JP6998777B2 - イオン源装置、及び荷電粒子線治療装置 - Google Patents
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- 加速器の内部に設けられるイオン源装置であって、
内部空間を有する導電性の本体部と、
前記本体部の前記内部空間に配置された陰極と、
前記本体部との間で高周波の電場を形成することで、前記本体部の前記内部空間で発生した前記イオンを前記内部空間から引き出す引出部と、
前記本体部にバイアス電圧を印加するバイアス電源と、を備える、イオン源装置。 - 前記バイアス電源は、前記イオンを前記加速器で加速することによって出射された荷電粒子線の線量を検出する検出部の検出結果に基づいて、前記バイアス電圧を前記本体部に印加する、請求項1に記載のイオン源装置。
- イオンを加速して荷電粒子線を出射する加速器と、
前記加速器の内部に設けられ、前記イオンを供給するイオン源装置と、
被照射体に前記荷電粒子線を照射する照射部と、を備える荷電粒子線治療装置であって、
前記イオン源装置は、
内部空間を有する導電性の本体部と、
前記本体部の前記内部空間に配置された陰極と、
前記本体部との間で高周波の電場を形成することで、前記本体部の前記内部空間で発生した前記イオンを前記内部空間から引き出す引出部と、
前記本体部にバイアス電圧を印加するバイアス電源と、を備える、荷電粒子線治療装置。
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JP2011501391A (ja) | 2007-10-29 | 2011-01-06 | イオン・ビーム・アプリケーションズ・エス・アー | 粒子加速器におけるビーム電流の高速変調のための装置及び方法 |
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