JP7016304B2 - 干渉計の測定方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施形態に係る干渉計を含む光学系全体の構成を示す図である。図1に示すように、レーザー光源1の射出光は、ビームスプリッタ2で反射し、コリメータ3で平行光になり、参照レンズ4の参照平面4aで反射および透過し、被検レンズ5の被検面5aで反射し再度反射光と結合し、結像レンズ6を透過し、撮像素子7上に干渉縞を形成する。参照レンズ4は、ピエゾアクチュエータ8により、光軸方向に移動可能に支持される。撮像素子7および、ピエゾアクチュエータ8は、解析装置10に電気的に接続される。解析装置10は、複数の解析アルゴリズムを備える。解析アルゴリズムは、公知技術を使うか、公知技術を用いて設計すればよい。
第2実施形態では、工程3(アルゴリズム選択工程)と工程4(解析工程)が第1実施形態とは異なる。
第3実施形態では、工程2(実位相シフト量算出工程)が第1実施形態とは異なる。第1実施形態では、実位相シフト量が参照レンズの画面の座標から一意に求まることを前提としていたが、第3実施形態では、実位相シフト量を実測する。
Claims (5)
- 参照レンズと被検レンズの間隔を所定量動かしながら、所定枚数の干渉縞画像を取得する位相シフト工程と、
取得した前記干渉縞画像上の画素ごとに、実際の位相シフト量である実位相シフト量を算出する実位相シフト量算出工程と、
前記干渉縞画像上の画素ごとに、算出した前記実位相シフト量に基づいて、あらかじめ用意した複数の解析アルゴリズムの中から適用アルゴリズムを選択するアルゴリズム選択工程と、
前記被検レンズの被検面上の画素ごとに、選択した前記適用アルゴリズムを用いて、該画素の初期位相を求める解析工程と、
を備える干渉計の測定方法。 - 前記アルゴリズム選択工程において、前記干渉縞画像上の画素ごとに、前記複数の解析アルゴリズムの中から複数の適用アルゴリズムを選択し、
前記解析工程において、前記被検レンズの被検面上の画素ごとに、選択した前記複数の適用アルゴリズムによる複数の解析結果を、前記実位相シフト量を用いて、複素ベクトル空間で合成することにより該画素の初期位相を求める
請求項1に記載の干渉計の測定方法。 - 前記実位相シフト量算出工程において、前記被検面上の画素の座標、前記参照レンズ中心の撮像面座標、および前記参照レンズの開口数に基づいて、前記実位相シフト量を算出する、請求項1または2に記載の干渉計の測定方法。
- 前記実位相シフト量算出工程において、前記位相シフト工程で取得した前記干渉縞画像から前記実位相シフト量を算出する、請求項1または2に記載の干渉計の測定方法。
- 前記実位相シフト量算出工程において、前記位相シフト工程で取得した前記干渉縞画像上から空間的に略均一に複数の画素を選択して各画素における実際の輝度変化から実位相シフト量を算出し、算出した複数の前記実位相シフト量に基づいて、前記干渉縞画像上の全解析画素である被検面の各解析画素における前記実位相シフト量を近似算出する、請求項1または2に記載の干渉計の測定方法。
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