JP7000721B2 - プラズマ光源 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1実施形態について説明する。
図1は、第1実施形態に係るプラズマ光源を示す概略構成図である。図2は、図1のII-II断面を示す図である。図3は、第1実施形態及び後述の第2実施形態に係るプラズマ光源の電気系統を示す図であり、図3(a)は第1放電回路の回路図の一例、図3(b)は第2放電回路の回路図の一例を示す図である。
一対の同軸状電極10、10は、参照面1に直交し且つ各同軸状電極10に共通する単一の軸線(中心軸)Zに沿って設置されている。また、一対の同軸状電極10、10は、参照面1を挟んで設置され、先端側(後述の面状放電2bが放出される側)が互いに対向している。後述するように、各同軸状電極10は、参照面1に向けて進行するプラズマを発生する。即ち、本実施形態のプラズマ光源は、対向型プラズマフォーカス方式を採用したプラズマ源でもある。なお、各同軸状電極10から参照面1までの距離は等しくてもよく、異なっていてもよい。
図3(a)及び図3(b)に示すように、プラズマ光源は、第1放電回路20と、第2放電回路30とを備える。第1放電回路20は、各同軸状電極10における第1中心電極12と外部電極11の間に第1放電電圧を印加する。第2放電回路30は、一対の第2中心電極13、13の間に第2放電電圧を印加する。第1放電回路20には、第1放電電圧の電気エネルギーを供給する第1電源ユニット23が接続されている。一方、第2放電回路30には、第2放電電圧の電気エネルギーを供給する第2電源ユニット33が接続されている。このように、第1放電回路20と第2放電回路30はそれぞれ回路的に独立に設けられている。即ち、両者は互いの誘導電流に干渉されないように構成されている。これは、例えば、各電源ユニットを個別に用意することで達成できる。
本実施形態のレーザー装置40は、プラズマ媒質6を含むプラズマ3の初期放電(初期プラズマ)2aを、各同軸状電極10の第1中心電極12と各外部電極11との間に発生させる放電誘発装置として機能する。即ち、レーザー装置40は、保持部14にレーザー光41を照射することで、プラズマ媒質6を放出させると共に、第1放電回路20と協働してプラズマ3の初期放電(初期プラズマ)2aを発生させる。レーザー装置40は例えばYAGレーザーであり、アブレーションを行うために基本波やその二倍波を短パルスのレーザー光41として出力する。パルスの周波数は例えば数~数十kHzであり、これはプラズマ光源における発光周波数でもある。レーザー光41は、ハーフミラー等の光学素子によって分岐し、保持部14に照射される。レーザー光41が照射された保持部14では、レーザー光41のアブレーションによって、プラズマ媒質6が中性粒子又はイオンとなって放出される。
図4は、本実施形態に係るプラズマ光源の動作を説明するための図である。まず、一対の同軸状電極10が設置された真空槽(図示せず)が排気され、プラズマ3の発生に適した温度及び圧力(真空度)に保持される。次に、第1放電回路20によって各同軸状電極10に第1放電電圧が印加され、第2放電回路30によって一対の第2中心電極13、13間に第2放電電圧が印加される。
次に本発明の第2実施形態について説明する。
第1実施形態に対する第2実施形態の相違点は、第1中心電極12の形状及び配置、並びに、第2中心電極13の配置だけであり、その他の構成については両者において同一である。従って、第2実施形態の電気系統については、図3(a)及び図3(b)に示すものが適用される。以下、上述の相違点だけを説明し、重複する構成の説明を省略する。
図7は、本発明の実施形態に係るプラズマ光源の変形例を示す図であり、図7(a)は第1実施形態の変形例、図7(b)は第2実施形態の変形例を示す図である。これらの図に示すように、プラズマ光源は、各第2中心電極13と、第1中心電極12及び外部電極11のうち第2中心電極13に近い電極との間に設けられる絶縁部材15を更に備えてもよい。例えば、図7(a)及び図7(b)に示すように、絶縁部材15は第2中心電極13の側面(外周面)を囲み且つ第2中心電極13の先端を露出させる筒状に形成される。絶縁部材15は例えばセラミックを用いて形成される。
Claims (5)
- 参照面に直交する軸線の周りに設けられる複数の外部電極、および、前記外部電極よりも前記軸線に近い位置に設けられる少なくとも1つの第1中心電極を有し、前記参照面を挟んで互いに対向配置される一対の同軸状電極と、
前記参照面と前記軸線の交点を挟んで対向配置される一対の第2中心電極と、
各前記同軸状電極における前記第1中心電極と前記外部電極の間に供給されるプラズマの媒質を保持する保持部と、
各前記同軸状電極における前記第1中心電極と前記外部電極の間に第1放電電圧を印加する第1放電回路と、
前記一対の第2中心電極の間に第2放電電圧を印加する第2放電回路と、
各前記同軸状電極の前記第1中心電極と前記外部電極の間に放電を誘発させる放電誘発装置と、
を備え、
各前記第2中心電極は、対応する同軸状電極において前記軸線上に位置するプラズマ光源。 - 前記第1中心電極は、前記軸線の周りに設けられた複数の棒状電極からなる請求項1に記載のプラズマ光源。
- 前記第1中心電極は、前記軸線を中心軸とする筒状電極からなる請求項1に記載のプラズマ光源。
- 参照面に直交する軸線の周りに設けられる複数の外部電極、および、前記外部電極よりも前記軸線に近い位置に設けられる少なくとも1つの第1中心電極を有し、前記参照面を挟んで互いに対向配置される一対の同軸状電極と、
前記参照面と前記軸線の交点を挟んで対向配置される一対の第2中心電極と、
各前記同軸状電極における前記第1中心電極と前記外部電極の間に供給されるプラズマの媒質を保持する保持部と、
各前記同軸状電極における前記第1中心電極と前記外部電極の間に第1放電電圧を印加する第1放電回路と、
前記一対の第2中心電極の間に第2放電電圧を印加する第2放電回路と、
各前記同軸状電極の前記第1中心電極と前記外部電極の間に放電を誘発させる放電誘発装置と、
を備え、
前記一対の第2中心電極は前記参照面上に位置するプラズマ光源。 - 前記第2中心電極と、前記第1中心電極及び前記外部電極のうち前記第2中心電極に近い電極との間に設けられる絶縁部材を更に備える請求項1から4の何れか一項に記載のプラズマ光源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017139849A JP7000721B2 (ja) | 2017-07-19 | 2017-07-19 | プラズマ光源 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2019020616A JP2019020616A (ja) | 2019-02-07 |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2017139849A Active JP7000721B2 (ja) | 2017-07-19 | 2017-07-19 | プラズマ光源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7000721B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013089634A (ja) | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Ihi Corp | プラズマ光源 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56162833A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-15 | Fujitsu Ltd | X-ray generating method for transferring x-ray and electric circuit |
JPH06101315B2 (ja) * | 1986-10-17 | 1994-12-12 | 株式会社日立製作所 | X線発生装置 |
-
2017
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013089634A (ja) | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Ihi Corp | プラズマ光源 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019020616A (ja) | 2019-02-07 |
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