JP2022078683A - Flexible telescopic heater device or - Google Patents

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JP2022078683A
JP2022078683A JP2020189543A JP2020189543A JP2022078683A JP 2022078683 A JP2022078683 A JP 2022078683A JP 2020189543 A JP2020189543 A JP 2020189543A JP 2020189543 A JP2020189543 A JP 2020189543A JP 2022078683 A JP2022078683 A JP 2022078683A
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flexible telescopic
telescopic heater
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潤 岡田
Jun Okada
麻代 宮地
Mayo Miyaji
真梨子 大谷
Mariko Otani
裕美子 山野井
Yumiko Yamanoi
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

To provide a flexible telescopic heater device excellent in telescopic durability.SOLUTION: A flexible telescopic heater device includes an elastic substrate containing an insulating elastomer, and elastic heater wiring containing a conductive elastomer formed on the elastic substrate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、柔軟伸縮ヒータデバイスに関する。 The present invention relates to a flexible telescopic heater device.

ヒータデバイスについて様々な開発がなされてきた。この種の技術として、例えば、特許文献1に記載の技術が知られている。特許文献1には、本体と本体表面に取り付けられた加熱部とを備える加熱式ウェアラブル装置について、加熱部が金属材料からなるワイヤを編み組んで得られる加熱層で構成されると記載されている(特許文献1の段落0029、図4等)。 Various developments have been made on heater devices. As this kind of technique, for example, the technique described in Patent Document 1 is known. Patent Document 1 describes that a heating type wearable device including a main body and a heating portion attached to the surface of the main body is composed of a heating layer obtained by knitting a wire made of a metal material. (Paragraph 0029 of Patent Document 1, FIG. 4, etc.).

特開2018-183036号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-183036

しかしながら、本発明者が検討した結果、上記特許文献1に記載のヒータデバイスタにおいて、伸縮耐久性の点で改善の余地があることが判明した。 However, as a result of the study by the present inventor, it has been found that there is room for improvement in the expansion / contraction durability of the heater device data described in Patent Document 1.

本発明者はさらに検討したところ、基板及びヒータ配線を伸縮性材料で構成することにより、伸縮耐久性に優れた柔軟伸縮ヒータデバイスを実現できる見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of further studies, the present inventor has found that a flexible telescopic heater device having excellent stretchability durability can be realized by constructing a substrate and a heater wiring with a stretchable material, and has completed the present invention.

本発明によれば、
絶縁性エラストマーを含む伸縮性基板と、
前記伸縮性基板上に形成された、導電性エラストマーを含む伸縮性ヒータ配線と、を備える、
柔軟伸縮ヒータデバイス。
が提供される。
According to the present invention
An elastic substrate containing an insulating elastomer and
The elastic heater wiring including the conductive elastomer formed on the elastic substrate is provided.
Flexible telescopic heater device.
Is provided.

本発明によれば、伸縮耐久性に優れた柔軟伸縮ヒータデバイスが提供される。 According to the present invention, a flexible telescopic heater device having excellent telescopic durability is provided.

本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイスの構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the structure of the flexible telescopic heater device of this embodiment. (a)は図1のA-A断面図であり、(b)は図1のB-B断面図であり、(c)は変形例の構成を示す断面図である。(A) is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1, (b) is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 1, and (c) is a cross-sectional view showing a configuration of a modified example. 本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイスの機能を説明するためブロック図である。It is a block diagram for demonstrating the function of the flexible telescopic heater device of this embodiment. 本実施形態に係る柔軟伸縮ヒータデバイスの製造工程の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the manufacturing process of the flexible telescopic heater device which concerns on this embodiment.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。また、図は概略図であり、実際の寸法比率とは一致していない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all drawings, similar components are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate. Further, the figure is a schematic view and does not match the actual dimensional ratio.

本実施形態のヒータデバイスについて概説する。 The heater device of this embodiment will be outlined.

本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイスは、絶縁性エラストマーを含む伸縮性基板と、伸縮性基板上に形成された、導電性エラストマーを含む伸縮性ヒータ配線と、を備える。 The flexible telescopic heater device of the present embodiment includes a stretchable substrate containing an insulating elastomer and a stretchable heater wiring including a conductive elastomer formed on the stretchable substrate.

柔軟伸縮ヒータデバイスにおいて、電流を流すことによって伸縮性ヒータ配線を発熱させ、これを熱源体として使用できる。未伸長時でも伸長時でも、伸縮性ヒータ配線を発熱可能である。 In the flexible telescopic heater device, the elastic heater wiring can be generated by passing an electric current, and this can be used as a heat source body. The elastic heater wiring can generate heat both when it is not stretched and when it is stretched.

ここで、特許文献1に記載の加熱式ウェアラブル装置の加熱部として、金属材料などの非伸縮性材料で構成されているため、伸長や曲げ変形によって、加熱部が断線する恐れがある。 Here, since the heating portion of the heating type wearable device described in Patent Document 1 is made of a non-stretchable material such as a metal material, the heating portion may be disconnected due to elongation or bending deformation.

これに対して、本実施形態では、基板及びヒータ配線をそれぞれ伸縮性材料で構成することにより、伸長可能及び/又は曲げ可能な柔軟伸縮ヒータデバイスを実現できる。伸長等の変形時においても、伸縮性ヒータ配線が発熱特性を安定的に発揮できる。また、伸長等の変形時においても、伸縮性ヒータ配線が伸縮性基板から剥離の発生が抑制され、互いの密着性が維持される。
このように本実施形態によれば、伸縮耐久性に優れた柔軟伸縮ヒータデバイスを実現できる。
On the other hand, in the present embodiment, a flexible telescopic heater device that is expandable and / or bendable can be realized by configuring the substrate and the heater wiring with elastic materials, respectively. The elastic heater wiring can stably exhibit heat generation characteristics even during deformation such as extension. Further, even during deformation such as elongation, the elastic heater wiring is suppressed from peeling from the elastic substrate, and the adhesion to each other is maintained.
As described above, according to the present embodiment, it is possible to realize a flexible expansion / contraction heater device having excellent expansion / contraction durability.

本実施形態によれば、伸縮性ヒータ配線が導電性ペーストを用いた印刷方法で形成できるため、配線の設計自由度や意匠性に優れた柔軟伸縮ヒータデバイスを提供できる。 According to the present embodiment, since the stretchable heater wiring can be formed by a printing method using a conductive paste, it is possible to provide a flexible stretchable heater device having excellent wiring design flexibility and design.

本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイスは、様々な用途に活用でき、身体や身体以外の物品などの被加熱対象を加熱することが可能である。 The flexible telescopic heater device of the present embodiment can be used for various purposes, and can heat an object to be heated such as a body or an article other than the body.

柔軟伸縮ヒータデバイスは、身体及び衣服のいずれか一方に装着可能なウェアラブルデバイスとして使用できる。柔軟伸縮ヒータデバイスは、身体に直接装着してもよく、身体装着部材(衣服)を介して身体に装着してもよい。このような柔軟伸縮ヒータデバイスは、その伸縮性のため、身体の表面形状や身体の動きに沿って追従することが可能である。 The flexible telescopic heater device can be used as a wearable device that can be worn on either the body or clothing. The flexible telescopic heater device may be worn directly on the body or may be worn on the body via a body-wearing member (clothes). Due to its elasticity, such a flexible telescopic heater device can follow the surface shape of the body and the movement of the body.

また、本実施形態によれば、洗濯可能な柔軟伸縮ヒータデバイスを実現できる。 Further, according to the present embodiment, a washable flexible telescopic heater device can be realized.

本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイスの各構成について詳述する。 Each configuration of the flexible telescopic heater device of this embodiment will be described in detail.

図1は、柔軟伸縮ヒータデバイス100の構成の一例を示す上面図である。図2(a)は、図1のA-A断面図、図2(b)は、図1のB-B断面図である。 FIG. 1 is a top view showing an example of the configuration of the flexible telescopic heater device 100. 2A is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

図1の柔軟伸縮ヒータデバイス100は、伸縮性基板10、伸縮性ヒータ配線20、及び外部電極50を備える。 The flexible telescopic heater device 100 of FIG. 1 includes a stretchable substrate 10, a stretchable heater wiring 20, and an external electrode 50.

伸縮性基板10は、絶縁性エラストマーを含む伸縮性絶縁層で構成される。 The stretchable substrate 10 is composed of a stretchable insulating layer containing an insulating elastomer.

伸縮性基板10は、上面視において、伸縮性ヒータ配線20が形成された配線形成領域と、伸縮性ヒータ配線20が形成されない配線周囲領域とを有する。
伸縮性基板10の配線形成領域は、非伸縮時や伸縮時において伸縮性ヒータ配線20と密着し、その機械的強度を高められる。また、伸縮性基板10の配線周囲領域に、衣服などに設置するための、縫付け糸やスナップボタン等の装着部を取付できる。
The stretchable substrate 10 has a wiring forming region in which the stretchable heater wiring 20 is formed and a wiring peripheral region in which the stretchable heater wiring 20 is not formed in the top view.
The wiring forming region of the stretchable substrate 10 is in close contact with the stretchable heater wiring 20 when it is not stretched or stretched, and its mechanical strength can be enhanced. Further, a mounting portion such as a sewing thread or a snap button for installing on clothes or the like can be attached to the wiring peripheral area of the elastic substrate 10.

伸縮性基板10の厚みの上限は、用途に応じて設定可能であり、例えば、10mm以下、好ましくは1mm以下でもよいが、ウェアラブルデバイス用途の観点から、より好ましくは400μm以下である。400μm以下とすることで、薄膜ヒートデバイスを実現できる。
伸縮性基板10の厚みの下限は、機械的強度の観点から、例えば、10μm以上、好ましくは50μm以上、より好ましくは100μm以上である。
The upper limit of the thickness of the stretchable substrate 10 can be set according to the application, and may be, for example, 10 mm or less, preferably 1 mm or less, but more preferably 400 μm or less from the viewpoint of wearable device applications. A thin film heat device can be realized by setting the thickness to 400 μm or less.
From the viewpoint of mechanical strength, the lower limit of the thickness of the stretchable substrate 10 is, for example, 10 μm or more, preferably 50 μm or more, and more preferably 100 μm or more.

絶縁性エラストマーのデュロメータ硬さAの上限は、特に限定されないが、例えば、80以下でもよく、好ましくは70以下でもよい。これにより、屈曲や伸張などの変形が容易となる変形容易性を高められる。
一方、上記デュロメータ硬さAの下限は、例えば、20以上、好ましくは30以上である。これにより、絶縁性エラストマーの摩擦耐久性や機械的強度を高められる。また、柔軟伸縮ヒータデバイス100の洗濯耐性を向上できる。
The upper limit of the durometer hardness A of the insulating elastomer is not particularly limited, but may be, for example, 80 or less, preferably 70 or less. As a result, it is possible to increase the ease of deformation, which facilitates deformation such as bending and stretching.
On the other hand, the lower limit of the durometer hardness A is, for example, 20 or more, preferably 30 or more. As a result, the frictional durability and mechanical strength of the insulating elastomer can be enhanced. In addition, the washing resistance of the flexible telescopic heater device 100 can be improved.

絶縁性エラストマーの引張強度の下限は、例えば、5.0MPa以上、好ましくは6.0MPa以上であり、より好ましくは7.0MPa以上である。これにより、繰り返しの伸長変形時の伸長耐久性に優れた構造体を実現できる。
一方、上記引張強度の上限としては、特に限定されないが、例えば、25MPa以下としてもよい。これにより、絶縁性エラストマーの諸特性のバランスをとることができる。
The lower limit of the tensile strength of the insulating elastomer is, for example, 5.0 MPa or more, preferably 6.0 MPa or more, and more preferably 7.0 MPa or more. As a result, it is possible to realize a structure having excellent elongation durability during repeated expansion and deformation.
On the other hand, the upper limit of the tensile strength is not particularly limited, but may be, for example, 25 MPa or less. This makes it possible to balance various properties of the insulating elastomer.

絶縁性エラストマーの破断伸びの下限は、例えば、500%以上であり、好ましくは600%以上であり、より好ましくは700%以上である。これにより、繰り返しの伸長変形時の伸長耐久性を向上させることができる。
一方、上記破断伸びの上限は、特に限定されないが、例えば、2000%以下としてもよく、1800%以下としてもよい。これにより、絶縁性エラストマーの諸特性のバランスをとることができる。
The lower limit of the elongation at break of the insulating elastomer is, for example, 500% or more, preferably 600% or more, and more preferably 700% or more. This makes it possible to improve the elongation durability at the time of repeated elongation deformation.
On the other hand, the upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but may be, for example, 2000% or less, or 1800% or less. This makes it possible to balance various properties of the insulating elastomer.

絶縁性エラストマーの引裂強度の下限は、例えば、25N/mm以上、好ましくは28N/mm以上、より好ましくは30N/mm以上、さらに好ましくは33N/mm以上、一層好ましくは34N/mm以上である。これにより、伸縮性基板10を衣服に縫い付け可能になる。すなわち、縫い付け可能な柔軟伸縮ヒータデバイス100を実現できる。また、シリコーンゴムの繰り返し使用時における耐久性、耐傷付き性や機械的強度を向上できる。
一方、上記引裂強度の上限は、特に限定されないが、例えば、80N/mm以下としてもよく、70N/mm以下としてもよい。これにより、絶縁性エラストマーの諸特性のバランスをとることができる。
The lower limit of the tear strength of the insulating elastomer is, for example, 25 N / mm or more, preferably 28 N / mm or more, more preferably 30 N / mm or more, still more preferably 33 N / mm or more, still more preferably 34 N / mm or more. This makes it possible to sew the elastic substrate 10 to clothes. That is, it is possible to realize a flexible telescopic heater device 100 that can be sewn. In addition, it is possible to improve durability, scratch resistance and mechanical strength during repeated use of silicone rubber.
On the other hand, the upper limit of the tear strength is not particularly limited, but may be, for example, 80 N / mm or less, or 70 N / mm or less. This makes it possible to balance various properties of the insulating elastomer.

本実施形態において、柔軟伸縮ヒータデバイス100の各部材の特性や各部材に使用したエラストマーの特性を測定する方法として、例えば、以下の方法を採用できる。各部材の特性の測定には、試験片として、例えば、基板などの各部材をそのまま使用してもよい。 In the present embodiment, for example, the following method can be adopted as a method for measuring the characteristics of each member of the flexible telescopic heater device 100 and the characteristics of the elastomer used for each member. For the measurement of the characteristics of each member, each member such as a substrate may be used as it is as a test piece.

(引裂強度の測定条件)
エラストマーを用いてクレセント形試験片を作製し、得られたクレセント形試験片について、25℃、JIS K6252(2001)に準拠して、引裂強度を測定する。
(Measurement conditions for tear strength)
A crescent-shaped test piece is prepared using an elastomer, and the tear strength of the obtained crescent-shaped test piece is measured at 25 ° C. in accordance with JIS K6252 (2001).

(引張強度の測定条件)
エラストマーを用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、引張強度を測定する。
(Measurement conditions for tensile strength)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared using an elastomer, and the tensile strength of the obtained dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured at 25 ° C. in accordance with JIS K6251 (2004).

(破断伸びの測定条件)
エラストマーを用いてダンベル状3号形試験片を作製し、得られたダンベル状3号形試験片について、25℃、JIS K6251(2004)に準拠して、破断伸びを測定する。
(Measurement conditions for breaking elongation)
A dumbbell-shaped No. 3 test piece is prepared using an elastomer, and the obtained dumbbell-shaped No. 3 test piece is measured for elongation at break in accordance with JIS K6251 (2004) at 25 ° C.

(デュロメータ硬さAの測定手順)
エラストマーを用いて、シート状試験片を作製し、JIS K6253(1997)に準拠して、25℃における、得られたシート状試験片のデュロメータ硬さAを測定する。
(Measurement procedure of durometer hardness A)
A sheet-shaped test piece is prepared using an elastomer, and the durometer hardness A of the obtained sheet-shaped test piece at 25 ° C. is measured according to JIS K6253 (1997).

水暴露処理前の伸縮性基板10の重量をW1、40℃、で120分水暴露処理した後の伸縮性基板10の重量をW2としたとき、W1、W2が、例えば、-3≦(W2-W1)/W1*100≦1、好ましくは-2.8≦(W2-W1)/W1*100≦0.9、より好ましくは-2.5≦(W2-W1)/W1*100≦0.5を満たすように構成されてもよい。これにより、柔軟伸縮ヒータデバイス100の洗濯耐性を向上できる。 When the weight of the elastic substrate 10 before the water exposure treatment is W1 and the weight of the elastic substrate 10 after the water exposure treatment at 40 ° C. for 120 minutes is W2, W1 and W2 are, for example, -3≤ (W2). -W1) / W1 * 100≤1, preferably -2.8≤ (W2-W1) /W1 * 100≤0.9, more preferably -2.5≤ (W2-W1) /W1 * 100≤0 It may be configured to satisfy .5. Thereby, the washing resistance of the flexible telescopic heater device 100 can be improved.

伸縮性ヒータ配線20は、伸縮性基板10の一面上に積層して形成される。 The stretchable heater wiring 20 is formed by laminating on one surface of the stretchable substrate 10.

伸縮性ヒータ配線20は、端部に外部接続部30を有してもよい。外部接続部30上には外部電極50が形成される。外部接続部30は、上面視において、矩形形状のパット形状を有してもよい。 The stretchable heater wiring 20 may have an external connection portion 30 at an end portion. An external electrode 50 is formed on the external connection portion 30. The external connection portion 30 may have a rectangular pad shape when viewed from above.

外部電極50は、外部との接続可能であれば特に限定されない。外部電極50の一例としては、金属製のスナップボタンなどが挙げられる。例えば、配線ケーブルを介して、外部電極50と電源とを電気的に接続可能である。 The external electrode 50 is not particularly limited as long as it can be connected to the outside. An example of the external electrode 50 is a metal snap button or the like. For example, the external electrode 50 and the power supply can be electrically connected via a wiring cable.

本明細書中の伸縮性とは、所定方向に伸長したときの伸長率で表す。所定方向としては、例えば、図1の上面視図において、伸縮性ヒータ配線20が最大長さとなる延在方向を採用してもよい。
この延在方向に伸長させたとき、伸縮性を有するとは、伸長率が、例えば、10%以上、好ましくは20%以上、より好ましくは50%以上まで伸長可能であり、かつ、その伸長率時において伸縮性ヒータ配線20が断線しない状態を意味する。
The elasticity in the present specification is expressed by the elongation rate when stretched in a predetermined direction. As the predetermined direction, for example, in the top view of FIG. 1, the extending direction in which the elastic heater wiring 20 has the maximum length may be adopted.
When stretched in this extending direction, having elasticity means that the stretchability can be stretched to, for example, 10% or more, preferably 20% or more, more preferably 50% or more, and the stretchability thereof. It means a state in which the elastic heater wiring 20 is not broken at times.

伸縮性ヒータ配線20は、導電性エラストマーを含む導電性層で構成される。 The stretchable heater wiring 20 is composed of a conductive layer containing a conductive elastomer.

柔軟伸縮ヒータデバイス100中、伸縮性基板10と伸縮性ヒータ配線20とが積層した状態とは、互いの表面同士が面接触している状態で、化学的及び/又は物理的に結合し密着した状態であってもよい。このため、伸長時や繰り返し伸長時においても、伸縮性基板10の表面から伸縮性ヒータ配線20が剥離する等の破損が生じる恐れを抑制できる。これにより、伸縮耐久性に優れた柔軟伸縮ヒータデバイス100を実現できる。 In the flexible telescopic heater device 100, the state in which the stretchable substrate 10 and the stretchable heater wiring 20 are laminated is a state in which the surfaces of each other are in surface contact with each other, and are chemically and / or physically bonded and adhered to each other. It may be in a state. Therefore, even during stretching or repeated stretching, it is possible to suppress the possibility of damage such as peeling of the stretchable heater wiring 20 from the surface of the stretchable substrate 10. Thereby, the flexible expansion / contraction heater device 100 having excellent expansion / contraction durability can be realized.

柔軟伸縮ヒータデバイス100の断面の一つの図2(a)において、未伸長時の伸縮性基板10の基板厚みをX、未伸長時の伸縮性ヒータ配線20の配線厚みをYとしたとき、X、Yが、例えば、0.02≦Y/X≦5を満たすように構成される。
Y/Xの下限は、例えば、0.02以上、好ましくは0.05以上、より好ましくは0.1以上である。一方、Y/Xの上限は、例えば、5以下、好ましくは4以下、より好ましくは3以下である。このような範囲内とすることで、発熱特性と機械的強度のバランスを図ることができる。
In FIG. 2A, which is one of the cross sections of the flexible telescopic heater device 100, when the substrate thickness of the stretchable substrate 10 when not stretched is X and the wiring thickness of the stretchable heater wiring 20 when not stretched is Y, X. , Y are configured to satisfy, for example, 0.02 ≦ Y / X ≦ 5.
The lower limit of Y / X is, for example, 0.02 or more, preferably 0.05 or more, and more preferably 0.1 or more. On the other hand, the upper limit of Y / X is, for example, 5 or less, preferably 4 or less, and more preferably 3 or less. Within such a range, it is possible to balance the heat generation characteristics and the mechanical strength.

当該柔軟伸縮ヒータデバイスの断面の一つの図2(b)において、未伸長時の伸縮性ヒータ配線20の配線厚みをY、伸縮性ヒータ配線20の配線幅をZとしたとき、Y、Zが、例えば、0.4≦Z/Y≦250を満たすように構成される。
Z/Yの下限は、例えば、0.4以上、好ましくは1以上、より好ましくは2以上である。一方、Z/Yの上限は、例えば、250以下、好ましくは230以下、より好ましくは200以下である。このような範囲内とすることで、発熱特性と機械的強度のバランスを図ることができる。
In FIG. 2B, which is one of the cross sections of the flexible telescopic heater device, when the wiring thickness of the stretchable heater wiring 20 when not stretched is Y and the wiring width of the stretchable heater wiring 20 is Z, Y and Z are For example, it is configured to satisfy 0.4 ≦ Z / Y ≦ 250.
The lower limit of Z / Y is, for example, 0.4 or more, preferably 1 or more, and more preferably 2 or more. On the other hand, the upper limit of Z / Y is, for example, 250 or less, preferably 230 or less, and more preferably 200 or less. Within such a range, it is possible to balance the heat generation characteristics and the mechanical strength.

25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線20の抵抗値の下限は、例えば、1Ω以上、好ましくは2Ω以上、より好ましくは5Ω以上である。これにより、発熱特性を向上できる。
一方、25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線20の抵抗値の上限は、例えば、200Ω以下、好ましくは180Ω以下、より好ましくは150Ω以下である。これにより、伸縮性ヒータ配線20の伸縮耐久性と発熱特性とのバランスを図ることができる。
The lower limit of the resistance value of the elastic heater wiring 20 when not extended at 25 ° C. is, for example, 1 Ω or more, preferably 2 Ω or more, and more preferably 5 Ω or more. Thereby, the heat generation characteristic can be improved.
On the other hand, the upper limit of the resistance value of the elastic heater wiring 20 when the temperature is 25 ° C. and is not extended is, for example, 200 Ω or less, preferably 180 Ω or less, and more preferably 150 Ω or less. This makes it possible to balance the expansion / contraction durability of the expansion / contraction heater wiring 20 with the heat generation characteristics.

25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線20の抵抗値をR1とし、25℃、50%伸長時における伸縮性ヒータ配線20の抵抗値をR2としたとき、R1、R2が、例えば、1≦R2/R1≦10を満たすように構成されてもよい。
R2/R1の下限は、例えば、1以上、好ましくは1.3以上、より好ましくは1.5以上である。一方、R2/R1の上限は、例えば、10以下、好ましくは8以下、より好ましくは6以下である。このような範囲内とすることで、発熱特性と伸縮耐久性のバランスを図ることができる。
When the resistance value of the elastic heater wiring 20 at 25 ° C. and not extended is R1, and the resistance value of the elastic heater wiring 20 at 25 ° C. and 50% extension is R2, R1 and R2 are, for example, 1 ≦. It may be configured to satisfy R2 / R1 ≦ 10.
The lower limit of R2 / R1 is, for example, 1 or more, preferably 1.3 or more, and more preferably 1.5 or more. On the other hand, the upper limit of R2 / R1 is, for example, 10 or less, preferably 8 or less, and more preferably 6 or less. Within such a range, it is possible to achieve a balance between heat generation characteristics and expansion / contraction durability.

25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線20の体積抵抗率の下限は、例えば、1.0×10-5Ω・cm以上、好ましくは2.0×10-5Ω・cm以上、より好ましくは5.0×10-5Ω・cm以上である。これにより、発熱特性を向上できる。
一方、25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線20の体積抵抗率の上限は、例えば、1.0×10Ω・cm以下、好ましくは1.0×10-1Ω・cm以下、より好ましくは1.0×10-2Ω・cm以下である。これにより、伸縮性ヒータ配線20の伸縮耐久性と発熱特性とのバランスを図ることができる。
The lower limit of the volume resistivity of the elastic heater wiring 20 at 25 ° C. when unstretched is, for example, 1.0 × 10 -5 Ω · cm or more, preferably 2.0 × 10 -5 Ω · cm or more, more preferably. Is 5.0 × 10 -5 Ω · cm or more. Thereby, the heat generation characteristic can be improved.
On the other hand, the upper limit of the volume resistivity of the elastic heater wiring 20 at 25 ° C. when unstretched is, for example, 1.0 × 10 1 Ω · cm or less, preferably 1.0 × 10 -1 Ω · cm or less. It is preferably 1.0 × 10 -2 Ω · cm or less. This makes it possible to balance the expansion / contraction durability of the expansion / contraction heater wiring 20 with the heat generation characteristics.

柔軟伸縮ヒータデバイス100の機能の一例について、図3を用いて説明する。
図3は、柔軟伸縮ヒータデバイス100の機能ブロック図を示す。
An example of the function of the flexible telescopic heater device 100 will be described with reference to FIG.
FIG. 3 shows a functional block diagram of the flexible telescopic heater device 100.

柔軟伸縮ヒータデバイス100の一例は、制御部320を備える。この柔軟伸縮ヒータデバイス100は、電源部350、通信部340、表示部などの他の機能部を少なくとも一以上さらに備えてもよい。 An example of the flexible telescopic heater device 100 includes a control unit 320. The flexible telescopic heater device 100 may further include at least one or more other functional units such as a power supply unit 350, a communication unit 340, and a display unit.

制御部320は、伸縮性ヒータ配線20の表面温度を制御する。制御部320は、例えば、入力部330から入力された情報に基づいて表面温度を制御できる。 The control unit 320 controls the surface temperature of the elastic heater wiring 20. The control unit 320 can control the surface temperature based on the information input from the input unit 330, for example.

柔軟伸縮ヒータデバイス100が、さらに記憶部360を備えてもよい。
制御部320は、不図示の伸縮性ヒータ配線20の表面温度を測定する温度センサーからの情報に応じて、記憶部360に保存された温度条件に基づいて、伸縮性ヒータ配線20の表面温度を制御できる。
The flexible telescopic heater device 100 may further include a storage unit 360.
The control unit 320 determines the surface temperature of the elastic heater wiring 20 based on the temperature conditions stored in the storage unit 360 according to the information from the temperature sensor that measures the surface temperature of the elastic heater wiring 20 (not shown). Can be controlled.

ここで、温度条件とは、伸縮性ヒータ配線20の表面温度の設定温度の値、設定温度の数値範囲、昇温条件、時間軸に対する温度プロファイル等が含まれてもよい。例えば、設定温度を30℃と設定した場合、伸縮性ヒータ配線20の表面温度が30℃に達するまで、伸縮性ヒータ配線20に通電させ、表面温度を昇温させるように制御部320が制御できる。設定温度に達した後、制御部320は、通電を停止してもよく、温度を所定範囲内となるように通電量または通電のオン・オフを制御してもよい。 Here, the temperature condition may include the value of the set temperature of the surface temperature of the elastic heater wiring 20, the numerical range of the set temperature, the temperature rise condition, the temperature profile with respect to the time axis, and the like. For example, when the set temperature is set to 30 ° C., the control unit 320 can control the elastic heater wiring 20 to energize and raise the surface temperature until the surface temperature of the elastic heater wiring 20 reaches 30 ° C. .. After reaching the set temperature, the control unit 320 may stop the energization, or may control the energization amount or the on / off of the energization so that the temperature is within a predetermined range.

入力部330は、柔軟伸縮ヒータデバイス100に直接設けられてもよいが、スマートフォンなどの外部端末に設けられてもよい。入力部330から入力された情報は、柔軟伸縮ヒータデバイス100が備える通信部340を介して制御部320に伝達される。入力部330は、例えば、ボタンまたはタッチパネルで構成されてもよい。
通信部340は、Bluetooth(登録商標)、Wi-Fiなどの各種通信手段を備える。
The input unit 330 may be provided directly on the flexible telescopic heater device 100, or may be provided on an external terminal such as a smartphone. The information input from the input unit 330 is transmitted to the control unit 320 via the communication unit 340 included in the flexible telescopic heater device 100. The input unit 330 may be composed of, for example, a button or a touch panel.
The communication unit 340 includes various communication means such as Bluetooth (registered trademark) and Wi-Fi.

電源部350は、モバイルバッテリーで構成されてもよく、外部電源に接続可能な電極を備えてもよい。 The power supply unit 350 may be composed of a mobile battery or may include an electrode that can be connected to an external power source.

柔軟伸縮ヒータデバイス100は、表示部を備えてもよい。表示部は、伸縮性ヒータ配線20の表面温度や、設定された温度条件、電源部350のオン・オフの状態などを表示できる。
表示部は、伸縮性ディスプレイ等で構成されてもよい。
なお、外部端末にディスプレイが設けられている場合、通信部340を介して、表示部の表示内容と同じものを、そのディスプレイに表示されてもよい。
The flexible telescopic heater device 100 may include a display unit. The display unit can display the surface temperature of the elastic heater wiring 20, the set temperature condition, the on / off state of the power supply unit 350, and the like.
The display unit may be composed of a stretchable display or the like.
When the external terminal is provided with a display, the same display content as that of the display unit may be displayed on the display via the communication unit 340.

柔軟伸縮ヒータデバイス100に含まれる各部の構成要素は、専用のハードウェアで構成されるか、各部の構成要素に適したソフトウェアプログラムを実行することによって実現されてもよい。各部の構成要素は、CPUまたはプロセッサなどのプログラム実行部が、ハードディスクまたは半導体メモリなどの記録媒体に記録されたソフトウェアプログラムを読み出して実行することによって実現されてもよい。 The components of each part included in the flexible telescopic heater device 100 may be configured by dedicated hardware or may be realized by executing a software program suitable for the components of each part. The components of each unit may be realized by a program execution unit such as a CPU or a processor reading and executing a software program recorded on a recording medium such as a hard disk or a semiconductor memory.

柔軟伸縮ヒータデバイス100の変形例について説明する。 A modification of the flexible telescopic heater device 100 will be described.

柔軟伸縮ヒータデバイス100は、図2(c)に示すように、伸縮性ヒータ配線20の表面の少なくとも一部に形成された絶縁保護層60を備えてもよい。
絶縁保護層60は、伸縮性ヒータ配線20の上面、及び側面の少なくとも一部、または全部を被覆するように形成されてもよい。
絶縁保護層60によって、柔軟伸縮ヒータデバイス100の洗濯耐久性を高める事が可能である。
As shown in FIG. 2C, the flexible telescopic heater device 100 may include an insulating protective layer 60 formed on at least a part of the surface of the stretchable heater wiring 20.
The insulating protective layer 60 may be formed so as to cover at least a part or all of the upper surface and the side surface of the elastic heater wiring 20.
The insulating protective layer 60 can enhance the washing durability of the flexible telescopic heater device 100.

絶縁保護層60は、伸縮性材料で構成されていればよく、例えば、絶縁性エラストマーや伸縮性基板10と同じ材料で構成されてもよい。これにより、伸縮性基板10及び絶縁保護層60の密着性を高められる。絶縁保護層60は、絶縁性ペーストを用いた印刷方法で形成された印刷層で構成されても、絶縁性エラストマーをシート状に成形したもので構成されてもよい。 The insulating protective layer 60 may be made of an elastic material, and may be made of, for example, the same material as the insulating elastomer or the elastic substrate 10. As a result, the adhesion between the elastic substrate 10 and the insulating protective layer 60 can be enhanced. The insulating protective layer 60 may be composed of a printing layer formed by a printing method using an insulating paste, or may be composed of a sheet of insulating elastomer.

絶縁保護層60は、伸縮性ヒータ配線20及び外部電極50の全体を覆うように構成されてもよいが、伸縮性ヒータ配線20を覆うとともに外部電極50や外部接続部30の一部を覆わないように露出させてもよい。
絶縁保護層60が外部電極50を被覆する場合、外部電極50上の絶縁保護層60を貫通する電気接続部を形成してもよい。電気接続部としては、例えば、金属製のスナップボタン等が挙げられる。
The insulating protective layer 60 may be configured to cover the entire elastic heater wiring 20 and the external electrode 50, but it covers the elastic heater wiring 20 and does not cover a part of the external electrode 50 and the external connection portion 30. It may be exposed as follows.
When the insulating protective layer 60 covers the external electrode 50, an electrical connection portion may be formed so as to penetrate the insulating protective layer 60 on the external electrode 50. Examples of the electric connection portion include a metal snap button and the like.

伸縮性基板10は、単層で構成されても、複数層が積層して構成されてもよい。
柔軟伸縮ヒータデバイス100は、伸縮性基板10及び伸縮性ヒータ配線20が交互に積層した多層配線構造を有してもよい。
The elastic substrate 10 may be configured as a single layer or may be configured by laminating a plurality of layers.
The flexible telescopic heater device 100 may have a multi-layer wiring structure in which the stretchable substrate 10 and the stretchable heater wiring 20 are alternately laminated.

伸縮性基板10の上面視における形状は、特に限定されず、用途に応じて適宜変形可能である。 The shape of the stretchable substrate 10 in the top view is not particularly limited, and can be appropriately deformed according to the intended use.

柔軟伸縮ヒータデバイス100は、伸縮性基板10の同一表面に、1本又は2本以上の伸縮性ヒータ配線20を有してもよい。 The flexible telescopic heater device 100 may have one or more stretchable heater wirings 20 on the same surface of the stretchable substrate 10.

伸縮性ヒータ配線20の少なくとも一部が伸縮性基板10の内部に埋設されていてもよい。 At least a part of the stretchable heater wiring 20 may be embedded inside the stretchable substrate 10.

次に、伸縮性基板10及び伸縮性ヒータ配線20の材料について説明する。 Next, the materials of the stretchable substrate 10 and the stretchable heater wiring 20 will be described.

本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイス100の一例において、伸縮性基板10が絶縁性エラストマーで構成され、伸縮性ヒータ配線20が導電性エラストマーで構成される。さらに、絶縁保護層60も絶縁性エラストマーで構成されてもよい。 In an example of the flexible telescopic heater device 100 of the present embodiment, the stretchable substrate 10 is made of an insulating elastomer, and the stretchable heater wiring 20 is made of a conductive elastomer. Further, the insulating protective layer 60 may also be made of an insulating elastomer.

絶縁性エラストマーは、例えば、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、スチレンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム等の熱硬化性エラストマーを含むことができる。この中でも、絶縁性エラストマーは、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴムからなる群から選択される一種以上を含んでもよく、好ましくはシリコーンゴムで構成されてもよい。シリコーンゴムは、エラストマーの中でも、化学的に安定であり、また、機械的強度にも優れる。 The insulating elastomer can include, for example, a thermosetting elastomer such as silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, acrylic rubber, styrene rubber, chloroprene rubber, and ethylene propylene rubber. Among these, the insulating elastomer may contain one or more selected from the group consisting of silicone rubber, urethane rubber, and fluororubber, and may be preferably composed of silicone rubber. Silicone rubber is chemically stable among elastomers and has excellent mechanical strength.

絶縁性エラストマーは、導電性フィラーを含まず、非導電性フィラー含んでもよい。これにより、導電性エラストマーの機械的特性を高められる。 The insulating elastomer does not contain a conductive filler and may contain a non-conductive filler. This enhances the mechanical properties of the conductive elastomer.

導電性エラストマーは、例えば、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、スチレンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピレンゴム等の熱硬化性エラストマーと導電性フィラーを含むことができる。この中でも、導電性エラストマーは、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴムからなる群から選択される一種以上を含んでもよく、好ましくはシリコーンゴム及び導電性フィラーを含むように構成されてもよい。これにより、導電性エラストマーの伸縮性及び電気特性を高められる。 The conductive elastomer can include, for example, a thermosetting elastomer such as silicone rubber, urethane rubber, fluororubber, nitrile rubber, acrylic rubber, styrene rubber, chloroprene rubber, and ethylene propylene rubber, and a conductive filler. Among these, the conductive elastomer may contain one or more selected from the group consisting of silicone rubber, urethane rubber, and fluororubber, and may be preferably configured to contain silicone rubber and a conductive filler. As a result, the elasticity and electrical characteristics of the conductive elastomer can be enhanced.

導電性フィラーが、例えば、粉末状または繊維状の、金属系フィラー、炭素系フィラー、金属酸化物フィラー、及び金属メッキフィラーからなる群から選ばれる一または二以上を含んでもよい。この中でも、導電性フィラーとして、銀粉等の金属系フィラーを用いてもよい。 The conductive filler may contain, for example, one or more selected from the group consisting of powdery or fibrous metal-based fillers, carbon-based fillers, metal oxide fillers, and metal-plated fillers. Among these, as the conductive filler, a metal-based filler such as silver powder may be used.

導電性エラストマーが導電性フィラーに加え、非導電性フィラーをさらに含んでもよい。これにより、導電性エラストマーの機械的特性を高められる。 The conductive elastomer may further contain a non-conductive filler in addition to the conductive filler. This enhances the mechanical properties of the conductive elastomer.

絶縁性エラストマー及び導電性エラストマーの少なくとも一方、好ましくは両方が、非導電性フィラー含んでもよい。非導電性フィラーとしては、公知の材料が使用できるが、例えば、シリカ粒子、シリコーンゴム粒子、タルク等を用いてもよい。この中でも、シリカ粒子を含んでもよい。 At least one of the insulating elastomer and the conductive elastomer, preferably both, may contain a non-conductive filler. As the non-conductive filler, known materials can be used, but for example, silica particles, silicone rubber particles, talc and the like may be used. Among these, silica particles may be included.

本実施形態において、伸縮性基板10及び伸縮性ヒータ配線20は、同一の熱硬化性エラストマーを含むように構成されてもよく、好ましくは同種のシリコーンゴムを含んでもよい。このシリコーンゴムは、後述のシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物で構成されてもよい。
また、絶縁保護層60も、伸縮性基板10と同一の絶縁性エラストマーを含んでもよく、伸縮性ヒータ配線20と同一の熱硬化性エラストマーを含んでもよい。
これにより、互いの密着性を向上できるため、柔軟伸縮ヒータデバイス100の伸縮耐久性を高められる。
In the present embodiment, the stretchable substrate 10 and the stretchable heater wiring 20 may be configured to contain the same thermosetting elastomer, and may preferably contain the same type of silicone rubber. This silicone rubber may be composed of a cured product of a silicone rubber-based curable composition described later.
Further, the insulating protective layer 60 may also contain the same insulating elastomer as the elastic substrate 10, or may contain the same thermosetting elastomer as the elastic heater wiring 20.
As a result, the adhesion to each other can be improved, so that the expansion / contraction durability of the flexible expansion / contraction heater device 100 can be enhanced.

本明細書中、同一の熱硬化性エラストマーを含む、同一の絶縁性エラストマーを含む、同一の導電性エラストマーを含むとは、それぞれ、上記に例示される熱硬化性エラストマーの種類のうち、少なくとも一つ以上の同じ種類のエラストマーを含むことを意味する。 In the present specification, including the same thermosetting elastomer, including the same insulating elastomer, and containing the same conductive elastomer, respectively, means at least one of the types of thermosetting elastomers exemplified above. Means to contain more than one elastomer of the same type.

以下、シリコーンゴム系硬化性組成物における成分について詳細を説明する。 Hereinafter, the components of the silicone rubber-based curable composition will be described in detail.

本明細書中、同種のシリコーンゴムを含むとは、シリコーンゴム系硬化性組成物が、少なくとも、同種のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンを含むことを意味し、さらに、同種の架橋剤、同種の非導電性フィラー、同種のシランカップリング剤、及び同種の触媒からなる群から選ばれる一又は二以上を含んでもよい。 In the present specification, the inclusion of the same type of silicone rubber means that the silicone rubber-based curable composition contains at least the same type of vinyl group-containing linear organopolysiloxane, and further, the same type of cross-linking agent. It may contain one or more selected from the group consisting of the same type of non-conductive filler, the same type of silane coupling agent, and the same type of catalyst.

絶縁性エラストマーは、ビニル基含有オルガノポリシロキサンを含むシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物で構成されてもよい。また導電性エラストマーは、導電性フィラーと、ビニル基含有オルガノポリシロキサンを含むシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物とで構成されてもよい。 The insulating elastomer may be composed of a cured product of a silicone rubber-based curable composition containing a vinyl group-containing organopolysiloxane. Further, the conductive elastomer may be composed of a conductive filler and a cured product of a silicone rubber-based curable composition containing a vinyl group-containing organopolysiloxane.

同種のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサンとは、少なくとも官能基が同じビニル基を含み、直鎖状を有していればよく、分子中のビニル基量や分子量分布、あるいはその添加量が異なっていてもよい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane of the same type may contain at least the same vinyl group as the functional group and may have a linearity, and the amount of vinyl group, the molecular weight distribution, or the amount thereof added in the molecule may be. It may be different.

同種の架橋剤とは、少なくとも直鎖構造や分岐構造などの共通の構造を有していればよく、分子中の分子量分布や異なる官能基が含まれていてもよく、その添加量が異なっていてもよい。 The cross-linking agent of the same type may have at least a common structure such as a linear structure or a branched structure, may contain a molecular weight distribution in the molecule or a different functional group, and the addition amount thereof is different. You may.

同種の非導電性フィラーとは、少なくとも共通の構成材料を有していればよく、粒子径、比表面積、表面処理剤、又はその添加量が異なっていてもよい。 The non-conductive fillers of the same type may have at least a common constituent material, and may differ in particle size, specific surface area, surface treatment agent, or addition amount thereof.

同種のシランカップリング剤とは、少なくとも共通の官能基を有していればよく、分子中の他の官能基や添加量が異なっていてもよい。 The silane coupling agent of the same type may have at least a common functional group, and other functional groups in the molecule and the amount added may be different.

同種の触媒とは、少なくとも共通の構成材料を有していればよく、触媒中に異なる組成が含まれていてもよく、その添加量が異なっていてもよい。 The catalysts of the same type may have at least a common constituent material, and the catalysts may contain different compositions or may have different addition amounts.

同一のシリコーンゴムを構成するシリコーンゴム系硬化性組成物には、さらに、異なる種類の、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン、架橋剤、非導電性フィラー、シランカップリング剤、及び触媒からなる群から選ばれる一又は二以上を含んでもよい。 The silicone rubber-based curable composition constituting the same silicone rubber further comprises different types of vinyl group-containing linear organopolysiloxanes, cross-linking agents, non-conductive fillers, silane coupling agents, and catalysts. It may include one or more selected from the group.

本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を含むことができる。ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物の主成分となる重合物である。 The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain a vinyl group-containing organopolysiloxane (A). The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) is a polymer which is a main component of the silicone rubber-based curable composition of the present embodiment.

上記ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、直鎖構造を有するビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を含むことができる。 The vinyl group-containing organopolysiloxane (A) can include a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) having a linear structure.

上記ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、直鎖構造を有し、かつ、ビニル基を含有しており、かかるビニル基が硬化時の架橋点となる。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) has a linear structure and contains a vinyl group, and the vinyl group serves as a cross-linking point at the time of curing.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)のビニル基の含有量は、特に限定されないが、例えば、分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ15モル%以下であるのが好ましい。これにより、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)中におけるビニル基の量が最適化され、後述する各成分とのネットワークの形成を確実に行うことができる。 The content of the vinyl group of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably, for example, having two or more vinyl groups in the molecule and 15 mol% or less. .. As a result, the amount of vinyl groups in the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is optimized, and a network with each component described later can be reliably formed.

なお、本明細書中において、ビニル基含有量とは、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を構成する全ユニットを100モル%としたときのビニル基含有シロキサンユニットのモル%である。ただし、ビニル基含有シロキサンユニット1つに対して、ビニル基1つであると考える。 In the present specification, the vinyl group content is the mol% of the vinyl group-containing siloxane unit when all the units constituting the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) are 100 mol%. .. However, it is considered that there is one vinyl group for each vinyl group-containing siloxane unit.

また、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の重合度は、特に限定されないが、例えば、好ましくは1000~10000程度、より好ましくは2000~5000程度の範囲内である。なお、重合度は、例えばクロロホルムを展開溶媒としたGPC(ゲル透過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算の数平均重合度(又は数平均分子量)等として求めることができる。 The degree of polymerization of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably in the range of, for example, preferably about 1000 to 10000, and more preferably about 2000 to 5000. The degree of polymerization can be determined, for example, as the polystyrene-equivalent number average degree of polymerization (or number average molecular weight) in GPC (gel permeation chromatography) using chloroform as a developing solvent.

本明細書中、「~」は、特に明示しない限り、上限値と下限値を含むことを表す。 In the present specification, "to" means that an upper limit value and a lower limit value are included unless otherwise specified.

さらに、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の比重は、特に限定されないが、0.9~1.1程度の範囲であるのが好ましい。 Further, the specific gravity of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is not particularly limited, but is preferably in the range of about 0.9 to 1.1.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)として、上記のような範囲内の重合度および比重を有するものを用いることにより、得られるシリコーンゴムの耐熱性、難燃性、化学的安定性等の向上を図ることができる。 By using a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) having a degree of polymerization and specific gravity within the above range, the silicone rubber obtained has heat resistance, flame retardancy, chemical stability, etc. Can be improved.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)としては、特に、下記式(1)で表される構造を有するものであるが好ましい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) preferably has a structure represented by the following formula (1).

Figure 2022078683000002
Figure 2022078683000002

式(1)中、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられ、中でも、ビニル基が好ましい。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基等が挙げられる。 In formula (1), R 1 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and the like, and among them, a vinyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group and the like.

また、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Further, R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

また、Rは炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Further, R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group.

さらに、式(1)中のRおよびRの置換基としては、例えば、メチル基、ビニル基等が挙げられ、Rの置換基としては、例えば、メチル基等が挙げられる。 Further, examples of the substituent of R 1 and R 2 in the formula (1) include a methyl group, a vinyl group and the like, and examples of the substituent of R 3 include a methyl group and the like.

なお、式(1)中、複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。さらに、R、およびRについても同様である。 In the equation (1), the plurality of R 1s are independent of each other and may be different from each other or may be the same. The same applies to R 2 and R 3 .

さらに、m、nは、式(1)で表されるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)を構成する繰り返し単位の数であり、mは0~2000の整数、nは1000~10000の整数である。mは、好ましくは0~1000であり、nは、好ましくは2000~5000である。 Further, m and n are the number of repeating units constituting the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) represented by the formula (1), m is an integer of 0 to 2000, and n is 1000 to 10000. Is an integer of. m is preferably 0 to 1000, and n is preferably 2000 to 5000.

また、式(1)で表されるビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)の具体的構造としては、例えば下記式(1-1)で表されるものが挙げられる。 Moreover, as a specific structure of the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) represented by the formula (1), for example, the one represented by the following formula (1-1) can be mentioned.

Figure 2022078683000003
Figure 2022078683000003

式(1-1)中、RおよびRは、それぞれ独立して、メチル基またはビニル基であり、少なくとも一方がビニル基である。 In formula (1-1), R 1 and R 2 are each independently a methyl group or a vinyl group, and at least one of them is a vinyl group.

ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、ビニル基含有量が分子内に2個以上のビニル基を有し、かつ0.4モル%以下である第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を含んでもよい。第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)のビニル基量は、0.1モル%以下でもよい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) is a first vinyl group-containing linear siloxane having a vinyl group content of 2 or more in the molecule and 0.4 mol% or less. Organopolysiloxane (A1-1) may be included. The vinyl group amount of the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) may be 0.1 mol% or less.

また、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)は、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)とビニル基含有量が0.5~15モル%である第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを含有してもよい。 The vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1) has a vinyl group content of 0.5 to 15 mol% with the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1). May contain a vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2).

シリコーンゴムの原料である生ゴムとして、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、ビニル基含有量が高い第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを組み合わせることで、ビニル基を偏在化させることができ、シリコーンゴムの架橋ネットワーク中に、より効果的に架橋密度の疎密を形成することができる。その結果、より効果的にシリコーンゴムの引裂強度を高めることができる。 As raw rubber which is a raw material of silicone rubber, a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) and a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) having a high vinyl group content are used. ), The vinyl groups can be unevenly distributed, and the cross-linking density can be more effectively formed in the cross-linking network of the silicone rubber. As a result, the tear strength of the silicone rubber can be increased more effectively.

具体的には、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)として、例えば、上記式(1-1)において、R1がビニル基である単位および/またはR2がビニル基である単位を、分子内に2個以上有し、かつ0.4モル%以下を含む第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と、R1がビニル基である単位および/またはR2がビニル基である単位を、0.5~15モル%含む第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを用いるのが好ましい。 Specifically, as the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1), for example, in the above formula (1-1), a unit in which R1 is a vinyl group and / or a unit in which R2 is a vinyl group is a molecule. A first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) having two or more of them and containing 0.4 mol% or less, and a unit in which R1 is a vinyl group and / or R2 is a vinyl group. It is preferable to use a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) containing 0.5 to 15 mol% of the unit.

また、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)は、ビニル基含有量が0.01~0.2モル%であるのが好ましい。また、第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)は、ビニル基含有量が、0.8~12モル%であるのが好ましい。 Further, the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) preferably has a vinyl group content of 0.01 to 0.2 mol%. Further, the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) preferably has a vinyl group content of 0.8 to 12 mol%.

さらに、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)と第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)とを組み合わせて配合する場合、(A1-1)と(A1-2)の比率は特に限定されないが、例えば、重量比で(A1-1):(A1-2)が50:50~95:5であるのが好ましく、80:20~90:10であるのがより好ましい。 Further, when the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) and the second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) are blended in combination (A1-1). The ratio of and (A1-2) is not particularly limited, but for example, the weight ratio of (A1-1) :( A1-2) is preferably 50:50 to 95: 5, and 80:20 to 90: It is more preferably 10.

なお、第1および第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)および(A1-2)は、それぞれ1種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The first and second vinyl group-containing linear organopolysiloxanes (A1-1) and (A1-2) may be used alone or in combination of two or more. good.

また、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)は、分岐構造を有するビニル基含有分岐状オルガノポリシロキサン(A2)を含んでもよい。 Further, the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) may contain a vinyl group-containing branched organopolysiloxane (A2) having a branched structure.

<<オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)を含むことができる。
オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)は、直鎖構造を有する直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐構造を有する分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)とに分類され、これらのうちのいずれか一方または双方を含むことができる。
<< Organohydrogen Polysiloxane (B) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain organohydrogenpolysiloxane (B).
The organohydrogenpolysiloxane (B) is classified into a linear organohydrogenpolysiloxane (B1) having a linear structure and a branched organohydrogenpolysiloxane (B2) having a branched structure. Either one or both can be included.

直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、直鎖構造を有し、かつ、Siに水素が直接結合した構造(≡Si-H)を有し、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)のビニル基の他、シリコーンゴム系硬化性組成物に配合される成分が有するビニル基とヒドロシリル化反応し、これらの成分を架橋する重合体である。 The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) has a linear structure and a structure (≡Si—H) in which hydrogen is directly bonded to Si, and is a vinyl group-containing organopolysiloxane (A). In addition to the vinyl group, it is a polymer that hydrosilylates with the vinyl group contained in the components contained in the silicone rubber-based curable composition and crosslinks these components.

直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の分子量は特に限定されないが、例えば、重量平均分子量が20000以下であるのが好ましく、1000以上、10000以下であることがより好ましい。 The molecular weight of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is not particularly limited, but for example, the weight average molecular weight is preferably 20000 or less, and more preferably 1000 or more and 10000 or less.

なお、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の重量平均分子量は、例えばクロロホルムを展開溶媒としたGPC(ゲル透過クロマトグラフィー)におけるポリスチレン換算により測定することができる。 The weight average molecular weight of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) can be measured, for example, by polystyrene conversion in GPC (gel permeation chromatography) using chloroform as a developing solvent.

また、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、通常、ビニル基を有しないものであるのが好ましい。これにより、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)の分子内において架橋反応が進行するのを的確に防止することができる。 Further, the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is usually preferably one having no vinyl group. This makes it possible to accurately prevent the cross-linking reaction from proceeding in the molecule of the linear organohydrogenpolysiloxane (B1).

以上のような直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)としては、例えば、下記式(2)で表される構造を有するものが好ましく用いられる。 As the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) as described above, for example, one having a structure represented by the following formula (2) is preferably used.

Figure 2022078683000004
Figure 2022078683000004

式(2)中、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、これらを組み合わせた炭化水素基、またはヒドリド基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 In formula (2), R4 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, a hydrocarbon group combining these, or a hydride group. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and the like. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

また、Rは炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、これらを組み合わせた炭化水素基、またはヒドリド基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基等が挙げられる。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 Further, R5 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, an aryl group, a hydrocarbon group combining these, or a hydride group. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group and a propyl group, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group and the like. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

なお、式(2)中、複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。Rについても同様である。ただし、複数のRおよびRのうち、少なくとも2つ以上がヒドリド基である。 In the equation (2), the plurality of R 4s are independent of each other and may be different from each other or may be the same. The same applies to R5. However, of the plurality of R4 and R5, at least two or more are hydride groups.

また、Rは炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。 Further, R 6 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group. The plurality of R6s are independent of each other and may be different from each other or may be the same.

なお、式(2)中のR,R,Rの置換基としては、例えば、メチル基、ビニル基等が挙げられ、分子内の架橋反応を防止する観点から、メチル基が好ましい。 Examples of the substituent of R 4 , R 5 , and R 6 in the formula (2) include a methyl group and a vinyl group, and a methyl group is preferable from the viewpoint of preventing an intramolecular cross-linking reaction.

さらに、m、nは、式(2)で表される直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)を構成する繰り返し単位の数であり、mは2~150整数、nは2~150の整数である。好ましくは、mは2~100の整数、nは2~100の整数である。 Further, m and n are the number of repeating units constituting the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) represented by the formula (2), where m is an integer of 2 to 150 and n is an integer of 2 to 150. Is. Preferably, m is an integer of 2 to 100 and n is an integer of 2 to 100.

なお、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) may be used alone or in combination of two or more.

分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、分岐構造を有するため、架橋密度が高い領域を形成し、シリコーンゴムの系中の架橋密度の疎密構造形成に大きく寄与する成分である。また、上記直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)同様、Siに水素が直接結合した構造(≡Si-H)を有し、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)のビニル基の他、シリコーンゴム系硬化性組成物に配合される成分のビニル基とヒドロシリル化反応し、これら成分を架橋する重合体である。 Since the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure, it forms a region having a high crosslink density and is a component that greatly contributes to the formation of a dense structure having a crosslink density in the silicone rubber system. Further, like the linear organohydrogenpolysiloxane (B1), it has a structure (≡Si—H) in which hydrogen is directly bonded to Si, and in addition to the vinyl group of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silicone. It is a polymer that undergoes a hydrosilylation reaction with the vinyl group of the component contained in the rubber-based curable composition and crosslinks these components.

また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の比重は、0.9~0.95の範囲である。 The specific gravity of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is in the range of 0.9 to 0.95.

さらに、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、通常、ビニル基を有しないものであるのが好ましい。これにより、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の分子内において架橋反応が進行するのを的確に防止することができる。 Further, the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is usually preferably one having no vinyl group. This makes it possible to accurately prevent the cross-linking reaction from proceeding in the molecule of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2).

また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)としては、下記平均組成式(c)で示されるものが好ましい。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) is preferably represented by the following average composition formula (c).

平均組成式(c)
(H(R3-aSiO1/2(SiO4/2
(式(c)において、Rは一価の有機基、aは1~3の範囲の整数、mはH(R3-aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である)
Average composition formula (c)
(H a (R 7 ) 3-a SiO 1/2 ) m (SiO 4/2 ) n
(In the formula (c), R 7 is a monovalent organic group, a is an integer in the range of 1 to 3, m is a number of Ha (R 7 ) 3-a SiO 1/2 units, and n is SiO 4 /. It is a number of 2 units)

式(c)において、Rは一価の有機基であり、好ましくは、炭素数1~10の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基である。炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~10のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。 In formula (c), R 7 is a monovalent organic group, preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in combination thereof. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 10 carbon atoms include a phenyl group.

式(c)において、aは、ヒドリド基(Siに直接結合する水素原子)の数であり、1~3の範囲の整数、好ましくは1である。 In the formula (c), a is the number of hydride groups (hydrogen atoms directly bonded to Si), and is an integer in the range of 1 to 3, preferably 1.

また、式(c)において、mはH(R3-aSiO1/2単位の数、nはSiO4/2単位の数である。 Further, in the formula ( c ), m is the number of Ha (R 7 ) 3-a SiO 1/2 unit, and n is the number of SiO 4/2 unit.

分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は分岐状構造を有する。直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、その構造が直鎖状か分岐状かという点で異なり、Siの数を1とした時のSiに結合するアルキル基Rの数(R/Si)が、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)では1.8~2.1、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)では0.8~1.7の範囲となる。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure. The linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) differ in that their structure is linear or branched, and the Si is the same as when the number of Si is 1. The number of alkyl groups R to be bonded (R / Si) is 1.8 to 2.1 for the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and 0.8 to 1 for the branched organohydrogenpolysiloxane (B2). It is in the range of 0.7.

なお、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、分岐構造を有しているため、例えば、窒素雰囲気下、1000℃まで昇温速度10℃/分で加熱した際の残渣量が5%以上となる。これに対して、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)は、直鎖状であるため、上記条件で加熱した後の残渣量はほぼゼロとなる。 Since the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) has a branched structure, for example, the amount of residue when heated to 1000 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere is 5% or more. Will be. On the other hand, since the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) is linear, the amount of residue after heating under the above conditions is almost zero.

また、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の具体例としては、下記式(3)で表される構造を有するものが挙げられる。 Further, specific examples of the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) include those having a structure represented by the following formula (3).

Figure 2022078683000005
Figure 2022078683000005

式(3)中、Rは炭素数1~8の置換または非置換のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基、もしくは水素原子である。炭素数1~8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。炭素数1~8のアリール基としては、例えば、フェニル基が挙げられる。Rの置換基としては、例えば、メチル基等が挙げられる。 In formula (3), R 7 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in combination thereof, or a hydrogen atom. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and the like, and among them, a methyl group is preferable. Examples of the aryl group having 1 to 8 carbon atoms include a phenyl group. Examples of the substituent of R 7 include a methyl group and the like.

なお、式(3)中、複数のRは互いに独立したものであり、互いに異なっていてもよいし、同じであってもよい。 In the equation (3), the plurality of R 7s are independent of each other and may be different from each other or may be the same.

また、式(3)中、「-O-Si≡」は、Siが三次元に広がる分岐構造を有することを表している。 Further, in the equation (3), "-O-Si≡" indicates that Si has a branched structure that spreads three-dimensionally.

なお、分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The branched organohydrogenpolysiloxane (B2) may be used alone or in combination of two or more.

また、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)において、Siに直接結合する水素原子(ヒドリド基)の量は、それぞれ、特に限定されない。ただし、シリコーンゴム系硬化性組成物において、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)中のビニル基1モルに対し、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)と分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)の合計のヒドリド基量が、0.5~5モルとなる量が好ましく、1~3.5モルとなる量がより好ましい。これにより、直鎖状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B1)および分岐状オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B2)と、ビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1)との間で、架橋ネットワークを確実に形成させることができる。 Further, in the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2), the amount of hydrogen atoms (hydride groups) directly bonded to Si is not particularly limited. However, in the silicone rubber-based curable composition, the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpoly are added to 1 mol of the vinyl group in the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1). The total amount of hydride group of siloxane (B2) is preferably 0.5 to 5 mol, more preferably 1 to 3.5 mol. This ensures that a crosslinked network is formed between the linear organohydrogenpolysiloxane (B1) and the branched organohydrogenpolysiloxane (B2) and the vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1). Can be made to.

<<シリカ粒子(C)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、必要に応じ、非導電性フィラーとして、シリカ粒子(C)を含むことができる。
<< Silica particles (C) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment may contain silica particles (C) as a non-conductive filler, if necessary.

シリカ粒子(C)としては、特に限定されないが、例えば、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、沈降シリカ等が用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。 The silica particles (C) are not particularly limited, but for example, fumed silica, calcined silica, precipitated silica and the like are used. These may be used alone or in combination of two or more.

シリカ粒子(C)は、例えば、BET法による比表面積が例えば50~400m/gであるのが好ましく、100~400m/gであるのがより好ましい。また、シリカ粒子(C)の平均一次粒径は、例えば1~100nmであるのが好ましく、5~20nm程度であるのがより好ましい。 The specific surface area of the silica particles (C) by, for example, the BET method is preferably, for example, 50 to 400 m 2 / g, and more preferably 100 to 400 m 2 / g. The average primary particle size of the silica particles (C) is preferably, for example, 1 to 100 nm, and more preferably about 5 to 20 nm.

シリカ粒子(C)として、かかる比表面積および平均粒径の範囲内であるものを用いることにより、形成されるシリコーンゴムの硬さや機械的強度の向上、特に引張強度の向上をさせることができる。 By using the silica particles (C) within the range of the specific surface area and the average particle size, it is possible to improve the hardness and mechanical strength of the formed silicone rubber, particularly the tensile strength.

<<シランカップリング剤(D)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、シランカップリング剤(D)を含むことができる。
シランカップリング剤(D)は、加水分解性基を有することができる。加水分解基が水により加水分解されて水酸基になり、この水酸基がシリカ粒子(C)表面の水酸基と脱水縮合反応することで、シリカ粒子(C)の表面改質を行うことができる。
<< Silane Coupling Agent (D) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain a silane coupling agent (D).
The silane coupling agent (D) can have a hydrolyzable group. The hydrolyzing group is hydrolyzed by water to become a hydroxyl group, and this hydroxyl group undergoes a dehydration condensation reaction with the hydroxyl group on the surface of the silica particles (C), whereby the surface of the silica particles (C) can be modified.

また、このシランカップリング剤(D)は、疎水性基を有するシランカップリング剤を含むことができる。これにより、シリカ粒子(C)の表面にこの疎水性基が付与されるため、シリコーンゴム系硬化性組成物中ひいてはシリコーンゴム中において、シリカ粒子(C)の凝集力が低下(シラノール基による水素結合による凝集が少なくなる)し、その結果、シリコーンゴム系硬化性組成物中のシリカ粒子の分散性が向上すると推測される。これにより、シリカ粒子とゴムマトリックスとの界面が増加し、シリカ粒子の補強効果が増大する。さらに、ゴムのマトリックス変形の際、マトリックス内でのシリカ粒子の滑り性が向上すると推測される。そして、シリカ粒子(C)の分散性の向上及び滑り性の向上によって、シリカ粒子(C)によるシリコーンゴムの機械的強度(例えば、引張強度や引裂強度など)が向上する。 Further, the silane coupling agent (D) can include a silane coupling agent having a hydrophobic group. As a result, this hydrophobic group is imparted to the surface of the silica particles (C), so that the cohesive force of the silica particles (C) is reduced in the silicone rubber-based curable composition and thus in the silicone rubber (hydrogen due to silanol groups). Aggregation due to bonding is reduced), and as a result, it is presumed that the dispersibility of the silica particles in the silicone rubber-based curable composition is improved. As a result, the interface between the silica particles and the rubber matrix increases, and the reinforcing effect of the silica particles increases. Further, it is presumed that the slipperiness of the silica particles in the matrix is improved when the rubber matrix is deformed. Then, by improving the dispersibility and slipperiness of the silica particles (C), the mechanical strength (for example, tensile strength, tear strength, etc.) of the silicone rubber due to the silica particles (C) is improved.

さらに、シランカップリング剤(D)は、ビニル基を有するシランカップリング剤を含むことができる。これにより、シリカ粒子(C)の表面にビニル基が導入される。そのため、シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化の際、すなわち、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)が有するビニル基と、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)が有するヒドリド基とがヒドロシリル化反応して、これらによるネットワーク(架橋構造)が形成される際に、シリカ粒子(C)が有するビニル基も、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)が有するヒドリド基とのヒドロシリル化反応に関与するため、ネットワーク中にシリカ粒子(C)も取り込まれるようになる。これにより、形成されるシリコーンゴムの低硬度化および高モジュラス化を図ることができる。 Further, the silane coupling agent (D) can include a silane coupling agent having a vinyl group. As a result, a vinyl group is introduced on the surface of the silica particles (C). Therefore, when the silicone rubber-based curable composition is cured, that is, the vinyl group contained in the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the hydride group contained in the organohydrogenpolysiloxane (B) undergo a hydrosilylation reaction. When the network (crosslinked structure) formed by these is formed, the vinyl group of the silica particles (C) is also involved in the hydrosilylation reaction with the hydride group of the organohydrogenpolysiloxane (B). Silica particles (C) will also be incorporated into the. As a result, it is possible to reduce the hardness and increase the modulus of the formed silicone rubber.

シランカップリング剤(D)としては、疎水性基を有するシランカップリング剤およびビニル基を有するシランカップリング剤を併用することができる。 As the silane coupling agent (D), a silane coupling agent having a hydrophobic group and a silane coupling agent having a vinyl group can be used in combination.

シランカップリング剤(D)としては、例えば、下記式(4)で表わされるものが挙げられる。 Examples of the silane coupling agent (D) include those represented by the following formula (4).

-Si-(X)4-n・・・(4)
上記式(4)中、nは1~3の整数を表わす。Yは、疎水性基、親水性基またはビニル基を有するもののうちのいずれかの官能基を表わし、nが1の時は疎水性基であり、nが2または3の時はその少なくとも1つが疎水性基である。Xは、加水分解性基を表わす。
Y n -Si- (X) 4-n ... (4)
In the above equation (4), n represents an integer of 1 to 3. Y represents any functional group having a hydrophobic group, a hydrophilic group or a vinyl group, and when n is 1, it is a hydrophobic group, and when n is 2 or 3, at least one of them is. It is a hydrophobic group. X represents a hydrolyzable group.

疎水性基は、炭素数1~6のアルキル基、アリール基、またはこれらを組み合わせた炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基等が挙げられ、中でも、特に、メチル基が好ましい。 The hydrophobic group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group, or a hydrocarbon group in which these are combined, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a phenyl group, and the like. Methyl groups are preferred.

また、親水性基は、例えば、水酸基、スルホン酸基、カルボキシル基またはカルボニル基等が挙げられ、中でも、特に、水酸基が好ましい。なお、親水性基は、官能基として含まれていてもよいが、シランカップリング剤(D)に疎水性を付与するという観点からは含まれていないのが好ましい。 Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, a carbonyl group and the like, and a hydroxyl group is particularly preferable. The hydrophilic group may be contained as a functional group, but is preferably not contained from the viewpoint of imparting hydrophobicity to the silane coupling agent (D).

さらに、加水分解性基は、メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基、クロロ基またはシラザン基等が挙げられ、中でも、シリカ粒子(C)との反応性が高いことから、シラザン基が好ましい。なお、加水分解性基としてシラザン基を有するものは、その構造上の特性から、上記式(4)中の(Y-Si-)の構造を2つ有するものとなる。 Further, examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group, a chloro group or a silazane group, and among them, a silazane group is preferable because it has high reactivity with the silica particles (C). Those having a silazane group as a hydrolyzable group have two structures of ( Yn —Si—) in the above formula (4) due to their structural characteristics.

上記式(4)で表されるシランカップリング剤(D)の具体例は、例えば、官能基として疎水性基を有するものとして、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシランのようなアルコキシシラン;メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシランのようなクロロシラン;ヘキサメチルジシラザンが挙げられ、官能基としてビニル基を有するものとして、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシランのようなアルコキシシラン;ビニルトリクロロシラン、ビニルメチルジクロロシランのようなクロロシラン;ジビニルテトラメチルジシラザンが挙げられるが、中でも、上記記載を考慮すると、特に、疎水性基を有するものとしてはヘキサメチルジシラザン、ビニル基を有するものとしてはジビニルテトラメチルジシラザンであるのが好ましい。 Specific examples of the silane coupling agent (D) represented by the above formula (4) include, for example, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and methyltri as having a hydrophobic group as a functional group. Ekoxysilanes such as ethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane; methyltrichlorosilane , Chlorosilanes such as dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, phenyltrichlorosilane; hexamethyldisilazane, examples of which have a vinyl group as a functional group include methacrypropyltriethoxysilane, methacrypropyltrimethoxysilane, methacryoxy. Ekalkylsilanes such as propylmethyldiethoxysilane, metharoxypropylmethyldimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane; chlorosilanes such as vinyltrichlorosilane, vinylmethyldichlorosilane; divinyltetramethyldi Examples thereof include silazanes, but in consideration of the above description, hexamethyldisilazane is particularly preferable as having a hydrophobic group, and divinyltetramethyldisilazane is preferable as having a vinyl group.

本実施形態において、シランカップリング剤(D)の含有量の下限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対して、1質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましい。また、シランカップリング剤(D)の含有量上限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対して、100質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましく、40質量%以下であることがさらに好ましい。
シランカップリング剤(D)の含有量を上記下限値以上とすることにより、シリコーンゴムが基板との適度な密着性を持ち、また、シリカ粒子(C)を用いる場合においては、シリコーンゴム全体としての機械的強度の向上に資することができる。また、シランカップリング剤(D)の含有量を上記上限値以下とすることにより、シリコーンゴムが適度な機械特性を持つことができる。
In the present embodiment, the lower limit of the content of the silane coupling agent (D) is preferably 1% by mass or more with respect to 100 parts by weight of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). It is more preferably 5% by mass or more, and further preferably 5% by mass or more. The upper limit of the content of the silane coupling agent (D) is preferably 100% by mass or less, preferably 80% by mass or less, based on 100 parts by mass of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). It is more preferably present, and further preferably 40% by mass or less.
By setting the content of the silane coupling agent (D) to the above lower limit value or more, the silicone rubber has an appropriate adhesion to the substrate, and when the silica particles (C) are used, the silicone rubber as a whole It can contribute to the improvement of the mechanical strength of. Further, by setting the content of the silane coupling agent (D) to the above upper limit value or less, the silicone rubber can have appropriate mechanical properties.

<<白金または白金化合物(E)>>
本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、白金または白金化合物(E)を含むことができる。
白金または白金化合物(E)は、硬化の際の触媒として作用する触媒成分である。白金または白金化合物(E)の添加量は触媒量である。
<< Platinum or platinum compound (E) >>
The silicone rubber-based curable composition of the present embodiment can contain platinum or a platinum compound (E).
Platinum or the platinum compound (E) is a catalytic component that acts as a catalyst during curing. The amount of platinum or the platinum compound (E) added is the amount of the catalyst.

白金または白金化合物(E)としては、公知のものを使用することができ、例えば、白金黒、白金をシリカやカーボンブラック等に担持させたもの、塩化白金酸または塩化白金酸のアルコール溶液、塩化白金酸とオレフィンの錯塩、塩化白金酸とビニルシロキサンとの錯塩等が挙げられる。 As the platinum or the platinum compound (E), known ones can be used, for example, platinum black, platinum supported on silica, carbon black or the like, platinum chloride acid or an alcohol solution of platinum chloride acid, chloride. Examples thereof include a complex salt of platinum acid and an olefin, and a complex salt of platinum chloride acid and vinyl siloxane.

なお、白金または白金化合物(E)は、1種のみを単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the platinum or the platinum compound (E), only one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

<<水(F)>>
また、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物には、上記成分(A)~(E)以外に、水(F)が含まれていてもよい。
<< Water (F) >>
Further, the silicone rubber-based curable composition of the present embodiment may contain water (F) in addition to the above components (A) to (E).

水(F)は、シリコーンゴム系硬化性組成物に含まれる各成分を分散させる分散媒として機能するとともに、シリカ粒子(C)とシランカップリング剤(D)との反応に寄与する成分である。そのため、シリコーンゴム中において、シリカ粒子(C)とシランカップリング剤(D)とを、より確実に互いに連結したものとすることができ、全体として均一な特性を発揮することができる。 Water (F) functions as a dispersion medium for dispersing each component contained in the silicone rubber-based curable composition, and is a component that contributes to the reaction between the silica particles (C) and the silane coupling agent (D). .. Therefore, in the silicone rubber, the silica particles (C) and the silane coupling agent (D) can be more reliably connected to each other, and uniform characteristics can be exhibited as a whole.

さらに、水(F)を含有する場合、その含有量は、適宜設定することができるが、具体的には、シランカップリング剤(D)100重量部に対して、例えば、10~100重量部の範囲であるのが好ましく、30~70重量部の範囲であるのがより好ましい。これにより、シランカップリング剤(D)とシリカ粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 Further, when water (F) is contained, the content thereof can be appropriately set, but specifically, for example, 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silane coupling agent (D). It is preferably in the range of 30 to 70 parts by weight, and more preferably in the range of 30 to 70 parts by weight. This makes it possible to more reliably proceed the reaction between the silane coupling agent (D) and the silica particles (C).

(その他の成分)
さらに、本実施形態のシリコーンゴム系硬化性組成物は、上記(A)~(F)成分以外に、他の成分をさらに含むことができる。この他の成分としては、例えば、珪藻土、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、ガラスウール、マイカ等のシリカ粒子(C)以外の無機充填材、反応阻害剤、分散剤、顔料、染料、帯電防止剤、酸化防止剤、難燃剤、熱伝導性向上剤等の添加剤が挙げられる。
(Other ingredients)
Further, the silicone rubber-based curable composition of the present embodiment may further contain other components in addition to the above components (A) to (F). Other components include silica particles (C) such as diatomaceous earth, iron oxide, zinc oxide, titanium oxide, barium oxide, magnesium oxide, cerium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, glass wool, and mica. Examples thereof include additives such as inorganic fillers, reaction inhibitors, dispersants, pigments, dyes, antioxidants, antioxidants, flame retardants, and thermal conductivity improvers.

なお、シリコーンゴム系硬化性組成物において、各成分の含有割合は特に限定されないが、例えば、以下のように設定される。 In the silicone rubber-based curable composition, the content ratio of each component is not particularly limited, but is set as follows, for example.

本実施形態において、シリカ粒子(C)の含有量の上限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対し、例えば、60重量部以下でもよく、好ましくは50重量部以下でもよく、さらに好ましくは40重量部以下でもよい。これにより、硬さや引張強等の機械的強度のバランスを図ることができる。また、シリカ粒子(C)の含有量の下限値は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合計量100重量部に対し、特に限定されないが、例えば、10重量部以上でもよい。 In the present embodiment, the upper limit of the content of the silica particles (C) may be, for example, 60 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A). It may be less than or equal to, and more preferably 40 parts by weight or less. This makes it possible to balance mechanical strength such as hardness and tensile strength. The lower limit of the content of the silica particles (C) is not particularly limited with respect to 100 parts by weight of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A), but may be, for example, 10 parts by weight or more.

シランカップリング剤(D)は、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)100重量部に対し、例えば、シランカップリング剤(D)が5重量部以上100重量部以下の割合で含有するのが好ましく、5重量部以上40重量部以下の割合で含有するのがより好ましい。これにより、シリカ粒子(C)のシリコーンゴム系硬化性組成物中における分散性を確実に向上させることができる。 The silane coupling agent (D) is preferably contained in a proportion of, for example, 5 parts by weight or more and 100 parts by weight or less of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) with respect to 100 parts by weight. More preferably, it is contained in a proportion of 5 parts by weight or more and 40 parts by weight or less. Thereby, the dispersibility of the silica particles (C) in the silicone rubber-based curable composition can be surely improved.

オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)の含有量は、具体的にビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)及びシリカ粒子(C)及びシランカップリング剤(D)の合計量100重量部に対して、例えば、0.5重量部以上20重量部以下の割合で含有することが好ましく、0.8重量部以上15重量部以下の割合で含有するのがより好ましい。(B)の含有量が前記範囲内であることで、より効果的な硬化反応ができる可能性がある。 The content of the organohydrogenpolysiloxane (B) is specifically, for example, with respect to 100 parts by weight of the total amount of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A), the silica particles (C) and the silane coupling agent (D). , 0.5 part by weight or more and preferably 20 parts by weight or less, and more preferably 0.8 parts by weight or more and 15 parts by weight or less. When the content of (B) is within the above range, a more effective curing reaction may be possible.

白金または白金化合物(E)の含有量は、触媒量を意味し、適宜設定することができるが、具体的にビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)、シリカ粒子(C)、シランカップリング剤(D)の合計量に対して、本成分中の白金族金属が重量単位で0.01~1000ppmとなる量であり、好ましくは、0.1~500ppmとなる量である。白金または白金化合物(E)の含有量を上記下限値以上とすることにより、得られるシリコーンゴム組成物を十分硬化させることができる。白金または白金化合物(E)の含有量を上記上限値以下とすることにより、得られるシリコーンゴム組成物の硬化速度を向上させることができる。 The content of platinum or the platinum compound (E) means the amount of catalyst and can be appropriately set, but specifically, vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silica particles (C), and silane coupling agent ( The amount of the platinum group metal in this component is 0.01 to 1000 ppm by weight, preferably 0.1 to 500 ppm, based on the total amount of D). By setting the content of platinum or the platinum compound (E) to the above lower limit value or more, the obtained silicone rubber composition can be sufficiently cured. By setting the content of platinum or the platinum compound (E) to the above upper limit value or less, the curing rate of the obtained silicone rubber composition can be improved.

さらに、水(F)を含有する場合、その含有量は、適宜設定することができるが、具体的には、シランカップリング剤(D)100重量部に対して、例えば、10~100重量部の範囲であるのが好ましく、30~70重量部の範囲であるのがより好ましい。これにより、シランカップリング剤(D)とシリカ粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 Further, when water (F) is contained, the content thereof can be appropriately set, but specifically, for example, 10 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silane coupling agent (D). It is preferably in the range of 30 to 70 parts by weight, and more preferably in the range of 30 to 70 parts by weight. This makes it possible to more reliably proceed the reaction between the silane coupling agent (D) and the silica particles (C).

<シリコーンゴムの製造方法>
次に、本実施形態のシリコーンゴムの製造方法について説明する。
本実施形態のシリコーンゴムの製造方法としては、シリコーンゴム系硬化性組成物を調製し、このシリコーンゴム系硬化性組成物を硬化させることによりシリコーンゴムを得ることができる。
以下、詳述する。
<Manufacturing method of silicone rubber>
Next, a method for manufacturing the silicone rubber of the present embodiment will be described.
As a method for producing a silicone rubber of the present embodiment, a silicone rubber-based curable composition can be prepared, and the silicone rubber-based curable composition can be cured to obtain a silicone rubber.
The details will be described below.

まず、シリコーンゴム系硬化性組成物の各成分を、任意の混練装置により、均一に混合してシリコーンゴム系硬化性組成物を調製する。 First, each component of the silicone rubber-based curable composition is uniformly mixed by an arbitrary kneading device to prepare a silicone rubber-based curable composition.

[1]たとえば、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)と、シリカ粒子(C)と、シランカップリング剤(D)とを所定量秤量し、その後、任意の混練装置により、混練することで、これら各成分(A)、(C)、(D)を含有する混練物を得る。 [1] For example, a vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silica particles (C), and a silane coupling agent (D) are weighed in a predetermined amount and then kneaded by an arbitrary kneading device. A kneaded product containing each of these components (A), (C) and (D) is obtained.

なお、この混練物は、予めビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とシランカップリング剤(D)とを混練し、その後、シリカ粒子(C)を混練(混合)して得るのが好ましい。これにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)中におけるシリカ粒子(C)の分散性がより向上する。 The kneaded product is preferably obtained by kneading the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the silane coupling agent (D) in advance, and then kneading (mixing) the silica particles (C). This further improves the dispersibility of the silica particles (C) in the vinyl group-containing organopolysiloxane (A).

また、この混練物を得る際には、水(F)を必要に応じて、各成分(A)、(C)、および(D)の混練物に添加するようにしてもよい。これにより、シランカップリング剤(D)とシリカ粒子(C)との反応をより確実に進行させることができる。 Further, when obtaining this kneaded product, water (F) may be added to the kneaded product of each component (A), (C), and (D) as needed. This makes it possible to more reliably proceed the reaction between the silane coupling agent (D) and the silica particles (C).

さらに、各成分(A)、(C)、(D)の混練は、第1温度で加熱する第1ステップと、第2温度で加熱する第2ステップとを経るようにするのが好ましい。これにより、第1ステップにおいて、シリカ粒子(C)の表面をカップリング剤(D)で表面処理することができるとともに、第2ステップにおいて、シリカ粒子(C)とカップリング剤(D)との反応で生成した副生成物を混練物中から確実に除去することができる。その後、必要に応じて、得られた混練物に対して、成分(A)を添加し、更に混練してもよい。これにより、混練物の成分のなじみを向上させることができる。 Further, it is preferable that the kneading of each component (A), (C), and (D) goes through a first step of heating at the first temperature and a second step of heating at the second temperature. Thereby, in the first step, the surface of the silica particles (C) can be surface-treated with the coupling agent (D), and in the second step, the silica particles (C) and the coupling agent (D) are combined. By-products produced by the reaction can be reliably removed from the kneaded product. Then, if necessary, the component (A) may be added to the obtained kneaded product and further kneaded. This makes it possible to improve the familiarity of the components of the kneaded product.

第1温度は、例えば、40~120℃程度であるのが好ましく、例えば、60~90℃程度であるのがより好ましい。第2温度は、例えば、130~210℃程度であるのが好ましく、例えば、160~180℃程度であるのがより好ましい。 The first temperature is preferably, for example, about 40 to 120 ° C., and more preferably about 60 to 90 ° C., for example. The second temperature is, for example, preferably about 130 to 210 ° C, more preferably about 160 to 180 ° C.

また、第1ステップにおける雰囲気は、窒素雰囲気下のような不活性雰囲気下であるのが好ましく、第2ステップにおける雰囲気は、減圧雰囲気下であるのが好ましい。 Further, the atmosphere in the first step is preferably under an inert atmosphere such as under a nitrogen atmosphere, and the atmosphere in the second step is preferably under a reduced pressure atmosphere.

さらに、第1ステップの時間は、例えば、0.3~1.5時間程度であるのが好ましく、0.5~1.2時間程度であるのがより好ましい。第2ステップの時間は、例えば、0.7~3.0時間程度であるのが好ましく、1.0~2.0時間程度であるのがより好ましい。 Further, the time of the first step is preferably, for example, about 0.3 to 1.5 hours, and more preferably about 0.5 to 1.2 hours. The time of the second step is, for example, preferably about 0.7 to 3.0 hours, and more preferably about 1.0 to 2.0 hours.

第1ステップおよび第2ステップを、上記のような条件とすることで、前記効果をより顕著に得ることができる。 By setting the first step and the second step under the above-mentioned conditions, the above-mentioned effect can be obtained more remarkably.

[2]次に、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)と、白金または白金化合物(E)とを所定量秤量し、その後、任意の混練装置を用いて、上記工程[1]で調製した混練物に、各成分(B)、(E)を混練することで、シリコーンゴム系硬化性組成物を得る。得られたシリコーンゴム系硬化性組成物は溶剤を含むペーストであってもよい。 [2] Next, the organohydrogenpolysiloxane (B) and platinum or the platinum compound (E) are weighed in a predetermined amount, and then the kneaded product prepared in the above step [1] using an arbitrary kneading device. By kneading each component (B) and (E), a silicone rubber-based curable composition is obtained. The obtained silicone rubber-based curable composition may be a paste containing a solvent.

なお、この各成分(B)、(E)の混練の際には、予め上記工程[1]で調製した混練物とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)とを、上記工程[1]で調製した混練物と白金または白金化合物(E)とを混練し、その後、それぞれの混練物を混練するのが好ましい。これにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応を進行させることなく、各成分(A)~(E)をシリコーンゴム系硬化性組成物中に確実に分散させることができる。 When kneading the respective components (B) and (E), the kneaded product previously prepared in the above step [1] and the organohydrogenpolysiloxane (B) were prepared in the above step [1]. It is preferable to knead the kneaded product with platinum or the platinum compound (E), and then knead the respective kneaded products. This ensures that each component (A) to (E) is contained in the silicone rubber-based curable composition without proceeding with the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B). Can be dispersed in.

各成分(B)、(E)を混練する際の温度は、ロール設定温度として、例えば、10~70℃程度であるのが好ましく、25~30℃程度であるのがより好ましい。 The temperature at which each component (B) and (E) is kneaded is preferably, for example, about 10 to 70 ° C., more preferably about 25 to 30 ° C. as the roll set temperature.

さらに、混練する時間は、例えば、5分~1時間程度であるのが好ましく、10~40分程度であるのがより好ましい。 Further, the kneading time is preferably, for example, about 5 minutes to 1 hour, and more preferably about 10 to 40 minutes.

上記工程[1]および上記工程[2]において、温度を上記範囲内とすることにより、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応の進行をより的確に防止または抑制することができる。また、上記工程[1]および上記工程[2]において、混練時間を上記範囲内とすることにより、各成分(A)~(E)をシリコーンゴム系硬化性組成物中により確実に分散させることができる。 By setting the temperature within the above range in the above step [1] and the above step [2], the progress of the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) is more accurately performed. Can be prevented or suppressed. Further, in the above steps [1] and the above steps [2], by setting the kneading time within the above range, each component (A) to (E) is more reliably dispersed in the silicone rubber-based curable composition. Can be done.

なお、各工程[1]、[2]において使用される混練装置としては、特に限定されないが、例えば、ニーダー、2本ロール、バンバリーミキサー(連続ニーダー)、加圧ニーダー等を用いることができる。 The kneading device used in each of the steps [1] and [2] is not particularly limited, and for example, a kneader, a two-roll, a Banbury mixer (continuous kneader), a pressurized kneader, or the like can be used.

また、本工程[2]において、混練物中に1-エチニルシクロヘキサノールのような反応抑制剤を添加するようにしてもよい。これにより、混練物の温度が比較的高い温度に設定されたとしても、ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)とオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)との反応の進行をより的確に防止または抑制することができる。 Further, in this step [2], a reaction inhibitor such as 1-ethynylcyclohexanol may be added to the kneaded product. As a result, even if the temperature of the kneaded product is set to a relatively high temperature, the progress of the reaction between the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) and the organohydrogenpolysiloxane (B) is more accurately prevented or suppressed. be able to.

[3]次に、シリコーンゴム系硬化性組成物を硬化させることによりシリコーンゴムを形成する。 [3] Next, a silicone rubber is formed by curing the silicone rubber-based curable composition.

本実施形態において、シリコーンゴム系硬化性樹脂組成物の硬化工程は、例えば、100~250℃で1~30分間加熱(1次硬化)した後、200℃で1~4時間ポストベーク(2次硬化)することによって行われる。 In the present embodiment, the curing step of the silicone rubber-based curable resin composition is, for example, heating (primary curing) at 100 to 250 ° C. for 1 to 30 minutes and then post-baking (secondary) at 200 ° C. for 1 to 4 hours. It is done by curing).

以上のような工程を経ることで、シリコーンゴム系硬化性樹脂組成物の硬化物からなるシリコーンゴムが得られる。 Through the above steps, a silicone rubber made of a cured product of a silicone rubber-based curable resin composition can be obtained.

なお、[3]次に、工程[2]で得られたシリコーンゴム系硬化性組成物を、溶剤に溶解させることにより、絶縁性ペーストを得ることができる。
また、[3]次に、工程[2]で得られたシリコーンゴム系硬化性組成物を、溶剤に溶解させ、導電性フィラーを加えることで導電性ペーストを得ることができる。
[3] Next, the insulating paste can be obtained by dissolving the silicone rubber-based curable composition obtained in the step [2] in a solvent.
Further, [3] Next, the silicone rubber-based curable composition obtained in the step [2] is dissolved in a solvent, and a conductive filler is added to obtain a conductive paste.

(溶剤)
導電性ペーストや絶縁性ペーストは、溶剤を含む。
溶剤としては、公知の各種溶剤を用いることができるが、例えば、高沸点溶剤を含むことができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(solvent)
Conductive pastes and insulating pastes contain solvents.
As the solvent, various known solvents can be used, and for example, a high boiling point solvent can be included. These may be used alone or in combination of two or more.

上記高沸点溶剤の沸点の下限値は、例えば、100℃以上であり、好ましくは130℃以上であり、より好ましくは150℃以上である。これにより、スクリーン印刷などの印刷安定性を向上させることができる。一方で、上記高沸点溶剤の沸点の上限値は、特に限定されないが、例えば、300℃以下でもよく、290℃以下でもよく、280℃以下でもよい。これにより、配線形成時においての過度の熱履歴を抑制できるので、下地へのダメージや、導電性ペーストで形成された配線の形状を良好に維持することができる。 The lower limit of the boiling point of the high boiling point solvent is, for example, 100 ° C. or higher, preferably 130 ° C. or higher, and more preferably 150 ° C. or higher. This makes it possible to improve printing stability such as screen printing. On the other hand, the upper limit of the boiling point of the high boiling point solvent is not particularly limited, but may be, for example, 300 ° C. or lower, 290 ° C. or lower, or 280 ° C. or lower. As a result, excessive heat history at the time of wiring formation can be suppressed, so that damage to the base and the shape of the wiring formed of the conductive paste can be maintained satisfactorily.

また、溶剤としては、シリコーンゴム系硬化性樹脂組成物の溶解性や沸点の観点から適切に選択できるが、例えば、炭素数5以上20以下の脂肪族炭化水素、好ましくは炭素数8以上18以下の脂肪族炭化水素、より好ましくは炭素数10以上15以下の脂肪族炭化水素を含むことができる。 The solvent can be appropriately selected from the viewpoint of solubility and boiling point of the silicone rubber-based curable resin composition. For example, an aliphatic hydrocarbon having 5 or more and 20 or less carbon atoms, preferably 8 or more and 18 or less carbon atoms. It is possible to contain an aliphatic hydrocarbon of the above, more preferably an aliphatic hydrocarbon having 10 or more and 15 or less carbon atoms.

また、溶剤の一例としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカンなどの脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン、トリフルオロメチルベンゼン、ベンゾトリフルオリドなどの芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、シクロペンチルエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチル-n-プロピルエーテル、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、1,1-ジクロロエタン、1,2-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタンなどのハロアルカン類;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのカルボン酸アミド類;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド類、ジエチルカーボネートなどのエステル類などを例示することができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ここで用いられる溶媒は、上記の導電性ペースト中の組成成分を均一に溶解ないし分散させることのできる溶媒の中から適宜選択すればよい。
Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, octane, decane, dodecane and tetradecane; benzene, toluene, ethylbenzene, xylene, mecitylene and tri. Aromatic hydrocarbons such as fluoromethylbenzene and benzotrifluoride; diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, cyclopentylmethyl ether, cyclopentyl ethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, dipropylene Ethers such as glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl-n-propyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran; dichloromethane, chloroform, 1,1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1 , 1-Trichloroethane, haloalkanes such as 1,1,2-trichloroethane; carboxylic acid amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide; Esters and the like can be exemplified. These may be used alone or in combination of two or more.
The solvent used here may be appropriately selected from the solvents capable of uniformly dissolving or dispersing the composition components in the above conductive paste.

上記溶剤が、ハンセン溶解度パラメータの極性項(δ)の上限値が、例えば、10MPa1/2以下であり、好ましくは7MPa1/2以下であり、より好ましくは5.5MPa1/2以下である第1溶剤を含むことができる。これにより、ペースト中においてシリコーンゴム系硬化性樹脂組成物の分散性や溶解性を良好なものとすることができる。この第1溶剤の上記極性項(δ)の下限値は、特に限定されないが、例えば、0Pa1/2以上でもよい。 The upper limit of the polarity term (δ p ) of the Hansen solubility parameter of the solvent is, for example, 10 MPa 1/2 or less, preferably 7 MPa 1/2 or less, and more preferably 5.5 MPa 1/2 or less. It can contain a first solvent. This makes it possible to improve the dispersibility and solubility of the silicone rubber-based curable resin composition in the paste. The lower limit of the polarity term (δ p ) of the first solvent is not particularly limited, but may be, for example, 0 Pa 1/2 or more.

上記第1溶剤におけるハンセン溶解度パラメータの水素結合項(δ)の上限値が、例えば、20MPa1/2以下であり、好ましくは10MPa1/2以下であり、より好ましくは7MPa1/2以下である。これにより、ペースト中において、シリコーンゴム系硬化性樹脂組成物の分散性や溶解性を良好なものとすることができる。この第1溶剤の上記水素結合項(δ)の下限値は、特に限定されないが、例えば、0Pa1/2以上でもよい。 The upper limit of the hydrogen bond term (δ h ) of the Hansen solubility parameter in the first solvent is, for example, 20 MPa 1/2 or less, preferably 10 MPa 1/2 or less, and more preferably 7 MPa 1/2 or less. be. This makes it possible to improve the dispersibility and solubility of the silicone rubber-based curable resin composition in the paste. The lower limit of the hydrogen bond term (δ h ) of the first solvent is not particularly limited, but may be, for example, 0 Pa 1/2 or more.

ハンセンの溶解度パラメータ(HSP)は、ある物質が他のある物質にどのくらい溶けるのかという溶解性を表す指標である。HSPは、溶解性を3次元のベクトルで表す。この3次元ベクトルは、代表的には、分散項(δ)、極性項(δ)、水素結合項(δ)で表すことができる。そしてベクトルが似ているもの同士は、溶解性が高いと判断できる。ベクトルの類似度をハンセン溶解度パラメータの距離(HSP距離)で判断することが可能である。 The Hansen solubility parameter (HSP) is an index of the solubility of a substance in another substance. HSP represents solubility as a three-dimensional vector. This three-dimensional vector can be typically represented by a dispersion term (δ d ), a polarity term (δ p ), and a hydrogen bond term (δ h ). And it can be judged that those having similar vectors have high solubility. It is possible to judge the similarity of the vector by the distance (HSP distance) of the Hansen solubility parameter.

本明細書で用いている、ハンセン溶解度パラメーター(HSP値)は、HSPiP(Hansen Solubility Parameters in Practice)というソフトを用いて算出することができる。ここで、ハンセンとアボットが開発したコンピューターソフトウエアHSPiPには、HSP距離を計算する機能と様々な樹脂と溶剤もしくは非溶剤のハンセンパラメーターを記載したデータベースが含まれている。
各樹脂の純溶剤および良溶剤と貧溶剤の混合溶剤に対する溶解性を調べ、HSPiPソフトにその結果を入力し、D:分散項、P:極性項、H:水素結合項、R0:溶解球半径を算出する。
The Hansen solubility parameter (HSP value) used in the present specification can be calculated using software called HSPiP (Hansen Solubility Parameter in Practice). Here, the computer software HSPiP developed by Hansen and Abbott includes a function for calculating the HSP distance and a database describing various resin and solvent or non-solvent Hansen parameters.
The solubility of each resin in a pure solvent and a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent was investigated, and the results were input to the HSPiP software. Is calculated.

本実施形態の溶剤としては、例えば、エラストマーやエラストマーを構成する構成単位と溶剤との、HSP距離、極性項や水素結合項の差分が小さいもの選択することができる。 As the solvent of the present embodiment, for example, an elastomer or a solvent having a small difference in HSP distance, polarity term and hydrogen bond term between the constituent unit constituting the elastomer and the solvent can be selected.

室温25℃においてせん断速度20〔1/s〕で測定した時の導電性ペースト及び/又は絶縁性ペーストの粘度の下限値は、例えば、1Pa・s以上であり、好ましくは5Pa・s以上であり、より好ましくは10Pa・s以上である。これにより、成膜性を向上させることができる。また、厚膜形成時においても形状保持性を高めることができる。一方で、室温25℃における導電性ペースト及び/又は絶縁性ペーストの粘度の上限値は、例えば、100Pa・s以下であり、好ましくは90Pa・s以下であり、より好ましくは80Pa・s以下である。これにより、ペーストにおける印刷性を向上させることができる。 The lower limit of the viscosity of the conductive paste and / or the insulating paste when measured at a room temperature of 25 ° C. and a shear rate of 20 [1 / s] is, for example, 1 Pa · s or more, preferably 5 Pa · s or more. , More preferably 10 Pa · s or more. Thereby, the film forming property can be improved. In addition, the shape retention can be improved even when a thick film is formed. On the other hand, the upper limit of the viscosity of the conductive paste and / or the insulating paste at room temperature of 25 ° C. is, for example, 100 Pa · s or less, preferably 90 Pa · s or less, and more preferably 80 Pa · s or less. .. Thereby, the printability in the paste can be improved.

室温25℃において、せん断速度1〔1/s〕で測定した時の粘度をη1とし、せん断速度5〔1/s〕で測定した時の粘度をη5とし、チキソ指数を粘度比(η1/η5)とする。
このとき、導電性ペースト及び/又は絶縁性ペーストのチキソ指数の下限値は、例えば、1.0以上であり、好ましくは1.1以上であり、より好ましくは1.2以上である。これにより、印刷法で得られた配線の形状を安定的に保持することができる。一方で、導電性ペースト及び/又は絶縁性ペーストのチキソ指数の上限値は、例えば、3.0以下であり、好ましくは2.5以下であり、より好ましくは2.0以下である。これにより、ペーストの印刷容易性を向上させることができる。
At room temperature 25 ° C., the viscosity when measured at a shear rate of 1 [1 / s] is η1, the viscosity when measured at a shear rate of 5 [1 / s] is η5, and the viscosity index is the viscosity ratio (η1 / η5). ).
At this time, the lower limit of the thixotropic index of the conductive paste and / or the insulating paste is, for example, 1.0 or more, preferably 1.1 or more, and more preferably 1.2 or more. As a result, the shape of the wiring obtained by the printing method can be stably maintained. On the other hand, the upper limit of the thixotropic index of the conductive paste and / or the insulating paste is, for example, 3.0 or less, preferably 2.5 or less, and more preferably 2.0 or less. This makes it possible to improve the printability of the paste.

絶縁性ペースト中におけるシリコーンゴム系硬化性組成物の含有量は、絶縁性ペースト100質量%中、10質量%以上であることが好ましく、15質量%以上であることがより好ましく、20質量%以上であることがさらに好ましい。また、絶縁性ペースト中におけるシリコーンゴム系硬化性組成物の含有量は、絶縁性ペースト100質量%中、50質量%以下であることが好ましく、40質量%以下であることがより好ましく、35質量%以下であることがさらに好ましい。 The content of the silicone rubber-based curable composition in the insulating paste is preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and 20% by mass or more in 100% by mass of the insulating paste. Is more preferable. The content of the silicone rubber-based curable composition in the insulating paste is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and 35% by mass in 100% by mass of the insulating paste. It is more preferably% or less.

(導電性フィラー)
導電性フィラーとしては、公知の導電材料を用いてもよいが、金属粉(G)を用いてもよい。。
金属粉(G)を構成する金属は特に限定はされないが、例えば、銅、銀、金、ニッケル、錫、鉛、亜鉛、ビスマス、アンチモン、或いはこれらを合金化した金属粉のうち少なくとも一種類、あるいは、これらのうちの二種以上を含むことができる。
これらのうち、金属粉(G)としては、導電性の高さや入手容易性の高さから、銀または銅を含むこと、すなわち、銀粉または銅粉を含むことが好ましい。
なお、これらの金属粉(G)は他種金属でコートしたものも使用できる。
(Conductive filler)
As the conductive filler, a known conductive material may be used, but metal powder (G) may be used. ..
The metal constituting the metal powder (G) is not particularly limited, but for example, copper, silver, gold, nickel, tin, lead, zinc, bismuth, antimon, or at least one kind of metal powder alloyed with these. Alternatively, two or more of these can be included.
Of these, the metal powder (G) preferably contains silver or copper, that is, silver powder or copper powder, because of its high conductivity and high availability.
As these metal powders (G), those coated with other kinds of metals can also be used.

本実施形態において、金属粉(G)の形状には制限がないが、樹枝状、球状、リン片状等の従来から用いられているものが使用できる。この中でも、リン片状の金属粉(G)を用いてもよい。 In the present embodiment, the shape of the metal powder (G) is not limited, but conventionally used metal powders (G) such as dendritic, spherical, and flaky can be used. Among these, phosphorus flake-shaped metal powder (G) may be used.

また、金属粉(G)の粒径も制限されないが、たとえば平均粒径D50で0.001μm以上であることが好ましく、より好ましくは0.01μm以上であり、さらに好ましくは0.1μm以上である。金属粉(G)の粒径は、たとえば平均粒径D50で1,000μm以下であることが好ましく、より好ましくは100μm以下であり、さらに好ましくは20μm以下である。
平均粒径D50をこのような範囲に設定することで、シリコーンゴムとして適度な導電性を発揮することができる。
なお、金属粉(G)の粒径は、たとえば、導電性ペースト、あるいは導電性ペーストを用いて成形したシリコーンゴムについて透過型電子顕微鏡等で観察の上、画像解析を行い、任意に選んだ金属粉200個の平均値として定義することができる。
Further, the particle size of the metal powder (G) is not limited, but for example, the average particle size D50 is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, still more preferably 0.1 μm or more. be. The particle size of the metal powder (G) is, for example, preferably 1,000 μm or less, more preferably 100 μm or less, and further preferably 20 μm or less with an average particle size D50 .
By setting the average particle size D 50 in such a range, it is possible to exhibit appropriate conductivity as a silicone rubber.
The particle size of the metal powder (G) is determined by, for example, observing a conductive paste or a silicone rubber formed by using the conductive paste with a transmission electron microscope or the like, performing image analysis, and arbitrarily selecting a metal. It can be defined as the average value of 200 pieces of flour.

導電性ペースト中における導電性フィラーの含有量は、導電性ペーストの全体に対して、30質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましく、50質量%以上であることがさらに好ましい。また、導電性ペースト中における導電性フィラーの含有量は、導電性ペーストの全体に対して、85質量%以下であることが好ましく、75質量%以下であることがより好ましく、65質量%以下であることがさらに好ましい。
導電性フィラーの含有量を上記下限値以上とすることにより、シリコーンゴムが適度な導電特性を持つことができる。また、導電性フィラーの含有量を上記上限値以下とすることにより、シリコーンゴムが適度な柔軟性を持つことができる。
The content of the conductive filler in the conductive paste is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more with respect to the whole of the conductive paste. Is even more preferable. The content of the conductive filler in the conductive paste is preferably 85% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and 65% by mass or less with respect to the whole of the conductive paste. It is more preferable to have.
By setting the content of the conductive filler to the above lower limit value or more, the silicone rubber can have an appropriate conductive property. Further, by setting the content of the conductive filler to the above upper limit value or less, the silicone rubber can have appropriate flexibility.

導電性ペースト中におけるシリカ粒子(C)の含有量の下限値は、シリカ粒子(C)および導電性フィラーの合計量100質量%に対して、例えば、1質量%以上であり、好ましくは3質量%以上であり、より好ましくは5質量%以上とすることができる。これにより、シリコーンゴムの機械的強度を向上させることができる。一方で、上記導電性ペースト中における上記シリカ粒子(C)の含有量の上限値は、シリカ粒子(C)および導電性フィラーの合計量100質量%に対して、例えば、20質量%以下であり、好ましくは15質量%以下であり、より好ましくは10質量%以下である。これにより、シリコーンゴムにおける伸縮電気特性と機械的強度のバランスを図ることができる。 The lower limit of the content of the silica particles (C) in the conductive paste is, for example, 1% by mass or more, preferably 3% by mass, based on 100% by mass of the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler. % Or more, more preferably 5% by mass or more. Thereby, the mechanical strength of the silicone rubber can be improved. On the other hand, the upper limit of the content of the silica particles (C) in the conductive paste is, for example, 20% by mass or less with respect to 100% by mass of the total amount of the silica particles (C) and the conductive filler. It is preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less. This makes it possible to balance the elastic electrical characteristics and the mechanical strength of the silicone rubber.

導電性ペースト中におけるシリコーンゴム系硬化性組成物の含有量は、導電性ペースト100質量%中、1質量%以上であることが好ましく、3質量%以上であることがより好ましく、5質量%以上であることがさらに好ましい。また、導電性ペースト/絶縁性ペースト中におけるシリコーンゴム系硬化性組成物の含有量は、導電性ペースト/絶縁性ペースト全体に対して、25質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、15質量%以下であることがさらに好ましい。
シリコーンゴム系硬化性組成物の含有量を上記下限値以上とすることにより、シリコーンゴムが適度な柔軟性を持つことができる。また、シリコーンゴム系硬化性組成物の含有量を上記上限値以下とすることにより、シリコーンゴムの機械的強度の向上を図ることができる。
The content of the silicone rubber-based curable composition in the conductive paste is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass or more in 100% by mass of the conductive paste. Is more preferable. The content of the silicone rubber-based curable composition in the conductive paste / insulating paste is preferably 25% by mass or less, preferably 20% by mass or less, based on the entire conductive paste / insulating paste. It is more preferably present, and further preferably 15% by mass or less.
By setting the content of the silicone rubber-based curable composition to the above lower limit value or more, the silicone rubber can have appropriate flexibility. Further, by setting the content of the silicone rubber-based curable composition to the above upper limit value or less, the mechanical strength of the silicone rubber can be improved.

次に、本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイス100の製造工程について説明する。 Next, the manufacturing process of the flexible telescopic heater device 100 of the present embodiment will be described.

本実施形態の柔軟伸縮ヒータデバイスは、伸縮性基板10を形成する工程と、伸縮性基板10の上に伸縮性ヒータ配線20を形成する工程とを含む。 The flexible telescopic heater device of the present embodiment includes a step of forming the stretchable substrate 10 and a step of forming the stretchable heater wiring 20 on the stretchable substrate 10.

ここで、柔軟伸縮ヒータデバイス100の製造工程の一例について図4を用いて説明する。
図4は、柔軟伸縮ヒータデバイス100の製造工程の概略を示す断面図である。
Here, an example of the manufacturing process of the flexible telescopic heater device 100 will be described with reference to FIG.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an outline of a manufacturing process of the flexible telescopic heater device 100.

まず、図4(a)に示すように、作業台11上に支持体120を設置し、その支持体12上に絶縁性ペースト13を塗工する。塗工方法としては、各種の方法を用いることができるが、例えば、スキージ14を用いたスキージ方法などの印刷法を用いることができる。続いて、塗膜状の絶縁性ペースト13を乾燥させて、支持体12上に絶縁層32(絶縁性エラストマーで構成される伸縮性基板10)を形成することができる。乾燥条件は、絶縁性ペースト13中の溶剤の種類や量に応じて適宜設定することができるが、例えば、乾燥温度を150℃~180℃、乾燥時間を1分~30分等とすることができる。 First, as shown in FIG. 4A, the support 120 is installed on the workbench 11, and the insulating paste 13 is applied onto the support 12. As the coating method, various methods can be used, and for example, a printing method such as a squeegee method using the squeegee 14 can be used. Subsequently, the coating-like insulating paste 13 can be dried to form an insulating layer 32 (stretchable substrate 10 made of an insulating elastomer) on the support 12. The drying conditions can be appropriately set according to the type and amount of the solvent in the insulating paste 13, and for example, the drying temperature may be 150 ° C. to 180 ° C., the drying time may be 1 minute to 30 minutes, or the like. can.

なお、伸縮性基板10を構成する絶縁層32は、上記シリコーンゴム系硬化性組成物を用い、カレンダー成形やコンプレッション成形などの成形方法にて形成されてもよい。 The insulating layer 32 constituting the elastic substrate 10 may be formed by a molding method such as calendar molding or compression molding using the above-mentioned silicone rubber-based curable composition.

続いて、図4(b)に示すように、絶縁層32上に、所定の開口パターン形状を有するマスク16を配置する。そして、図4(b)、(c)に示すように、マスク16を介して、絶縁層32上に導電性ペースト15を塗工する。
塗工方法は、絶縁性ペースト13の塗工方法と同様の手法を用いることができ、例えば、スキージ14によるスキージ印刷を用いてもよい。
ここで、絶縁性ペースト13および導電性ペースト15がそれぞれシリコーンゴム系硬化性組成物を含む場合、乾燥した絶縁層32上に、所定のパターン形状を有する導電性塗膜(導電層52)を積層した後、これらを一括して硬化処理してもよい。硬化処理としては、シリコーンゴム系硬化性組成物に応じて適宜設定できるが、例えば、硬化温度を160℃~220℃、硬化時間を1時間~3時間等とすることができる。硬化処理後または硬化処理前に、図4(d)に示すように、マスク16を取り外すことができる。これにより、絶縁層32の硬化物で構成される伸縮性基板10上に、所定のパターン形状を有する、導電層52の硬化物(導電性エラストマーで構成される伸縮性ヒータ配線20)を形成することができる。
以上により、図1に示す柔軟伸縮ヒータデバイス100が得られる。
Subsequently, as shown in FIG. 4B, a mask 16 having a predetermined opening pattern shape is arranged on the insulating layer 32. Then, as shown in FIGS. 4 (b) and 4 (c), the conductive paste 15 is applied onto the insulating layer 32 via the mask 16.
As the coating method, the same method as the coating method of the insulating paste 13 can be used, and for example, squeegee printing with the squeegee 14 may be used.
Here, when the insulating paste 13 and the conductive paste 15 each contain a silicone rubber-based curable composition, a conductive coating film (conductive layer 52) having a predetermined pattern shape is laminated on the dried insulating layer 32. After that, these may be collectively cured. The curing treatment can be appropriately set depending on the silicone rubber-based curable composition, and for example, the curing temperature can be 160 ° C. to 220 ° C., the curing time can be 1 hour to 3 hours, or the like. As shown in FIG. 4D, the mask 16 can be removed after the curing treatment or before the curing treatment. As a result, the cured product of the conductive layer 52 (elastic heater wiring 20 composed of the conductive elastomer) having a predetermined pattern shape is formed on the elastic substrate 10 made of the cured product of the insulating layer 32. be able to.
As a result, the flexible telescopic heater device 100 shown in FIG. 1 is obtained.

また、図4(e)に示すように、絶縁層32およびパターン状の導電層52の上に、さらに絶縁性ペースト17を塗工し、図4(f)に示すように絶縁層72(絶縁性エラストマーで構成される絶縁保護層60)を形成することができる。
以上により、図2(c)に示す柔軟伸縮ヒータデバイス100が得られる。
Further, as shown in FIG. 4 (e), the insulating paste 17 is further coated on the insulating layer 32 and the patterned conductive layer 52, and the insulating layer 72 (insulation) is further applied as shown in FIG. 4 (f). An insulating protective layer 60) made of a sex elastomer can be formed.
As a result, the flexible telescopic heater device 100 shown in FIG. 2C is obtained.

その後、図4(b)から図4(e)の工程を適宜、繰り返してもよい。これにより、導電性エラストマーで構成される上部配線150及び絶縁性エラストマーで構成される上部絶縁層160等を形成し、回路の多層化が可能になる。また、マスクパターンやその配置位置を調整することで、伸縮性ヒータ配線20の配線デザインを変更可能である。
なお、繰り返し工程は、絶縁層32から支持体120を分離した後に行ってもよい。
After that, the steps of FIGS. 4 (b) to 4 (e) may be repeated as appropriate. As a result, the upper wiring 150 made of the conductive elastomer, the upper insulating layer 160 made of the insulating elastomer, and the like are formed, and the circuit can be multi-layered. Further, the wiring design of the elastic heater wiring 20 can be changed by adjusting the mask pattern and its arrangement position.
The repeating step may be performed after separating the support 120 from the insulating layer 32.

伸縮性ヒータ配線20を構成する導電性ペーストを硬化させた導電硬化物中の導電性フィラーの含有量の下限は、導電硬化物100質量%中、例えば、65質量%以上、好ましくは70質量%以上、より好ましくは75質量%以上である。これにより、伸縮電気特性を高められる。一方、伸縮性ヒータ配線20中の導電性フィラーの含有量の上限は、導伸縮性ヒータ配線20の100質量%中、例えば、95質量%以下、好ましくは90質量%以下、より好ましくは85質量%以下である。これにより、伸縮性などのゴム特性の低下を抑制できる。 The lower limit of the content of the conductive filler in the conductive cured product obtained by curing the conductive paste constituting the elastic heater wiring 20 is, for example, 65% by mass or more, preferably 70% by mass in 100% by mass of the conductive cured product. As mentioned above, it is more preferably 75% by mass or more. As a result, the telescopic electrical characteristics can be enhanced. On the other hand, the upper limit of the content of the conductive filler in the elastic heater wiring 20 is, for example, 95% by mass or less, preferably 90% by mass or less, more preferably 85% by mass in 100% by mass of the conductive elastic heater wiring 20. % Or less. This makes it possible to suppress deterioration of rubber properties such as elasticity.

本実施形態では、たとえばシリコーンゴム系硬化性組成物中に含まれる各成分の種類や配合量、シリコーンゴム系硬化性組成物の調製方法等を適切に選択することにより、上記硬度、引張強度、破断伸び、及び引裂強度を制御することが可能である。これらの中でも、たとえば、シリコーンゴムを構成する樹脂の種類や配合比率、樹脂の架橋密度や架橋構造等を適切に制御すること、無機充填材の配合比率や無機充填材のゴムとの結合を向上させること、具体的には、ビニル基含有量が0.4モル%超えの第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)を使用せず、分子内の末端のみに2個のビニル基を有するビニル基量が0.4モル%以下の第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を使用すること、ビニル基を有するシランカップリング剤を使用すること、シリカ粒子(C)の含有量やシランカップリング剤の含有量を適当に調整すること等が、上記硬度、引張強度、破断伸び、及び引裂強度を所望の数値範囲とするための要素として挙げられる。 In the present embodiment, for example, by appropriately selecting the type and blending amount of each component contained in the silicone rubber-based curable composition, the method for preparing the silicone rubber-based curable composition, and the like, the above-mentioned hardness, tensile strength, and the like can be obtained. It is possible to control the breaking elongation and the tear strength. Among these, for example, the type and blending ratio of the resin constituting the silicone rubber, the cross-linking density of the resin, the cross-linking structure, etc. are appropriately controlled, and the blending ratio of the inorganic filler and the bond of the inorganic filler with the rubber are improved. In particular, do not use a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2) having a vinyl group content of more than 0.4 mol%, and use only two at the ends of the molecule. Use the first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) having a vinyl group of 0.4 mol% or less, and use a silane coupling agent having a vinyl group. , Appropriate adjustment of the content of the silica particles (C) and the content of the silane coupling agent, etc. are mentioned as factors for setting the hardness, tensile strength, breaking elongation, and tear strength within the desired numerical ranges. Be done.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。また、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and modifications, improvements, and the like to the extent that the object of the present invention can be achieved are included in the present invention.

以下、本発明について実施例を参照して詳細に説明するが、本発明は、これらの実施例の記載に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the description of these Examples.

表1に示す原料成分を以下に示す。
(A1-1):第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン:下記の合成スキーム1により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(上記式(1-1)で表わされる構造)
(A1-2):第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン:下記の合成スキーム2により合成したビニル基含有ジメチルポリシロキサン(上記式(1-1)で表わされる構造でRおよびRがビニル基である構造)
The raw material components shown in Table 1 are shown below.
(A1-1): First vinyl group-containing linear organopolysiloxane: Vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized by the following synthesis scheme 1 (structure represented by the above formula (1-1)).
(A1-2): Second vinyl group-containing linear organopolysiloxane: Vinyl group-containing dimethylpolysiloxane synthesized by the following synthesis scheme 2 ( R1 and R having a structure represented by the above formula (1-1)). Structure in which 2 is a vinyl group)

(オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B))
(B-1):オルガノハイドロジェンポリシロキサン:モメンティブ社製、「TC-25D」
(Organohydrogenpolysiloxane (B))
(B-1): Organohydrogenpolysiloxane: "TC-25D" manufactured by Momentive Co., Ltd.

(シリカ粒子(C))
(C):シリカ微粒子(粒径7nm、比表面積300m/g)、日本アエロジル社製、「AEROSIL300」
(Silica particles (C))
(C): Silica fine particles (particle size 7 nm, specific surface area 300 m 2 / g), manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., "AEROSIL300"

(シランカップリング剤(D))
(D-1):ヘキサメチルジシラザン(HMDZ)、Gelest社製、「HEXAMETHYLDISILAZANE(SIH6110.1)」
(D-2)ジビニルテトラメチルジシラザン、Gelest社製、「1,3-DIVINYLTETRAMETHYLDISILAZANE(SID4612.0)」
(Silane Coupling Agent (D))
(D-1): Hexamethyldisilazane (HMDZ), manufactured by Gelest, "HEXAMETHYLDISILAZANE (SIH6110.1)".
(D-2) Divinyltetramethyldisilazane, manufactured by Gelest, "1,3-DIVINYLTRAMETHYLDISILAZANE (SID4612.0)"

(白金または白金化合物(E))
(E-1):白金化合物 (モメンティブ社製、商品名「TC―25A」)
(Platinum or platinum compound (E))
(E-1): Platinum compound (manufactured by Momentive, trade name "TC-25A")

(水(F))
(F):純水
(Water (F))
(F): Pure water

(金属粉(G))
(G1):銀粉、徳力化学研究所社製、商品名「TC-101」、メジアン径d50:8.0μm、アスペクト比16.4、平均長径4.6μm
(Metal powder (G))
(G1): Silver powder, manufactured by Tokuriki Kagaku Kenkyusho, trade name "TC-101", median diameter d 50 : 8.0 μm, aspect ratio 16.4, average major axis 4.6 μm

(ビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)の合成)
[合成スキーム1:第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)の合成]
下記式(5)にしたがって、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を合成した。
すなわち、Arガス置換した、冷却管および攪拌翼を有する300mLセパラブルフラスコに、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)、カリウムシリコネート0.1gを入れ、昇温し、120℃で30分間攪拌した。なお、この際、粘度の上昇が確認できた。
その後、155℃まで昇温し、3時間攪拌を続けた。そして、3時間後、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン0.1g(0.6mmol)を添加し、さらに、155℃で4時間攪拌した。
さらに、4時間後、トルエン250mLで希釈した後、水で3回洗浄した。洗浄後の有機層をメタノール1.5Lで数回洗浄することで、再沈精製し、オリゴマーとポリマーを分離した。得られたポリマーを60℃で一晩減圧乾燥し、第1のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-1)を得た(Mn=2,2×10、Mw=4,8×10)。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.04モル%であった。
(Synthesis of vinyl group-containing organopolysiloxane (A))
[Synthesis scheme 1: Synthesis of first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1)]
The first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) was synthesized according to the following formula (5).
That is, 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane and 0.1 g of potassium silicate were placed in a 300 mL separable flask having a cooling tube and a stirring blade substituted with Ar gas, heated, and heated at 120 ° C. for 30 minutes. Stirred. At this time, an increase in viscosity was confirmed.
Then, the temperature was raised to 155 ° C., and stirring was continued for 3 hours. Then, after 3 hours, 0.1 g (0.6 mmol) of 1,3-divinyltetramethyldisiloxane was added, and the mixture was further stirred at 155 ° C. for 4 hours.
After 4 hours, it was diluted with 250 mL of toluene and then washed 3 times with water. The organic layer after washing was washed with 1.5 L of methanol several times for reprecipitation purification, and the oligomer and the polymer were separated. The obtained polymer was dried under reduced pressure at 60 ° C. overnight to obtain a first vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-1) ( Mn = 2,2 × 105, Mw = 4.8 ×). 10 5 ). The vinyl group content calculated by 1 H-NMR spectrum measurement was 0.04 mol%.

Figure 2022078683000006
Figure 2022078683000006

[合成スキーム2:第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)の合成]
上記(A1-1)の合成工程において、オクタメチルシクロテトラシロキサン74.7g(252mmol)に加えて2,4,6,8-テトラメチル2,4,6,8-テトラビニルシクロテトラシロキサン0.86g(2.5mmol)を用いたこと以外は、(A1-1)の合成工程と同様にすることで、下記式(6)のように、第2のビニル基含有直鎖状オルガノポリシロキサン(A1-2)を合成した。また、H-NMRスペクトル測定により算出したビニル基含有量は0.92モル%であった。
[Synthesis scheme 2: Synthesis of second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (A1-2)]
In the above synthesis step (A1-1), in addition to 74.7 g (252 mmol) of octamethylcyclotetrasiloxane, 2,4,6,8-tetramethyl 2,4,6,8-tetravinylcyclotetrasiloxane 0. By performing the same as the synthesis step of (A1-1) except that 86 g (2.5 mmol) was used, a second vinyl group-containing linear organopolysiloxane (as shown in the following formula (6)) ( A1-2) was synthesized. The vinyl group content calculated by 1 H-NMR spectrum measurement was 0.92 mol%.

Figure 2022078683000007
Figure 2022078683000007

(シリコーンゴム系硬化性組成物の調製)
以下の手順に従って、サンプル1~3のシリコーンゴム系硬化性組成物を調整した。
まず、下記の表1に示す割合で、90%のビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)、シランカップリング剤(D)および水(F)の混合物を予め混練し、その後、混合物にシリカ粒子(C)を加えてさらに混練し、混練物(シリコーンゴムコンパウンド)を得た。
ここで、シリカ粒子(C)添加後の混練は、カップリング反応のために窒素雰囲気下、60~90℃の条件下で1時間混練する第1ステップと、副生成物(アンモニア)の除去のために減圧雰囲気下、160~180℃の条件下で2時間混練する第2ステップとを経ることで行い、その後、冷却し、残り10%のビニル基含有オルガノポリシロキサン(A)を2回に分けて添加し、20分間混練した。
続いて、下記の表2に示す割合で、得られた混練物(シリコーンゴムコンパウンド)100重量部に、オルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)、白金または白金化合物(E)を加えて、ロールで混練し、シリコーンゴム系硬化性組成物を得た。
(Preparation of silicone rubber-based curable composition)
The silicone rubber-based curable composition of Samples 1 to 3 was prepared according to the following procedure.
First, a mixture of 90% vinyl group-containing organopolysiloxane (A), silane coupling agent (D) and water (F) is kneaded in advance at the ratio shown in Table 1 below, and then silica particles (silica particles ()) are added to the mixture. C) was added and further kneaded to obtain a kneaded product (silicone rubber compound).
Here, the kneading after the addition of the silica particles (C) is carried out in the first step of kneading under a nitrogen atmosphere at 60 to 90 ° C. for 1 hour for the coupling reaction, and the removal of the by-product (ammonia). Therefore, it is carried out by going through the second step of kneading under a reduced pressure atmosphere under the condition of 160 to 180 ° C. for 2 hours, and then cooling, and the remaining 10% of the vinyl group-containing organopolysiloxane (A) is added twice. It was added separately and kneaded for 20 minutes.
Subsequently, organohydrogenpolysiloxane (B), platinum or platinum compound (E) was added to 100 parts by weight of the obtained kneaded product (silicone rubber compound) at the ratio shown in Table 2 below, and kneaded with a roll. Then, a silicone rubber-based curable composition was obtained.

(絶性ペーストの調製)
得られた32重量部のサンプル4のシリコーンゴム系硬化性組成物を、68重量部のテトラデカン(溶剤)に浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌することで、絶性ペーストを得た。
(Preparation of extinct paste)
The obtained 32 parts by weight of the silicone rubber-based curable composition of Sample 4 was immersed in 68 parts by weight of tetradecane (solvent), and subsequently stirred with a rotation / revolution mixer to obtain an extinct paste.

(導電性ペーストの調製)
得られた13.7重量部のサンプル5のシリコーンゴム系硬化性組成物を、31.8重量部のテトラデカン(溶剤)に浸漬し、続いて自転・公転ミキサーで撹拌し、54.5重量部の金属粉(G1)を加えた後に三本ロールで混練することで、導電性ペースト1を得た。
(Preparation of conductive paste)
The obtained 13.7 parts by weight of the silicone rubber-based curable composition of Sample 5 was immersed in 31.8 parts by weight of tetradecane (solvent), and subsequently stirred with a rotation / revolution mixer to 54.5 parts by weight. The conductive paste 1 was obtained by adding the metal powder (G1) of No. 1 and kneading with three rolls.

Figure 2022078683000008
Figure 2022078683000008

(柔軟伸縮ヒータデバイスの作製)
得られたサンプル1~3のシリコーンゴム系硬化性組成物を用いて、170℃、10MPaで10分間プレスし、厚み:150μmのシート状に成形すると共に、一次硬化した。続いて、200℃、4時間で二次硬化して、シート状シリコーンゴム(シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物)を得た。得られたシート状シリコーンゴムを幅:10cm×長さ10cmに切り出し、伸縮性基板と絶縁保護層とを2枚作製した。
得られた導電性ペースト1を用い、所定パターンを有するマスクを介して、幅:2mm、長さ:980mm、厚み:0.1mmの波線形状の伸縮性ヒータ配線を伸縮性基板上に描き、伸縮性ヒータ配線の両端部に15mm×12mmの四角形状の外部接続部を描き、140℃20分で乾燥し、180℃2時間で硬化した。
さらに、伸縮性ヒータ配線の表面上にもう1枚の絶縁保護層を重ね、外部接続部上の絶縁保護層を貫通する金属製のオス型スナップボタンを2個設置した。
以上により、実施例1~3の柔軟伸縮性ヒータデバイスを得た。
(Manufacturing of flexible telescopic heater device)
Using the obtained silicone rubber-based curable compositions of Samples 1 to 3, they were pressed at 170 ° C. and 10 MPa for 10 minutes to form a sheet having a thickness of 150 μm, and were first cured. Subsequently, it was secondarily cured at 200 ° C. for 4 hours to obtain a sheet-shaped silicone rubber (a cured product of a silicone rubber-based curable composition). The obtained sheet-shaped silicone rubber was cut into a width of 10 cm and a length of 10 cm to prepare two elastic substrates and an insulating protective layer.
Using the obtained conductive paste 1, a wavy line-shaped elastic heater wiring having a width of 2 mm, a length of 980 mm, and a thickness of 0.1 mm is drawn on an elastic substrate through a mask having a predetermined pattern, and is expanded and contracted. A 15 mm × 12 mm square external connection portion was drawn on both ends of the sex heater wiring, dried at 140 ° C. for 20 minutes, and cured at 180 ° C. for 2 hours.
Further, another insulating protective layer was superposed on the surface of the elastic heater wiring, and two metal male snap buttons penetrating the insulating protective layer on the external connection portion were installed.
From the above, the flexible stretchable heater device of Examples 1 to 3 was obtained.

得られた柔軟伸縮ヒータデバイスについて、以下の項目を評価した。結果を表2に示す。 The following items were evaluated for the obtained flexible telescopic heater device. The results are shown in Table 2.

Figure 2022078683000009
Figure 2022078683000009

(硬度)
基板に用いたサンプル3のシリコーンゴム系硬化性組成物を170℃、10MPaで10分間プレスし、シート状に成形すると共に、一次硬化した。続いて、200℃、4時間で二次硬化して、厚み:150μmのシート状の基板(シリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物)を試験片として用いた。
上記試験片を厚さ6mmになるように積層し、JIS K6253(1997)に準拠して、25℃における、得られたシート状試験片のデュロメータ硬さAを測定した。
(引裂強度)
上記試験片を用いて、JIS K6252(2001)に準拠して、25℃における引裂強度を測定した。単位はN/mmである。
(引張強度)
上記試験片を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、25℃における引張強度を測定した。単位はMPaである。
(破断伸び)
上記試験片を用いて、JIS K6251(2004)に準拠して、破断伸びを測定した。破断伸びは、[チャック間移動距離(mm)]÷[初期チャック間距離(35mm)]×100で計算した。単位は%である。
(hardness)
The silicone rubber-based curable composition of Sample 3 used for the substrate was pressed at 170 ° C. and 10 MPa for 10 minutes to form a sheet and first cured. Subsequently, it was secondarily cured at 200 ° C. for 4 hours, and a sheet-like substrate (cured product of a silicone rubber-based curable composition) having a thickness of 150 μm was used as a test piece.
The test pieces were laminated so as to have a thickness of 6 mm, and the durometer hardness A of the obtained sheet-shaped test pieces at 25 ° C. was measured according to JIS K6253 (1997).
(Tear strength)
Using the above test piece, the tear strength at 25 ° C. was measured according to JIS K6252 (2001). The unit is N / mm.
(Tensile strength)
Using the above test piece, the tensile strength at 25 ° C. was measured according to JIS K6251 (2004). The unit is MPa.
(Breaking elongation)
Using the above test piece, the elongation at break was measured according to JIS K6251 (2004). The breaking elongation was calculated by [moving distance between chucks (mm)] ÷ [initial distance between chucks (35 mm)] × 100. The unit is%.

(抵抗値、体積抵抗率)
各実施例の柔軟伸縮ヒータデバイスを用いて、25℃環境下、未伸長時、又はヒータ配線の延在方向に50%伸長させた状態で、未伸長領域、又は伸長領域におけるヒータ配線間の抵抗値、体積抵抗率を測定した。実施例1において、25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線の抵抗値(R1)が11Ω、25℃、50%伸長時における伸縮性ヒータ配線の抵抗値(R2)が36Ω、R2/R1が3.3、25℃、未伸長時における伸縮性ヒータ配線の体積抵抗率が2.4×10-4Ω・cmであった。
(Resistance value, volume resistivity)
Using the flexible telescopic heater device of each embodiment, the resistance between the heater wirings in the unstretched region or the stretched region in a 25 ° C environment, when unstretched, or in a state where the heater wiring is stretched by 50% in the extending direction. The value and volume resistivity were measured. In Example 1, the resistance value (R1) of the stretchable heater wiring at 25 ° C. and unstretched is 11Ω, the resistance value (R2) of the stretchable heater wiring at 25 ° C. and 50% stretching is 36Ω, and R2 / R1. The volume resistivity of the elastic heater wiring at 3.3, 25 ° C. and unstretched was 2.4 × 10 -4 Ω · cm.

(水分量変化率)
各実施例の柔軟伸縮ヒータデバイスに使用した伸縮性基板について、水暴露処理前の重量(W1)を測定し、その後、40℃の蒸留水に120分の浸漬させる条件で水暴露処理した後の伸縮性基板の重量(W2)を測定した。得られたW1、W2を用いて、式:(W2-W1)/W1*100を用いて、水分量変化率を算出した。
(Rate of change in water content)
The weight (W1) of the stretchable substrate used in the flexible telescopic heater device of each embodiment was measured before the water exposure treatment, and then the water exposure treatment was performed under the condition of immersing the stretchable substrate in distilled water at 40 ° C. for 120 minutes. The weight (W2) of the stretchable substrate was measured. Using the obtained W1 and W2, the rate of change in water content was calculated using the formula: (W2-W1) / W1 * 100.

(発熱特性)
得られた各実施例の柔軟伸縮ヒータデバイスの外部接続部に、オス型スナップボタンを介して、外部電極(ケーブルの端部が装着自在の金属製のメス型スナップボタンを有する)を装着した。この外部電極に、ケーブルを介して電源を電気的に接続した(評価用デバイスA)。
得られた評価用デバイスAを用いて、柔軟伸縮ヒータデバイスに5Vの電圧を印可し、伸縮性ヒータ配線の表面が(12℃/分で)50℃まで発熱することを確認した。
(Heat generation characteristics)
An external electrode (the end of the cable has a removable metal female snap button) was attached to the external connection portion of the obtained flexible telescopic heater device of each embodiment via a male snap button. A power source was electrically connected to this external electrode via a cable (evaluation device A).
Using the obtained evaluation device A, a voltage of 5 V was applied to the flexible telescopic heater device, and it was confirmed that the surface of the stretchable heater wiring generated heat up to 50 ° C. (at 12 ° C./min).

(伸縮耐久性)
上記評価用デバイスAを用いて、柔軟伸縮ヒータデバイスを20%伸長、又は50%伸長する伸長操作を20回繰り返した後、5Vの電圧を印可し、伸縮性ヒータ配線が断線することなく、伸縮性ヒータ配線の表面が(12℃/分で)50℃まで発熱することを確認した。
また、20%伸長、又は50%伸長の条件で繰り返し伸長操作後においても、伸縮性基板と伸縮性ヒータ配線との剥離が生じないことを確認した。
(Expandable durability)
Using the evaluation device A, the flexible telescopic heater device is stretched by 20% or 50% after repeating the stretching operation 20 times, and then a voltage of 5 V is applied to expand and contract the flexible heater wiring without disconnection. It was confirmed that the surface of the sex heater wiring generated heat up to 50 ° C (at 12 ° C / min).
It was also confirmed that the stretchable substrate and the stretchable heater wiring did not peel off even after repeated stretching operations under the conditions of 20% stretching or 50% stretching.

(洗濯耐久性)
・上記で得られた各実施例の柔軟伸縮ヒータデバイスの伸縮性基板のうち伸縮性ヒータ配線が形成されていない周縁部を、ミシンを用いて、糸で布に縫い付けし、評価用デバイスB1を作製した。
・上記(柔軟伸縮ヒータデバイスの作製)において、伸縮性ヒータ配線を描き140℃20分で乾燥した後、その伸縮性ヒータ配線上に、得られた絶縁性ペーストを用いて、厚み0.05mmの絶縁保護層を形成し、140℃20分で乾燥した後に、180℃2時間で硬化して、絶縁保護層付きの柔軟伸縮ヒータデバイスを得た。この絶縁保護層付きの柔軟伸縮ヒータデバイスを用いて、評価用デバイスB1と同様にして、評価用デバイスB2を作製した。
・伸縮性基板に、サンプル3のシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物を用いた以外は、評価用デバイスB2と同様にして、評価用デバイスB3を作製した。
評価用デバイスB1~B3において、縫付処理を施した伸縮性基板の部分の周囲に亀裂などの破損は、確認されなかった。
(Washing durability)
-Of the stretchable substrates of the flexible stretchable heater devices of each of the above obtained examples, the peripheral edge portion where the stretchable heater wiring is not formed is sewn to the cloth with a thread using a sewing machine, and the evaluation device B1 Was produced.
-In the above (manufacturing of a flexible telescopic heater device), after drawing the stretchable heater wiring and drying at 140 ° C. for 20 minutes, the obtained insulating paste is used on the stretchable heater wiring to obtain a thickness of 0.05 mm. An insulating protective layer was formed, dried at 140 ° C. for 20 minutes, and then cured at 180 ° C. for 2 hours to obtain a flexible telescopic heater device with an insulating protective layer. Using this flexible telescopic heater device with an insulating protective layer, the evaluation device B2 was manufactured in the same manner as the evaluation device B1.
-The evaluation device B3 was produced in the same manner as the evaluation device B2 except that the cured product of the silicone rubber-based curable composition of Sample 3 was used for the elastic substrate.
In the evaluation devices B1 to B3, no damage such as cracks was confirmed around the portion of the stretchable substrate that had been sewn.

・洗濯耐性試験:家庭洗濯機を用いて、JIS L1930(C4M法)に準拠し、洗濯・すすぎ1・すすぎ2を行った後、吊り干し乾燥させる試験を、20回繰り返し行う。
洗濯耐性試験前、洗濯耐性試験後の評価用デバイスB1~B3において、20%伸長を100回繰り返したとき、及び50%伸長を100回繰り返したときの、いずれも、伸縮性ヒータ配線の表面が(12℃/分で)50℃まで発熱することを確認した。
-Washing resistance test: Using a home washing machine, in accordance with JIS L1930 (C4M method), after washing, rinsing 1 and rinsing 2, the test of hanging and drying is repeated 20 times.
In the evaluation devices B1 to B3 before the washing resistance test and after the washing resistance test, the surface of the elastic heater wiring was exposed when the 20% elongation was repeated 100 times and when the 50% elongation was repeated 100 times. It was confirmed that heat was generated up to 50 ° C (at 12 ° C / min).

・装着性
上記で得られた各実施例の柔軟伸縮ヒータデバイスの伸縮性基板をミシン糸でTシャツの背中部分に縫い付けした。柔軟伸縮ヒータデバイスが縫い付けられたTシャツを、被験者が脱ぎ着を複数回行った。装着時に柔軟伸縮ヒータデバイスが被験者の背中に追従し、脱着後に柔軟伸縮ヒータデバイスがTシャツから剥離しないことを確認した。
-Wearability The stretchable substrate of the flexible stretchable heater device of each embodiment obtained above was sewn to the back portion of the T-shirt with a sewing thread. The subject took off and put on the T-shirt on which the flexible telescopic heater device was sewn several times. It was confirmed that the flexible telescopic heater device followed the subject's back during wearing and that the flexible telescopic heater device did not peel off from the T-shirt after attachment / detachment.

実施例1~3の柔軟伸縮ヒータデバイスは、伸縮耐久性などに優れる結果を示した。 The flexible telescopic heater devices of Examples 1 to 3 showed excellent results in telescopic durability and the like.

10 伸縮性基板
20 伸縮性ヒータ配線
30 外部接続部
50 外部電極
60 絶縁保護層
100 柔軟伸縮ヒータデバイス
320 制御部
330 入力部
340 通信部
350 電源部
360 記憶部
10 Elastic board 20 Elastic heater wiring 30 External connection 50 External electrode 60 Insulation protective layer 100 Flexible telescopic heater device 320 Control unit 330 Input unit 340 Communication unit 350 Power supply unit 360 Storage unit

Claims (18)

絶縁性エラストマーを含む伸縮性基板と、
前記伸縮性基板上に形成された、導電性エラストマーを含む伸縮性ヒータ配線と、を備える、
柔軟伸縮ヒータデバイス。
An elastic substrate containing an insulating elastomer and
The elastic heater wiring including the conductive elastomer formed on the elastic substrate is provided.
Flexible telescopic heater device.
請求項1に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
前記伸縮性基板の基板厚みが、400μm以下である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to claim 1.
A flexible telescopic heater device having a stretchable substrate having a substrate thickness of 400 μm or less.
請求項1又は2に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、JIS K6252(2001)に準拠して測定される、前記絶縁性エラストマーの引裂強度が、25N/mm以上である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to claim 1 or 2.
A flexible telescopic heater device having a tear strength of 25 N / mm or more of the insulating elastomer measured at 25 ° C. according to JIS K6252 (2001).
請求項1~3のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、JIS K6251(2004)に準拠して測定される、前記絶縁性エラストマーの破断伸びが、500%以上である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 3.
A flexible telescopic heater device having a breaking elongation of the insulating elastomer of 500% or more, measured at 25 ° C. according to JIS K6251 (2004).
請求項1~4のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、JIS K6251(2004)に準拠して測定される、前記絶縁性エラストマーの引張強度が、5.0MPa以上である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 4.
A flexible telescopic heater device having a tensile strength of 5.0 MPa or more of the insulating elastomer measured at 25 ° C. in accordance with JIS K6251 (2004).
請求項1~5のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、JIS K6253(1997)に準拠して測定される、前記絶縁性エラストマーのデュロメータ硬さAが、20以上である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 5.
A flexible telescopic heater device having a durometer hardness A of the insulating elastomer of 20 or more, measured at 25 ° C. according to JIS K6253 (1997).
請求項1~6のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
当該柔軟伸縮ヒータデバイスの断面の一つにおいて、未伸長時の前記伸縮性基板の基板厚みをX、未伸長時の前記伸縮性ヒータ配線の配線厚みをYとしたとき、
X、Yが、0.02≦Y/X≦5を満たすように構成される、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 6.
In one of the cross sections of the flexible telescopic heater device, when the substrate thickness of the stretchable substrate when not stretched is X and the wiring thickness of the stretchable heater wiring when not stretched is Y.
A flexible telescopic heater device in which X and Y are configured to satisfy 0.02 ≦ Y / X ≦ 5.
請求項1~7のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
当該柔軟伸縮ヒータデバイスの断面の一つにおいて、未伸長時の前記伸縮性ヒータ配線の配線厚みをY、その配線幅をZとしたとき、
Y、Zが、0.4≦Z/Y≦250を満たすように構成される、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 7.
In one of the cross sections of the flexible telescopic heater device, when the wiring thickness of the stretchable heater wiring when not extended is Y and the wiring width is Z.
A flexible telescopic heater device in which Y and Z are configured to satisfy 0.4 ≦ Z / Y ≦ 250.
請求項1~8のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
前記絶縁性エラストマーが、ビニル基含有オルガノポリシロキサンを含むシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物で構成され、
前記導電性エラストマーが、導電性フィラーと、ビニル基含有オルガノポリシロキサンを含むシリコーンゴム系硬化性組成物の硬化物とで構成される、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 8.
The insulating elastomer is composed of a cured product of a silicone rubber-based curable composition containing a vinyl group-containing organopolysiloxane.
A flexible telescopic heater device in which the conductive elastomer is composed of a conductive filler and a cured product of a silicone rubber-based curable composition containing a vinyl group-containing organopolysiloxane.
請求項9に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
前記導電性フィラーが、銀粉を含む、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to claim 9.
A flexible telescopic heater device in which the conductive filler contains silver powder.
請求項1~10のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
前記絶縁性エラストマー及び前記導電性エラストマーの少なくとも一方が、非導電性フィラーを含む、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 10.
A flexible telescopic heater device in which at least one of the insulating elastomer and the conductive elastomer contains a non-conductive filler.
請求項1~11のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
前記伸縮性ヒータ配線の表面に絶縁保護層が形成される、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 11.
A flexible telescopic heater device in which an insulating protective layer is formed on the surface of the stretchable heater wiring.
請求項1~12のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、未伸長時における前記伸縮性ヒータ配線の抵抗値が、1Ω以上200Ω以下である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 12.
A flexible telescopic heater device in which the resistance value of the stretchable heater wiring at 25 ° C. and unstretched is 1 Ω or more and 200 Ω or less.
請求項1~13のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、未伸長時における前記伸縮性ヒータ配線の抵抗値をR1とし、25℃、50%伸長時における前記伸縮性ヒータ配線の抵抗値をR2としたとき、
R1、R2が、1≦R2/R1≦10を満たすように構成される、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 13.
When the resistance value of the elastic heater wiring at 25 ° C. and not extended is R1, and the resistance value of the elastic heater wiring at 25 ° C. and 50% extension is R2.
A flexible telescopic heater device in which R1 and R2 are configured to satisfy 1 ≦ R2 / R1 ≦ 10.
請求項1~14のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
25℃、未伸長時における前記伸縮性ヒータ配線の体積抵抗率が、1.0×10-5Ω・cm以上1.0×10Ω・cm以下である、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 14.
A flexible telescopic heater device having a volume resistivity of 1.0 × 10 -5 Ω · cm or more and 1.0 × 10 1 Ω · cm or less at 25 ° C. when unstretched.
請求項1~15のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
水暴露処理前の前記伸縮性基板の重量をW1、40℃で120分の水暴露処理した後の前記伸縮性基板の重量をW2としたとき、
W1、W2が、-3≦(W2-W1)/W1*100≦1を満たすように構成される、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 15.
When the weight of the elastic substrate before the water exposure treatment is W1 and the weight of the elastic substrate after the water exposure treatment at 40 ° C. for 120 minutes is W2.
A flexible telescopic heater device in which W1 and W2 are configured to satisfy -3≤ (W2-W1) / W1 * 100≤1.
請求項1~16のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
身体及び衣服のいずれか一方に装着可能なウェアラブルデバイスである、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 16.
A flexible telescopic heater device that is a wearable device that can be worn on either the body or clothing.
請求項1~17のいずれか一項に記載の柔軟伸縮ヒータデバイスであって、
洗濯可能な、柔軟伸縮ヒータデバイス。
The flexible telescopic heater device according to any one of claims 1 to 17.
Washable, flexible telescopic heater device.
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