JP6986684B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Description

本開示は、高周波加熱装置に関する。

従来より、食品（被加熱物）を収容する加熱室内に高周波を供給して食品を加熱処理する高周波加熱装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１の高周波加熱装置は、加熱室の下方に設けられた空間に、加熱室に向けて高周波を放射するマグネトロンと、マグネトロン等の発熱部品を冷却する冷却ファンとを備える。高周波加熱装置の底壁には複数のパンチング孔が設けられており、冷却ファンは当該パンチング孔を介して空気を吸い込んでマグネトロン等に向けて送風する。

特開第２０１４−１５２９５７号公報

近年では、高周波加熱装置の信頼性を向上させることが求められている。特許文献１のような構成では、高周波加熱装置が例えば布の上に置かれた場合には、冷却ファンの吸引力によってパンチング孔から布が吸い込まれる場合がある。パンチング孔が布で塞がれると冷却ファンの吸気が十分に行われず、マグネトロン等の発熱部品を十分に冷却できない場合がある。結果として、高周波加熱装置を正常に運転できくなり、高周波加熱装置の信頼性が低下することが考えられる。

従って、本開示の目的は、前記問題を解決することにあって、信頼性を向上させた高周波加熱装置を提供することにある。

本開示の一態様の高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記加熱室の下方に設けられた機械室であって、前記高周波加熱装置の底部を構成する底壁を有し、前記底壁に複数のパンチング孔を形成した機械室と、前記機械室内に配置され、前記加熱室に向けて高周波を放射するマグネトロンと、前記機械室内に配置され、前記機械室の前記パンチング孔に面する吸込口を有して、前記吸込口から吸い込んだ空気を前記マグネトロンに向けて送風する冷却ファンと、前記機械室の前記底壁の下で、前記パンチング孔が形成される前記底壁の領域と平面視で部分的に重なり、かつ、上下方向に厚みを有したスペーサ部材と、を備え、前記スペーサ部材は、前記吸込口に面するパンチング孔を取り囲むように平面視で前記スペーサ部材の外周を構成する外枠と、前記外枠の内側に架け渡される内枠とを備える。

本開示によれば、高周波加熱装置の信頼性を向上させることができる。

本発明の実施形態における加熱調理器の外観を示す前方斜視図 ドアを開いた状態の前方斜視図 外枠部などを省略した高周波加熱装置の前方斜視図 機械室に配置される機械部品の下方斜視図 機械室に配置される機械部品の平面図 高周波加熱装置の底壁およびスペーサ部材を示す下方斜視図 高周波加熱装置の底壁およびスペーサ部材を示す底面図 スペーサ部材の平面図 スペーサ部材の斜視図 トレイを省略した状態の高周波加熱装置の下方斜視図

第１の発明は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、前記加熱室の下方に設けられた機械室であって、前記高周波加熱装置の底部を構成する底壁を有し、前記底壁に複数のパンチング孔を形成した機械室と、前記機械室内に配置され、前記加熱室に向けて高周波を放射するマグネトロンと、前記機械室内に配置され、前記機械室の前記パンチング孔に面する吸込口を有して、前記吸込口から吸い込んだ空気を前記マグネトロンに向けて送風する冷却ファンと、前記機械室の前記底壁の下で、前記パンチング孔が形成される前記底壁の領域と平面視で部分的に重なり、かつ、上下方向に厚みを有したスペーサ部材と、を備える、高周波加熱装置である。

このような構成によれば、高周波加熱装置を布などの上に置いて運転し、パンチング孔に布が吸い込まれようとする場合でも、パンチング孔を部分的に覆うスペーサ部材を設けることで、パンチング孔の全体が布で塞がれることを防止することができる。これにより、冷却ファンの吸込口からの吸気を確保することができ、高周波加熱装置をより正常に運転し、高周波加熱装置の信頼性を向上させることができる。

第２の発明は、特に、第１の発明における前記スペーサ部材は、前記パンチング孔を形成する前記底壁に対して平行に延びる線状の部材である。

このような構成によれば、スペーサ部材の占有面積を小さくしながら吸気口からの吸気を確保することができる。

第３の発明は、特に、第１の発明又は第２の発明における前記スペーサ部材は、平面視で前記スペーサ部材の外周を構成する外枠と、前記外枠の内側に架け渡される内枠とを備える。

このような構成によれば、スペーサ部材の形状を様々な形にすることができる。

第４の発明は、特に、第３の発明における前記スペーサ部材の前記内枠は、平面視で格子状に延びる格子部を備える。

このような構成によれば、スペーサ部材の強度を確保しながら吸気口からの吸気を確保することができる。

第５の発明は、特に、第３の発明又は第４の発明における前記スペーサ部材の前記内枠は、平面視で曲線状に湾曲するアーチ部を備える。

このような構成によれば、スペーサ部材の形状をより様々な形にすることができる。また格子部と組み合わせた場合、形状の多様化と強度の確保を両立することができる。

第６の発明は、特に、第５の発明における前記スペーサ部材における前記アーチ部の内側の領域は、平面視で前記冷却ファンの前記吸込口に面する領域を含み、前記アーチ部の内側と前記外枠の間には前記内枠は設けられていない。

このような構成によれば、冷却ファンの吸込口に面する領域をできるだけスペーサ部材によって塞がないようにすることができ、吸込口からの吸気をより確保することができる。

第７の発明は、特に、第１の発明から第６の発明のいずれかにおける前記スペーサ部材を前記機械室の前記底壁に取り付ける取付部をさらに備える。

このような構成によれば、スペーサ部材を機械室の底壁と別部材で構成することで、一体的に構成する場合よりもスペーサ部材の製造が容易になる。

第８の発明は、特に、第１の発明から第７の発明のいずれかにおける前記機械室は、前記冷却ファンの前方において複数のパンチング孔を形成する側壁部をさらに有する。

このような構成によれば、機械室の底壁だけでなく側壁部からも吸気を行うことができ、冷却ファンの吸気経路をより多く確保することができる。

第９の発明は、特に、第１の発明から第８の発明のいずれかにおける前記スペーサ部材の最下点は、前記高周波加熱装置の最下点よりも高い位置にある。

このような構成によれば、スペーサ部材が高周波加熱装置の設置面に接触しないため、高周波加熱装置を設置面に置く際にスペーサ部材が邪魔にならない。

第１０の発明は、特に、第１の発明から第９の発明のいずれかにおける前記パンチング孔を形成する前記底壁の領域から、前記高周波加熱装置の最下点までの高さ距離は、１０ｍｍ以下である。

このような構成によれば、スペーサ部材による吸気経路の確保の効果をより効果的に発揮することができる。

以下に、本発明にかかる実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。

（実施形態）
以下に、本発明に係る実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の図面において、Ｘ方向を高周波加熱装置１の横方向（幅方向）とし、Ｙ方向を縦方向（前後方向）とし、Ｚ方向を高さ方向（上下方向）とする。なお、この実施形態によって本発明が限定されるものではない。

図１は、実施形態に係る高周波加熱装置１の前方斜視図である。図２は、扉９を開けた状態における高周波加熱装置１の前方斜視図である。

図１及び図２に示すように、高周波加熱装置１は、本体３と、本体３の内部で発生する水を収容するトレイ７と、開閉可能に本体３に取り付けられる扉９とを備える。

本体３は、図２に示すように、本体３の内部で食品などの被加熱物（図示せず）を収容する加熱室３１と、本体３の前面に設けられる前枠３３とを有する。加熱室３１の前面には、被加熱物を出し入れする開口３１ａが設けられる。前枠３３は、加熱室３１の開口３１ａの周囲に設けられ、開口３１ａを含む。

トレイ７は、前枠３３の下方（−Ｚ方向）に設けられ本体３に着脱可能に取り付けられ、前枠３３を流れ落ちる水を収容する。トレイ７は、第１トレイ７１と、第２トレイ７３とを有する。第１トレイ７１は本体３の横方向の一端側に設けられ、第２トレイ７３は横方向において第１トレイ７１の他端側に並んで設けられる。第２トレイ７３は、蒸気を発生させるための水を収容する水タンク（図示せず）も兼ねている。

扉９は、加熱室３１の開口３１ａを開閉可能に覆う。扉９は、開口３１ａの下方において、扉９が水平方向の回転中心で本体３に開閉自在に取り付けられる。扉９の上部に取り付けられたハンドル９１をユーザが引くことで扉９が開く。扉９が垂直状態となるように回転操作されることで、加熱室３１が閉鎖され、水平状態となるように回転操作されることで加熱室３１が開放される。

扉９には、図１に示すように、正面視で一側方に表示部９３と操作部９５とが配置されている。表示部９３は、例えば液晶画面であり、メニュー画面などが表示される。操作部９５は、押しボタン、ダイヤルを含む。ユーザは操作部９５を用いて高周波加熱装置１に種々の調理指示を出す。

本体３は、高周波加熱装置１の外枠を構成する外枠部３ｂを備える。外枠部３ｂは、加熱室３１と間隔を空けた状態で固定されている。外枠部３ｂと加熱室３１の間の空間には、蒸気発生装置（図示せず）などの各種機械部品が配置される。

高周波加熱装置１において外枠部３ｂおよび第１トレイ７１、第２トレイ７３などを省略した状態を図３に示す。図３は、外枠部３ｂなどを省略した高周波加熱装置１の前方斜視図である。

図３に示すように、加熱室３１の下方には機械室４０が設けられる。機械室４０は、後述するマグネトロン、冷却ファンなどの機械部品を収容するための空間を形成する。機械室４０は、高周波加熱装置１の底部を構成する底壁４２を有する。底壁４２は、高周波加熱装置１が設置される設置面（例えばラック）に対向する。

機械室４０に配置される機械部品を図４、図５に示す。図４は、底壁４２を省略した状態の機械部品の下方斜視図であり、図５は、機械部品を上から見た平面図である。

図４、図５に示すように、機械室４０には、マグネトロン４４と、インバータ４６と、冷却ファン４８とが設けられている。

マグネトロン４４は、高周波であるマイクロ波を加熱室３１に向けて放射する部材（マイクロ波放射部）である。インバータ４６は、マグネトロン４４を駆動する部材（駆動部）である。マグネトロン４４とインバータ４６はともに、高周波加熱装置１の運転時に発熱する発熱部品である。冷却ファン４８は、マグネトロン４４、インバータ４６などの発熱部品を冷却するための部材である。

図４に示すように、冷却ファン４８は、空気を吸い込むための吸込口４８Ａを下部に有する。吸込口４８Ａは、機械室４０の底壁４２（図３）に向かって下方（―Ｚ方向）を向いている。冷却ファン４８はさらに、図４、図５に示すように、第１吐出口４８Ｂと、第２吐出口４８Ｃとを有する。第１吐出口４８Ｂはマグネトロン４４に向けて開口し、第２吐出口４８Ｃはインバータ４６に向けて開口する。冷却ファン４８は、第１吐出口４８Ｂからマグネトロン４４へ送風し、第２吐出口４８Ｃからインバータ４６へ送風する。

図５に示すように、機械室４０の底壁４２には、複数のパンチング孔４２Ａが形成されている。パンチング孔４２Ａは、冷却ファン４８によって部分的に覆われており、冷却ファン４８の吸込口４８Ａ（図４）に対向する領域を含む位置に形成されている。パンチング孔４２Ａは、冷却ファン４８が高周波加熱装置１の外部から空気を吸い込むための吸気口として機能する。

パンチング孔４２Ａを裏から見た図を図６、図７に示す。図６は、高周波加熱装置１の底壁４２およびスペーサ部材５０を示す下方斜視図であり、図７は、同底面図である。

図６、図７に示すように、パンチング孔４２Ａに隣接する位置にスペーサ部材５０が設けられている。スペーサ部材５０は、パンチング孔４２Ａに布などが吸い込まれてパンチング孔４２Ａが閉塞されることを防止するための部材である。スペーサ部材５０は、底壁４２の下方（―Ｚ方向）に設けられ、上下方向に厚みを有している。スペーサ部材５０は、底壁４２と高周波加熱装置１の設置面（図示せず）の間隔を確保するスペーサとして機能する。

図７に示すように、スペーサ部材５０は平面視して、パンチング孔４２Ａが形成される底壁４２の領域と部分的に重なるように配置される。すなわち、スペーサ部材５０は、平面視してパンチング孔４２Ａの領域を部分的に隠すように配置される。

本実施形態のスペーサ部材５０は、底壁４２の面に対して平行に延びる線状の部材である。スペーサ部材５０を線状で構成することで、スペーサ部材５０の占有面積を小さくしながらパンチング孔４２Ａからの吸気を確保することができる。

図６、図７に示すように、スペーサ部材５０は、外枠５２と、内枠５４とを備える。外枠５２は、平面視でスペーサ部材５０の外周を構成する部分である。内枠５４は、外枠５２の内側に架け渡される部分である。このように、スペーサ部材５０を外枠５２と内枠５４で構成することで、スペーサ部材５０の形状を様々な形にすることができる。

図７に示すように、内枠５４は、格子部５４Ａと、アーチ部５４Ｂとを備える。

格子部５４Ａは、平面視で格子状に延びる部分である。アーチ部５４Ｂは、平面視で曲線状に湾曲する部分である。本実施形態のアーチ部５４Ｂは、中央部が曲線部であり、端部を含むそれ以外の部分が直線部である。

格子部５４Ａを設けることで、スペーサ部材５０の強度を確保しながらパンチング孔４２Ａからの吸気を確保することができる。さらにアーチ部５４Ｂを設けることで、スペーサ部材５０の形状を様々な形に変えることができる。さらに、格子部５４Ａとアーチ部５４Ｂを組み合わせることで、スペーサ部材５０の形状の多様化と強度の確保を両立することができる。

スペーサ部材５０におけるアーチ部５４Ｂの内側の領域Ｘは、平面視で冷却ファン４８の吸込口４８Ａ（図４）に面する領域を含んでいる。領域Ｘでは、外枠５２との間に内枠を構成する線状の部材は設けられていない。すなわち、領域Ｘの全面において、パンチング孔４２Ａは高周波加熱装置１の設置面（図示せず）に対して露出する。

このような領域Ｘを設けることで、冷却ファン４８の吸込口４８Ａに面するパンチング孔４２Ａの領域をできるだけスペーサ部材５０によって塞がないようにしている。これにより、例えば高周波加熱装置１の下に布が置かれない場合に、より多くの吸気量を確保することができる。

次に、スペーサ部材５０を単独で図示したものを図８、図９に示す。図８は、スペーサ部材５０の平面図であり、図９は、スペーサ部材５０の斜視図である。

図８、図９に示すように、スペーサ部材５０には、複数の爪部５６が設けられている。爪部５６は、スペーサ部材５０を機械室４０の底壁４２に取り付けるための取付部である。爪部５６を底壁４２に引っ掛けることで、スペーサ部材５０が底壁４２に固定される。スペーサ部材５０にはさらに、複数のボルト挿通孔５８が設けられている。ボルト挿通孔５８は、スペーサ部材５０を機械室４０の底壁４２に取り付けるためのボルト（図示せず）を挿通する孔である。ボルト挿通孔５８にボルトを挿通して底壁４２に螺合させることで、スペーサ部材５０が底壁４２に固定される。ボルト挿通孔５８およびボルトは、爪部５６と同様にスペーサ部材５０を底壁４２に取り付ける取付部として機能する。

このように爪部５６、ボルト挿通孔５８などの取付部を設け、スペーサ部材５０を底壁４２と別部材で構成することで、底壁４２と一体的に構成した場合よりもスペーサ部材５０の製造が容易になる。

図６、図７に戻ると、底壁４２の前方（―Ｙ方向）にはトレイ７（第１トレイ７１）が配置されている。

トレイ７を省略した図を図１０に示す。図１０に示すように、機械室４０には側壁部６０が設けられている。側壁部６０は、冷却ファン４８の前方において複数のパンチング孔６０Ａを形成した壁部である。側壁部６０とトレイ７（図６、図７）の間には隙間が設けられている。隙間を設けることで、冷却ファン４８は底壁４２のパンチング孔４２Ａだけでなく側壁部６０のパンチング孔６０Ａからも空気を吸い込むことができる。これにより、冷却ファン４８の吸気経路をより多く確保することができる。

また、高周波加熱装置１を設置面に配置したときに、スペーサ部材５０は設置面に接触しない高さに設定されている。言い換えれば、スペーサ部材５０の最下点は、高周波加熱装置１の最下点よりも高い位置になるように設定される。このような構成によれば、高周波加熱装置１を設置面に置いたときにスペーサ部材５０が邪魔にならない。

上述したように、本実施形態の高周波加熱装置１は、被加熱物を収容する加熱室３１内に高周波を供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置１である。高周波加熱装置１は、機械室４０と、マグネトロン４４と、冷却ファン４８と、スペーサ部材５０とを備える。機械室４０は、加熱室３１の下方に設けられた機械室であって、高周波加熱装置１の底部を構成する底壁４２を有し、底壁４２に複数のパンチング孔４２Ａを形成する。マグネトロン４４は、機械室４０内に配置され、加熱室３１に向けて高周波を放射する。冷却ファン４８は、機械室４０内に配置され、機械室４０のパンチング孔４２Ａに面する吸込口４８Ａを有して、吸込口４８Ａから吸い込んだ空気をマグネトロン４４に向けて送風する。スペーサ部材５０は、機械室４０の底壁４２の下で、平面視で、パンチング孔４２Ａが形成される底壁４２の領域と部分的に重なり、上下方向に厚みを有する。

このような構成によれば、高周波加熱装置１を布などの上に置いて運転した場合、冷却ファン４８による吸引力によって底壁４２のパンチング孔４２Ａから布が吸い込まれようとする。これに対して、パンチング孔４２Ａの下にパンチング孔４２Ａの領域と部分的に重なるようにスペーサ部材５０を設けていることで、布が吸い込まれようとする場合でもパンチング孔４２Ａの全体が塞がれることを防止できる。これにより、パンチング孔４２Ａを通じて冷却ファン４８の吸込口４８Ａからの吸気を確保することができ、高周波加熱装置１をより正常に運転することができ、高周波加熱装置１の信頼性を向上させることができる。

本実施形態では特に、図６、図７に示すパンチング孔４２Ａを形成する底壁４２の領域から、高周波加熱装置１の最下点までの高さ距離が１０ｍｍ以下である。このような構成によれば、高周波加熱装置１の設置面からパンチング孔４２Ａまでの距離が短いため、冷却ファン４８による吸込口４８Ａからの吸込み力は強くなる。これに対して、前述したようにスペーサ部材５０を設けて布などがパンチング孔４２Ａの全体を塞ぐことを防止することで、パンチング孔４２Ａからの吸気経路を効果的に確保することができる。

以上、上述の実施形態を挙げて本開示の発明を説明したが、本開示の発明は上述の実施形態に限定されない。

本開示は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した特許請求の範囲による本開示の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。また、各実施形態における要素の組合せや順序の変化は、本開示の範囲及び思想を逸脱することなく実現し得るものである。

本開示は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を供給して被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であれば適用可能である。

１ 高周波加熱装置
３ 本体
３ｂ 外枠部
７ トレイ
９ 扉
３１ 加熱室
３１ａ 開口
３３ 前枠
４０ 機械室
４２ 底壁
４２Ａ パンチング孔
４４ マグネトロン
４６ インバータ
４８ 冷却ファン
４８Ａ 吸込口
４８Ｂ 第１吐出口
４８Ｃ 第２吐出口
５０ スペーサ部材
５２ 外枠
５４ 内枠
５４Ａ 格子部
５４Ｂ アーチ部
５６ 爪部
５８ ボルト挿通孔
６０ 側壁部
６０Ａ パンチング孔
７１ 第１トレイ
７３ 第２トレイ
９３ 表示部
９５ 操作部

Claims (9)

1. 被加熱物を収容する加熱室内に高周波を供給して前記被加熱物を加熱処理する高周波加熱装置であって、
   前記加熱室の下方に設けられた機械室であって、前記高周波加熱装置の底部を構成する底壁を有し、前記底壁に複数のパンチング孔を形成した機械室と、
   前記機械室内に配置され、前記加熱室に向けて高周波を放射するマグネトロンと、
   前記機械室内に配置され、前記機械室の前記パンチング孔に面する吸込口を有して、前記吸込口から吸い込んだ空気を前記マグネトロンに向けて送風する冷却ファンと、
   前記機械室の前記底壁の下で、前記パンチング孔が形成される前記底壁の領域と平面視で部分的に重なり、かつ、上下方向に厚みを有したスペーサ部材と、を備え、
   前記スペーサ部材は、前記吸込口に面するパンチング孔を取り囲むように平面視で前記スペーサ部材の外周を構成する外枠と、前記外枠の内側に架け渡される内枠とを備える、
   高周波加熱装置。
2. 前記スペーサ部材は、前記パンチング孔を形成する前記底壁に対して平行に延びる線状の部材である、請求項１に記載の高周波加熱装置。
3. 前記スペーサ部材の前記内枠は、平面視で格子状に延びる格子部を備える、請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
4. 前記スペーサ部材の前記内枠は、平面視で曲線状に湾曲するアーチ部を備える、請求項１から３のいずれか１つに記載の高周波加熱装置。
5. 前記スペーサ部材における前記アーチ部の内側の領域は、平面視で前記冷却ファンの前記吸込口に面する領域を含み、前記アーチ部の内側と前記外枠の間には前記内枠は設けられていない、請求項４に記載の高周波加熱装置。
6. 前記スペーサ部材を前記機械室の前記底壁に取り付ける取付部をさらに備える、請求項１から５のいずれか１つに記載の高周波加熱装置。
7. 前記機械室は、前記冷却ファンの前方において複数のパンチング孔を形成する側壁部をさらに有する、請求項１から６のいずれか１つに記載の高周波加熱装置。
8. 前記スペーサ部材の最下点は、前記高周波加熱装置の最下点よりも高い位置にある、請求項１から７のいずれか１つに記載の高周波加熱装置。
9. 前記パンチング孔を形成する前記底壁の領域から、前記高周波加熱装置の最下点までの高さ距離は、１０ｍｍ以下である、請求項１から８のいずれか１つに記載の高周波加熱装置。

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