JP7002280B2 - 化粧シート、エンボス加工方法及びエンボス加工型 - Google Patents

Description

本発明は、化粧シートと、化粧シートを製造するエンボス加工方法と、化粧シート製造用のエンボス加工型に関する。

化粧シートに関する技術が提案されている。例えば、特許文献１には、車輌の座席用表皮材が開示されている。座席用表皮材は、凹凸模様を有する。座席用表皮材は、次のように製造される。即ち、座席用表皮材の製造方法では、積層シートがエンボスロールとヒートロールの間を押圧された状態で通過する。積層シートは、表地とクッション層となる基材を積層一体化して形成され、又は表地と繊維質基材を積層一体化して形成される。エンボスロールは、１００～２５０℃に温度設定される。ヒートロールは、１００～２５０℃に温度設定される。加工スピードは、０．３～１０ｍ／分とされる。この製造方法は、カレンダーロールをヒートロールと反対側にエンボスロールに接するように配置し、積層シートがエンボスロールに１／２周接するように行うことも可能である。

特許文献２には、座席用表皮材が開示されている。座席用表皮材は、長尺材の表面にエンボス模様を付与することにより形成される。製造方法は、長尺材を押圧する工程を備える。この工程では、長尺材は、エンボスロールとフラットロールの間を通過する。エンボスロールには、ベース面から突出する複数の型押部が設けられる。長尺材がエンボスロールとフラットロールの間を通過すると、型押部の加熱及び押圧によって、表地と裏地とクッション材が互いに熱融着する。更に、エンボスロールとフラットロールは、共に加熱されているから、表地及び裏地は、クッション材と熱融着する。クッション材は、熱融着する部分が圧縮された状態となる。座席用表皮材の表地側には、型押部の加熱及び押圧により凹部が形成される。座席用表皮材の裏地側には、表地の凹部と対応する位置に、凹部が形成される。エンボス加工により、表地及び裏地の各表面に複数の凹部が形成されたエンボス模様を有する座席用表皮材が形成される。

特許文献３には、座席用シート材が開示されている。座席用シート材は、表皮材単体又は表皮材を含む積層体である。座席用シート材は、表皮材の表面側に凹凸形状を有する。凹凸形状は、熱プレス成形によって形成される。凹部は、底面に微細な凹凸を有する。これにより、凹部の底面は、光沢のない、つや消し状となる。このような凹部の底面は、型押し部の表面に微細な凹凸を付けた熱プレス成形型による熱プレスにより形成される。熱プレス成形型では、微細な凹凸は、サンドブラスト法により付けられる。

この他、特許出願人は、特許文献４で、次のような皮革地を提案している。即ち、皮革地は、小幅の薄肉部を含む。皮革地には、複数の薄肉部が不等間隔で形成される。薄肉部には、全体に亘って点状の凹部が形成される。

特開２００７－２７６２８５号公報 特許第５９１３７５５号公報 特開２００５－２６１５８１号公報 意匠登録第１５６１８３５号公報

化粧シートでは、基材の表面に凹凸模様が設けられる。化粧シートは、各種の製品の表地として利用される。他の事業者による競合製品との差別化が必要となることがある。この場合、例えば、意匠性の点で、公知の化粧シートとは異なる化粧シートが求められる。そこで、発明者は、公知の化粧シートとは異なる凹凸模様を有する新たな化粧シートについて検討した。その際、発明者は、基材の表面に凹凸模様を形成する製造方法として、エンボス加工の採用を考慮した。

本発明は、所定の製品の表地となる新たな化粧シートと、化粧シートを製造するエンボス加工方法と、化粧シート製造用のエンボス加工型を提供することを目的とする。

本発明の一側面は、基材と、前記基材の表面に設けられる凹凸模様と、を含み、前記凹凸模様は、深さ方向が前記基材の厚み方向に一致する、有底の第一凹部と、前記第一凹部と隣接し、高さ方向が前記厚み方向に一致する、凸部と、前記第一凹部の底面で開口し、深さ方向が前記厚み方向に一致する、有底の複数の第二凹部と、を含み、前記複数の第二凹部は、前記厚み方向で前記第一凹部の底面の側となる前記第二凹部の開口端の前記厚み方向に直交する開口方向の最大寸法以上、前記第一凹部と前記凸部との境界から離間した、前記第一凹部の底面の第一領域に全て設けられ、前記第一凹部と前記凸部との境界と、前記第一領域と、の間となる前記第一凹部の底面の部分に設けられない、化粧シートである。

この化粧シートによれば、第一凹部の底面に設けられた第二凹部の視認性を向上させることができる。化粧シートの看者は、第二凹部を、化粧シートの表側の斜め上方から視認することができる。

化粧シートでは、前記基材は、前記基材の表面を形成する第一シートと、クッション性を有し、前記第一シートと積層される第二シートと、を含み、前記第二凹部は、前記第二凹部の底面が前記第一シートに含まれる状態で、前記第一シートに設けられる、ようにしてもよい。この構成によれば、第一シートによって第二シートを被覆することができる。化粧シートの表側から第二シートを視認できない状態とすることができる。化粧シートの表面において、第二シートの露出を防止することができる。

化粧シートでは、前記第二凹部は、前記第二凹部の開口端の前記開口方向の最大寸法が０．５ｍｍ以上２ｍｍ以下となる凹部である、ようにしてもよい。また、化粧シートでは、前記複数の第二凹部は、前記第一凹部の底面で前記複数の第二凹部が開口する開口領域を除く前記第一凹部の底面の第一面積と、前記開口領域の第二面積と、を合計した第三面積に対する前記第二面積の比率が５％以上３５％以下となる状態で、前記第一領域に設けられる、ようにしてもよい。更に、化粧シートでは、前記第二凹部は、前記第二凹部の壁面と前記第二凹部の底面とのなす角度が９０°以上１２０°以下となる凹部である、ようにしてもよい。更にまた、化粧シートでは、前記第二凹部は、前記第二凹部の底面の前記開口方向の最大寸法が前記第二凹部の開口端の前記開口方向の最大寸法の３０％以上８０％以下となる凹部である、ようにしてもよい。

これらの各構成によれば、化粧シートの看者に、基材の表面に設けられた第二凹部を視認させることができる。

本発明の他の側面は、基材の表面に凹凸模様を形成するエンボス工程を含み、前記エンボス工程は、前記凹凸模様に含まれ、深さ方向が前記基材の厚み方向に一致する、有底の第一凹部を形成する第一凹部工程と、前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部と隣接し、高さ方向が前記厚み方向に一致する、凸部を形成する凸部工程と、前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部の底面で開口し、深さ方向が前記厚み方向に一致する、有底の複数の第二凹部を形成する第二凹部工程と、を含み、前記第二凹部工程は、前記複数の第二凹部を、前記厚み方向で前記第一凹部の底面の側となる前記第二凹部の開口端の前記厚み方向に直交する開口方向の最大寸法以上、前記第一凹部と前記凸部との境界から離間した、前記第一凹部の底面の第一領域に全て形成し、前記第一凹部と前記凸部との境界と、前記第一領域と、の間となる前記第一凹部の底面の部分に形成しない、工程で、前記第一凹部工程と共に行われる、エンボス加工方法である。

本発明の更に他の側面は、基材の表面に接し、前記基材の表面に形成される凹凸模様に対応する凹凸状の成形部を含み、前記成形部は、前記凹凸模様に含まれ、深さ方向が前記基材の厚み方向に一致する、有底の第一凹部に対応する凸状の第一型部と、前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部と隣接し、高さ方向が前記厚み方向に一致する、凸部に対応する凹状の第二型部と、前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部の底面で開口し、深さ方向が前記厚み方向に一致する、有底の複数の第二凹部に対応する凸状の複数の第三型部と、を含み、前記複数の第三型部は、前記第一型部の頂面の側となる前記第三型部の後端の前記第一型部の頂面に沿った方向の最大寸法以上、前記第一凹部と前記凸部との境界に対応する前記第一型部の頂面の外縁部分から離間した、前記第一型部の頂面の第二領域に全て設けられ、前記第一型部の頂面の外縁部分と、前記第二領域と、の間となる前記第一型部の頂面の部分に設けられない、エンボス加工型である。

上記のエンボス加工方法及びエンボス加工型によれば、上述した化粧シートを製造することができる。

本発明によれば、所定の製品の表地となる新たな化粧シートと、化粧シートを製造するエンボス加工方法と、化粧シート製造用のエンボス加工型を得ることができる。

基材及び化粧シートの概略構成の一例を示す斜視図である。上段は、エンボス加工前の基材を示す。下段は、エンボス加工後の化粧シートを示す。 化粧シートの概略構成の一例を示す平面図である。図１下段に示す化粧シートの表面を示す。 第二凹部の概略構成を示す側面断面図である。切断位置は、図１下段に示すＦ－Ｆ線に対応する。基材は、厚み方向の一部を示す。 エンボス加工装置の概略構成の一例を示す側面図である。エンボス加工型とエンボス受型は、ロール形状を有する。 エンボス加工型の概略構成の一例を示す部分斜視図である。第二基準領域に対応するエンボス加工型の範囲を示す。 第三型部の概略構成の一例を示す側面図である。 エンボス加工装置の概略構成の他の例を示す側面図である。エンボス加工型とエンボス受型は、平板状の形状を有する。エンボス受型に対してエンボス加工型が配置方向の第一側に移動した状態を示す。

本発明を実施するための実施形態について、図面を用いて説明する。本発明は、以下に記載の構成に限定されるものではなく、同一の技術的思想において種々の構成を採用することができる。例えば、以下に示す構成の一部は、省略し又は他の構成等に置換してもよい。他の構成を含むようにしてもよい。実施形態の各図は、所定の構成を模式的に示したものである。従って、実施形態の各図は、他の図との対応、又は図中の構成を特定する後述の数値との対応が正確ではない場合もある。実施形態の各図で、ハッチングは、切断面を示す。

＜化粧シート＞
化粧シート１０について、図１～図３を参照して説明する。化粧シート１０は、基材２０と、凹凸模様３０を含む。化粧シート１０では、凹凸模様３０は、基材２０の表面に設けられる。実施形態では、化粧シート１０と基材２０は、長尺のシート材とする。凹凸模様３０は、エンボス加工装置５０によるエンボス加工方法の実施により、基材２０の表面に賦形（形成）される。エンボス加工装置５０とエンボス加工方法については、後述する。基材２０の長手方向は、化粧シート１０の長手方向となり、基材２０の短手方向は、化粧シート１０の短手方向となる。従って、実施形態では、化粧シート１０及び基材２０の長手方向を単に「長手方向」といい、化粧シート１０及び基材２０の短手方向を単に「短手方向」という（図１参照）。長手方向及び短手方向は、互いに直交する。

基材２０としては、各種のシート材が採用される。例えば、厚さの異なる各種のシート材が基材２０として採用される。基材２０は、２層以上の積層体である。この場合、化粧シート１０も、基材２０と同数の積層体となる。実施形態では、基材２０は、第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６による３層のクッション性を有する積層体とする（図１上段参照）。この場合、化粧シート１０も、３層のクッション性を有する積層体となる（図１下段参照）。但し、基材は、２層又は４層以上の積層体としてもよい。例えば、基材を２層の積層体とする場合、この基材は、第一シート２２と第二シート２４による積層体としてもよい。

実施形態では、厚み方向において、第一シート２２が設けられる側を「表側」といい、第三シート２６が設けられる側を「裏側」という。厚み方向は、基材２０で第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６が積層される方向に一致する。基材２０と第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６の各シート材について、表面は、厚み方向の表側となる面であり、裏面は、厚み方向の裏側となる面である。エンボス加工により、基材２０の表面は、化粧シート１０の表面となり、基材２０の裏面は、化粧シート１０の裏面となる。即ち、化粧シート１０の状態では、化粧シート１０の表面と基材２０の表面は、同じ面を意味する。例えば、化粧シート１０が車両用の内装品の表地となる場合、化粧シート１０の表面は、前述の内装品の表面となる。車両のユーザは、内装品の表面を形成する化粧シート１０の表面を視認する。

基材２０の厚さＴ（図１上段参照）は、諸条件を考慮して適宜決定される。但し、好ましくは、基材２０の厚さＴは、１．３～１５．５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。これにより、基材２０の表面に、明瞭な凹凸模様３０を賦形することができる。基材２０は、第二シート２４の表面に第一シート２２を貼り合わせ、第二シート２４の裏面に第三シート２６を貼り合わせて形成される。第二シート２４と第一シート２２及び第三シート２６の各貼り合わせには、公知の工法が採用される。例えば、前述の貼り合わせは、接着剤を介して行われる。この他、前述の貼り合わせは、フレームラミネートによって行われる。前述の２個の工法を比較した場合、発明者は、基材２０の製造時の工程負荷及び基材２０の軽量化の点で、フレームラミネートが好ましいと考える。フレームラミネートは、既に実用化された技術である。従って、フレームラミネートに関する説明は、省略する。

第一シート２２としては、各種のシート材が採用される。例えば、第一シート２２としては、繊維質シート材を採用できる。繊維質シート材としては、織物、編物、不織布又は天然皮革が例示される。天然皮革は、床革を含む。この他、第一シート２２としては、例えば、次のようなシート材を採用できる。前述のシート材は、繊維質シート材に合成樹脂を含浸又は積層したシート材である。このようなシート材としては、人工皮革、合成皮革又は塩化ビニルレザーが例示される。第一シート２２の厚さＴ１（図１上段参照）は、０．３～１．５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。好ましくは、第一シート２２の厚さＴ１は、０．５～１ｍｍの範囲の所定値とするとよい。但し、第一シート２２の厚さＴ１は、前述の範囲とは異なる値としてもよい。第一シート２２の厚さＴ１は、諸条件を考慮して適宜決定される。

第一シート２２では、繊維質シート材は、エンボス加工における加工性の点で、熱可塑性樹脂製の繊維を素材としたシート材とするとよい。熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル又はポリ塩化ビニリデンが例示される。ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン又はポリプロピレンが例示される。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートが例示される。ポリアミド系樹脂としては、ナイロン６又はナイロン６６が例示される。繊維質シート材は、前述の複数の樹脂を含む群から選ばれる１種又は２種以上の熱可塑性樹脂製の繊維を素材として形成することができる。

第一シート２２が繊維質シート材に合成樹脂を含浸又は積層したシート材である場合、含浸又は積層される樹脂としては、公知の合成樹脂を採用できる。前述の合成樹脂としては、ポリウレタン樹脂又は塩化ビニル樹脂が例示される。更に、繊維質シート材は、公知の染料又は顔料により着色されていてもよい。染料又は顔料は、諸条件を考慮して適宜選択される。

第二シート２４は、クッション性を有する。これに伴い、基材２０は、上述したように、クッション性を有する。第二シート２４としては、クッション性を有する各種のシート材が採用される。このようなシート材としては、合成樹脂発泡体、不織布、多層織物又は多層編物が例示される。発明者は、クッション性を有する前述の各シート材のうち、エンボス加工における加工性の点で、合成樹脂発泡体が好ましいと考える。特に、発明者は、汎用性の点で、ポリウレタンフォームが好ましいと考える。第二シート２４の厚さＴ２（図１上段参照）は、１～１４ｍｍの範囲の所定値とするとよい。

第三シート２６としては、各種のシート材が採用される。例えば、第三シート２６としては、織物、編物又は不織布を採用できる。第三シート２６では、シート材の目付は、諸条件を考慮して適宜決定される。例えば、第三シート２６が織物又は編物である場合、織物又は編物の目付は、１０～８０ｇ／ｍ^２の範囲の所定値とするとよい。第三シート２６が不織布である場合、不織布の目付は、１０～４０ｇ／ｍ^２の範囲の所定値とするとよい。第三シート２６は、第一シート２２と同様、エンボス加工における加工性の点で、熱可塑性樹脂製の繊維を素材としたシート材とするとよい。素材となる熱可塑性樹脂としては、第一シート２２に関連して上述した樹脂が例示される。

凹凸模様３０は、第一凹部３２と、凸部３４と、第二凹部３６を含む（図１下段、図２及び図３参照）。第一凹部３２は、有底の凹部である（図１下段及び図３参照）。更に、第一凹部３２は、深さ方向が厚み方向に一致する凹部である。凸部３４は、第一凹部３２と隣接し、高さ方向が厚み方向に一致する凸部である。第二凹部３６は、有底の凹部である（図３参照）。更に、第二凹部３６は、第一凹部３２の底面で開口し、深さ方向が厚み方向に一致する凹部である。第二凹部３６は、第一凹部３２の底面の第一領域Ｒ１に設けられる（図２参照）。第一領域Ｒ１は、最大寸法Ｗ１以上、第一凹部３２と凸部３４の境界から離間した、第一凹部３２の底面の領域である。最大寸法Ｗ１は、厚み方向で第一凹部３２の底面の側となる第二凹部３６の開口端の開口方向の最大寸法である（図３参照）。開口方向は、厚み方向に直交する。第二凹部３６の開口端が円形である場合、最大寸法Ｗ１は、円の直径である。第二凹部３６の開口端が楕円形である場合、最大寸法Ｗ１は、楕円の長径である。第二凹部３６の開口端が四角形である場合、最大寸法Ｗ１は、２本の対角線のうちの長くなる対角線の寸法である。凹凸模様３０では、次の距離Ｌ１と最大寸法Ｗ１の関係は、「距離Ｌ１≧最大寸法Ｗ１」となる。距離Ｌ１は、第一凹部３２と凸部３４の境界から第二凹部３６に至る長手方向の距離である（図２参照）。

実施形態では、凹凸模様３０は、複数の第一凹部３２と複数の凸部３４が長手方向に交互に繰り返されている凹凸状の模様とする（図１及び図２参照）。第一凹部３２は、底面が短手方向に基材２０を横断する長方形状とする。凸部３４は、頂面が短手方向に基材２０を横断する長方形状とする。更に、凹凸模様３０は、複数の第二凹部３６が短手方向に配列されて１本の第二凹部列を形成し、この列が長手方向に複数列設けられた模様とする。第二凹部列は、２列とし、２本の第二凹部列は、短手方向に所定量だけずれた状態で、長手方向に隣り合って設けられている。第二凹部３６は、開口端及び底面が円形状で、底面が第一凹部３２の底面と平行である円錐台状の凹部とする。図１下段及び図２では、１個の第一凹部３２の底面に設けられた複数の第二凹部３６のうちの１個の第二凹部に対して符号「３６」を付している。

このような凹凸模様３０は、例示である。化粧シート１０では、凹凸模様３０として、各種の凹凸模様が採用される。第一凹部３２及び凸部３４と第二凹部３６は、上述した形状とは異なる形状としてもよい。第一凹部３２は、底面が、例えば、円形状、楕円形状、多角形状、星形状及び花形状の何れかである凹部としてもよい。凸部３４は、第一凹部３２の形状に対応した形状となり、複数の第一凹部３２の間を形成する。第二凹部３６は、開口端及び底面が、例えば、楕円形状、多角形状、星形状及び花形状の何れかである凹部としてもよい。

第一凹部３２は、凹凸模様３０の意匠性の点で、第三面積が２５ｍｍ^２以上である凹部とするとよい。第三面積を２５ｍｍ^２以上とすることで、第二凹部３６の賦形が容易となる。凹凸模様３０の意匠性を高めることができる。第三面積は、第一面積と第二面積を合計した面積である。第一面積は、開口領域を除く第一凹部３２の底面の面積である。開口領域は、第一凹部３２の底面（第二凹部３６の開口端）で第二凹部３６が開口する領域である。第二面積は、開口領域の面積である。１個の第一凹部３２の底面にＮ個の第二凹部３６が設けられているとする。１個の第二凹部３６について、第一凹部３２の底面で第二凹部３６が開口する領域の面積がＭであるとする。この場合、第二面積は、ＮとＭの積となる。第一面積と第二面積と第三面積は、何れも１個の第一凹部３２の底面を対象とする。

第一凹部３２は、第一基準領域に対して面積比で５～６０％とするとよい。前述の面積比は、化粧シート１０を厚み方向の表側から平面視した状態（図２参照）で視認できる第一凹部３２及び第一基準領域の各範囲の面積を基準とする。第一基準領域は、隣り合う１組の第一凹部３２と凸部３４による領域である（図１下段及び図２参照）。前述の面積比を５％以上とすることで、化粧シート１０では、凹凸模様３０を立体感のある模様とすることができる。前述の面積比を６０％以下とすることで、凸部３４を高さのある凸部とし、凹凸模様３０を立体感のある模様とすることができる。凸部３４を介して隣り合う２個の第一凹部３２は、エンボス加工前の基材２０の厚さＴの２倍程度離間させるとよい。これにより、化粧シート１０では、つれこみと称される不具合の発生を抑制することができる。凹凸模様３０にラウンド感及び立体感を付与できる。つれこみは、第一シート２２が凸部３４の頂面から第一凹部３２へと連続する第一凹部３２の部分で、第一凹部３２の底面の側に引っ張られた状態となる不具合である。

第一凹部３２の深さＤ１（図３参照）は、諸条件を考慮して適宜決定される。但し、第一凹部３２は、深さＤ１が１～１５ｍｍの範囲の所定値となる凹部とするとよい。深さＤ１を１ｍｍ以上とすることで、凹凸模様３０を立体感のある模様とすることができる。深さＤ１を１５ｍｍ以下とすることで、エンボス加工方法の実施において良好な加工性を確保することができる。化粧シート１０の生産性を高めることができる。

第二凹部３６の深さＤ２（図３参照）は、第一シート２２の厚さＴ１に対して５０％以上１００％未満とするとよい。深さＤ２を厚さＴ１に対して５０％以上とすることで、第二凹部３６の視認性を向上させることができる。化粧シート１０の看者は、第二凹部３６を視認することができる。深さＤ２を厚さＴ１に対して１００％未満とすることで、第二凹部３６の底面が第一シート２２に含まれる状態とすることができる。好適な意匠性の凹凸模様３０とすることができる。

第二凹部３６は、最大寸法Ｗ１が０．５～２ｍｍの範囲の所定値となる凹部とするとよい。最大寸法Ｗ１を０．５ｍｍ以上とすることで、第二凹部３６の視認性を向上させることができる。化粧シート１０の看者は、第二凹部３６を視認することができる。最大寸法Ｗ１を２ｍｍ以下とすることで、第一凹部３２の底面に対する第二凹部３６の配置の自由度を高め、好適な意匠性の凹凸模様３０とすることができる。第二凹部３６は、開口端の開口面積が０．１９～３．２ｍｍ^２の範囲の所定値となる凹部としてもよい。

第二凹部３６は、第三面積に対する第二面積の比率が５％以上３５％以下となる状態で、第一領域Ｒ１に設けるとよい。前述の比率を５％以上とすることで、凹凸模様３０を好適な意匠性の模様とすることができる。前述の比率を３５％以下とすることで、シャープな形状の第二凹部３６とすることができる。

第二凹部３６は、角度θ１が９０～１２０°の範囲の所定値となる凹部とするとよい。角度θ１は、第二凹部３６の壁面と第二凹部３６の底面のなす角度である（図３参照）。角度θ１を９０°以上とすることで、第二凹部３６の開口端の角部Ｅをシャープな形状とすることができる。角度θ１を１２０°以下とすることで、第二凹部３６を貫通孔のように見せることができる。化粧シート１０の看者に、複数の第二凹部３６が設けられた第一凹部３２の底面の部分が複数の貫通孔を含む模様であるかのような印象を与えることができる。

第二凹部３６は、最大寸法Ｗ１に対する最大寸法Ｗ２の比率が３０～８０％の範囲の所定値となる凹部とするとよい。最大寸法Ｗ２は、第二凹部３６の底面の開口方向の最大寸法である（図３参照）。第二凹部３６の底面が円形である場合、最大寸法Ｗ２は、円の直径である。第二凹部３６の底面が楕円形である場合、最大寸法Ｗ２は、楕円の長径である。第二凹部３６の底面が四角形である場合、最大寸法Ｗ２は、２本の対角線のうちの長くなる対角線の寸法である。前述の比率を３０％以上とすることで、第二凹部３６の開口端の角部Ｅをシャープな形状とすることができる。前述の比率を８０％以下とすることで、第二凹部３６を貫通孔のように見せることができる。化粧シート１０の看者に、複数の第二凹部３６が設けられた第一凹部３２の底面の部分が複数の貫通孔を含む模様であるかのような印象を与えることができる。

＜エンボス加工装置＞
エンボス加工装置５０について、図４及び図５を参照して説明する。エンボス加工装置５０は、化粧シート１０を製造する加工装置である。エンボス加工装置５０は、供給装置９５から繰り出された長尺の基材２０を搬送し、基材２０にエンボス加工を行う。基材２０に対するエンボス加工は、連続的に行われる。その後、エンボス加工が施された基材２０は、化粧シート１０として、回収装置９６に回収される。

図４では、基材２０及び化粧シート１０と供給装置９５と回収装置９６の各図示は、簡略化されている。基材２０及び化粧シート１０は、供給装置９５から回収装置９６まで連続した長尺のシート材の態様を有する。図４では、基材２０及び化粧シート１０は、エンボス加工装置５０の対象である範囲が図示されている。供給装置９５としては、公知のエンボス加工装置に設けられる供給装置を採用できる。回収装置９６としては、公知のエンボス加工装置に設けられる回収装置を採用できる。従って、供給装置９５と回収装置９６に関する説明は、省略する。実施形態では、基材２０及び化粧シート１０が供給装置９５から回収装置９６に向けて搬送される方向を「搬送方向」という。

エンボス加工装置５０は、エンボス加工型６０と、エンボス受型８０と、加熱部９０，９２を備える。エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０とエンボス受型８０は、共にロール形状を有する。この場合、エンボス加工型６０は、エンボスロールと称され、エンボス受型８０は、受けロール又はバックアップロールと称されることもある。エンボス加工型６０とエンボス受型８０は、所定の方向に並んで設けられる。実施形態では、前述の所定の方向を「配置方向」という。配置方向を鉛直方向とし、搬送方向を水平方向とする。この場合、基材２０の厚み方向（積層方向）は、鉛直方向に一致する。エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０が配置方向の第一側（鉛直方向の上側）に設けられ、エンボス受型８０が配置方向の第二側（鉛直方向の下側）に設けられている。配置方向と搬送方向は、前述の各方向とは異なる方向としてもよい。但し、搬送方向は、配置方向に対して直交する方向とするとよい。

エンボス加工型６０は、シャフト６２を回転軸として、搬送方向に対応する方向に回転する。エンボス加工型６０には、駆動部からの駆動力が付与される。駆動部は、シャフト６２に取り付けられる。これに伴い、エンボス加工型６０は、前述したように回転する。図４では、駆動部の図示は、省略されている。駆動部としては、モータが例示される。図４で、エンボス加工型６０の内部に示す片矢の矢印は、エンボス加工型６０の回転方向を示す。エンボス加工型６０は、公知のエンボス加工型と同様の材料にて形成される。例えば、エンボス加工型６０は、金属製とされる。エンボス加工型６０を形成する金属としては、鋼材が例示される。

エンボス加工型６０は、凹凸模様３０に対応する凹凸状の成形部７０を含む。成形部７０は、基材２０の表面に接し、基材２０の表面を押圧する。成形部７０は、第一型部７２と、第二型部７４と、第三型部７６を含む（図４及び図５参照）。第一型部７２は、成形部７０のうち、第一凹部３２に対応する凸状の部分である。第二型部７４は、成形部７０のうち、凸部３４に対応する凹状の部分である。第三型部７６は、成形部７０のうち、第二凹部３６に対応する凸状の部分である。第三型部７６は、第一型部７２の頂面の第二領域Ｒ２に設けられる（図５参照）。第二領域Ｒ２は、最大寸法Ｗ３以上、第一凹部３２と凸部３４の境界に対応する第一型部７２の頂面の外縁部分から離間した、第一型部７２の頂面の領域である。最大寸法Ｗ３は、第三型部７６の後端の次の方向の最大寸法である（図５及び図６参照）。第三型部７６の後端は、第一型部７２の頂面の側となる第三型部７６の端である。前述の方向は、第一型部７２の頂面に沿った方向である。実施形態では、第二凹部３６は、上述したような円錐台状の凹部であるから、第三型部７６の後端は、円形状となる。従って、最大寸法Ｗ３は、円の直径である。これとは異なり、第二凹部３６が楕円錐台状である場合、最大寸法Ｗ３は、楕円の長径である。第二凹部３６が四角錐台状である場合、最大寸法Ｗ３は、２本の対角線のうちの長くなる対角線の寸法である。エンボス加工型６０では、次の距離Ｌ２と最大寸法Ｗ３の関係は、「距離Ｌ２≧最大寸法Ｗ３」となる。距離Ｌ２は、第一型部７２の頂面の外縁部分から第三型部７６に至る前述の方向の最短距離である（図５参照）。

実施形態では、複数の第一凹部３２と複数の凸部３４が長手方向に交互に繰り返される凹凸模様３０（図１及び図２参照）に対応させ、成形部７０は、複数の第一型部７２と、複数の第二型部７４を含む（図４参照）。複数の第一型部７２と複数の第二型部７４は、周方向に交互に繰り返される。エンボス加工型６０では、周方向は、エンボス加工型６０の回転方向及びこれとは反対の方向に一致する（図４及び図５参照）。凹凸模様３０では、複数の第二凹部３６は、短手方向に配列されて第二凹部列を形成し、且つ第二凹部列が長手方向に複数列設けられた状態で、第一凹部３２の底面に配置される。従って、成形部７０は、複数の第三型部７６を含む（図５参照）。複数の第三型部７６は、第二領域Ｒ２で、前述した複数の第二凹部３６の配置に対応する各位置に設けられる。図４及び図５では、１個の第一型部７２に対する複数の第三型部７６のうちの１個の第三型部に対して符号「７６」を付している。

第一凹部３２の底面が長方形状である場合（図１及び図２参照）、第一型部７２は、頂面が第一凹部３２の底面に対応した長方形状である凸状に形成される（図５参照）。これとは異なり、第一凹部３２の底面が、上記で例示した円形状、楕円形状、多角形状、星形状及び花形状の何れかであるとする。この場合、第一型部７２は、頂面が第一凹部３２の底面に対応した円形状、楕円形状、多角形状、星形状及び花形状のうちの何れかである凸状に形成される。

第一型部７２は、頂面の面積が２５ｍｍ^２以上である凸状とするとよい。これにより、第一凹部３２を、第三面積が２５ｍｍ^２以上である凹部とすることができる。エンボス加工型６０を作製する場合、第三型部７６の形成が容易となる。

第一型部７２は、第二基準領域に対して面積比で５～６０％とするとよい。前述の面積比は、上述した第一基準領域に対する第一凹部３２の面積比に対応する。第二基準領域は、隣り合う１組の第一型部７２と第二型部７４による領域である（図５参照）。これにより、第一凹部３２を、第一基準領域に対して面積比で５～６０％とすることができる。第二基準領域に対する第一型部７２の面積比を５％以上とすることで、基材２０の表面に、立体感のある凹凸模様３０を賦形することができる。第二基準領域に対する第一型部７２の面積比を６０％以下とすることで、高さのある凸部３４とし、基材２０の表面に、立体感のある凹凸模様３０を賦形することができる。

第一型部７２の高さＨ１（図５参照）は、諸条件を考慮して適宜決定される。但し、第一型部７２は、高さＨ１が１～１５ｍｍの範囲の所定値となる凸状とするとよい。高さＨ１を１ｍｍ以上とすることで、基材２０の表面に、立体感のある凹凸模様３０を賦形することができる。高さＨ１を１５ｍｍ以下とすることで、エンボス加工方法の実施において良好な加工性を確保することができる。加工速度の低速化を防止し、化粧シート１０の生産性を高めることができる。

第二凹部３６の開口端及び底面が円形状である場合（図１及び図２参照）、第三型部７６は、後端及び頂面が第二凹部３６の開口端及び底面に対応した円形状である凸状に形成される（図５参照）。これとは異なり、第二凹部３６の開口端及び底面が、上記で例示した楕円形状、多角形状、星形状及び花形状の何れかであるとする。この場合、第三型部７６は、後端及び頂面が第二凹部３６の開口端及び底面に対応した楕円形状、多角形状、星形状及び花形状のうちの何れかである凸状に形成される。

第三型部７６の高さＨ２（図６参照）は、第一シート２２の厚さＴ１に対して５０％以上１００％未満とするとよい。これにより、第二凹部３６の深さＤ２を、第一シート２２の厚さＴ１に対して５０％以上１００％未満とすることができる。高さＨ２を厚さＴ１に対して５０％以上とすることで、基材２０の表面（第一凹部３２の底面）に、好適な視認性を有する第二凹部３６を賦形することができる。高さＨ２を厚さＴ１に対して１００％未満とすることで、第二凹部３６の底面を第一シート２２に含まれる状態とすることができる。

第三型部７６は、最大寸法Ｗ３が０．５～２ｍｍの範囲の所定値となる凸状とするとよい（図６参照）。これにより、第二凹部３６を、最大寸法Ｗ１が０．５～２ｍｍの範囲の所定値となる凹部とすることができる。最大寸法Ｗ３を０．５ｍｍ以上とすることで、好適な視認性を有する第二凹部３６を賦形することができる。最大寸法Ｗ３を２ｍｍ以下とすることで、基材２０の表面に、好適な意匠性を有する凹凸模様３０を賦形することができる。第三型部７６は、第三型部７６の後端の面積が０．１９～３．２ｍｍ^２の範囲の所定値となる凸状としてもよい。

第三型部７６は、第六面積に対する第五面積の比率が５％以上３５％以下となる状態で、第二領域Ｒ２に設けるとよい。第六面積は、第四面積と第五面積を合計した面積である。第四面積は、非露出領域を除く第一型部７２の頂面の面積である。非露出領域は、第一型部７２の頂面で第三型部７６によって非露出となる領域である。第五面積は、非露出領域の面積である。１個の第一型部７２の頂面にＮ個の第三型部７６が設けられているとする。１個の第三型部７６について、第三型部７６の後端の面積がＭであるとする。この場合、第五面積は、ＮとＭの積となる。第四面積と第五面積と第六面積は、何れも１個の第一型部７２の頂面を対象とする。これにより、第二凹部３６を、第三面積に対する第二面積の比率が５％以上３５％以下となる状態で、第一領域Ｒ１に設けることができる。前述の比率を５％以上とすることで、基材２０の表面に、好適な意匠性を有する凹凸模様３０を賦形することができる。前述の比率を３５％以下とすることで、基材２０の表面に、シャープな形状の第二凹部３６を賦形することができる。

第三型部７６は、角度θ２が９０～１２０°の範囲の所定値となる凸状とするとよい。角度θ２は、第三型部７６の側面と第三型部７６の頂面のなす角度である（図６参照）。これにより、第二凹部３６を、角度θ１が９０～１２０°の範囲の所定値となる凹部とすることができる。角度θ２を９０°以上とすることで、第二凹部３６の開口端の角部Ｅをシャープな形状とすることができる。角度θ２を１２０°以下とすることで、貫通孔のように見える第二凹部３６を賦形することができる。

第三型部７６は、最大寸法Ｗ３に対する最大寸法Ｗ４の比率が３０～８０％の範囲の所定値となる凸状とするとよい。最大寸法Ｗ４は、第三型部７６の頂面の次の方向の最大寸法である（図６参照）。前述の方向は、最大寸法Ｗ３と同様、第一型部７２の頂面に沿った方向である。実施形態では、第二凹部３６は、上述したような円錐台状の凹部であるから、第三型部７６の頂面（先端）は、円形状となる。従って、最大寸法Ｗ４は、円の直径である。これとは異なり、第二凹部３６が楕円錐台状である場合、最大寸法Ｗ４は、楕円の長径である。第二凹部３６が四角錐台状である場合、最大寸法Ｗ４は、２本の対角線のうちの長くなる対角線の寸法である。これにより、第二凹部３６を、最大寸法Ｗ１に対する最大寸法Ｗ２の比率が３０～８０％の範囲の所定値となる凹部とすることができる。最大寸法Ｗ３に対する最大寸法Ｗ４の比率を３０％以上とすることで、第二凹部３６の開口端の角部Ｅをシャープな形状とすることができる。最大寸法Ｗ３に対する最大寸法Ｗ４の比率を８０％以下とすることで、第二凹部３６を貫通孔のように見せることができる。

エンボス受型８０は、シャフト８２を回転軸として、搬送方向に対応する方向に回転する。エンボス受型８０の回転方向は、エンボス加工型６０の回転方向とは反対となる。エンボス受型８０は、基材２０の裏面に接する。エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０とエンボス受型８０は、基材２０を挟み込む。エンボス受型８０は、基材２０の裏面に接した状態で、エンボス加工型６０の回転に従動して回転する。図４で、エンボス受型８０の内部に示す片矢の矢印は、エンボス受型８０の回転方向を示す。エンボス受型８０としては、公知のエンボス加工装置に設けられるエンボス受型を採用できる。従って、エンボス受型８０に関するこの他の説明は、省略する。

加熱部９０は、エンボス加工型６０の内部に埋め込まれる。加熱部９０は、エンボス加工型６０を所定の温度に加熱する。加熱部９２は、エンボス受型８０の内部に埋め込まれる。加熱部９２は、エンボス受型８０を所定の温度に加熱する。加熱部９０，９２としては、例えば、電気ヒータが採用される。実施形態では、エンボス加工型６０に対し、電気ヒータによる４個の加熱部９０が埋め込まれ、エンボス受型８０に対し、電気ヒータによる４個の加熱部９２が埋め込まれている。但し、加熱部９０，９２は、電気ヒータとは異なる型式の加熱部としてもよい。エンボス加工型６０及びエンボス受型８０のそれぞれに対する加熱部９０，９２の数は、３個以下又は５個以上としてもよい。加熱部９０，９２の型式及び数は、諸条件を考慮して適宜決定される。エンボス加工型６０及びエンボス受型８０のそれぞれにおける加熱部９０，９２の配置も、諸条件を考慮して適宜決定される。

加熱部９０により加熱されるエンボス加工型６０の温度は、基材２０の種類に応じて適宜設定される。例えば、第一シート２２及び第二シート２４の何れか一方又は両方の材質を考慮して適宜設定される。例えば、第一シート２２がポリエチレンテレフタレートであるとする。ポリエチレンテレフタレートの融点は、２６０℃である。この場合、加熱部９０は、エンボス加工型６０を６０～２１０℃の範囲の所定値に加熱する。好ましくは、加熱部９０は、エンボス加工型６０を８０～１８０℃の範囲の所定値に加熱する。エンボス加工型６０の温度を６０℃以上とすることで、基材２０の表面に、明瞭な凹凸模様３０を賦形することができる。エンボス加工型６０の温度を２１０℃以下とすることで、第一シート２２の表面が好適な品質となり、風合いのよい化粧シート１０とすることができる。

＜エンボス加工方法＞
エンボス加工方法について、図１及び図４を参照して説明する。エンボス加工方法は、エンボス加工装置５０で実施される。エンボス加工方法は、供給工程と、エンボス工程と、回収工程を含む（図４参照）。エンボス加工方法により、図１上段に示す基材２０から図１下段に示す化粧シート１０が製造される。従って、エンボス加工方法は、化粧シート１０の製造方法ともいえる。エンボス加工方法では、搬送方向に基材２０を連続的に搬送しつつ、供給工程とエンボス工程と回収工程が順次実行される。

エンボス加工方法では、基材２０を押圧することで、凹凸模様３０が基材２０の表面に賦形される（図１参照）。加熱部９０は、エンボス加工型６０を加熱する。加熱部９２は、エンボス受型８０を加熱する。エンボス加工方法は、エンボス加工型６０が上述した所定の温度に加熱され、且つエンボス受型８０が所定の温度に加熱された状態で実施される。エンボス受型８０の温度は、諸条件を考慮して適宜設定される。例えば、エンボス受型８０の温度の設定には、凹凸模様３０の立体感及び化粧シート１０の風合いが考慮される。エンボス加工装置５０では、例えば、加熱部９２は、省略してもよい。この場合、エンボス加工方法は、エンボス受型８０が直接的には加熱されていない状態で行われる。

供給工程は、エンボス加工装置５０に基材２０を供給する工程である（図４参照）。即ち、供給工程では、供給装置９５から基材２０が繰り出される。供給装置９５から繰り出された基材２０は、搬送方向に搬送され、エンボス加工装置５０に到達する。

エンボス工程は、エンボス加工装置５０に到達した基材２０にエンボス加工を施し、基材２０の表面に凹凸模様３０を形成する工程である（図４参照）。エンボス工程は、第一凹部工程と、凸部工程と、第二凹部工程を含む。第一凹部工程は、第一凹部３２を形成する工程である。凸部工程は、凸部３４を形成する工程である。第二凹部工程は、第二凹部３６を形成する工程である。第二凹部工程では、第二凹部３６が第一凹部３２の底面の第一領域Ｒ１に形成される。第二凹部工程は、第一凹部工程と共に行われる。即ち、搬送方向に搬送される基材２０は、搬送途中に、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する。このとき、基材２０は、裏面でエンボス受型８０の外面に接し、裏側からエンボス受型８０に支持される。基材２０は、表面で成形部７０に接し、成形部７０によって押圧される。成形部７０の第一型部７２及び第三型部７６は、基材２０に食い込む。基材２０は、加熱部９０によって加熱されたエンボス加工型６０からの熱により加熱される。エンボス工程により、基材２０は、化粧シート１０へと形成される（図１参照）。図４に示す態様では、エンボス工程の実施時、基材２０は、第二型部７４に接している。但し、このような態様は、例示である。エンボス工程の実施時、基材２０は、第二型部７４に接しないこともある。

回収工程は、エンボス加工装置５０を通過した基材２０を回収する工程である（図４参照）。即ち、回収工程では、化粧シート１０が回収装置９６によってエンボス加工装置５０から回収される。図１下段に示す化粧シート１０では、裏面が表面の第一凹部３２及び凸部３４に対応する凹凸状とされている。但し、エンボス加工装置５０でエンボス加工方法が上記同様に実施された場合であっても、化粧シートは、図１下段とは異なり、裏面が表面の凹凸模様に対応する凹凸状とならないこともある。化粧シートの裏面が凹凸状（図１下段参照）及び平面状（不図示）の何れとなるかは、基材２０を形成する第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６の一部又は全部の各素材の特性により定まる。例えば、第三シート２６が伸び難く、熱収縮が大きな素材である場合、化粧シートは、裏面が凹凸状とならないこともある。エンボス受型８０の外面がフラットな曲面である場合において、図１下段に示す化粧シート１０のように、基材２０の裏面が凹凸状に変形する点は、例えば、上述した特許文献２に記載されている通り、公知の事象である。

エンボス加工方法では、基材２０の搬送速度は、０．１～１０ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の搬送速度は、０．３～５ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。

エンボス工程では、基材２０の押圧時間は、０．０１～５秒の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、押圧時間は、０．１～２秒の範囲の所定値とするとよい。押圧時間を０．０１秒以上とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹凸模様３０を賦形することができる。押圧時間を５秒以下とすることで、良好な風合いの化粧シート１０を製造することができる。生産性を向上させることができる。

エンボス工程では、基材２０の押圧力は、０．７～７ｋｇｆ／ｃｍ^２の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の押圧力は、１．４～３．５ｋｇｆ／ｃｍ^２の範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧力を０．７ｋｇｆ／ｃｍ^２以上とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹凸模様３０を賦形することができる。基材２０の押圧力を７ｋｇｆ／ｃｍ^２以下とすることで、良好な風合いの化粧シート１０を製造することができる。生産性を向上させることができる。

＜実施例＞
発明者は、実施形態のエンボス加工方法及びエンボス加工装置５０のエンボス加工型６０の有効性を確認するため、実験を行った。以下、今回の実験により得られた実験結果を説明する。その際、上記との対応を明らかにするため、上述した各構成と同一又は対応する各構成には、上記と同じ符号を付して説明する。但し、エンボス加工装置５０については、「エンボス加工装置Ａ，Ｂ，Ｃ」という。

（１）実験方法
実験では、エンボス加工装置Ａにより製造されたサンプルＡと、エンボス加工装置Ｂにより製造されたサンプルＢと、エンボス加工装置Ｃにより製造されたサンプルＣを、評価対象とした。サンプルＡ，Ｂ，Ｃは、何れも化粧シート１０に対応する。凹凸模様３０は、複数の第一凹部３２と複数の凸部３４が長手方向に交互に繰り返されている凹凸状の模様（ボーダー模様）とした（図１下段参照）。

サンプルＡ，Ｂ，Ｃの製造には、同一の基材２０を用いた。サンプルＡ，Ｂ，Ｃでは、基材２０は、上記同様、３層の積層体とした（図１上段参照）。第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６の各構成は、次の通りとした。第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６は、フレームラミネートにより貼り合わせた。
［基材２０］
第一シート２２（材質，厚さＴ１）：合成皮革（トリコット編地にポリウレタン樹脂層を積層），１ｍｍ
第二シート２４（材質，厚さＴ２）：軟質ポリウレタンフォームシート（株式会社イノアックコーポレーション 商品名：ＥＬ６７），５ｍｍ
第三シート２６（材質，目付）：不織布（ポリエステル不織布），４０ｇ／ｍ^２
エンボス加工装置Ａ，Ｂ，Ｃは、何れもエンボス加工装置５０に対応するエンボス加工装置である。エンボス加工装置Ａ，Ｂ，Ｃの相違は、エンボス加工型６０である。エンボス加工装置Ａ，Ｂ，Ｃでは、エンボス加工型６０とエンボス受型８０は、共にロール形状を有する（図４参照）。エンボス加工装置Ａ，Ｂ，Ｃのエンボス加工型６０の仕様、及びサンプルＡ，Ｂ，Ｃの製造時のエンボス加工方法の加工条件は、次の通りである。エンボス加工型６０の仕様に関し、エンボス加工装置Ａを基準としたとき、エンボス加工装置Ｂ，Ｃのエンボス加工型６０がエンボス加工装置Ａのエンボス加工型６０と相違する点は、「第三型部７６の仕様」である。従って、エンボス加工装置Ｂ，Ｃのエンボス加工型６０については、「第一型部７２の仕様」の記載を省略する。サンプルＡ，Ｂ，Ｃの製造時のエンボス加工方法の加工条件は、同一条件とした。エンボス加工型６０では、幅方向は、シャフト６２の軸心の方向に一致する。幅方向は、図４の紙面に垂直な方向であり、基材２０の短手方向に一致する。
［エンボス加工装置Ａのエンボス加工型６０］
第一型部７２の仕様
形状（視認方向）：長方形状（Ｚ２方向 図４参照）
寸法（頂面，高さＨ１）：９ｍｍ×１５００ｍｍ（周方向×幅方向），１０ｍｍ
頂面の面積（第六面積）：１３５００ｍｍ^２
第二基準領域に対する第一型部７２の比率：２５％
第三型部７６の仕様
形状（視認方向）：円形（Ｚ２方向 図４参照）
寸法（最大寸法Ｗ３，Ｗ４，高さＨ２）：１ｍｍ，０．５ｍｍ，０．７ｍｍ
角度θ２：１０４°
最大寸法Ｗ３に対する最大寸法Ｗ４の比率：５０％
第六面積に対する第五面積の比率：３２％
［エンボス加工装置Ｂのエンボス加工型６０］
第三型部７６の仕様
形状（視認方向）：円形（Ｚ２方向 図４参照）
寸法（最大寸法Ｗ３，Ｗ４，高さＨ２）：１ｍｍ，０．１ｍｍ，０．７ｍｍ
角度θ２：１１４°
最大寸法Ｗ３に対する最大寸法Ｗ４の比率：１０％
第六面積に対する第五面積の比率：３２％
［エンボス加工装置Ｃのエンボス加工型６０］
第三型部７６の仕様
形状（視認方向）：円形（Ｚ２方向 図４参照）
寸法（最大寸法Ｗ３，Ｗ４，高さＨ２）：１ｍｍ，１ｍｍ，０．７ｍｍ
角度θ２：９０°
最大寸法Ｗ３に対する最大寸法Ｗ４の比率：１００％
第六面積に対する第五面積の比率：３２％
［エンボス加工方法の加工条件（共通）］
エンボス加工型６０の表面温度：１８０℃
エンボス受型８０の表面温度：２３０℃
搬送速度：２ｍ／分
押圧力：１．４ｋｇｆ／ｃｍ^２
（２）評価
サンプルＡ，Ｂ，Ｃについて、基材２０の表面に賦形された凹凸模様３０は、次の通りであった。
［サンプルＡ］
第一凹部３２の構成
形状（視認方向）：長方形状（Ｚ１方向 図１下段参照）
寸法（底面，深さＤ１）：９ｍｍ×１５００ｍｍ（長手方向×短手方向），１０ｍｍ
底面の面積（第三面積）：１３５００ｍｍ^２
第一基準領域に対する第一凹部３２の比率：２５％
第二凹部３６の構成
形状（視認方向）：円形（Ｚ１方向 図１下段参照）
寸法（最大寸法Ｗ１，Ｗ２，深さＤ２）：１ｍｍ，０．５ｍｍ，０．７ｍｍ
角度θ１：１０４°
最大寸法Ｗ１に対する最大寸法Ｗ２の比率：５０％
第三面積に対する第二面積の比率：３２％
［サンプルＢ］
第一凹部３２の構成
形状（視認方向）：長方形状（Ｚ１方向 図１下段参照）
寸法（底面，深さＤ１）：９ｍｍ×１５００ｍｍ（長手方向×短手方向），１０ｍｍ
底面の面積（第三面積）：１３５００ｍｍ^２
第一基準領域に対する第一凹部３２の比率：２５％
第二凹部３６の構成
形状（視認方向）：円形（Ｚ１方向 図１下段参照）
寸法（最大寸法Ｗ１，Ｗ２，深さＤ２）：１ｍｍ，０．１ｍｍ，０．７ｍｍ
角度θ１：１１４°
最大寸法Ｗ１に対する最大寸法Ｗ２の比率：１０％
第三面積に対する第二面積の比率：３２％
［サンプルＣ］
第一凹部３２の構成
形状（視認方向）：長方形状（Ｚ１方向 図１下段参照）
寸法（底面，深さＤ１）：９ｍｍ×１５００ｍｍ（長手方向×短手方向），１０ｍｍ
底面の面積（第三面積）：１３５００ｍｍ^２
第一基準領域に対する第一凹部３２の比率：２５％
第二凹部３６の構成
形状（視認方向）：円形（Ｚ１方向 図１下段参照）
寸法（最大寸法Ｗ１，Ｗ２，深さＤ２）：１ｍｍ，１ｍｍ，０．７ｍｍ
角度θ１：９０°
最大寸法Ｗ１に対する最大寸法Ｗ２の比率：１００％
第三面積に対する第二面積の比率：３２％
今回の実験では、第二凹部３６の態様について、次の評価基準に従った官能評価を実施した。その結果、サンプルＡでは、評価が「◎」であった。サンプルＢ，Ｃでは、評価が「○」であった。即ち、今回の実験では、サンプルＡ～Ｃの何れのサンプルについても、良好な結果が得られた。これにより、実施形態のエンボス加工方法及びエンボス加工型６０の有効性が確認された。
［評価基準］
◎ ：次の条件１～３を満足する
条件１：第二凹部３６の角部Ｅが良好で且つシャープである
条件２：第二凹部３６が厚み方向に沿った形状を有する
条件３：第二凹部３６が貫通孔のように見え、第一凹部３２の底面に複数の貫通孔が配置された模様が設けられているように視認できる
○ ：上記の条件１を満足する
△ ：上記の条件１～３の何れも満足せず、第二凹部３６がやや不明瞭である
× ：上記の条件１～３の何れも満足せず、第二凹部３６が不明瞭である
＜実施形態の効果＞
実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。

（１）化粧シート１０は、基材２０と、凹凸模様３０を含む（図１下段参照）。凹凸模様３０は、基材２０の表面に設けられる。基材２０は、第一シート２２と、第二シート２４を含み、更に、第三シート２６を含む。基材２０では、第一シート２２と第二シート２４と第三シート２６は、積層される。凹凸模様３０は、第一凹部３２と、凸部３４と、第二凹部３６を含む。第二凹部３６は、第一凹部３２の底面の第一領域Ｒ１に設けられる（図２参照）。第一領域Ｒ１は、最大寸法Ｗ１以上、第一凹部３２と凸部３４の境界から離間した、第一凹部３２の底面の領域である。そのため、第一凹部３２の底面に設けられた第二凹部３６の視認性を向上させることができる。化粧シート１０の看者は、第二凹部３６を、化粧シート１０の表側の斜め上方から視認することができる。例えば、図１下段に示す化粧シート１０では、全ての第一凹部３２で、その底面に設けられた複数の第二凹部３６を全て視認することができる。

（２）化粧シート１０では、第二凹部３６は、底面が第一シート２２に含まれる状態で、第一シート２２に設けられる（図３参照）。そのため、第一シート２２によって第二シート２４を被覆することができる。化粧シート１０の表側から第二シート２４を視認できない状態とすることができる。化粧シート１０の表面において、第二シート２４の露出を防止することができる。

＜変形例＞
実施形態は、次のようにすることもできる。以下に示す変形例のうちの幾つかの構成は、適宜組み合わせて採用することもできる。以下では、上記とは異なる点を説明することとし、同様の点についての説明は、適宜省略する。

（１）凹凸模様３０は、第一凹部３２の底面に、複数の第二凹部３６を含む。化粧シートでは、凹凸模様は、１個の第一凹部に対する第二凹部の数を１個とした模様としてもよい。この場合、エンボス加工型では、第一型部の頂面に設けられる第三型部は、１個となる。第一凹部の底面での開口領域は、第二凹部、１個分となる。第二面積は、第一凹部の底面で１個の第二凹部が開口する領域の面積となる。第一型部の頂面での非露出領域は、第三型部、１個分となる。第五面積は、第一型部の頂面で１個の第三型部によって非露出となる領域の面積となる。

（２）エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０とエンボス受型８０は、ロール形状を有し、搬送方向に対応する方向に回転自在に支持される（図４参照）。エンボス加工型とエンボス受型は、ロール形状とは異なる形状としてもよい。例えば、エンボス加工型６０とエンボス受型８０は、図７に示すように、平板状の形状としてもよい。図７では、図４との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。

図７に示すエンボス加工装置５０で実施されるエンボス加工方法では、エンボス加工型６０は、エンボス受型８０に対して相対的に往復移動する。この相対的な往復移動では、配置方向の第一側から第二側への移動と配置方向の第二側から第一側への移動が繰り返される。基材２０は、エンボス加工型６０がエンボス受型８０に対して配置方向の第一側に移動した状態で、搬送方向に間欠的に搬送される。１回の搬送量は、第二基準領域の長手方向の寸法の設置数倍の量とされる。設置数は、成形部７０に設けられる第一型部７２の数に一致する。例えば、図７に示すエンボス加工装置５０のように、エンボス加工型６０に、２個の第一型部７２が設けられているとする。この場合、設置数は、「２」となる。従って、１回の搬送量は、第二基準領域の長手方向の寸法の２倍の量とされる。基材２０の搬送速度は、０．５～６ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の搬送速度は、０．６～３ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。

エンボス加工型６０には、加熱部９０が設けられる。エンボス受型８０には、加熱部９２が設けられる。エンボス加工方法の実施時、加熱部９０は、エンボス加工型６０を加熱し、加熱部９２は、エンボス受型８０を加熱する。但し、例えば、エンボス受型８０では、加熱部９２は、省略してもよい。エンボス加工型６０が配置方向の第二側に移動した状態で、基材２０は、エンボス加工型６０とエンボス受型８０によって挟み込まれる。基材２０は、裏面でエンボス受型８０の外面に接し、裏側からエンボス受型８０に支持される。基材２０は、表面で成形部７０に接し、成形部７０によって押圧される。成形部７０の第一型部７２及び第三型部７６は、基材２０に食い込む。これに伴い、基材２０の表面には、上記同様、凹凸模様３０が賦形される。基材２０の押圧時間は、３０～１２０秒の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の押圧時間は、５０～９０秒の範囲の所定値とするとよい。上記同様の効果を得ることができる。

エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、エンボス受型８０の位置を固定した状態で、エンボス加工型６０を配置方向に往復移動させるとよい（図７参照）。但し、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、これとは異なる態様としてもよい。例えば、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、エンボス加工型６０とエンボス受型８０をそれぞれ配置方向に往復移動させて行うようにしてもよい。エンボス加工装置では、エンボス加工型を図４に示すロール形状のエンボス加工型６０とし、エンボス受型を図７に示す平板状のエンボス受型８０としてもよい。

（３）エンボス加工装置５０によるエンボス加工方法の加工対象を、３層の積層体である基材２０とした（図１上段参照）。更に、基材として、２層の積層体又は４層以上の積層体を採用可能であることを説明した。基材は、積層体ではない単一層のシート材としてもよい。即ち、基材は、クッション性を有する厚手のシート材としてもよい。

１０ 化粧シート、 ２０ 基材、 ２２ 第一シート、 ２４ 第二シート
２６ 第三シート、 ３０ 凹凸模様、 ３２ 第一凹部、 ３４ 凸部
３６ 第二凹部、 ５０ エンボス加工装置、 ６０ エンボス加工型
６２ シャフト、 ７０ 成形部、 ７２ 第一型部、 ７４ 第二型部
７６ 第三型部、 ８０ エンボス受型、 ８２ シャフト、 ９０，９２ 加熱部
９５ 供給装置、 ９６ 回収装置、 Ｄ１，Ｄ２ 深さ、 Ｅ 角部
Ｈ１，Ｈ２ 高さ、 Ｌ１，Ｌ２ 距離、 Ｒ１ 第一領域、 Ｒ２ 第二領域
Ｔ，Ｔ１，Ｔ２ 厚さ、 Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４ 最大寸法、 θ１，θ２ 角度

Claims (8)

1. 基材と、
   前記基材の表面に設けられる凹凸模様と、を含み、
   前記凹凸模様は、
   深さ方向が前記基材の厚み方向に一致する、有底の第一凹部と、
   前記第一凹部と隣接し、高さ方向が前記厚み方向に一致する、凸部と、
   前記第一凹部の底面で開口し、深さ方向が前記厚み方向に一致する、有底の複数の第二凹部と、を含み、
   前記複数の第二凹部は、
   前記厚み方向で前記第一凹部の底面の側となる前記第二凹部の開口端の前記厚み方向に直交する開口方向の最大寸法以上、前記第一凹部と前記凸部との境界から離間した、前記第一凹部の底面の第一領域に全て設けられ、
   前記第一凹部と前記凸部との境界と、前記第一領域と、の間となる前記第一凹部の底面の部分に設けられない、化粧シート。
2. 前記基材は、
   前記基材の表面を形成する第一シートと、
   クッション性を有し、前記第一シートと積層される第二シートと、を含み、
   前記第二凹部は、前記第二凹部の底面が前記第一シートに含まれる状態で、前記第一シートに設けられる、請求項１に記載の化粧シート。
3. 前記第二凹部は、前記第二凹部の開口端の前記開口方向の最大寸法が０．５ｍｍ以上２ｍｍ以下となる凹部である、請求項１又は請求項２に記載の化粧シート。
4. 前記複数の第二凹部は、前記第一凹部の底面で前記複数の第二凹部が開口する開口領域を除く前記第一凹部の底面の第一面積と、前記開口領域の第二面積と、を合計した第三面積に対する前記第二面積の比率が５％以上３５％以下となる状態で、前記第一領域に設けられる、請求項１から請求項３の何れか１項に記載の化粧シート。
5. 前記第二凹部は、前記第二凹部の壁面と前記第二凹部の底面とのなす角度が９０°以上１２０°以下となる凹部である、請求項１から請求項４の何れか１項に記載の化粧シート。
6. 前記第二凹部は、前記第二凹部の底面の前記開口方向の最大寸法が前記第二凹部の開口端の前記開口方向の最大寸法の３０％以上８０％以下となる凹部である、請求項１から請求項５の何れか１項に記載の化粧シート。
7. 基材の表面に凹凸模様を形成するエンボス工程を含み、
   前記エンボス工程は、
   前記凹凸模様に含まれ、深さ方向が前記基材の厚み方向に一致する、有底の第一凹部を形成する第一凹部工程と、
   前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部と隣接し、高さ方向が前記厚み方向に一致する、凸部を形成する凸部工程と、
   前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部の底面で開口し、深さ方向が前記厚み方向に一致する、有底の複数の第二凹部を形成する第二凹部工程と、を含み、
   前記第二凹部工程は、
   前記複数の第二凹部を、前記厚み方向で前記第一凹部の底面の側となる前記第二凹部の開口端の前記厚み方向に直交する開口方向の最大寸法以上、前記第一凹部と前記凸部との境界から離間した、前記第一凹部の底面の第一領域に全て形成し、前記第一凹部と前記凸部との境界と、前記第一領域と、の間となる前記第一凹部の底面の部分に形成しない、工程で、
   前記第一凹部工程と共に行われる、エンボス加工方法。
8. 基材の表面に接し、前記基材の表面に形成される凹凸模様に対応する凹凸状の成形部を含み、
   前記成形部は、
   前記凹凸模様に含まれ、深さ方向が前記基材の厚み方向に一致する、有底の第一凹部に対応する凸状の第一型部と、
   前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部と隣接し、高さ方向が前記厚み方向に一致する、凸部に対応する凹状の第二型部と、
   前記凹凸模様に含まれ、前記第一凹部の底面で開口し、深さ方向が前記厚み方向に一致する、有底の複数の第二凹部に対応する凸状の複数の第三型部と、を含み、
   前記複数の第三型部は、
   前記第一型部の頂面の側となる前記第三型部の後端の前記第一型部の頂面に沿った方向の最大寸法以上、前記第一凹部と前記凸部との境界に対応する前記第一型部の頂面の外縁部分から離間した、前記第一型部の頂面の第二領域に全て設けられ、
   前記第一型部の頂面の外縁部分と、前記第二領域と、の間となる前記第一型部の頂面の部分に設けられない、エンボス加工型。

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