.1gを入れ、昇温し、120℃で30分間攪拌した。なお、この際、粘度の上昇が確認できた。
その後、155℃まで昇温し、3時間攪拌を続けた。そして、3時間後、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)を添加し、さらに、155℃で4時間攪拌した。
さらに、4時間後、トルエン250mLで希釈した後、水で3回洗浄した。洗浄後の有機層をメタノール1.5Lで数回洗浄することで、再沈精製し、オリゴマーとポリマーを分離した。得られたポリマーを60℃で一晩減圧乾燥し、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を得た(Mw=573,903、Mn=227,734)。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.13モル%であった。
(Synthesis of vinyl group-containing organopolysiloxane (A))
[Synthesis scheme 1: Synthesis of first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1)]
The first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) was synthesized according to the following formula (7).
That is, 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane and 0.1 g of potassium silicate were placed in a 300 mL separable flask having a cooling tube and a stirring blade substituted with Ar gas, heated, and heated at 120 ° C. for 30 minutes. Stirred. At this time, an increase in viscosity was confirmed.
Then, the temperature was raised to 155 ° C., and stirring was continued for 3 hours. Then, after 3 hours, 0.1 g (0.6 mmol) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was added, and the mixture was further stirred at 155 ° C. for 4 hours.
After 4 hours, it was diluted with 250 mL of toluene and then washed 3 times with water. The organic layer after washing was washed with 1.5 L of methanol several times for reprecipitation purification, and the oligomer and the polymer were separated. The obtained polymer was dried under reduced pressure at 60 ° C. overnight to obtain a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) (Mw = 573,903, Mn = 227,734). The vinyl group content calculated by 1 H-NMR spectrum measurement was 0.13 mol%.

Figure 0007018295000005
Figure 0007018295000005

[合成スキーム2:第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)の合成]
上記(A1-1)の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)に加えて2,4,6,8-テトラメチル2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン0.86g(2.5mmol)を用いたこと以外は、(A1-1)の合成工程と同様にすることで、下記式のように、第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)を合成した。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.92モル%であった。

Figure 0007018295000006
[Synthesis scheme 2: Synthesis of second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2)]
In the above synthesis step (A1-1), in addition to 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl 2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane 0. By performing the same as the synthesis step of (A1-1) except that 86 g (2.5 mmol) was used, a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) was used as shown in the following formula. ) Was synthesized. The vinyl group content calculated by 1 H-NMR spectrum measurement was 0.92 mol%.
Figure 0007018295000006

[導電性ペーストの作製]
(シリコーンゴム系硬化性組成物1~3の調製)
次のようにしてシリコーンゴム系硬化性組成物1~3を調整した。まず、下記の表1に示す割合で、90%のビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)、シランカップリング剤(D)および水(F)の混合物を予め混練し、その後、混合物にシリカ粒子(C)を加えてさらに混練し、混練物(シリコーンゴムコンパウンド)を得た。
ここで、シリカ粒子(C)添加後の混練は、カップリング反応のために窒素雰囲気下、60~90℃の条件下で1時間混練する第1ステップと、副生成物(アンモニア)の除去のために減圧雰囲気下、160~180℃の条件下で2時間混練する第2ステップとを経ることで行い、その後、冷却し、残り10%のビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を2回に分けて添加し、20分間混練した。
続いて、下記の表1に示す割合で、得られた混練物(シリコーンゴムコンパウンド)100重量部に、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)、白金または白金化合物(E)および反応阻害剤を加えて、ロールで混練し、シリコーンゴム系硬化性組成物1~3(エラストマー組成物1~3)を得た。
[Preparation of conductive paste]
(Preparation of Silicone Rubber Curable Compositions 1 to 3)
Silicone rubber-based curable compositions 1 to 3 were prepared as follows. First, a mixture of 90% vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silane coupling agent (D) and water (F) is kneaded in advance at the ratio shown in Table 1 below, and then silica particles (silica particles ()) are added to the mixture. C) was added and further kneaded to obtain a kneaded product (silicone rubber compound).
Here, the kneading after the addition of the silica particles (C) is carried out in the first step of kneading under a nitrogen atmosphere at 60 to 90 ° C. for 1 hour for the coupling reaction, and the removal of the by-product (ammonia). Therefore, it is carried out by going through the second step of kneading under a reduced pressure atmosphere under the condition of 160 to 180 ° C. for 2 hours, and then cooling, and the remaining 10% of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) is added twice. It was added separately and kneaded for 20 minutes.
Subsequently, the organohydrogenpolysiloxane (B), platinum or platinum compound (E) and the reaction inhibitor were added to 100 parts by weight of the obtained kneaded product (silicone rubber compound) at the ratio shown in Table 1 below. , Kneaded with a roll to obtain silicone rubber-based curable compositions 1 to 3 (elastomer compositions 1 to 3).

Figure 0007018295000007
Figure 0007018295000007

(エラストマー組成物4)
エラストマー組成物4として、東レ・ダウコーニング社製の商品名「C6-135 ELASTOMER(シリカ粒子を含む)」を用いた。
(Elastomer Composition 4)
As the elastomer composition 4, the trade name “C6-135 ELASTOMER (including silica particles)” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. was used.

(エラストマー組成物5)
ウレタンジアクリレート(東亞合成社製、商品名「アロニックスM-1200」)9.2gと、シランカップリング剤(ヘキサメチルジシラザン(Gelest社製))0.9gで表面処理を施した、シリカ粒子(日本アエロジル社製、商品名「AEROSIL300」)3.5gと、有機過酸化物開始剤(日本油脂社製、商品名「パーヘキサ3M」)0.1gを混合し、エラストマー組成物5を得た。
(Elastomer Composition 5)
Silica particles surface-treated with 9.2 g of urethane diacrylate (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., trade name "Aronix M-1200") and 0.9 g of silane coupling agent (hexamethyl disilazane (manufactured by Gelest)). (Manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., trade name "AEROSIL300") 3.5 g and an organic peroxide initiator (manufactured by Nippon Oil & Fat Co., Ltd., trade name "Perhexa 3M") 0.1 g were mixed to obtain an elastomer composition 5. ..

<実施例1:導電性ペースト1>
得られた13.7重量部のシリコーンゴム系硬化性組成物1(エラストマー組成物1)を、31.8重量部のテトラデカンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト1を得た。
<Example 1: Conductive paste 1>
The obtained 13.7 parts by weight of the silicone rubber-based curable composition 1 (elastomer composition 1) was immersed in 31.8 parts by weight of tetradecane, and subsequently stirred with a rotation / revolution mixer to 54.5 parts by weight. A liquid conductive paste 1 was obtained by kneading with three rolls after adding the silver powder G1 of the portion.

<実施例2:導電性ペースト2>
得られた13.7重量部のシリコーンゴム系硬化性組成物2(エラストマー組成物2)を、31.8重量部のデカンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト2を得た。
<Example 2: Conductive paste 2>
The obtained 13.7 parts by weight of the silicone rubber-based curable composition 2 (elastomer composition 2) was immersed in 31.8 parts by weight of decan, and then stirred with a rotation / revolution mixer to 54.5 parts by weight. A liquid conductive paste 2 was obtained by kneading with three rolls after adding the silver powder G1 of the portion.

<実施例3:導電性ペースト3>
得られた13.7重量部のシリコーンゴム系硬化性組成物1(エラストマー組成物1)を、31.8重量部のトルエンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト3を得た。
<Example 3: Conductive paste 3>
The obtained 13.7 parts by weight of the silicone rubber-based curable composition 1 (elastomer composition 1) was immersed in 31.8 parts by weight of toluene, and subsequently stirred with a rotation / revolution mixer to 54.5 parts by weight. A liquid conductive paste 3 was obtained by kneading with three rolls after adding the silver powder G1 of the portion.

<実施例4:導電性ペースト4>
得られた13.7重量部のエラストマー組成物4(3.0重量部のシリカ粒子を含む)を、31.8重量部のデカンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト4を得た。
<Example 4: Conductive paste 4>
The obtained 13.7 parts by weight of the elastomer composition 4 (containing 3.0 parts by weight of silica particles) was immersed in 31.8 parts by weight of decan, and subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, 54. After adding 5 parts by weight of silver powder G1, the mixture was kneaded with three rolls to obtain a liquid conductive paste 4.

<実施例5:導電性ペースト5>
得られた13.7重量部のエラストマー組成物5を、31.8重量部のトルエンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト5を得た。
<Example 5: Conductive paste 5>
The obtained 13.7 parts by weight of the elastomer composition 5 was immersed in 31.8 parts by weight of toluene, subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, 54.5 parts by weight of silver powder G1 was added, and then three pieces were added. By kneading with a roll, a liquid conductive paste 5 was obtained.

<実施例6:導電性ペースト6>
得られた13.7重量部のエラストマー組成物1を、31.8重量部のメシチレンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト6を得た。
<Example 6: Conductive paste 6>
The obtained 13.7 parts by weight of the elastomer composition 1 was immersed in 31.8 parts by weight of mesitylene, subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, 54.5 parts by weight of silver powder G1 was added, and then three pieces were added. By kneading with a roll, a liquid conductive paste 6 was obtained.

<実施例7:導電性ペースト7>
得られた13.7重量部のエラストマー組成物2を、31.8重量部のジプロピレングリコールジメチルエーテルに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト7を得た。
<Example 7: Conductive paste 7>
The obtained 13.7 parts by weight of the elastomer composition 2 was immersed in 31.8 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether, subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, and 54.5 parts by weight of silver powder G1 was added. Later, the mixture was kneaded with three rolls to obtain a liquid conductive paste 7.

<実施例8:導電性ペースト8>
得られた13.7重量部のエラストマー組成物1を、31.8重量部のジエチルカーボネートに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト8を得た。
<Example 8: Conductive paste 8>
The obtained 13.7 parts by weight of the elastomer composition 1 was immersed in 31.8 parts by weight of diethyl carbonate, subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, 54.5 parts by weight of silver powder G1 was added, and then three. By kneading with this roll, a liquid conductive paste 8 was obtained.

<実施例9:導電性ペースト9>
得られた12.0重量部のエラストマー組成物1を、32.4重量部のテトラデカンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、55.6重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト9を得た。
<Example 9: Conductive paste 9>
The obtained 12.0 parts by weight of the elastomer composition 1 was immersed in 32.4 parts by weight of tetradecane, subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, 55.6 parts by weight of silver powder G1 was added, and then three pieces were added. By kneading with a roll, a liquid conductive paste 9 was obtained.

<実施例10:導電性ペースト10>
得られた15.5重量部のエラストマー組成物2を、32.6重量部のデカンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、51.9重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト10を得た。
<Example 10: Conductive paste 10>
The obtained 15.5 parts by weight of the elastomer composition 2 was immersed in 32.6 parts by weight of decan, subsequently stirred with a rotation / revolution mixer, 51.9 parts by weight of silver powder G1 was added, and then three pieces were added. By kneading with a roll, a liquid conductive paste 10 was obtained.

<比較例1:エラストマー組成物>
得られた20重量部のエラストマー組成物1(5.2重量部のシリカ粒子(C)を含む)を、溶剤に浸漬せずに、80重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、比較例1サンプルとしてそのまま使用した。
<Comparative Example 1: Elastomer Composition>
20 parts by weight of the obtained elastomer composition 1 (containing 5.2 parts by weight of silica particles (C)) is not immersed in a solvent, 80 parts by weight of silver powder G1 is added, and then kneaded with three rolls. As a result, it was used as it was as a sample of Comparative Example 1.

<比較例2:導電性ペースト11>
得られた13.7重量部のエラストマー組成物3(シリカ粒子(C)を含まない)を、31.8重量部のテトラデカンに浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の銀粉G1を加えた後に三本ロールで混練することで、液状の導電性ペースト11を得た。
<Comparative Example 2: Conductive paste 11>
The obtained 13.7 parts by weight of the elastomer composition 3 (not containing silica particles (C)) was immersed in 31.8 parts by weight of tetradecane, and subsequently stirred with a rotation / revolution mixer to 54.5 parts by weight. A liquid conductive paste 11 was obtained by kneading with three rolls after adding the silver powder G1 of the portion.

Figure 0007018295000008
Figure 0007018295000008

表2中の溶剤のハンセンの溶解度パラメータ(HSP)において、テトラデカンの分散項(δ):15.8MPa1/2、極性項(δ):0MPa1/2、水素結合項(δ):0MPa1/2であり、デカンの分散項(δ):15.7MPa1/2、極性項(δ):0MPa1/2、水素結合項(δ):0MPa1/2であり、トルエンの分散項(δ):17.8MPa1/2、極性項(δ):3.0MPa1/2、水素結合項(δ):0MPa1/2であり、メシチレンの分散項(δ):18.0MPa1/2、極性項(δ):0.6MPa1/2、水素結合項(δ):0.6MPa1/2であり、ジプロピレングリコールジメチルエーテルの分散項(δ):15.1MPa1/2、極性項(δ):6.3MPa1/2、水素結合項(δ):4.9MPa1/2であり、ジエチルカーボネートの分散項(δ):15.7MPa1/2、極性項(δ):5.1MPa1/2、水素結合項(δ):3.5MPa1/2であった。また、テトラデカンの沸点は253℃であり、デカンの沸点は174℃であり、トルエンの沸点は111℃であり、メシチレンの沸点は165℃であり、ジプロピレングリコールジメチルエーテルの沸点は175℃であり、ジエチルカーボネートの沸点は126℃であった。
また、表2中の比較例1の「-」は、比較例1サンプルに対して塗布操作を行うことができなかったため、各評価項目が測定できなかったことを示す。したがって、比較例1サンプルは、ペーストとして使用できず、塗布性や印刷性が不良と判断した。
In the solubility parameter (HSP) of Hansen of the solvent in Table 2, the dispersion term (δ d ) of tetradecane: 15.8 MPa 1/2 , the polarity term (δ p ): 0 MPa 1/2 , the hydrogen bond term (δ h ). : 0 MPa 1/2 , decan dispersion term (δ d ): 15.7 MPa 1/2 , polarity term (δ p ): 0 MPa 1/2 , hydrogen coupling term (δ h ): 0 MPa 1/2 . , Toluene dispersion term (δ d ): 17.8 MPa 1/2 , polar term (δ p ): 3.0 MPa 1/2 , hydrogen bond term (δ h ): 0 MPa 1/2 , and mesitylen dispersion term. (Δ d ): 18.0 MPa 1/2 , polar term (δ p ): 0.6 MPa 1/2 , hydrogen bond term (δ h ): 0.6 MPa 1/2 , dispersion term of dipropylene glycol dimethyl ether. (Δ d ): 15.1 MPa 1/2 , polar term (δ p ): 6.3 MPa 1/2 , hydrogen coupling term (δ h ): 4.9 MPa 1/2 , and dispersion term of diethyl carbonate (δ). d ): 15.7 MPa 1/2 , the polarity term (δ p ): 5.1 MPa 1/2 , and the hydrogen coupling term (δ h ): 3.5 MPa 1/2 . The boiling point of tetradecane is 253 ° C, the boiling point of decane is 174 ° C, the boiling point of toluene is 111 ° C, the boiling point of mesitylene is 165 ° C, and the boiling point of dipropylene glycol dimethyl ether is 175 ° C. The boiling point of diethyl carbonate was 126 ° C.
Further, "-" in Comparative Example 1 in Table 2 indicates that each evaluation item could not be measured because the coating operation could not be performed on the Comparative Example 1 sample. Therefore, the sample of Comparative Example 1 could not be used as a paste, and it was judged that the coatability and printability were poor.

[導電性ペーストの評価]
得られた導電性ペースト1~11について、以下の項目に従い評価を行った。
[Evaluation of conductive paste]
The obtained conductive pastes 1 to 11 were evaluated according to the following items.

<粘度>
得られた導電性ペーストについて、東機産業社製のTPE-100Hを用いて、室温25℃における、せん断速度20〔1/s〕での粘度を、導電性ペーストの作製直後に測定した。粘度の単位はPa・sである。
<チキソ指数>
得られた導電性ペーストについて、東機産業社製のTPE-100Hを用いて、室温25℃における、せん断速度1〔1/s〕で測定した時の粘度をη1、せん断速度5〔1/s〕で測定した時の粘度をη5とし、それぞれの粘度を、導電性ペースト作製直後に測定した。粘度の単位はPa・sである。チキソ指数を粘度比(η1/η5)として求めた。
<Viscosity>
The viscosity of the obtained conductive paste at a shear rate of 20 [1 / s] at room temperature of 25 ° C. was measured immediately after the production of the conductive paste using TPE-100H manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The unit of viscosity is Pa · s.
<Thixotropic index>
The viscosity of the obtained conductive paste when measured at a shear rate of 1 [1 / s] at a room temperature of 25 ° C. using TPE-100H manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. was η1 and a shear rate of 5 [1 / s]. ], The viscosity at the time of measurement was set to η5, and each viscosity was measured immediately after the conductive paste was prepared. The unit of viscosity is Pa · s. The thixotropic index was determined as the viscosity ratio (η1 / η5).

<体積抵抗率測定>
各実施例および各比較例で得られた導電性ペーストを、スライドガラス上に10mm角、厚み60μmに塗布し、170℃オーブン中で120分間硬化した後の硬化物の体積抵抗率を4探針法により測定した。結果を、表2に示す。
<Measurement of volume resistivity>
The conductive paste obtained in each example and each comparative example was applied onto a slide glass to a size of 10 mm square and a thickness of 60 μm, and cured in an oven at 170 ° C. for 120 minutes, and then the volume resistivity of the cured product was measured by 4 probes. Measured by method. The results are shown in Table 2.

<印刷性評価>
実施例および比較例の導電性ペーストをシリコーンゴム上に、開口L/S=500/500μmのステンシル版により、170℃、120分で硬化後の高さが50~100μm程度の範囲に入るようにパターン印刷した。光学顕微鏡で観察し得られたパターンに滲みがないものを◎、50μm以上の滲みが10箇所以下あるものを○、短絡や断線があるものを×とした。結果を、表2に示す。
<Evaluation of printability>
The conductive pastes of Examples and Comparative Examples are placed on silicone rubber with a stencil plate having an opening L / S = 500/500 μm so that the height after curing at 170 ° C. for 120 minutes falls within the range of about 50 to 100 μm. The pattern was printed. The pattern obtained by observing with an optical microscope without bleeding was marked with ⊚, the pattern with bleeding of 50 μm or more at 10 points or less was marked with ◯, and the pattern with shunt or disconnection was marked with ×. The results are shown in Table 2.

(耐久性試験)
まず、得られたシリコーンゴム系硬化性組成物1(エラストマー組成物1)を170℃、120分で硬化して、シート状に成形し、シリコーンゴムで形成された幅2cm×高さ500μm×長さ5cmの基板を作製した。
続いて、各実施例および各比較例で得られた導電性ペーストを用いて、得られた基板上に、配線パターンを描き、これを170℃120分の条件で硬化し、幅500μm×高さ50μm×長さ30mmの配線パターンを有する試験片を作製した。
(Durability test)
First, the obtained silicone rubber-based curable composition 1 (elastomer composition 1) was cured at 170 ° C. for 120 minutes, molded into a sheet, and formed of silicone rubber, width 2 cm × height 500 μm × length. A 5 cm substrate was prepared.
Subsequently, using the conductive pastes obtained in each Example and each Comparative Example, a wiring pattern was drawn on the obtained substrate, and this was cured under the condition of 170 ° C. for 120 minutes, and the width was 500 μm × the height. A test piece having a wiring pattern of 50 μm × 30 mm in length was prepared.

このようにして得られた試験片について、試験片の長さ方向に20%伸長し、この伸長を解放する操作を1000回行った。
この伸長操作を1000回行った場合でも十分に配線の導通が図れたものを◎、伸長操作を500回行った場合でも十分に導通が図れたものを○、伸長操作を500回行った段階で配線が断線していたものを×として評価した。結果を表2に示す。
The test piece thus obtained was stretched by 20% in the length direction of the test piece, and the operation of releasing the stretch was performed 1000 times.
◎ is the wiring that is sufficiently conductive even when this extension operation is performed 1000 times, ○ is the one that is sufficiently conductive even when the extension operation is performed 500 times, and when the extension operation is performed 500 times. Those with broken wiring were evaluated as x. The results are shown in Table 2.

各実施例1~10で得られた導電性ペーストは、比較例1と比べて塗布性および印刷性に優れており、また、比較例2と比べて伸張耐久性に優れた、導電性樹脂膜を実現できることが分かった。このような実施例1~10の導電性ペーストは、伸縮性配線の形成に適することが分かった。 The conductive pastes obtained in Examples 1 to 10 are excellent in coatability and printability as compared with Comparative Example 1, and have excellent stretch durability as compared with Comparative Example 2. It turned out that can be realized. It was found that such conductive pastes of Examples 1 to 10 are suitable for forming elastic wiring.

10 配線
20 基板
30 カバー材
50 配線基板
60 電子部品
100 電子装置
110 作業台
120 支持体
130 絶縁性ペースト
132 絶縁層
140 スキージ
150 導電性ペースト
152 導電層
160 マスク
170 絶縁性ペースト
172 絶縁層
10 Wiring 20 Board 30 Cover material 50 Wiring board 60 Electronic components 100 Electronic components 110 Worktable 120 Support 130 Insulation paste 132 Insulation layer 140 Squeegee 150 Conductive paste 152 Conductive layer 160 Mask 170 Insulation paste 172 Insulation layer

Claims (13)

シリカ粒子(C)を含有するエラストマー組成物と、
導電性フィラーと、
溶剤と、を含む導電性ペーストであって、
前記導電性フィラーは、リン片状の金属粉(G)を含み、
前記導電性フィラーの含有量が、前記導電性ペースト全体に対して、40質量%以上85質量%以下であり、
前記エラストマー組成物の含有量が、前記導電性ペースト全体に対して、1質量%以上25質量%以下であり、
前記シリカ粒子(C)の含有量が、前記導電性ペースト全体に対して、1質量%以上15質量%以下であり、かつ、前記シリカ粒子(C)および前記導電性フィラーの合計量100質量%に対して、1質量%以上20質量%以下であり、
室温25℃における、せん断速度20〔1/s〕で測定した時の当該導電性ペーストの粘度が、1Pa・s以上100Pa・s以下である、
導電性ペースト。
An elastomer composition containing silica particles (C) and
With conductive filler ,
A conductive paste containing a solvent and
The conductive filler contains a lint-like metal powder (G) and contains.
The content of the conductive filler is 40 % by mass or more and 85% by mass or less with respect to the entire conductive paste.
The content of the elastomer composition is 1% by mass or more and 25% by mass or less with respect to the entire conductive paste.
The content of the silica particles (C) is 1% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the entire conductive paste , and the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler is 100% by mass. 1% by mass or more and 20% by mass or less with respect to%.
The viscosity of the conductive paste as measured at a shear rate of 20 [1 / s] at room temperature of 25 ° C. is 1 Pa · s or more and 100 Pa · s or less.
Conductive paste.
請求項1に記載の導電性ペーストであって、
前記エラストマー組成物が、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴムからなる群から選択される一種以上のエラストマーを形成するための熱硬化性エラストマー組成物を含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to claim 1.
A conductive paste, wherein the elastomer composition comprises a thermosetting elastomer composition for forming one or more elastomers selected from the group consisting of silicone rubber, urethane rubber, and fluororubber.
請求項1または2に記載の導電性ペーストであって、
伸縮性配線基板を構成する配線を形成するために用いられる、導電性ペースト。
The conductive paste according to claim 1 or 2.
A conductive paste used to form the wiring that makes up an elastic wiring board.
請求項1から3のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
前記溶剤が、沸点が100℃以上300℃以下である高沸点溶剤を含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 3.
A conductive paste containing a high boiling point solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower.
請求項1から4のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
前記溶剤が、炭素数5以上20以下の脂肪族炭化水素を含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 4.
A conductive paste in which the solvent contains an aliphatic hydrocarbon having 5 or more and 20 or less carbon atoms.
請求項1から5のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
前記溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの極性項(δp)が10MPa1/2以下である第1溶剤を含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 5.
A conductive paste containing a first solvent in which the polarity term (δp) of the Hansen solubility parameter is 10 MPa 1/2 or less.
請求項1から6のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
当該導電性ペーストについて、室温25℃において、せん断速度1〔1/s〕で測定した時の粘度をη1とし、せん断速度5〔1/s〕で測定した時の粘度をη5としたとき、粘度比(η1/η5)であるチキソ指数が、1.0以上3.0以下である、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 6.
The viscosity of the conductive paste when measured at a shear rate of 1 [1 / s] at a room temperature of 25 ° C. is η1, and the viscosity when measured at a shear rate of 5 [1 / s] is η5. A conductive paste having a thixotropy index of 1.0 or more and 3.0 or less, which is a ratio (η1 / η5).
請求項1から7のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
前記エラストマー組成物が、シリコーンゴム系硬化性組成物を含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 7.
A conductive paste in which the elastomer composition contains a silicone rubber-based curable composition.
請求項8に記載の導電性ペーストであって、
前記シリコーンゴム系硬化性組成物が、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to claim 8.
A conductive paste in which the silicone rubber-based curable composition contains a vinyl group-containing organopolysiloxane (A).
請求項8または9に記載の導電性ペーストであって、
前記シリコーンゴム系硬化性組成物が、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)をさらに含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to claim 8 or 9.
A conductive paste in which the silicone rubber-based curable composition further contains organohydrogenpolysiloxane (B).
請求項8から10のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
前記シリコーンゴム系硬化性組成物が、白金又は白金化合物(E)をさらに含む、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 8 to 10.
A conductive paste in which the silicone rubber-based curable composition further contains platinum or a platinum compound (E).
請求項1から1のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
印刷用の導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 11.
Conductive paste for printing.
請求項1から1のいずれか1項に記載の導電性ペーストであって、
前記金属粉(G)の平均粒径D50が、0.001μm以上1、000μm以下である、導電性ペースト。
The conductive paste according to any one of claims 1 to 12.
A conductive paste having an average particle size D 50 of the metal powder (G) of 0.001 μm or more and 1,000 μm or less.
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