JP2013100464A - Conductive silicone composition and method for producing the same - Google Patents

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直樹 山川
Yoshitaka Hamada
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly conductive silicone composition which can be applied for coating, and which is excellent in shape retention after being applied and in storage stability, and to provide a method for producing the same.SOLUTION: An addition-curable conductive silicone composition includes: (A) an organopolysiloxane represented by average composition formula (1): RR'SiO, and containing at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule thereof; (B) an organohydrogenpolysiloxane containing at least two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule thereof; (C) silver powder or silver-plated fine powder particles; (D) conductive fine powder (excluding silver, copper and metals containing them); (E) an addition reaction catalyst; and (F) one or more selected from among fatty acids, fatty acid derivatives and metal salts thereof. The conductive silicone composition can form a cured product, in particular a silicone rubber, giving a high conductivity of 1.0×10Ωcm or less, can be applied for coating, and is excellent in shape retention and storage stability.

Description

本発明は、導電性シリコーンゴム等の導電性シリコーン硬化物を与える導電性シリコーン組成物に関し、特に、高導電性であり、かつ、塗布が可能であり、塗布後(硬化前)の形状保持性に優れた付加硬化型導電性シリコーン組成物、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive silicone composition that gives a conductive silicone cured product such as conductive silicone rubber, and in particular, is highly conductive and can be applied and has shape retention after application (before curing). The present invention relates to an addition-curable conductive silicone composition excellent in the manufacturing method, and a production method thereof.

導電性シリコーンゴム組成物は、硬化した後、導電性に優れたシリコーンゴムとなり、特にシリコーンの特長を発揮できる耐熱性が要求される分野等で使用されている。導電性シリコーンゴム組成物としては、従来一分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンと一分子中に少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンと白金系触媒と銀粉末からなる付加硬化型導電性シリコーンゴム組成物が知られている。高導電性を付与するためのフィラーは還元銀粉末、電解銀粉末、アトマイズ銀粉末、シリカや銅粉に銀メッキコートを施したものが使用されてきた。形状は、球状、扁平状、樹枝状、不定形状等の様々なものがあるが、銀粉末を高充填することができ、高導電率組成物とすることが可能な扁平状の銀粉末が多く使用されている。   The conductive silicone rubber composition, after being cured, becomes a silicone rubber excellent in conductivity, and is used particularly in fields where heat resistance capable of exhibiting the characteristics of silicone is required. As the conductive silicone rubber composition, an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule, an organohydrogenpolysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule, and a platinum catalyst An addition-curable conductive silicone rubber composition comprising silver powder and silver powder is known. As fillers for imparting high conductivity, reduced silver powder, electrolytic silver powder, atomized silver powder, silica or copper powder coated with silver plating has been used. There are various shapes such as a spherical shape, a flat shape, a dendritic shape, and an indefinite shape, but there are many flat silver powders that can be highly filled with silver powder and can have a high conductivity composition. It is used.

しかし、銀粉や銅粉などの金属粉あるいは銀メッキが施されたフィラーを付加硬化型シリコーンゴム組成物に添加すると、白金族触媒に作用して硬化性が悪化したり、経時で硬化しなくなる問題があった。   However, if a metal powder such as silver powder or copper powder or a filler plated with silver is added to the addition-curing silicone rubber composition, it will act on the platinum group catalyst and the curability will deteriorate, or it will not cure over time was there.

また、高導電性シリコーンゴム組成物は主に導体間の電気接続に用いられるが、銀粉を高充填とするために塗布が可能である低粘度のシリコーンゴム組成物を用いる必要があり、ディスペンサーによる塗布やスクリーン印刷をすると形状が崩れてしまうという問題があった。
これらに関する先行文献としては、下記のものが挙げられる。
Moreover, although the highly conductive silicone rubber composition is mainly used for electrical connection between conductors, it is necessary to use a low-viscosity silicone rubber composition that can be applied in order to make silver powder highly filled. There was a problem that the shape collapsed when applied or screen printed.
Examples of prior literature relating to these include the following.

特開昭61−266462号公報JP-A 61-266462 特開平3−170581号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-170581 特開平5−230373号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-230373 特開平7−133432号公報JP-A-7-133432 特開平7−150048号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-150048 特開2000−336273号公報JP 2000-336273 A 特開2002−212426号公報JP 2002-212426 A 特開2004−27087号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-27087 特開2004−176165号公報JP 2004-176165 A 特開2005−162827号公報JP 2005-162827 A 特開2006−328302号公報JP 2006-328302 A 特開2008−303233号公報JP 2008-303233 A

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、塗布が可能で塗布後の形状保持性及び保存安定性に優れた高導電性シリコーン組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a highly conductive silicone composition that can be applied and is excellent in shape retention and storage stability after application, and a method for producing the same.

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、高導電性と形状保持性を両立させるため、高充填された銀粉末による白金触媒の不活性化を抑え、保存安定性に優れた組成物とするために、更に導電性微粉末、並びに脂肪酸、脂肪酸誘導体及びそれらの金属塩から選ばれる1種又は2種以上を添加することが有効であることを見出し、本発明をなすに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have suppressed the deactivation of the platinum catalyst due to the highly filled silver powder in order to achieve both high conductivity and shape retention, and storage stability. In order to obtain an excellent composition, it has been found that it is effective to further add conductive fine powder, and one or more selected from fatty acids, fatty acid derivatives and metal salts thereof. It came to an eggplant.

即ち、本発明は、
(A)下記平均組成式(1)
aR’bSiO(4-a-b)/2 (1)
(式中、Rはアルケニル基、R’は脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基、a、bは、0<a≦2、0<b<3、0<a+b≦3を満たす数である。)
で表される一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(A)成分中の全ケイ素原子結合アルケニル基に対して(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子が0.5〜5.0倍モルとなる量、
(C)銀粉末又は銀メッキされた微粉末粒子:100〜1,500質量部、
(D)導電性微粉末(但し、銀・銅及びそれらを含む金属を除く):0.5〜30質量部、
(E)付加反応触媒:触媒量、及び
(F)脂肪酸、脂肪酸誘導体及びそれらの金属塩から選ばれる1種又は2種以上:0.1〜20質量部
を含有する付加硬化型導電性シリコーン組成物を提供する。
That is, the present invention
(A) The following average composition formula (1)
R a R ' b SiO (4-ab) / 2 (1)
(In the formula, R is an alkenyl group, R ′ is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that does not have an aliphatic unsaturated bond, and a and b are 0 <a ≦ 2, 0 < (b <3, 0 <a + b ≦ 3)
An organopolysiloxane containing an alkenyl group bonded to at least two silicon atoms in one molecule represented by: 100 parts by mass
(B) Organohydrogenpolysiloxane containing hydrogen atoms bonded to at least two silicon atoms in one molecule: (A) all silicon atom-bonded alkenyl groups in component (B) silicon atoms in component (B) The amount of hydrogen atoms bonded to is 0.5 to 5.0 times mol,
(C) Silver powder or silver-plated fine powder particles: 100 to 1,500 parts by mass,
(D) Conductive fine powder (excluding silver and copper and metals containing them): 0.5 to 30 parts by mass,
(E) Addition reaction catalyst: catalytic amount, and (F) one or more selected from fatty acids, fatty acid derivatives and their metal salts: addition curable conductive silicone composition containing 0.1-20 parts by mass Offer things.

この場合、(D)成分としてはカーボンブラックが好ましい。また(B)成分の一部として、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を有すると共に、アルコキシ基及びエポキシ含有基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含有することが好ましく、(F)成分がステアリン酸であることが好ましい。本発明の付加硬化型導電性シリコーン組成物は、E型粘度計による23℃におけるチクソ比(10rpmの粘度/20rpmの粘度)が1.5以上であることが好ましく、本発明組成物の硬化物の導電率が1.0×10-2Ω・cm以下であることが好ましい。
更に、本発明は、上記(A)〜(F)成分を含有する付加硬化型導電性シリコーン組成物を製造するに際し、(E)成分と(F)成分を予め混合したものを他成分と混合する付加硬化型導電性シリコーン組成物の製造方法を提供する。
In this case, carbon black is preferable as the component (D). In addition, as part of the component (B), it is preferable to contain an organohydrogenpolysiloxane having a hydrogen atom bonded to at least two silicon atoms in one molecule and having an alkoxy group and an epoxy-containing group. The component F) is preferably stearic acid. The addition-curable conductive silicone composition of the present invention preferably has a thixotropy ratio (viscosity of 10 rpm / viscosity of 20 rpm) at 23 ° C. by an E-type viscometer of 1.5 or more, and a cured product of the composition of the present invention. The electrical conductivity is preferably 1.0 × 10 −2 Ω · cm or less.
Furthermore, in the present invention, when the addition-curable conductive silicone composition containing the above components (A) to (F) is produced, the components (E) and (F) previously mixed are mixed with other components. A method for producing an addition-curable conductive silicone composition is provided.

本発明の導電性シリコーン組成物は、1.0×10-2Ω・cm以下の高導電率を与える硬化物、特にシリコーンゴムを形成することができ、かつ塗布性が可能で、その形状保持性が良好であり、更には保存安定性も良好なものである。 The conductive silicone composition of the present invention can form a cured product that gives a high conductivity of 1.0 × 10 −2 Ω · cm or less, in particular, a silicone rubber, and can be applied and retains its shape. And the storage stability is also good.

本発明の導電性シリコーン組成物は、
(A)下記平均組成式(1)
aR’bSiO(4-a-b)/2 (1)
(式中、Rはアルケニル基、R’は脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基、a、bは、0<a≦2、0<b<3、0<a+b≦3を満たす数である。)
で表される一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(A)成分中の全ケイ素原子結合アルケニル基に対して(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子が0.5〜5.0倍モルとなる量、
(C)銀粉末又は銀メッキされた微粉末粒子:100〜1,500質量部、
(D)導電性微粉末(但し、銀・銅及びそれらを含む金属を除く):0.5〜30質量部、
(E)付加反応触媒:触媒量、及び
(F)脂肪酸、脂肪酸誘導体及びそれらの金属塩から選ばれる1種又は2種以上:0.1〜20質量部
を含有する。
The conductive silicone composition of the present invention is
(A) The following average composition formula (1)
R a R ' b SiO (4-ab) / 2 (1)
(In the formula, R is an alkenyl group, R ′ is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that does not have an aliphatic unsaturated bond, and a and b are 0 <a ≦ 2, 0 < (b <3, 0 <a + b ≦ 3)
An organopolysiloxane containing an alkenyl group bonded to at least two silicon atoms in one molecule represented by: 100 parts by mass
(B) Organohydrogenpolysiloxane containing hydrogen atoms bonded to at least two silicon atoms in one molecule: (A) all silicon atom-bonded alkenyl groups in component (B) silicon atoms in component (B) The amount of hydrogen atoms bonded to is 0.5 to 5.0 times mol,
(C) Silver powder or silver-plated fine powder particles: 100 to 1,500 parts by mass,
(D) Conductive fine powder (excluding silver and copper and metals containing them): 0.5 to 30 parts by mass,
(E) Addition reaction catalyst: catalyst amount, and (F) 1 type (s) or 2 or more types chosen from a fatty acid, a fatty acid derivative, and those metal salts: 0.1-20 mass parts is contained.

(A)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン
(A)成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンは、下記平均組成式(1)で表され、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するものである。
aR’bSiO(4-a-b)/2 (1)
(式中、Rはアルケニル基、R’は脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基、a、bは、0<a≦2、0<b<3、0<a+b≦3を満たす数である。)
(A) Alkenyl group-containing organopolysiloxane The alkenyl group-containing organopolysiloxane of component (A) is represented by the following average composition formula (1) and contains an alkenyl group bonded to at least two silicon atoms in one molecule. To do.
R a R ' b SiO (4-ab) / 2 (1)
(In the formula, R is an alkenyl group, R ′ is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that does not have an aliphatic unsaturated bond, and a and b are 0 <a ≦ 2, 0 < (b <3, 0 <a + b ≦ 3)

(A)成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンは、この組成物の主剤(ベースポリマー)であり、一分子中に平均2個以上(通常2〜50個)、好ましくは2〜20個、より好ましくは2〜10個程度のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有する。(A)成分のオルガノポリシロキサンのアルケニル基Rとしては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基等が挙げられ、特に、ビニル基であることが好ましい。(A)成分のアルケニル基の結合位置としては、例えば、分子鎖末端及び/又は分子鎖側鎖が挙げられる。   The component (A) alkenyl group-containing organopolysiloxane is the main component (base polymer) of this composition, and an average of 2 or more (usually 2 to 50), preferably 2 to 20, more preferably in one molecule. Contains about 2-10 alkenyl groups bonded to silicon atoms. Examples of the alkenyl group R of the organopolysiloxane (A) include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and a heptenyl group, and a vinyl group is particularly preferable. Examples of the bonding position of the alkenyl group of component (A) include molecular chain terminals and / or molecular chain side chains.

(A)成分のオルガノポリシロキサンにおいて、アルケニル基以外のケイ素原子に結合した有機基R’としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基などが挙げられ、特に、メチル基、フェニル基であることが好ましい。   In the organopolysiloxane of component (A), examples of the organic group R ′ bonded to a silicon atom other than an alkenyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group. Alkyl group; aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group; aralkyl group such as benzyl group, phenethyl group; chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, etc. In particular, a methyl group and a phenyl group are preferable.

このような(A)成分の分子構造としては、例えば、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、環状、分岐鎖状、三次元網状等が挙げられるが、基本的に主鎖がジオルガノシロキサン単位(D単位)の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状のジオルガノポリシロキサン、直鎖状のジオルガノポリシロキサンと分岐鎖状あるいは三次元網状のオルガノポリシロキサンの混合物であることが好ましい。   Examples of the molecular structure of the component (A) include linear, partially branched linear, cyclic, branched, and three-dimensional network. Basically, the main chain is diorgano A linear diorganopolysiloxane composed of repeating siloxane units (D units), both ends of which are blocked with triorganosiloxy groups, a linear diorganopolysiloxane and a branched or three-dimensional network A mixture of organopolysiloxanes is preferred.

この場合、レジン状(分岐鎖状、三次元網状)のオルガノポリシロキサンとしては、アルケニル基とSiO4/2単位(Q単位)及び/又はR”SiO3/2(T単位)(R”はR又はR’)を含有するオルガノポリシロキサンであれば特に制限されないが、SiO4/2単位(Q単位)と、RR’2SiO1/2単位やR’3SiO1/2単位等のM単位からなり、M/Qのモル比が0.6〜1.2であるレジン状オルガノポリシロキサンや、T単位とM単位及び/又はD単位からなるレジン状オルガノポリシロキサン等が例示される。
レジン状のオルガノポリシロキサンの配合量は、組成物の塗布性及び銀粉末の充填性の点から直鎖状オルガノポリシロキサンとレジン状オルガノポリシロキサンの好ましい配合割合が質量比で好ましくは70:30〜100:0、特に好ましくは80:20〜100:0となる量である。
In this case, as the resin-like (branched chain, three-dimensional network) organopolysiloxane, an alkenyl group and a SiO 4/2 unit (Q unit) and / or R ″ SiO 3/2 (T unit) (R ″ is The organopolysiloxane containing R or R ′) is not particularly limited, but may include SiO 4/2 units (Q units) and M such as RR ′ 2 SiO 1/2 units and R ′ 3 SiO 1/2 units. Examples thereof include a resinous organopolysiloxane composed of units and having an M / Q molar ratio of 0.6 to 1.2, and a resinous organopolysiloxane composed of T units and M units and / or D units.
The blending amount of the resinous organopolysiloxane is preferably 70:30 in terms of a mass ratio of a linear organopolysiloxane and a resinous organopolysiloxane in terms of the coating property of the composition and the filling property of the silver powder. ˜100: 0, particularly preferably 80:20 to 100: 0.

aは、0<a≦2、好ましくは0.001≦a≦1、bは、0<b<3、好ましくは0.5≦b≦2.5、a+bは、0<a+b≦3、好ましくは0.5≦a+b≦2.7を満たす数である。なお、直鎖状のオルガノポリシロキサンの場合は、0.001≦a≦1、0.5≦b≦2.1、1.8≦a+b≦2.2であることが好ましい。   a is 0 <a ≦ 2, preferably 0.001 ≦ a ≦ 1, b is 0 <b <3, preferably 0.5 ≦ b ≦ 2.5, and a + b is 0 <a + b ≦ 3, preferably Is a number satisfying 0.5 ≦ a + b ≦ 2.7. In the case of a linear organopolysiloxane, it is preferable that 0.001 ≦ a ≦ 1, 0.5 ≦ b ≦ 2.1, and 1.8 ≦ a + b ≦ 2.2.

(A)成分の23℃における粘度は、得られるシリコーン組成物の物理的特性が良好であり、また、組成物の取り扱い作業性、塗布性が良好であることから、100〜5,000mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に100〜1,000mPa・sの範囲内であることが好ましい。直鎖状オルガノポリシロキサンにレジン状オルガノポリシロキサンを併用する場合は、レジン状オルガノポリシロキサンは直鎖状オルガノポリシロキサンに溶解するため、混合して均一な状態での粘度とする。なお、本発明において、粘度は回転粘度計により測定することができる。   The viscosity at 23 ° C. of the component (A) is 100 to 5,000 mPa · s because the physical properties of the resulting silicone composition are good and the handling workability and applicability of the composition are good. It is preferable to be in the range of 100 to 1,000 mPa · s. When the resinous organopolysiloxane is used in combination with the linear organopolysiloxane, the resinous organopolysiloxane is dissolved in the linear organopolysiloxane, and therefore mixed to obtain a uniform viscosity. In the present invention, the viscosity can be measured with a rotational viscometer.

このような(A)成分のオルガノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルビニルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、式:R1 3SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 22SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 2SiOで示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R1 3SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 22SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R1 22SiO0.5で示されるシロキサン単位と式:R1 2SiOで示されるシロキサン単位と式:SiO2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:R12SiOで示されるシロキサン単位と式:R1SiO1.5で示されるシロキサン単位もしくは式:R2SiO1.5で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、及びこれらのオルガノポリシロキサンの2種以上からなる混合物が挙げられる。 Examples of the organopolysiloxane of the component (A) include, for example, a trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, a molecular chain both-ends trimethylsiloxy group-capped methylvinylpolysiloxane, and both molecular chains. Terminal trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, molecular chain both ends dimethylvinylsiloxy group-blocked methylvinylpolysiloxane, molecular chain both ends Dimethylvinylsiloxy-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, dimethylvinylsiloxy-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer Both molecular chain terminals by trimethylsiloxy blocked with dimethylvinylsiloxy groups, wherein: the siloxane units of the formula R 1 3 SiO 0.5: siloxane units represented by the formula R 1 2 R 2 SiO 0.5: represented by R 1 2 SiO An organosiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by the formula: SiO 2 and a siloxane unit represented by the formula: R 1 3 SiO 0.5 and a siloxane unit represented by the formula: R 1 2 R 2 SiO 0.5 : An organosiloxane copolymer composed of siloxane units represented by SiO 2 , a siloxane unit represented by formula: R 1 2 R 2 SiO 0.5 and a siloxane unit represented by formula: R 1 2 SiO and a formula: SiO 2 Organosiloxane copolymer comprising siloxane units, siloxane units represented by the formula: R 1 R 2 SiO and silos represented by the formula: R 1 SiO 1.5 Examples thereof include an organosiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by a xan unit or a formula: R 2 SiO 1.5 , and a mixture comprising two or more of these organopolysiloxanes.

ここで、上記式中のR1はアルケニル基以外の一価炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロゲン化アルキル基などが挙げられる。また、上記式中のR2はアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基などが挙げられる。 Here, R 1 in the above formula is a monovalent hydrocarbon group other than an alkenyl group, for example, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group; Groups, tolyl groups, xylyl groups, naphthyl groups and other aryl groups; benzyl groups, phenethyl groups and other aralkyl groups; chloromethyl groups, 3-chloropropyl groups, 3,3,3-trifluoropropyl groups and other alkyl halides Group and the like. R 2 in the above formula is an alkenyl group, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and a heptenyl group.

(B)オルガノハイドロジェンポリシロキサン
本発明の組成物に用いるオルガノハイドロジェンポリシロキサン(B)は、一分子中に少なくとも2個(通常、2〜300個)、好ましくは3個以上(例えば、3〜150個程度)、より好ましくは3〜100個程度のケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を含有するものであり、直鎖状、分岐状、環状、或いは三次元網状構造の樹脂状物のいずれでもよい。このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、例えば、下記平均組成式(2)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。
(B) Organohydrogenpolysiloxane The organohydrogenpolysiloxane (B) used in the composition of the present invention is at least 2 (usually 2 to 300), preferably 3 or more (for example, 3) in one molecule. About 150 to about 150), more preferably about 3 to 100 hydrogen atoms bonded to silicon atoms (that is, SiH groups), and have a linear, branched, cyclic, or three-dimensional network structure. Any of resinous materials may be used. Examples of such organohydrogenpolysiloxanes include organohydrogenpolysiloxanes represented by the following average composition formula (2).

c3 dSiO(4-c-d)/2 (2)
(式中、R3は独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の一価炭化水素基、又はアルコキシ基であり、c及びdは、0<c<2、0.8≦d≦2かつ0.8<c+d≦3となる数であり、好ましくは0.05≦c≦1、1.5≦d≦2かつ1.8≦c+d≦2.7となる数である。また、一分子中のケイ素原子の数(又は重合度)は、2〜100個、特に3〜50個が好ましい。)
H c R 3 d SiO (4-cd) / 2 (2)
(Wherein R 3 independently represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond, or an alkoxy group, and c and d are 0 <c <2, 0.8 ≦ d. ≦ 2 and 0.8 <c + d ≦ 3, preferably 0.05 ≦ c ≦ 1, 1.5 ≦ d ≦ 2, and 1.8 ≦ c + d ≦ 2.7. The number (or degree of polymerization) of silicon atoms in one molecule is preferably 2 to 100, particularly 3 to 50.)

ここで、上記式中R3の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換又は置換の一価炭化水素基としては、前記のR’として例示したものと同様のものが挙げられるほか、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、置換一価炭化水素基として、エポキシ基含有一価炭化水素基等が挙げられ、代表的なものは炭素数が1〜10、特に炭素数が1〜7のものであり、好ましくはメチル基等の炭素数1〜3の低級アルキル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、炭素数1〜4のアルコキシ基である。この場合、エポキシ基含有一価炭化水素基としては、上記非置換の一価炭化水素基、特にアルキル基の水素原子の1個又はそれ以上をグリシジル基、グリシドキシ基で置換したものが挙げられる。R3として特に好ましくはメチル基、メトキシ基、エトキシ基、エポキシ基含有一価炭化水素基である。 Here, examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond represented by R 3 in the above formula include those similar to those exemplified as R ′ above, a methoxy group, Examples of the alkoxy group such as an ethoxy group and the substituted monovalent hydrocarbon group include an epoxy group-containing monovalent hydrocarbon group, and typical ones have 1 to 10 carbon atoms, particularly those having 1 to 7 carbon atoms. And preferably a lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. In this case, examples of the epoxy group-containing monovalent hydrocarbon group include the above-described unsubstituted monovalent hydrocarbon groups, particularly those in which one or more hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with glycidyl groups or glycidoxy groups. R 3 is particularly preferably a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or an epoxy group-containing monovalent hydrocarbon group.

このようなオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、例えば、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルテトラシクロシロキサン、1,3,5,7,8−ペンタメチルペンタシクロシロキサン、メチルハイドロジェンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジェンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、トリス(ジメチルハイドロジェンシロキシ)メチルシラン等のシロキサンオリゴマー;分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体等;R3 2(H)SiO1/2単位とSiO4/2単位からなり、任意にR3 3SiO1/2単位、R3 2SiO2/2単位、R3(H)SiO2/2単位、(H)SiO3/2単位又はR3SiO3/2単位を含み得るシリコーンレジン(但し、R3は前記と同じである)などの他、これらの例示化合物においてメチル基の一部又は全部をエチル基、プロピル基等の他のアルキル基で置換したものなどが挙げられ、更には下記式

Figure 2013100464
(式中、R3は前記と同じであり、s、tはそれぞれ0又は1以上の整数である。)
等で表されるものが挙げられる。 Examples of such organohydrogenpolysiloxanes include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyltetracyclosiloxane, 1,3,5,7,8- Siloxane oligomers such as pentamethylpentacyclosiloxane, methylhydrogencyclopolysiloxane, methylhydrogensiloxane / dimethylsiloxane cyclic copolymer, tris (dimethylhydrogensiloxy) methylsilane; Siloxane, trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, molecular chain both ends silanol group-blocked methylhydrogenpolysiloxane, molecular chain both ends silanol-blocked dimethyl Loxane / methylhydrogensiloxane copolymer, dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane at both ends of the molecular chain, dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogenpolysiloxane at both ends of the molecular chain, dimethylhydrogensiloxy group-blocked at both ends of the molecular chain Dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, etc .; composed of R 3 2 (H) SiO 1/2 unit and SiO 4/2 unit, optionally R 3 3 SiO 1/2 unit, R 3 2 SiO 2/2 In addition to units, R 3 (H) SiO 2/2 units, (H) SiO 3/2 units or silicone resins that can contain R 3 SiO 3/2 units (wherein R 3 is the same as above), etc. In these exemplified compounds, those in which part or all of the methyl group is substituted with other alkyl groups such as ethyl group, propyl group, etc. The following formula
Figure 2013100464
(In the formula, R 3 is the same as described above, and s and t are each 0 or an integer of 1 or more.)
And the like.

また、接着性が重要な場合は、(B)成分の一部又は全部に下記式(3)、(4)で示されるような分子中にメトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基及び/又はエポキシ含有基を有するものを使用することが好ましい。特に式(4)で表されるような分子中にアルコキシ基とグリシジル基、グリシドキシ基、グリシドキシプロピル基等のエポキシ含有基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、接着性向上には効果的である。

Figure 2013100464
In addition, when adhesiveness is important, a part or all of the component (B) has an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group and / or an epoxy in the molecule represented by the following formulas (3) and (4). It is preferable to use one having a containing group. In particular, an organohydrogenpolysiloxane having an alkoxy group and an epoxy-containing group such as a glycidyl group, a glycidoxy group, or a glycidoxypropyl group in the molecule represented by the formula (4) is effective for improving the adhesion. is there.
Figure 2013100464

本発明の組成物に用いるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、公知の方法で得ることができ、例えば、一般式:R3SiHCl2及びR3 2SiHCl(式中、R3は前記と同じである)から選ばれる少なくとも1種のクロロシランを(共)加水分解し、或いは該クロロシランと一般式:R3 3SiCl及びR3 2SiCl2(式中、R3は前記と同じである)から選ばれる少なくとも1種のクロロシランを組み合わせて共加水分解し、縮合することにより得ることができる。また、オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、このように(共)加水分解縮合して得られたポリシロキサンを平衡化したものでもよい。 The organohydrogenpolysiloxane used in the composition of the present invention can be obtained by a known method, for example, the general formula: R 3 SiHCl 2 and R 3 2 SiHCl (wherein R 3 is the same as above) Or (co) hydrolyzing at least one chlorosilane selected from: or at least selected from the general formula: R 3 3 SiCl and R 3 2 SiCl 2 (wherein R 3 is as defined above) It can be obtained by cohydrolyzing and condensing one kind of chlorosilane. Further, the organohydrogenpolysiloxane may be one obtained by equilibrating the polysiloxane obtained by (co) hydrolysis condensation.

(B)成分の配合量は、(A)成分中の全ケイ素原子に結合したアルケニル基に対して(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子が0.5〜5.0倍モルとなる量であることが好ましく、より好ましくは0.7〜3.0倍モルとなる量である。0.5未満でも5.0以上でも、架橋バランスが崩れ十分な強度の硬化物が得られない場合がある。   The blending amount of the component (B) is 0.5 to 5.0 times mol of hydrogen atoms bonded to silicon atoms in the component (B) with respect to alkenyl groups bonded to all silicon atoms in the component (A). It is preferable that it is the quantity which becomes 0.7-3.0 times mole. If it is less than 0.5 or 5.0 or more, the crosslinking balance may be lost and a cured product having sufficient strength may not be obtained.

(C)銀粉末又は銀メッキされた微粉末粒子
シリコーン組成物の硬化物に導電性を付与するために、本発明では導電性フィラーとしては、銀粉末又は銀メッキされた微粉末粒子が使用される。銀粉末については、具体的に還元銀粉末、電解銀粉末、アトマイズ銀粉末が例示される。(C)成分の形状は球状、扁平状、樹枝状、不定形状等の様々なものがあるが、特に限定されない。ただ、高導電性組成物とするため銀粉を高充填するには扁平状の銀粉末が好ましい。また、銀メッキされた微粉末粒子については、メッキされる基材がシリカや銅といったものが市販されているが、特には限定されない。表面を銀でコートするには、球状の基材であることが好ましい。(C)成分の平均粒子径も特に限定されないが、好ましくは0.1〜15μmである。この平均粒子径は、レーザー光回折法による粒度分布測定装置における累積質量平均値D50として求めることができる。
(C) Silver powder or silver-plated fine powder particles In order to impart conductivity to the cured product of the silicone composition, silver powder or silver-plated fine powder particles are used as the conductive filler in the present invention. The Specific examples of the silver powder include reduced silver powder, electrolytic silver powder, and atomized silver powder. The shape of component (C) includes various shapes such as a spherical shape, a flat shape, a dendritic shape, and an indefinite shape, but is not particularly limited. However, in order to obtain a highly conductive composition, flat silver powder is preferable for high filling with silver powder. In addition, as for the fine powder particles plated with silver, a substrate to be plated such as silica or copper is commercially available, but is not particularly limited. In order to coat the surface with silver, a spherical substrate is preferable. The average particle size of the component (C) is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 15 μm. This average particle diameter can be obtained as a cumulative mass average value D 50 in a particle size distribution measuring apparatus by a laser beam diffraction method.

銀粉は、その製造過程により、防錆剤や凝集防止のための潤滑剤等が含まれている。それらが付加反応触媒である白金族触媒に作用すると、硬化遅延を引き起こしたり、全く硬化しなくなる場合もある。そこで、銀粉や銀メッキフィラーは大量の水あるいはアセトンやメチルエチルケトンといった有機溶剤で予め洗浄した後乾燥させたものを使用することが好ましい。   Silver powder contains a rust inhibitor, a lubricant for preventing aggregation, and the like depending on the manufacturing process. When they act on a platinum group catalyst that is an addition reaction catalyst, there may be a case where a curing delay is caused or no curing occurs at all. Therefore, it is preferable to use a silver powder or silver plating filler that has been previously washed with a large amount of water or an organic solvent such as acetone or methyl ethyl ketone and then dried.

(C)成分の配合量は、(A)成分100質量部に対して100〜1,500質量部であることが必要であり、より好ましくは300〜1,000質量部である。(C)成分が100質量部より少ない場合、硬化物の導電率が低下し、1,500質量部より多い場合組成物の取り扱いが困難となる。   (C) The compounding quantity of a component needs to be 100-1,500 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 300-1,000 mass parts. When the component (C) is less than 100 parts by mass, the conductivity of the cured product is lowered, and when it is more than 1,500 parts by mass, it is difficult to handle the composition.

(D)導電性微粉末(但し、銀・銅及びそれらを含む金属を除く)
(D)成分は、組成物の導電性を保ちつつチクソ性を向上させ、形状保持性を高めるために使用する。導電性を付与する粉末としては、カーボンブラックや導電性亜鉛華などが挙げられるが、高導電率を有する組成物とする本発明においてはカーボンブラックを使用することがより好ましい。
(D) Conductive fine powder (excluding silver, copper and metals containing them)
The component (D) is used to improve thixotropy while maintaining the conductivity of the composition and to enhance shape retention. Examples of the powder that imparts conductivity include carbon black and conductive zinc white. In the present invention, which is a composition having high conductivity, it is more preferable to use carbon black.

カーボンブラックとしては、通常導電性ゴム組成物に常用されているものが使用し得、例えばアセチレンブラック、コンダクティブファーネスブラック(CF)、スーパーコンダクティブファーネスブラック(SCF)、エクストラコンダクティブファーネスブラック(XCF)、コンダクティブチャンネルブラック(CC)、1,500〜3,000℃程度の高温で熱処理されたファーネスブラックやチャンネルブラック等を挙げることができる。これらの中で、アセチレンブラックは不純物含有率が少ない上、発達した2次ストラクチャー構造を有することから導電性に優れており、本発明において特に好適に使用される。   As carbon black, those commonly used in conductive rubber compositions can be used, for example, acetylene black, conductive furnace black (CF), super conductive furnace black (SCF), extra conductive furnace black (XCF), and conductive. Examples thereof include channel black (CC), furnace black and channel black heat-treated at a high temperature of about 1,500 to 3,000 ° C. Among these, acetylene black has a low impurity content and has a developed secondary structure structure, so that it has excellent conductivity and is particularly preferably used in the present invention.

(D)成分の添加量は、(A)成分100質量部に対し0.5〜30質量部であり、より好ましくは1〜25質量部、特に好ましくは3〜20質量部である。添加量が0.5質量部より少ない場合にはチクソ性向上効果が十分ではなく、組成物の塗布後の形状保持性が悪くなり、30質量部より多い場合は粘度が上昇しすぎて組成物の作業性が低下する。   (D) The addition amount of a component is 0.5-30 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 1-25 mass parts, Most preferably, it is 3-20 mass parts. When the addition amount is less than 0.5 parts by mass, the thixotropy improving effect is not sufficient, and the shape retention after application of the composition is deteriorated. When the addition amount is more than 30 parts by mass, the viscosity increases too much and the composition Workability is reduced.

(E)付加反応触媒
本発明に用いる付加反応触媒(ヒドロシリル化反応触媒)は、前記の(A)成分のアルケニル基と(B)成分のケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)との付加反応を促進するための触媒であり、ヒドロシリル化反応に用いられる触媒として白金族金属系触媒等の周知の触媒が挙げられる。
(E) Addition reaction catalyst The addition reaction catalyst (hydrosilylation reaction catalyst) used in the present invention comprises an alkenyl group of the component (A) and a hydrogen atom (that is, SiH group) bonded to a silicon atom of the component (B). As a catalyst for promoting the addition reaction of platinum, a known catalyst such as a platinum group metal catalyst can be used as the catalyst used in the hydrosilylation reaction.

この白金族金属系触媒としては、ヒドロシリル化反応触媒として白金、ロジウム、パラジウム等の白金族金属系触媒等の公知のものが全て使用できる。例えば、白金黒、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体;H2PtCl4・yH2O、H2PtCl6・yH2O、NaHPtCl6・yH2O、KHPtCl6・yH2O、Na2PtCl6・yH2O、K2PtCl4・yH2O、PtCl4・yH2O、PtCl2、Na2HPtCl4・yH2O(式中、yは0〜6の整数であり、好ましくは0又は6である)等の塩化白金、塩化白金酸及び塩化白金酸塩;アルコール変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明細書参照);塩化白金酸とオレフィンとのコンプレックス(米国特許第3,159,601号明細書、同第3,159,662号明細書、同第3,775,452号明細書参照);白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの;ロジウム−オレフィンコンプレックス;クロロトリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触媒);塩化白金、塩化白金酸又は塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロキサンとのコンプレックス等が挙げられる。これらの中で好ましいものとして、相溶性の観点及び塩素不純物の観点から、塩化白金酸をシリコーン変性したものが挙げられ、具体的には、例えば塩化白金酸をテトラメチルジビニルジシロキサンで変性した白金触媒が挙げられる。 As the platinum group metal catalyst, all known catalysts such as platinum group metal catalysts such as platinum, rhodium and palladium can be used as hydrosilylation reaction catalysts. For example, platinum group metals such as platinum black, rhodium and palladium; H 2 PtCl 4 · yH 2 O, H 2 PtCl 6 · yH 2 O, NaHPtCl 6 · yH 2 O, KHPtCl 6 · yH 2 O, Na 2 PtCl 6 · yH 2 O, K 2 PtCl 4 · yH 2 O, PtCl 4 · yH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 · yH 2 O (wherein y is an integer of 0 to 6, preferably 0) Or chloroplatinic acid and chloroplatinate; alcohol-modified chloroplatinic acid (see US Pat. No. 3,220,972); complex of chloroplatinic acid and olefin (US patent) 3,159,601 specification, 3,159,662 specification, 3,775,452 specification); platinum group metals such as platinum black, palladium, etc., alumina, silica, carbon, etc. Supported on the carrier Rhodium-olefin complex; Chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilkinson catalyst); Platinum chloride, chloroplatinic acid or chloroplatinate and vinyl group-containing siloxane, especially vinyl group-containing cyclic siloxane Can be mentioned. Among these, from the viewpoint of compatibility and chlorine impurities, chloroplatinic acid modified with silicone may be mentioned. Specifically, for example, chloroplatinic acid modified with tetramethyldivinyldisiloxane may be used. A catalyst is mentioned.

(E)成分の添加量は、白金原子にして(A)成分に対し、質量換算で0.5〜1,000ppm、好ましくは1〜500ppm、より好ましくは5〜200ppmである。   The amount of component (E) added is 0.5 to 1,000 ppm, preferably 1 to 500 ppm, more preferably 5 to 200 ppm in terms of mass with respect to component (A) in terms of platinum atoms.

(F)脂肪酸、脂肪酸誘導体及びそれらの金属塩から選ばれる脂肪酸類
(F)成分である脂肪酸、脂肪酸誘導体、又はそれらの金属塩は、組成物の付加硬化性を安定化するのに配合するものであり、市販のものも使用できる。
(F)成分の添加量は、(A)成分100質量部に対して、0.1〜20質量部、好ましくは0.1〜5質量部である。0.1質量部未満であると保存安定性向上効果が不十分となることがあり、20質量部を超えると硬化性が悪くなる。ここで、脂肪酸、脂肪酸誘導体及びそれらの金属塩から選ばれる1種又は2種以上の好ましい炭素数は8以上であり、より好ましくは8〜20である。
(F) Fatty acids selected from fatty acids, fatty acid derivatives and their metal salts (F) Fatty acids, fatty acid derivatives, or their metal salts are components that are added to stabilize the addition curability of the composition. Commercially available products can also be used.
(F) The addition amount of a component is 0.1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 0.1-5 mass parts. If it is less than 0.1 parts by mass, the effect of improving the storage stability may be insufficient, and if it exceeds 20 parts by mass, the curability is deteriorated. Here, the 1 type or 2 or more types of preferable carbon number chosen from a fatty acid, a fatty acid derivative, and those metal salts is 8 or more, More preferably, it is 8-20.

脂肪酸の具体的な例としては、カプリル酸、ウンデシレン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラギン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、メリシン酸、ミリストレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸などが例示される。   Specific examples of fatty acids include caprylic acid, undecylenic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, alginate, lignoceric acid, serotic acid, melissic acid, myristoleic acid, oleic acid, linol Examples include acids and linolenic acid.

脂肪酸誘導体の例としては、脂肪酸エステル、脂肪族アルコールのエステルなどが挙げられる。脂肪族エステルとしては、上記脂肪酸等とC1〜C5の低級アルコールエステル、ソルビタンエステル、グリセリンエステル等の多価アルコールエステルが例示される。脂肪族アルコールのエステルとしては、カプリリルアルコール、カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール等の飽和アルコールなどの脂肪酸アルコールのグルタル酸エステルやスペリン酸エステルのような2塩基酸エステル、クエン酸エステルのような3塩基酸エステルが例示される。 Examples of the fatty acid derivatives include fatty acid esters and aliphatic alcohol esters. The aliphatic esters, lower alcohol esters of the above fatty acids and C 1 -C 5, sorbitan esters, polyhydric alcohol esters such as glycerol esters are exemplified. Examples of fatty alcohol esters include dibasic acid esters such as capricyl alcohol, capryl alcohol, lauryl alcohol, myristyl alcohol, saturated alcohols such as stearyl alcohol, fatty acid alcohols such as glutaric acid esters and speric acid esters, and citrate esters. Examples of such tribasic acid esters are as follows.

脂肪酸金属塩における脂肪酸の例としては、カプリル酸、ウンデシレン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラギン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、メリシン酸、ミリストレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸などが挙げられ、金属としては、例えば、リチウム、カルシウム、マグネシウム、亜鉛等が挙げられる。   Examples of fatty acids in the fatty acid metal salt include caprylic acid, undecylenic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, alginate, lignoceric acid, serotic acid, melissic acid, myristic acid, oleic acid, Examples of the metal include linoleic acid and linolenic acid, and examples of the metal include lithium, calcium, magnesium, and zinc.

(F)成分としては、脂肪酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。(F)成分は単独で使用してもよいが、予め(E)成分と混合したものを使用するのが保存安定性をより向上させることができるため好ましい。   (F) As a component, a fatty acid is preferable and a stearic acid is more preferable. Although the component (F) may be used alone, it is preferable to use a component previously mixed with the component (E) because the storage stability can be further improved.

本発明の組成物は、通常の付加硬化型シリコーン組成物と同様に1液組成物でも使用直前に混合する2液組成物でもよいが、作業性の点から1液組成物とすることが好ましい。   The composition of the present invention may be a one-component composition or a two-component composition mixed just before use, as with a normal addition-curable silicone composition, but is preferably a one-component composition from the viewpoint of workability. .

本発明の組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で各種の添加剤を更に添加することができる。特に、本発明の組成物を1液型で使用する際の貯蔵安定性向上のために、ヒドロシリル化反応抑制剤を配合することができる。反応抑制剤としては、従来から公知のものを使用することができ、例えばアセチレン系化合物、アルケニル基を2個以上含有する化合物、アルキニル基を含有する化合物や、トリアリルイソシアヌレートやその変性品などが挙げられる。これらの中でも、アルケニル基又はアルキニル基を有する化合物の使用が望ましい。
これらの反応抑制剤の添加量は、少なすぎるとヒドロシリル化反応の遅延効果が得られない場合があり、逆に多すぎると硬化そのものが阻害されてしまう場合があるため、(A)〜(F)成分の合計量100質量部に対して0.01〜1.0質量部の範囲であることが好ましい。
また、接着性を向上させるためにシランカップリング剤を配合することもできる。
Various additives can be further added to the composition of the present invention as long as the object of the present invention is not impaired. In particular, a hydrosilylation reaction inhibitor can be blended to improve storage stability when the composition of the present invention is used in a one-pack type. As the reaction inhibitor, conventionally known ones can be used. For example, acetylene compounds, compounds containing two or more alkenyl groups, compounds containing alkynyl groups, triallyl isocyanurate and modified products thereof, etc. Is mentioned. Among these, it is desirable to use a compound having an alkenyl group or an alkynyl group.
If the addition amount of these reaction inhibitors is too small, the effect of retarding the hydrosilylation reaction may not be obtained. Conversely, if too large, curing itself may be inhibited, so that (A) to (F) ) It is preferable that it is the range of 0.01-1.0 mass part with respect to 100 mass parts of total amounts of a component.
Moreover, a silane coupling agent can also be mix | blended in order to improve adhesiveness.

本発明の付加硬化型導電性シリコーン組成物の製造方法としては、例えば(A)〜(F)成分及びその他の任意成分をプラネタリーミキサー、ニーダー、品川ミキサー等の混合機で混合する方法等が挙げられる。この場合、(E)成分と(F)成分とを予め混合したものを他成分と混合することが組成物の保存安定性をより向上させる点で好ましい。   Examples of the method for producing the addition-curable conductive silicone composition of the present invention include a method of mixing the components (A) to (F) and other optional components with a mixer such as a planetary mixer, a kneader, or a Shinagawa mixer. Can be mentioned. In this case, it is preferable to mix the component (E) and the component (F) previously mixed with other components from the viewpoint of further improving the storage stability of the composition.

本発明において、組成物の粘度とチクソ係数は塗布後の形状安定性においては重要な因子である。E型粘度計を使用したときの回転速度が10rpmの時の23℃における組成物の粘度が10Pa・s以上500Pa・s以下、特に20〜200Pa・sであることが好ましい。粘度が低すぎると、ディスペンサー等により塗布した際あるいは加熱硬化時に流れて形状が保持できない場合がある。また、粘度が高すぎると、ディスペンサーで塗布する場合に糸引きを生じたり、スクリーン印刷する場合にはマスクのパターンに十分に追従できず、パターンの欠損を起こすおそれがある。なお、23℃における組成物の10rpmにおける粘度と20rpmにおける粘度との比(10rpm/20rpm)(以下、チクソ係数と示す)は、1.5以上、特に2.0〜5.0であることが好ましい。このチクソ係数が1.5未満であると、塗布した形状を安定させることが不十分となる場合があるため、塗布後の形状安定性が重要な場合は、チクソ係数が1.5以上のものを用いることが好ましい。   In the present invention, the viscosity and thixotropic coefficient of the composition are important factors in shape stability after coating. The viscosity of the composition at 23 ° C. when the rotational speed when using an E-type viscometer is 10 rpm is preferably 10 Pa · s or more and 500 Pa · s or less, particularly preferably 20 to 200 Pa · s. If the viscosity is too low, the shape may not be maintained when applied with a dispenser or the like or when heated and cured. On the other hand, if the viscosity is too high, stringing may occur when applying with a dispenser, or the pattern of the mask may not be sufficiently followed when screen printing is performed. The ratio of the composition at 23 ° C. at 10 rpm to the viscosity at 20 rpm (10 rpm / 20 rpm) (hereinafter referred to as the thixo coefficient) is 1.5 or more, particularly 2.0 to 5.0. preferable. If the thixo factor is less than 1.5, it may be insufficient to stabilize the applied shape. If shape stability after application is important, the thixo factor is 1.5 or more. Is preferably used.

本発明の組成物の硬化条件としては、100〜150℃で1〜120分間硬化させることが望ましい。この場合、硬化物の導電率は、(C)、(D)成分の配合量を調整して1.0×10-2Ω・cm以下とすることが好ましく、特に1.0×10-2〜1.0×10-5Ω・cmであることが好ましい。 As curing conditions for the composition of the present invention, it is desirable to cure at 100 to 150 ° C. for 1 to 120 minutes. In this case, the conductivity of the cured product is preferably adjusted to 1.0 × 10 −2 Ω · cm or less by adjusting the blending amount of the components (C) and (D), particularly 1.0 × 10 −2. It is preferable that it is -1.0 * 10 < -5 > ohm * cm.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to a following example.

[実施例1〜4、比較例1〜4]
下記に示す成分を、表1,2に示す配合量で、(株)シンキー製自転・公転ミキサー(あわとり練太郎)により均一に混合してシリコーンゴム組成物を調製した。実施例及び比較例中、粘度は23℃でE型粘度計(東機産業(株)製RE80)により測定した値である。
(A)一分子中にケイ素原子に直結したビニル基を2個有し、粘度600mPa・sであるメチルビニルポリシロキサン
(B−1)23℃における粘度が5mPa・sで、水素ガス発生量が350ml/gであるメチルハイドロジェンポリシロキサン
(B−2)式(4)で示されるSiH基含有化合物

Figure 2013100464
(C)福田金属箔粉工業(株)製銀粉(AgC−237)をアセトンで洗浄、乾燥させたもの
(D)電気化学工業(株)製デンカブラックHS−100
(E−1)塩化白金酸から誘導した、テトラメチルジビニルジシロキサンを配位子として有する白金触媒(白金原子量:1質量%)
(E−2)上記(E−1)とステアリン酸を質量比3/2で混合したもの
(F)ステアリン酸
(G)BET法による比表面積が200m2/gであり、表面がヘキサメチルジシラザンで処理された煙霧質シリカ
(反応抑制剤)1−エチニル−1−シクロヘキサノール [Examples 1-4, Comparative Examples 1-4]
The components shown below were blended uniformly in the blending amounts shown in Tables 1 and 2 using a rotation / revolution mixer manufactured by Shinkey Co., Ltd. (Aritori Kentaro) to prepare a silicone rubber composition. In Examples and Comparative Examples, the viscosity is a value measured at 23 ° C. with an E-type viscometer (RE80 manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).
(A) Methyl vinyl polysiloxane (B-1) having two vinyl groups directly bonded to silicon atoms in one molecule and having a viscosity of 600 mPa · s, a viscosity at 23 ° C. of 5 mPa · s, and a hydrogen gas generation amount SiH group-containing compound represented by formula (4) of methyl hydrogen polysiloxane (B-2) which is 350 ml / g
Figure 2013100464
(C) Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd. silver powder (AgC-237) washed with acetone and dried (D) Denka Black HS-100 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.
(E-1) A platinum catalyst derived from chloroplatinic acid and having tetramethyldivinyldisiloxane as a ligand (platinum atomic weight: 1% by mass)
(E-2) A mixture of the above (E-1) and stearic acid at a mass ratio of 3/2. (F) Stearic acid (G) The specific surface area by the BET method is 200 m 2 / g, and the surface is hexamethyldi Silica-treated fumed silica (reaction inhibitor) 1-ethynyl-1-cyclohexanol

得られたシリコーンゴム組成物の導電率、粘度、チクソ係数、形状保持性、保存安定性の結果を表1,2に併記する。なお、導電率、形状保持性、保存安定性は下記に示す方法で行った。
[導電率の測定]
シリコーンゴム組成物を、1mm厚みの金型内で150℃/1時間オーブンキュアすることにより導電性シリコーンゴムシートを成形した。
導電率の測定は、
KEITHLEY 237 High Voltage Source Measure Unit(定電流電源)
KEITHLEY 2000 Multimeter(電圧計)
を用いて行った。
[形状保持性]
形状保持性については、25mm×250mm(厚み0.5mm)のステンレススチール(SUS)板に組成物を載せ、30度傾けて150℃/1時間硬化させたときの組成物の流れ性により、◎(全く変化なし)、○(流れないが少し傾く)、△(1〜3mm流れる)、×(3mmを超えて流れる)と判断した。
[保存安定性]
製造直後及び5℃で2ヶ月保存した組成物を150℃/1時間硬化させた時の硬度をデュロメータタイプA硬度計で測定した。
The results of conductivity, viscosity, thixotropic coefficient, shape retention and storage stability of the obtained silicone rubber composition are shown in Tables 1 and 2. In addition, electrical conductivity, shape retention, and storage stability were performed by the methods shown below.
[Measurement of conductivity]
The silicone rubber composition was oven-cured in a 1 mm thick mold at 150 ° C./1 hour to form a conductive silicone rubber sheet.
The measurement of conductivity is
KEITHLEY 237 High Voltage Source Measurement Unit (constant current power supply)
KEITLEY 2000 Multimeter (Voltmeter)
It was performed using.
[Shape retention]
Regarding shape retainability, the composition is placed on a stainless steel (SUS) plate of 25 mm × 250 mm (thickness 0.5 mm), and the flowability of the composition when tilted 30 degrees and cured at 150 ° C./1 hour, (No change at all), ○ (not flowing but slightly tilted), Δ (flowing 1 to 3 mm), × (flowing beyond 3 mm).
[Storage stability]
Hardness was measured with a durometer type A hardness meter immediately after production and when the composition stored at 5 ° C. for 2 months was cured at 150 ° C./1 hour.

Figure 2013100464
Figure 2013100464

Figure 2013100464
Figure 2013100464

Claims (7)

(A)下記平均組成式(1)
aR’bSiO(4-a-b)/2 (1)
(式中、Rはアルケニル基、R’は脂肪族不飽和結合を持たない非置換又は置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基、a、bは、0<a≦2、0<b<3、0<a+b≦3を満たす数である。)
で表される一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン:100質量部、
(B)一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン:(A)成分中の全ケイ素原子結合アルケニル基に対して(B)成分中のケイ素原子に結合した水素原子が0.5〜5.0倍モルとなる量、
(C)銀粉末又は銀メッキされた微粉末粒子:100〜1,500質量部、
(D)導電性微粉末(但し、銀・銅及びそれらを含む金属を除く):0.5〜30質量部、
(E)付加反応触媒:触媒量、
(F)脂肪酸、脂肪酸誘導体及びそれらの金属塩から選ばれる1種又は2種以上:0.1〜20質量部
を含有することを特徴とする付加硬化型導電性シリコーン組成物。
(A) The following average composition formula (1)
R a R ' b SiO (4-ab) / 2 (1)
(In the formula, R is an alkenyl group, R ′ is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms that does not have an aliphatic unsaturated bond, and a and b are 0 <a ≦ 2, 0 < (b <3, 0 <a + b ≦ 3)
An organopolysiloxane containing an alkenyl group bonded to at least two silicon atoms in one molecule represented by: 100 parts by mass
(B) Organohydrogenpolysiloxane containing hydrogen atoms bonded to at least two silicon atoms in one molecule: (A) all silicon atom-bonded alkenyl groups in component (B) silicon atoms in component (B) The amount of hydrogen atoms bonded to is 0.5 to 5.0 times mol,
(C) Silver powder or silver-plated fine powder particles: 100 to 1,500 parts by mass,
(D) Conductive fine powder (excluding silver and copper and metals containing them): 0.5 to 30 parts by mass,
(E) addition reaction catalyst: catalyst amount,
(F) 1 type, or 2 or more types chosen from a fatty acid, a fatty-acid derivative, and those metal salts: 0.1-20 mass parts of addition curable conductive silicone compositions characterized by the above-mentioned.
(D)成分がカーボンブラックである請求項1記載の付加硬化型導電性シリコーン組成物。   The addition-curable conductive silicone composition according to claim 1, wherein the component (D) is carbon black. (B)成分の一部として、一分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を有すると共に、アルコキシ基及びエポキシ含有基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含有する請求項1又は2記載の付加硬化型導電性シリコーン組成物。   The component (B) contains an organohydrogenpolysiloxane having a hydrogen atom bonded to at least two silicon atoms in one molecule, and having an alkoxy group and an epoxy-containing group. Addition-curable conductive silicone composition. (F)成分がステアリン酸である請求項1〜3のいずれか1項に記載の付加硬化型導電性シリコーン組成物。   (F) Component is a stearic acid, The addition-curable conductive silicone composition of any one of Claims 1-3. E型粘度計による23℃におけるチクソ比(10rpmの粘度/20rpmの粘度)が1.5以上である請求項1〜4のいずれか1項に記載の付加硬化型導電性シリコーン組成物。   The addition curing type conductive silicone composition according to any one of claims 1 to 4, wherein a thixotropy ratio (viscosity of 10 rpm / viscosity of 20 rpm) at 23 ° C by an E-type viscometer is 1.5 or more. 硬化物の導電率が1.0×10-2Ω・cm以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の付加硬化型導電性シリコーン組成物。 The addition-curable conductive silicone composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the conductivity of the cured product is 1.0 x 10-2 Ω · cm or less. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の(A)〜(F)成分を含有する付加硬化型導電性シリコーン組成物を製造するに際し、(E)成分と(F)成分を予め混合したものを他成分と混合することを特徴とする付加硬化型導電性シリコーン組成物の製造方法。   In producing the addition-curable conductive silicone composition containing the components (A) to (F) according to any one of claims 1 to 6, the components (E) and (F) were mixed in advance. A method for producing an addition-curable conductive silicone composition, comprising mixing a product with other components.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015056725A1 (en) * 2013-10-17 2015-04-23 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition, and optical semiconductor device
US20160358741A1 (en) * 2015-05-27 2016-12-08 Kla-Tencor Corporation System and Method for Providing a Clean Environment in an Electron-Optical System
JPWO2015056726A1 (en) * 2013-10-17 2017-03-09 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition and optical semiconductor device
JP2017082125A (en) * 2015-10-29 2017-05-18 住友ベークライト株式会社 Conductive resin composition, wiring, wiring board and electronic device
JP2018174125A (en) * 2017-03-31 2018-11-08 住友ベークライト株式会社 Conductive paste
WO2019054371A1 (en) * 2017-09-15 2019-03-21 東レ・ダウコーニング株式会社 Electronic component or precursor thereof, and method for manufacturing same
CN112662182A (en) * 2020-12-02 2021-04-16 上海阿莱德实业股份有限公司 Anti-poisoning addition type conductive silicone rubber composition and preparation method thereof
WO2021251148A1 (en) * 2020-06-08 2021-12-16 信越化学工業株式会社 Thermally-conductive addition-curable silicone composition and cured product thereof
US11384244B2 (en) 2017-09-15 2022-07-12 Dow Toray Co., Ltd. Curable organopolysiloxane composition, and pattern forming method
JP2022137416A (en) * 2021-03-09 2022-09-22 信越化学工業株式会社 Conductive silicone composition, adhesive, and conductive silicone cured material
WO2024057911A1 (en) * 2022-09-16 2024-03-21 三井化学株式会社 Conductive silicone rubber composition and anisotropic conductive sheet

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103937257B (en) * 2014-03-24 2017-01-25 惠州市安品新材料有限公司 Organic silicone thixotropic agent and thixotropy addition type liquid silicone rubber
JP6236156B2 (en) * 2015-06-01 2017-11-22 株式会社ノリタケカンパニーリミテド Conductive composition and electrode forming method
WO2018155131A1 (en) * 2017-02-27 2018-08-30 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable organopolysiloxane composition and semiconductor device
JP6981914B2 (en) * 2018-04-09 2021-12-17 信越化学工業株式会社 Thermally conductive silicone composition and its cured product

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6465172A (en) * 1987-07-22 1989-03-10 Wacker Silicones Corp Conductive composition
JPH0525393A (en) * 1991-07-18 1993-02-02 Shin Etsu Chem Co Ltd Electrically conductive silicone rubber composition and electrically conductive silicone rubber
JPH07150048A (en) * 1993-10-06 1995-06-13 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd Electrically conductive silicone rubber composition
JPH08113713A (en) * 1994-10-18 1996-05-07 Shin Etsu Chem Co Ltd Electrically-conductive silicone rubber composition
JP2003055554A (en) * 2001-08-21 2003-02-26 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd Conductive liquid silicone rubber composition, molded product of conductive silicone rubber and method for manufacturing the same
JP2006022284A (en) * 2004-07-09 2006-01-26 Shin Etsu Chem Co Ltd Addition reaction-curable silicon rubber composition
JP2006328302A (en) * 2005-05-30 2006-12-07 Ge Toshiba Silicones Co Ltd Electroconductive silicone rubber composition and electroconductive material

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102134399B (en) * 2011-05-06 2012-07-04 北京化工大学 Flaming retarding highly conductive silicon rubber composite material and preparation method thereof

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6465172A (en) * 1987-07-22 1989-03-10 Wacker Silicones Corp Conductive composition
JPH0525393A (en) * 1991-07-18 1993-02-02 Shin Etsu Chem Co Ltd Electrically conductive silicone rubber composition and electrically conductive silicone rubber
JPH07150048A (en) * 1993-10-06 1995-06-13 Toray Dow Corning Silicone Co Ltd Electrically conductive silicone rubber composition
JPH08113713A (en) * 1994-10-18 1996-05-07 Shin Etsu Chem Co Ltd Electrically-conductive silicone rubber composition
JP2003055554A (en) * 2001-08-21 2003-02-26 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd Conductive liquid silicone rubber composition, molded product of conductive silicone rubber and method for manufacturing the same
JP2006022284A (en) * 2004-07-09 2006-01-26 Shin Etsu Chem Co Ltd Addition reaction-curable silicon rubber composition
JP2006328302A (en) * 2005-05-30 2006-12-07 Ge Toshiba Silicones Co Ltd Electroconductive silicone rubber composition and electroconductive material

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160075575A (en) * 2013-10-17 2016-06-29 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 Curable silicone composition, and optical semiconductor device
JPWO2015056725A1 (en) * 2013-10-17 2017-03-09 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition and optical semiconductor device
JPWO2015056726A1 (en) * 2013-10-17 2017-03-09 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition and optical semiconductor device
EP3059285A4 (en) * 2013-10-17 2017-05-17 Dow Corning Toray Co., Ltd. Curable silicone composition, and optical semiconductor device
US9688869B2 (en) 2013-10-17 2017-06-27 Dow Corning Toray Co., Ltd. Curable silicone composition, and optical semiconductor device
KR101868327B1 (en) * 2013-10-17 2018-07-23 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 Curable silicone composition, and optical semiconductor device
WO2015056725A1 (en) * 2013-10-17 2015-04-23 東レ・ダウコーニング株式会社 Curable silicone composition, and optical semiconductor device
US10692692B2 (en) * 2015-05-27 2020-06-23 Kla-Tencor Corporation System and method for providing a clean environment in an electron-optical system
US20160358741A1 (en) * 2015-05-27 2016-12-08 Kla-Tencor Corporation System and Method for Providing a Clean Environment in an Electron-Optical System
JP2017082125A (en) * 2015-10-29 2017-05-18 住友ベークライト株式会社 Conductive resin composition, wiring, wiring board and electronic device
JP7018295B2 (en) 2017-03-31 2022-02-10 住友ベークライト株式会社 Conductive paste
JP2020115475A (en) * 2017-03-31 2020-07-30 住友ベークライト株式会社 Conductive paste
JP2018174125A (en) * 2017-03-31 2018-11-08 住友ベークライト株式会社 Conductive paste
WO2019054371A1 (en) * 2017-09-15 2019-03-21 東レ・ダウコーニング株式会社 Electronic component or precursor thereof, and method for manufacturing same
US11384244B2 (en) 2017-09-15 2022-07-12 Dow Toray Co., Ltd. Curable organopolysiloxane composition, and pattern forming method
US11551988B2 (en) 2017-09-15 2023-01-10 Dow Toray Co., Ltd. Electronic component or precursor thereof, and method for manufacturing same
WO2021251148A1 (en) * 2020-06-08 2021-12-16 信越化学工業株式会社 Thermally-conductive addition-curable silicone composition and cured product thereof
JP7335678B2 (en) 2020-06-08 2023-08-30 信越化学工業株式会社 Thermally conductive addition-curable silicone composition and its cured product
CN112662182A (en) * 2020-12-02 2021-04-16 上海阿莱德实业股份有限公司 Anti-poisoning addition type conductive silicone rubber composition and preparation method thereof
JP2022137416A (en) * 2021-03-09 2022-09-22 信越化学工業株式会社 Conductive silicone composition, adhesive, and conductive silicone cured material
WO2024057911A1 (en) * 2022-09-16 2024-03-21 三井化学株式会社 Conductive silicone rubber composition and anisotropic conductive sheet

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