JP7003707B2 - 繊維処理剤及びその製造方法 - Google Patents
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これにより得られた窒素原子含有ポリシロキサンは、良好な柔軟性、低黄変性を示す。
1.
下記一般式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサンを含む繊維処理剤。
2.
下記一般式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサンとエポキシ化合物との反応生成物を含む繊維処理剤。
3.
R2が、下記一般式(2)で示される基である1又は2に記載の繊維処理剤。
-R5(NHCH2CH2)bNH2 (2)
(式中、R5は炭素数1~6の2価炭化水素基であり、bは0~4の整数である。)
4.
式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサンとエポキシ化合物との反応生成物が、下記一般式(5)で表されるものである2又は3に記載の繊維処理剤。
-R5(NR8CH2CH2)bNR8 2 (6)
〔式中、R5は炭素数1~6の2価炭化水素基であり、bは0~4の整数であり、R8は独立に、水素原子、又は-CH2C(OH)H(CH2O)k(C2H4O)m(C3H6O)nR9(R9は水素原子、又は炭素数1~8の1価炭化水素基であり、m、nはそれぞれ0~40の整数であり、kは0又は1である。)であり、R8の少なくとも1個は-CH2C(OH)H(CH2O)k(C2H4O)m(C3H6O)nR9である。〕
で示される基であり、R7は水酸基又は-OSiR6R3R3である。]
本発明の繊維処理剤は、下記一般式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサン、或いはこの窒素原子含有ポリシロキサンとエポキシ化合物との反応生成物を含むものである。
-R5(NHCH2CH2)bNH2 (2)
(式中、R5は炭素数1~6の2価炭化水素基であり、bは0~4の整数である。)
bは0~4の整数であり、好ましくは0~2の整数である。
-C3H6NH2
-C3H6NHC2H4NH2
-C3H6NHC2H4NHC2H4NH2
で表されるオルガノポリシロキサンと、(B)下記式(4)
で表されるエトキシ基を有する窒素原子含有オルガノシランとを、副生するアルコールを除去しながら反応させることにより得ることができる。
(A)/(B)=1.0の反応では、生成物の一部として、片末端に窒素原子含有基、片末端にシラノール基が残った窒素原子含有ポリシロキサンが得られる。このポリシロキサンは比較的反応性に富み、繊維との結合がより強く行われ、そのため、優れた柔軟性と長期柔軟性持続性、及び耐洗濯性を得ることができるが、反面、ポリシロキサンでの保存が必要な際、保存の条件によっては経時の粘度上昇をきたすときがある。
また、上記反応は、無触媒下で行うことができるが、反応が遅い場合は、必要に応じて、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウムのような触媒を用いることができる。
式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサンとエポキシ化合物との反応生成物は、上記式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサン中のNH又はNH2の水素原子の一部又は全部と、エポキシ化合物のエポキシ基とを、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤から選ばれる少なくとも1種の溶剤の存在下で反応させることにより得ることができる。
-R5(NR8CH2CH2)bNR8 2 (6)
〔式中、R5、bは上記と同じであり、R8は独立に、水素原子、又は-CH2C(OH)H(CH2O)k(C2H4O)m(C3H6O)nR9(R9、m、nは上記と同じであり、kは0又は1である。)であり、R8の少なくとも1個は-CH2C(OH)H(CH2O)k(C2H4O)m(C3H6O)nR9である。〕
で示される基であり、R7は水酸基又は-OSiR6R3R3である。]
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた500mlガラスフラスコに、(A)成分として下記平均構造式(7)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン148.0g(0.20mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン93.6g(0.40mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱エタノール反応によるエタノールの留出がみられた。反応終了後、得られた生成物について、29Si-NMR及び1H-NMRによる構造同定を行った。その結果、下記式(8)で示されるポリシロキサンが得られたことが分かった。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた500mlガラスフラスコに、(A)成分として下記平均構造式(9)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン296.0g(0.10mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン46.8g(0.20mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱エタノール反応によるエタノールの留出がみられた。反応終了後、得られた生成物について、29Si-NMR及び1H-NMRによる構造同定を行った。その結果、下記式(10)で示されるポリシロキサンが得られたことが分かった。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた500mlガラスフラスコに、(A)成分として下記平均構造式(11)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン325.6g(0.02mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン9.36g(0.04mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱エタノール反応によるエタノールの留出がみられた。反応終了後、得られた生成物について、29Si-NMR及び1H-NMRによる構造同定を行った。その結果、下記式(12)で示されるポリシロキサンが得られたことが分かった。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた500mlガラスフラスコに、(A)成分として上記平均構造式(9)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン296.0g(0.10mol)、及び(B)成分としてのγ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン38.3g(0.20mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱エタノール反応によるエタノールの留出がみられた。反応終了後、得られた生成物について、29Si-NMR及び1H-NMRによる構造同定を行った。その結果、下記式(13)で示されるポリシロキサンが得られたことが分かった。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた1,000mlガラスフラスコに、(A)成分として上記平均構造式(9)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン296.0g(0.10mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン46.8g(0.20mol)を仕込み、窒素通気下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱エタノール反応によるエタノールの留出がみられた。反応終了後、80℃に冷却し、イソプロピルアルコール14gと、下記平均構造式(14)で示されるエポキシ化合物204.4g(0.60mol)を添加し、80℃で4時間反応させた。その後、10mmHgの減圧下、120℃で2時間ストリップすることにより、無色透明のオイルが得られた。得られたオイルについて1H-NMRを測定したところ、全てのエポキシ基が反応していることが確認された。29Si-NMRの構造解析の結果、下記平均構造式(15)で示されるポリシロキサンであることが確認された。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた1,000mlガラスフラスコに、(A)成分として上記平均構造式(9)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン296.0g(0.10mol)、及び(B)成分としてのγ-アミノプロピルメチルジエトキシシラン38.3g(0.20mol)を仕込み、窒素通気下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱エタノール反応によるエタノールの留出がみられた。反応終了後、80℃に冷却し、イソプロピルアルコール14gと、上記平均構造式(14)で示されるエポキシ化合物136.3g(0.40mol)を添加し、80℃で4時間反応させた。その後、10mmHgの減圧下、120℃で2時間ストリップすることにより、無色透明のオイルが得られた。得られたオイルについて1H-NMRを測定したところ、全てのエポキシ基が反応していることが確認された。29Si-NMRの構造解析の結果、下記平均構造式(16)で示されるポリシロキサンであることが確認された。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた500mlガラスフラスコに、(A)成分として上記平均構造式(7)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン148.0g(0.20mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン82.6g(0.40mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱メタノール反応によるメタノールの留出がみられた。反応終了後、得られた生成物について、29Si-NMR及び1H-NMRによる構造同定を行った。その結果、下記式(17)で示されるポリシロキサンが得られたことが分かった。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた500mlガラスフラスコに、(A)成分として上記平均構造式(9)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン296.0g(0.10mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン41.3g(0.20mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱メタノール反応によるメタノールの留出がみられた。反応終了後、得られた生成物について、29Si-NMR及び1H-NMRによる構造同定を行った。その結果、下記式(18)で示されるポリシロキサンが得られたことが分かった。
エステルアダプター、冷却管及び温度計を備えた1,000mlガラスフラスコに、(A)成分として上記平均構造式(9)で示されるα,ω-ジヒドロキシジメチルシロキサン296.0g(0.10mol)、及び(B)成分としてN-β-(アミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン41.3g(0.20mol)を仕込み、窒素バブリング実施下で120℃にて4時間反応させた。エステルアダプターには脱メタノール反応によるメタノールの留出がみられた。反応終了後、80℃に冷却し、イソプロピルアルコール14gと、上記平均構造式(14)で示されるエポキシ化合物204.4g(0.60mol)を添加し、80℃で4時間反応させた。その後、10mmHgの減圧下、120℃で2時間ストリップすることにより、無色透明のオイルが得られた。得られたオイルについて1H-NMRを測定したところ、全てのエポキシ基が反応していることが確認された。29Si-NMRの構造解析の結果、下記平均構造式(19)で示されるポリシロキサンであることが確認された。
合成例5で得られた式(15)の窒素原子含有ポリシロキサン2gを198gの水中に加え撹拌し、窒素原子含有ポリシロキサン水分散液を調製した。
合成例6で得られた式(16)の窒素原子含有ポリシロキサン2gを198gの水中に加え撹拌し、窒素原子含有ポリシロキサン水分散液を調製した。
参考例3で得られた式(19)の窒素原子含有ポリシロキサン2gを198gの水中に加え撹拌し、窒素原子含有ポリシロキサン水分散液を調製した。
実施例1、実施例2及び比較例1で調製した窒素原子含有ポリシロキサン水分散液について以下に示す評価試験を行った。結果を表5に示す。
上記窒素原子含有ポリシロキサン水分散液にポリエステル/綿ブロード布(65%/35%、(株)谷頭商店製)を1分間浸漬した後、絞り率100%の条件でロールを用いて絞り、150℃で2分間乾燥後、更に150℃で2分間加熱処理して柔軟性評価用の処理布を作製した。該処理布を3人のパネラーが手触りし、柔軟性を以下の基準により評価した。
<評価基準>
A:触り心地が非常に良好である。
B:触り心地が良好である。
C:触り心地が悪い。
上記窒素原子含有ポリシロキサン水分散液にポリエステル/綿ブロード布(65%/35%、(株)谷頭商店製)を10秒間浸漬した後、絞り率100%の条件でロールを用いて絞り、150℃で2分間乾燥した。その後、本処理布にスポイトで水道水を一滴(25μL)滴下し、水滴が布に完全に吸収されるまでの時間(秒)を測定した。その後、本処理布を、JIS L0217 103に準拠した手法により、洗濯機による洗濯を一回行い、再度吸水性試験を実施した。
上記窒素原子含有ポリシロキサン水分散液にポリエステル/綿ブロード布(65%/35%、(株)谷頭商店製)を10秒間浸漬した後、絞り率100%の条件でロールを用いて絞り、150℃で2分間乾燥した。その後、本処理布を、JIS L0217 103に準拠した手法により、洗濯機による洗濯を一回行った。洗濯一回後の繊維表面のシリコーン残存量を蛍光X線分析装置((株)リガク製)にて測定した。洗濯を行っていない場合と比較し、残存率(%)を算出した。
Claims (3)
- 下記一般式(5)で表される、窒素原子含有ポリシロキサンとエポキシ化合物との反応生成物を含む繊維処理剤。
-R5(NR8CH2CH2)bNR8 2 (6)
〔式中、R5は炭素数1~6の2価炭化水素基であり、bは1~4の整数であり、R8は独立に、水素原子、又は-CH2C(OH)H(CH2O)k(C2H4O)m(C3H6O)nR9(R9は水素原子、又は炭素数1~8の1価炭化水素基であり、m、nはそれぞれ0~40の整数であり、kは0又は1である。)であり、R8の少なくとも1個は-CH2C(OH)H(CH2O)k(C2H4O)m(C3H6O)nR9である。〕
で示される基であり、R7は水酸基又は-OSiR6R3R3である。] - (I)(A)下記式(3)
で表されるオルガノポリシロキサンと、(B)下記式(4)
で表されるエトキシ基を有する窒素原子含有オルガノシランとを、副生するアルコールを除去しながら反応させ、下記一般式(1)
-R5(NHCH2CH2)bNH2 (2)
(式中、R5は炭素数1~6の2価炭化水素基であり、bは1~4の整数である。)
で示される基であり、R3は独立にR1又はエトキシ基で、R3のうち少なくとも1個はエトキシ基であり、R4は水酸基又は-OSiR2R3R3であり、aは2~2,000の整数である。)
で表される窒素原子含有ポリシロキサンを得る工程と、
(II)上記一般式(1)で表される窒素原子含有ポリシロキサンとエポキシ化合物とを反応させる工程を含む、請求項1記載の繊維処理剤を製造する製造方法。
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