JP6986629B2 - 化合物、硬化剤組成物、樹脂組成物、塗料組成物及び樹脂硬化物 - Google Patents

Description

本発明は、ウレトンイミン基を有する新規化合物、カルボジイミド化合物及びその製造方法、並びにこれら化合物を含む硬化剤組成物、樹脂組成物、塗料組成物及び樹脂硬化物に関する。
本願は、２０１８年５月１５日に、日本に出願された特願２０１８−０９４１７４号、並びに２０１９年１月２９日に、日本に出願された特願２０１９−０１３６３３号、特願２０１９−０１３６３４号、特願２０１９−０１３６３５号、及び特願２０１９−０１３６３６号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

自動車製造において塗装工程は、エネルギー消費量の約１／３を占めると言われており、環境や製造コストの削減の観点から、塗膜の焼き付けの低温化、塗装工程数の削減等が進められている。特に、主剤に含有されるカルボン酸（又はカルボキシ基）が塗膜の耐水性を低下させることから、塗膜の焼き付け時にカルボン酸を消費することが求められている。また、塗膜の焼き付けの低温化に伴い、８０℃等の低温環境下においてカルボン酸消費反応が起こることが求められている。一方で、４０℃付近の温度環境下での塗料組成物の貯蔵安定性も必要である。これらの条件を満たす候補化合物として、カルボジイミド化合物が注目されている。

カルボジイミド基は、２つのイソシアネート基を触媒存在下で脱炭酸縮合反応させることで生成することができる。特許文献１には、末端イソシアネート基がポリエチレンオキシド繰り返し単位を含有する親水性基で封止されたカルボジイミド系架橋剤が開示されている。該カルボジイミド系架橋剤は、水溶性又は水分散性に優れることが記載されている。また、特許文献２には、末端イソシアネート基がポリアルキレンオキシド繰り返し単位を含有する親水性基で封止されたカルボジイミド化合物が開示されている。該カルボジイミド化合物は、塗料組成物としたときのポットライフが従来と同等程度でありながら、塗膜としたときの耐水性、耐溶剤性及び密着性を向上できることが記載されている。

一方、ウレトンイミン基は、２つのイソシアネート基が結合することで形成されるカルボジイミド基に、さらに１つのイソシアネート基が付加することで形成される結合である。低温で解離してイソシアネート基を再生することが知られており、これを利用したブロックイソシアネート化合物やウレトンイミン基含有化合物を用いた電着塗料や、塗料用の樹脂組成物、水分散組成物等が提案されている（例えば、特許文献３及び４参照）。

日本国特開平１０−３１６９３０号公報 日本国特開２００９−２３５２７８号公報 日本国特許第４３０９９７６号公報 日本国特許第６１７０２７２号公報

しかしながら、特許文献１、２等に開示された、従来提案されてきた末端に親水性基が導入されたカルボジイミド化合物は、水系樹脂組成物としたときの４０℃付近の温度環境下での貯蔵安定性に改良の余地がある。また、水系樹脂組成物としたときの分散性に優れるが、疎水性溶媒を含む樹脂組成物としたときの４０℃付近の温度環境下での貯蔵安定性に改良の余地がある。

また、入手容易なイソシアネートの種類はそれほど多くないため、従来提案されてきたウレトンイミン基含有化合物は実質的に構造が限定されている。また、ウレトンイミンがカルボジイミド化合物とイソシアネート化合物とに解離する反応特性に依存するため、ウレトンイミン基含有化合物を塗料等に適用しようとすると、必ずしも所望の特性を示さない場合がある。また、従来提案されてきたウレトンイミン基含有化合物は、水系樹脂組成物としたときの貯蔵安定性に改良の余地がある。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、新規のカルボジイミド化合物及び前記カルボジイミド化合物を含有し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性に優れる硬化剤組成物を提供する。また、前記硬化剤組成物を用いた樹脂組成物、塗料組成物及び樹脂硬化物を提供する。

また、本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、ウレトンイミン基を有する新規化合物及びその製造方法、並びに、該化合物を含み、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性に優れる硬化剤組成物を提供する。また、前記硬化剤組成物を用いた樹脂組成物、塗料組成物及び樹脂硬化物を提供する。

すなわち、本発明は、以下の態様を含む。
（１） 脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかに由来するカルボジイミド化合物を構成単位として含み、且つ、イソシアネート化合物を構成単位として含むウレトンイミン基を有する化合物であって、前記イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基と、前記カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基とが異なり、下記一般式（１α）で表される、ウレトンイミン基を有する化合物。

（一般式（１α）中、ｎ１１は１以上１００以下の整数である。Ｘ ^１１ 及びＸ ^１２ はそれぞれ独立に、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。Ｑ ^１１ は下記式（１−ａ）で表される基又は下記一般式（１−ｂ）で表される基である。ｎ１１が１のとき、Ｑ ^１１ は下記一般式（１−ｂ）で表される基であり、ｎ１１が２以上であるとき、複数存在するＱ ^１１ は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ ^１１ 及びＲ ^１２ はそれぞれ独立に、ジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（１−ｂ）中、Ｙ ^１１ はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。なお、前記ジイソシアネートと前記イソシアネート化合物とは異なる化合物である。）

（２） 赤外分光分析による測定スペクトルにおいて、ウレトンイミン基及びウレタン基由来の吸光度に対するカルボジイミド基由来の吸光度の比が０以上１．５未満である、（１）に記載の化合物。

（３） 前記単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールは、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル又はそれらのコポリマーである、（１）又は（２）に記載の化合物。

（４） 前記Ｘ ^１１ 及び前記Ｘ ^１２ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基である、（１）〜（３）のいずれか一つに記載の化合物。

（一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２１はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２２はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
アスタリスクは結合部位を表す。）

（５） 前記Ｒ ^１１ 及び前記Ｒ ^１２ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩＩ−１）で表される基、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基、下記式（ＶＩ−１）で表される基、下記式（ＶＩ−２）で表される基又は下記式（ＶＩ−３）で表される基である、（１）〜（４）のいずれか一つに記載の化合物。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）

（６） 前記Ｒ ^１１ 及び前記Ｒ ^１２ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ）で表される基である、（１）〜（４）のいずれか一つに記載の化合物。

（一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。前記アルキレン基及び前記アリーレン基は、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有してもよい。アスタリスクは結合部位を表す。）

（７） 前記Ｒ ^１１ 及び前記Ｒ ^１２ がそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基、下記一般式（ＶＩ−２）及び下記一般式（ＶＩ−３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、（６）に記載の化合物。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）

（８） 前記カルボジイミド化合物が脂肪族ジイソシアネートに由来するカルボジイミド化合物であって、前記イソシアネート化合物が脂肪族イソシアネート化合物である、（１）〜（７）のいずれか一つに記載の化合物。

（９） 前記ウレトンイミン基に結合する、前記イソシアネート化合物から前記イソシアネート基を除いた残基の炭素原子と、前記ウレトンイミン基に結合する、前記カルボジイミド化合物から前記カルボジイミド基を除いた残基の炭素原子と、において、
一方の炭素原子が第１級炭素原子若しくは電子求引性基が結合した第１級炭素原子であり、且つ他方の炭素原子が第２級炭素原子である、又は
一方の炭素原子が電子求引性基が結合した第１級炭素原子であり、且つ他方の炭素原子が電子求引性基が結合していない第１級炭素原子である、（８）に記載の化合物。

（１０） 前記イソシアネート化合物が、アミノ酸に由来するイソシアネート及び３官能以上のイソシアネートのうち少なくともいずれかである、（１）〜（９）のいずれか一つに記載の化合物。

（１１） 前記３官能以上のイソシアネートが３官能のイソシアネートである、（１０）に記載の化合物。

（１２） 前記３官能のイソシアネートが下記一般式（１−Ｂ）−３ｃで表される化合物である、（１１）に記載の化合物。

（一般式（１−Ｂ）−３ｃ中、複数存在するＲ^１３４ｂはそれぞれ独立に、単結合、又は、エステル基及びエーテル基からなる群より選択される１種以上を含んでもよい炭素数１以上２０以下の２価の炭化水素基である。Ｒ^１３５ｂは、水素原子又は炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基である。）

（１３） 前記アミノ酸に由来する基を有するイソシアネートが、下記式（５）で表される基を有するイソシアネートである、（１０）に記載の化合物。

（式（５）中、アスタリスクは結合部位を表す。）

（１４） 脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかに由来するカルボジイミド化合物を構成単位として含み、且つ、イソシアネート化合物を構成単位として含むウレトンイミン基を有する化合物であって、
前記イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基と、前記カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基とが異なり、
下記一般式（１η）で表される、ウレトンイミン基を有する化合物。

（一般式（１η）中、ｍ９は１以上１２以下の整数である。Ｙ ^１１ はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。なお、前記ジイソシアネートと前記イソシアネート化合物とは異なる化合物である。）

（１５） 下記一般式（２α）で表される、カルボジイミド化合物。

（一般式（２α）中、ｎ１２は１以上１００以下の整数である。Ｘ ^１３ 及びＸ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基である。Ｒ ^１３ 及びＲ ^１４ はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２１ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２２ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
アスタリスクは結合部位を表す。）

（１６） 前記Ｒ ^１３ 及び前記Ｒ ^１４ はそれぞれ独立に、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基、下記式（ＶＩ−１）で表される基、下記式（ＶＩ−２）で表される基又は下記式（ＶＩ−３）で表される基である、（１５）に記載の化合物。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）

（１７） 前記Ｒ ^１３ 及び前記Ｒ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ）で表される基である、（１５）に記載の化合物。

（一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。前記アルキレン基及び前記アリーレン基は、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有してもよい。アスタリスクは結合部位を表す。）

（１８） 前記Ｒ ^１３ 及び前記Ｒ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基、下記一般式（ＶＩ−２）及び下記一般式（ＶＩ−３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、（１７）に記載の化合物。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）

（１９） （１）〜（１３）のいずれか一つに記載の化合物の製造方法であって、
下記一般式（２α）で表されるカルボジイミド化合物と、下記一般式（３）で表されるイソシアネート化合物と、を反応させて、前記一般式（１α）で表されるウレトンイミン基を有する化合物を製造する、製造方法。

（一般式（２α）中、ｎ１２は１以上１００以下の整数である。Ｘ ^１３ 及びＸ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基である。Ｒ ^１３ 及びＲ ^１４ はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２１ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２２ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
アスタリスクは結合部位を表す。）

（一般式（３）中、Ｒ^３はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（２０） （１）〜（１８）のいずれか一つに記載の化合物を含む、硬化剤組成物。

（２１） （２０）に記載の硬化剤組成物と、カルボキシ基を有する化合物と、を含む、樹脂組成物。

（２２） （２１）に記載の樹脂組成物を含む、塗料組成物。

（２３） （２２）に記載の塗料組成物を硬化させてなる、樹脂硬化物。

上記態様の化合物によれば、ウレトンイミン基を有する新規化合物を提供することができる。上記硬化剤組成物によれば、前記化合物を含み、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性に優れる硬化剤組成物を提供することができる。上記態様の樹脂組成物は、前記硬化剤組成物を含み、貯蔵安定性に優れる。

上記態様の化合物によれば、新規のカルボジイミド化合物を提供することができる。上記硬化剤組成物によれば、前記化合物を含有し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性に優れる硬化剤組成物を提供することができる。上記態様の樹脂組成物は、前記硬化剤組成物を含み、貯蔵安定性に優れる。

以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」という）について詳細に説明する。以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の本実施形態に限定するものではない。本発明は、その要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。

≪ウレトンイミン含有化合物≫
本実施形態の化合物は、ウレトンイミン基を有する。また、本実施形態の化合物は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかに由来するカルボジイミド化合物を構成単位として含み、且つ、イソシアネート化合物を構成単位として含むウレトンイミン基を有する化合物である。また、前記イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基と、前記カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基とが異なる。

本実施形態の化合物において、前記イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基と、前記カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基との立体障害の度合いを適宜調整することで、前記イソシアネート化合物と前記カルボジイミド化合物との結合及び解離のバランスを調整することができ、優れた貯蔵安定性及び８０℃等の低温での硬化性を達成することができる。また、上記立体障害の度合いの制御により、本実施形態の化合物の生産性を向上させることができる。具体的には、例えば、前記イソシアネート化合物のイソシアネート基に隣り合う炭素原子及び前記カルボジイミド基のカルボジイミド基に隣り合う炭素原子のうち少なくともいずれかの炭素原子が、電気求引性基が結合した第１級炭素原子又は第２級炭素原子である場合には、イソシアネート化合物とカルボジイミド化合物との解離性をより高めることができ、８０℃等の低温における硬化性をより向上させることができる。一方で、例えば、前記イソシアネート化合物のイソシアネート基に隣り合う炭素原子及び前記カルボジイミド基のカルボジイミド基に隣り合う炭素原子のうち少なくともいずれかの炭素原子が、電気求引性基が結合した第１級炭素原子である場合には、イソシアネート化合物とカルボジイミド化合物との結合性をより高めることができ、貯蔵安定性をより向上させることができる。

このようなウレトンイミン基を有する化合物としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。

一般式（１）中、Ｘ^１は下記一般式（１−１）で表される基を１個以上含む基である。前記Ｘ^１において、下記一般式（１−１）で表される基を２個以上含む場合、複数存在する下記一般式（１−１）で表される基は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。また、Ｘ^１は下記一般式（１−１）で表される基を１個以上１００個以下含んでもよい。Ｙ^１は下記一般式（１−２）で表される基である。Ｑ^１及びＱ^２はそれぞれ独立に、水素原子、下下記一般式（１−３）で表される基、下記一般式（１−４）で表される基又は下記一般式（１−５）で表される基である。

一般式（１−１）〜一般式（１−５）中、アスタリスクは結合部位を表す。Ｘ^２及びＹ^２はそれぞれ独立に、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。Ｑ^３は水素原子又は１価の炭素数１以上１５以下の有機基である。Ｚ^１は、下記一般式（１−ａ）で表される基又は下記一般式（１−ｂ）で表される基である。Ｚ^２は、下記一般式（１−ａ）で表される基、下記一般式（１−ｂ）で表される基、下記一般式（１−ｃ）で表される基又は下記一般式（１−ｄ）で表される基である。前記Ｘ^２は下記一般式（１−ｂ）で表される基を１つ以上含む。Ｒ^１は単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。

一般式（１−ａ）、一般式（１−ｂ）、一般式（１−ｃ）及び一般式（１−ｄ）中、アスタリスクは結合部位を表す。Ｙ^１１はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。

［Ｘ^２及びＹ^２］
Ｘ^２及びＹ^２はそれぞれ独立に、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。中でも、Ｘ^２及びＹ^２としては、炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基が好ましい。具体的には、例えば、直鎖炭化水素基、無置換の脂環式炭化水素由来の基、アルキル置換シクロヘキサン由来の基、ジアルキル置換シクロヘキサン由来の基、トリアルキル置換シクロヘキサン由来の基、モノアルキル置換ベンゼン、ジアルキル置換ベンゼン、芳香族炭化水素由来の基等が挙げられる。

直鎖炭化水素基としては、例えば、メチレン、ジメチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン等が挙げられる。

２価の基の由来となる無置換の脂環式炭化水素としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、ビス（シクロヘキシル）アルカン等が挙げられる。

２価の基の由来となるアルキル置換シクロヘキサンとしては、例えば、メチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン（各異性体）、エチルシクロヘキサン（各異性体）、プロピルシクロヘキサン（各異性体）、ブチルシクロヘキサン（各異性体）、ペンチルシクロヘキサン（各異性体）、ヘキシルシクロヘキサン（各異性体）等が挙げられる。

２価の基の由来となるジアルキル置換シクロヘキサンとしては、例えば、ジメチルシクロヘキサン（各異性体）、ジエチルシクロヘキサン（各異性体）、ジブチルシクロヘキサン（各異性体）等が挙げられる。

２価の基の由来となるトリアルキル置換シクロヘキサンとしては、例えば、１，５，５−トリメチルシクロヘキサン、１，５，５−トリエチルシクロヘキサン、１，５，５−トリプロピルシクロヘキサン（各異性体）、１，５，５−トリブチルシクロヘキサン（各異性体）等が挙げられる。

２価の基の由来となるモノアルキル置換ベンゼンとしては、例えば、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン等が挙げられる。

２価の基の由来となるジアルキル置換ベンゼンとしては、例えば、キシレン、ジエチルベンゼン、ジプロピルベンゼン等が挙げられる。

２価の基の由来となる芳香族炭化水素としては、例えば、ジフェニルアルカン、ベンゼン等が挙げられる。

このようなＸ^２及びＹ^２としては、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基、下記式（ＶＩ−１）で表される基、下記式（ＶＩ−２）で表される基又は下記式（ＶＩ−３）で表される基がより好ましい。

すなわち、Ｘ^１としては、下記一般式（ＩＩＩ−１−１）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−２−１）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−２−２）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−３−１）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−５−１）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−６−１）で表される基、下記一般式（ＶＩ−１−１）で表される基、、下記一般式（ＶＩ−２−１）で表される基及び下記一般式（ＶＩ−３−１）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基を１個以上含む基が好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６２は１以上１０以下の整数である。Ｚ^３は前記一般式（１−ａ）で表される基又は前記一般式（１−ｂ）で表される基である。）

また、Ｙ^１としては、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基、下記式（ＶＩ−１）で表される基、下記式（ＶＩ−２）で表される基又は下記式（ＶＩ−３）で表される基で表される基が好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）

［Ｑ^３］
一般式（１−４）中、Ｑ^３は水素原子又は１価の炭素数１以上１５以下の有機基である。中でも、Ｑ^３としては、炭素数１以上１２以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基が好ましい。

好ましい脂肪族基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基、ジエチルシクロヘキシル基、ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。

好ましい芳香族基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ブチルフェニル基、ジフェニル基、フェニルメチルフェニル基等が挙げられる。

＜好ましいウレトンイミン基含有化合物＞
中でも、本実施形態の化合物（１）の構成単位として含まれるカルボジイミド化合物としては、脂肪族ジイソシアネートに由来するカルボジイミド化合物が好ましい。
また、本実施形態の化合物の構成単位として含まれるイソシアネート化合物としては、脂肪族イソシアネート化合物が好ましい。

さらに、本実施形態の化合物（１）において、ウレトンイミン基に結合する、イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基の炭素原子と、ウレトンイミン基に結合する、カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基の炭素原子と、において、一方の炭素原子が第１級炭素原子若しくは電子求引性基が結合した第１級炭素原子であり、且つ他方の炭素原子が第２級炭素原子であることが好ましい。又は、一方の炭素原子が電気求引性基が結合した第１級炭素原子であり、且つ他方の炭素原子が電気求引性基が結合していない第１級炭素原子であることが好ましい。
電気求引性基が結合した第１級炭素原子又は第２級炭素原子である場合には、イソシアネート化合物とカルボジイミド化合物との解離性をより高めることができ、８０℃等の低温における硬化性をより向上させることができる。一方で、電気求引性基が結合した第１級炭素原子である場合には、イソシアネート化合物とカルボジイミド化合物との結合性をより高めることができ、貯蔵安定性をより向上させることができる。よって、上記組み合わせであることで、イソシアネート化合物とカルボジイミド化合物との結合及び解離を制御することができ、貯蔵安定性と８０℃等の低温における硬化性を両立することができる。

なお、ここでいう「電子求引性基」とは、反応中心から電子を求引する（電子密度を下げる効果を有する）置換基を意味し、具体的には、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基（−ＮＯ_２）、シアノ基（−ＣＮ）、カルボシキ基（−ＣＯＯＨ）、アルコキシカルボニル基（−ＣＯＯＲ’；Ｒは任意のアルキル基）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ＜）、ケトン基（＞Ｃ＝Ｏ）等が挙げられる。

好ましい化合物（１）としては、例えば、下記一般式（１α）で表される化合物（以下、「化合物（１α）」と称する場合がある）等が挙げられる。化合物（１α）は、ウレトンイミン基を少なくとも１つ有する化合物である。

（一般式（１α）中、ｎ１１は１以上１００以下の整数である。Ｘ^１１及びＸ^１２はそれぞれ独立に、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。Ｑ^１１は下記式（１−ａ）で表される基（以下、「基（１−ａ）」と称する場合がある）又は下記一般式（１−ｂ）で表される基（以下、「基（１−ｂ）」と称する場合がある）である。ｎ１１が１のとき、Ｑ^１１は下記一般式（１−ｂ）で表される基であり、ｎ１１が２以上であるとき、複数存在するＱ^１１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ独立に、ジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（１−ｂ）中、Ｙ^１１はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。なお、前記ジイソシアネートと前記イソシアネート化合物とは異なる化合物である。）

また、化合物（１α）は、赤外分光分析による測定スペクトルにおいて、ウレトンイミン基及びウレタン基由来の吸光度に対するカルボジイミド基由来の吸光度の比が０以上１．５未満であり、０以上１．４以下が好ましく、０以上１．０以下がより好ましく、０以上０．５以下がさらに好ましい。
ウレトンイミン基及びウレタン基由来の吸光度に対するカルボジイミド基由来の吸光度の比が上記範囲であることで、化合物（１α）中においてより十分量のウレトンイミン基が形成されており、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性がより良好なものとなる。
なお、一般に、赤外分光分析による測定スペクトルにおいて、ウレトンイミン基及びウレタン基の伸縮振動由来の吸光度は１７２０ｃｍ^−１付近に現れ、カルボジイミド基の伸縮振動由来の吸光度は２１２０ｃｍ^−１付近に現れることが知られている。

化合物（１α）の構造について下記に詳細を説明する。

［ｎ１１］
ｎ１１は、構成単位「−Ｒ^１１−Ｑ^１１−」の繰り返し数を表し、１以上１００以下の整数である。

［Ｘ^１１及びＸ^１２］
Ｘ^１１及びＸ^１２はそれぞれ独立に、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。化合物（１α）は、Ｘ^１１及びＸ^１２を有することで、水系溶媒中において優れた水分散性を有する。Ｘ^１１及びＸ^１２は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造しやすいことから、同一であることが好ましい。

（単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコール）
Ｘ^１１及びＸ^１２の形成に用いられる単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールは、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物である。

（一般式（ＩＶ）中、Ｒ^４１はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上３０以下のアルキル基又は炭素数６以上３０以下のアリール基である。Ｒ^４２は炭素数１以上５以下のアルキレン基である。ｎ４１は１以上６０以下の整数である。）

・Ｒ^４１
Ｒ^４１におけるカルボニル基を含んでもよいアルキル基の炭素数としては、１以上３０以下であり、ポリイソシアネートの親水性を向上させる観点から、１以上２０以下が好ましく、１以上１５以下がより好ましく、１以上１２以下がさらに好ましい。
Ｒ^４１におけるカルボニル基を含んでもよいアリール基の炭素数としては、６以上３０以下であり、ポリイソシアネートの親水性を向上させる観点から、６以上２０以下が好ましく、６以上１５以下がより好ましく、６以上１２以下がさらに好ましい。
Ｒ^４１におけるアルキル基としては、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状アルキル基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられる。分岐鎖状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、イソヘキシル基等が挙げられる。環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ^４１におけるアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基等が挙げられる。
また、アリール基は、アルキル基、アルケニル基及びアリール基からなる群より選ばれる少なくとも１種の炭化水素基を置換基として有してもよい。置換基を有するアリール基としては、例えば、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、スチリル基、スチリルフェニル基等が挙げられる。

また、カルボニル基を含むアルキル基及びアリール基は、例えば、下記一般式（ＩＶ−１）で表される基（以下、「基（ＩＶａ）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＩＶａ）中、Ｒ^４３は炭素数１以上２９以下のアルキル基又は炭素数６以上２９以下のアリール基である。アスタリスクは結合部位を表す。）

Ｒ^４３におけるアルキル基及びアリール基としては、上記Ｒ^４１において例示されたもののうち、炭素数１以上２９以下のアルキル基及び炭素数６以上２９以下のアリール基が挙げられる。

中でも、Ｒ^４１としては、カルボニル基を含んでもよい鎖状アルキル基が好ましく、カルボニル基を含んでもよい直鎖状アルキル基がより好ましく、カルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下の直鎖状アルキル基がさらに好ましく、メチル基又はエチル基が特に好ましい。

・Ｒ^４２
Ｒ^４２における炭素数１以上５以下のアルキレン基としては、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。直鎖状アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、１−メチルエチレン基（プロピレン基）、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、１，１−ジメチルエチレン基、１−メチルテトラメチレン基、２−メチルテトラメチレン基等が挙げられる。環状アルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基等が挙げられる。
中でも、Ｒ^４２としては、鎖状アルキレン基が好ましく、直鎖状アルキレン基がより好ましく、炭素数１以上３以下の直鎖状アルキレン基がさらに好ましく、メチレン基又はエチレン基が特に好ましい。

・ｎ４１
ｎ４１は、アルキレンオキシド繰り返し単位の平均数であり、１以上６０以下の整数である。ｎ４１の下限値は、１であり、２が好ましく、５がより好ましい。一方で、ｎ１１の上限値は、６０であり、４０が好ましく、３０がより好ましい。
すなわち、ｎ４１は１以上６０以下であり、２以上４０以下が好ましく、５以上３０以下がより好ましい。
ｎ４１が上記範囲であることで、化合物（１α）の水分散性がより良好となる。
ｎ４１は、例えば、化合物（１α）を試料として、プロトン核磁気共鳴（ＮＭＲ）により算出することができる。具体的には、アルキレン基に対応する相対強度の積分値とアルキル基に対応する相対強度の積分値とを対応させることにより、化合物（１α）中のアルキレンオキシド繰り返し単位の平均数を算出することができる。

このような単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、例えば、ポリメチレングリコ−ルモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコ−ルモノアルキルエーテル、ポリエチレングリコールフェニルエーテル、ポリエチレングリコールアルキルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールフェニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールスチリルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールナフチルエーテル、ポリプロピレングリコ−ルモノアルキルエーテル、及び、これらのコポリマー等が挙げられる。ポリエチレングリコ−ルモノアルキルエーテルとしては、例えば、ポリエチレングリコ−ルモノメチルエーテル、ポリエチレングリコ−ルモノエチルエーテル、ポリエチレングリコ−ルモノプロピルエーテル、ポリエチレングリコ−ルモノブチルエーテル、ポリエチレングリコ−ルモノラウリルエーテル等が挙げられる。ポリプロピレングリコ−ルモノアルキルエーテルとしては、例えば、ポリプロピレングリコ−ルモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコ−ルモノエチルエーテル、ポリプロピレングリコ−ルモノプロピルエーテル、ポリプロピレングリコ−ルモノブチルエーテル等が挙げられる。
コポリマーとしては、例えば、ポリオキシエチレン−オキシプロピレン（ランダム及びブロックのうち少なくともいずれかの重合様式の）グリコールモノメチルエーテル、ポリオキシエチレン−オキシプロピレン（ランダム及びブロックのうち少なくともいずれかの重合様式の）グリコールモノブチルエーテル、ポリオキシエチレン−オキシテトラメチレン（ランダム及びブロックのうち少なくともいずれかの重合様式の）グリコールポリブチレングリコ−ルモノメチルエーテル等が挙げられる。また、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、（モノ、ジ、トリ、テトラ又はペンタ）スチレン化フェニル基、モノ（又はジ若しくはトリ）スチリル−メチル−フェニル基、トリベンジルフェニル基、β−ナフチル基等の芳香環を２つ以上含有する基を有するノニオン型界面活性剤等を用いてもよい。これら単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールを１種単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。
中でも、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、ポリエチレングリコ−ルモノメチルエーテル、ポリプロピレンレングリコ−ルモノメチルエーテル、ポリエチレングリコ−ルモノブチルエーテル、ポリプロピレンレングリコ−ルモノブチルエーテル、ポリオキシエチレン−オキシプロピレン（ランダム及びブロックのうち少なくともいずれかの重合様式の）グリコールモノメチルエーテル、又は、ポリオキシエチレン−オキシプロピレン（ランダム及びブロックのうち少なくともいずれかの重合様式の）グリコールモノブチルエーテルが好ましい。

単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの分子量の下限値は、５０が好ましく、１００がより好ましく、１５０がさらに好ましく、２００が特に好ましい。一方で、分子量の上限値は、３０００が好ましく、２５００がより好ましく、２０００がさらに好ましく、１５００が特に好ましい。
すなわち、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの分子量は、５０以上３０００以下が好ましく、１００以上２５００以下がより好ましく、１５０以上２０００以下がさらに好ましく、２００以上１５００以下が特に好ましい。
分子量が上記範囲であることで、化合物（１α）の水分散性がより良好となる。

すなわち、好ましいＸ^１１及びＸ^１２としては、例えば、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基（以下、「基（ＩＩ−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−２）で表される基（以下、「基（ＩＩ−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。基（ＩＩ−１）又は基（ＩＩ−２）を有することで、化合物（１α）は、疎水性であるウレトンイミン基を有する主骨格、弱親水性であるプロピレンオキシド繰り返し単位、及び、強親水性であるエチレンオキシド繰り返し単位が中心から末端にかけてこの順に結合する構造となり、より安定的に水分散させることができ、水系溶媒中においてカルボン酸やアルコールのウレトンイミン基への侵入をより効果的に抑制することができる。また、基（ＩＩ−１）又は基（ＩＩ−２）において、エチレンオキシド繰り返し単位及びプロピレンオキシド繰り返し単位は、ブロック重合されていてもよく、ランダム重合されていてもよい。

（一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２１はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２２はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
アスタリスクは結合部位を表す。）

・ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３及びｎ２４
ｎ２１及びｎ２４はそれぞれ独立に、プロピレンオキシド繰り返し単位の数を表し、ｎ２２及びｎ２３はそれぞれ独立に、エチレンオキシド繰り返し単位の数を表す。ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下であり、１以上２０以下が好ましく、２以上１５以下がより好ましく、５以上１０以下がさらに好ましい。ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３及びｎ２４が上記範囲であることで、水系溶媒中においてカルボン酸やアルコールのウレトンイミン基への侵入をより効果的に抑制することができる。
また、ｎ２２に対するｎ２１の比（ｎ２１／ｎ２２）は、例えば、０．８以上１．２以下とすることができ、１．０が好ましい。
また、ｎ２３に対するｎ２４の比（ｎ２４／ｎ２３）は、例えば、０．８以上１．２以下とすることができ、１．０が好ましい。
ｎ２１／ｎ２２及びｎ２４／ｎ２３が上記範囲であることで、水系溶媒中においてカルボン酸やアルコールのウレトンイミン基への侵入をより効果的に抑制することができる。

・Ｒ^２１及びＲ^２２
Ｒ^２１及びＲ^２２におけるカルボニル基を含んでもよいアルキル基としては、上記Ｒ^４１において例示されたもののうち炭素数が１以上１２以下であるものと同様のものが挙げられる。中でも、Ｒ^２１としては、炭素数１以上８以下のアルキル基が好ましく、炭素数１以上６以下の鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１以上４以下の直鎖状アルキル基がさらに好ましい。

より好ましいＸ^１１及びＸ^１２としては、例えば、下記一般式（ＩＩ−１−１）で表される基（以下、「基（ＩＩ−１−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−１−２）で表される基（以下、「基（ＩＩ−１−２）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−２−１）で表される基（以下、「基（ＩＩ−２−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−２−２）で表される基（以下、「基（ＩＩ−２−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＩＩ−１−１）中、ｎ２１１及びｎ２１２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。
一般式（ＩＩ−１−２）中、ｎ２１３及びｎ２１４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。
一般式（ＩＩ−２−１）中、ｎ２２１及びｎ２２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。
一般式（ＩＩ−２−２）中、ｎ２２３及びｎ２２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。）

［Ｒ^１１及びＲ^１２］
Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ独立に、ジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基、すなわち、２価の炭化水素基である。Ｒ^１１及びＲ^１２は互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造しやすいことから、同一であることが好ましい。

２価の炭化水素基としては、炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基が好ましい。具体的には、例えば、直鎖炭化水素基、無置換の脂環式炭化水素基（シクロアルキレン基）、アルキル置換脂環式炭化水素基、ジアルキル置換脂環式炭化水素基、トリアルキル置換脂環式炭化水素基、直鎖炭化水素基とトリアルキル置換脂環式炭化水素基とが結合してなる基、無置換の芳香族炭化水素基、モノアルキル置換アリーレン基、ジアルキル置換アリーレン基等が挙げられる。
直鎖炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。
無置換の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基、アルキレンビス（シクロヘキシレン）基等が挙げられる。アルキレンビス（シクロヘキシレン）基としては、例えば、メチレンビス（シクロヘキシレン）基、エチレンビス（シクロヘキシレン）基等が挙げられる。
アルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、メチルシクロペンチレン基、エチルシクロペンチレン基、メチルシクロヘキシレン基（各異性体）、エチルシクロヘキシレン基（各異性体）、プロピルシクロヘキシレン基（各異性体）、ブチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ペンチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ヘキシルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。
ジアルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、ジメチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ジエチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ジブチルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。
トリアルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、１，５，５−トリメチルシクロヘキシレン基、１，５，５−トリエチルシクロヘキシレン基、１，５，５−トリプロピルシクロヘキシレン基（各異性体）、１，５，５−トリブチルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。
直鎖炭化水素基とトリアルキル置換脂環式炭化水素基とが結合してなる基としては、例えば、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

無置換の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ジフェニルアルカン−ジイル基等が挙げられる。
モノアルキル置換アリーレン基としては、例えば、トルエン−ジイル基、エチルフェニレン基、プロピルフェニレン基等が挙げられる。
ジアルキル置換アリーレン基としては、例えば、キシレン−ジイル基、ジエチルフェニレン基、ジプロピルフェニレン基、テトラメチルキシリレン基等が挙げられる。

中でも、Ｒ^１１及びＲ^１２としては、アルキレンビス（シクロヘキシレン）基、基（ＩＩＩ−２）、ジフェニルアルカン−ジイル基、トルエン−ジイル基又はテトラメチルキシリレン基が好ましく、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−１）」と称する場合がある）、基（ＩＩＩ−２）、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−３）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−４）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−４）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−５）」と称する場合がある）又は下記式（ＩＩＩ−６）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−６）」と称する場合がある）がより好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。）

また、中でも、Ｒ^１１及びＲ^１２としては、基（ＶＩ）であることが好ましい。

（一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。前記アルキレン基及び前記アリーレン基は、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有してもよい。アスタリスクは結合部位を表す。）

（Ｒ^６１）
Ｒ^６１における炭素数１以上１８以下のアルキレン基としては、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。直鎖状アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、１−メチルエチレン基（プロピレン基）、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、１，１−ジメチルエチレン基、１−メチルテトラメチレン基、２−メチルテトラメチレン基等が挙げられる。環状アルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基等が挙げられる。

Ｒ^６１における炭素数６以上１８以下のアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフタレン−ジイル基が挙げられる。

中でも、Ｒ^６１としては、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、シクロヘキシレン基又はフェニレン基が好ましい。

好ましい基（ＶＩ）としては、例えば、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基（以下、「基（ＶＩ−１）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩ−２）で表される基（以下、「基（ＶＩ−２）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩ−３）で表される基（以下、「基（ＶＩ−３）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は３以上１０以下の整数である。）

好ましい基（ＶＩ−１）としては、例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、中でも、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基が好ましい。

また、Ｒ^１１及びＲ^１２がイソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有する前記アルキレン基及び前記アリーレン基である場合、Ｒ^１１及びＲ^１２は、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。中でも、該ポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート基を有するポリイソシアネートであることが好ましい。

なお、「イソシアヌレート基」とは、３つのイソシアネート基を反応させてなる官能基であり、下記式（ＶＩＩ−１）で示される基である。
「アロファネート基」とは、アルコールの水酸基とイソシアネート基とを反応させてなる官能基であり、下記式（ＶＩＩ−２）で示される基である。
一般に、「ビウレット基」とは、３つのイソシアネート基とビウレット化剤とを反応させてなる官能基であり、下記式（ＶＩＩ−３）で表される基である。
一般に、「ウレトジオン基」とは、２つのイソシアネート基を反応させてなる官能基であり、下記式（ＶＩＩ−４）で表される基である。
一般に、「イミノオキサジアジンジオン基」とは、３つのイソシアネート基を反応させてなる官能基であり、下記式（ＶＩＩ−５）で表される基である。
一般に、「ウレタン基」とは、１つのイソシアネート基と１つの水酸基とを反応させてなる官能基であり、下記式（ＶＩＩ−６）で表される基である。

［Ｑ^１１］
Ｑ^１１は基（１−ａ）又は基（１−ｂ）である。基（１−ａ）は、カルボジイミド基である。基（１−ｂ）は、カルボジイミド基とイソシアネート化合物のイソシアネート基とが反応して形成されたウレトンイミン基である。
ｎ１１が１のとき、Ｑ^１１は基（１−ｂ）であり、ｎ１１が２以上であるとき、複数存在するＱ^１１は互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性の観点から、赤外分光分析による測定スペクトルにおいて、ウレトンイミン基及びウレタン基由来の吸光度に対するカルボジイミド基由来の吸光度の比が上記範囲となるように、基（１−ｂ）及び基（１−ａ）が存在することが好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（１−ｂ）中、Ｙ^１１はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。なお、前記ジイソシアネートと前記イソシアネート化合物とは異なる化合物である。）

（Ｙ^１１）
Ｙ^１１はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。
Ｙ^１１を含むウレトンイミン基の形成に用いられるイソシアネート化合物としては、１つ以上のイソシアネート基を有する化合物であって、上記Ｒ^１１及び上記Ｒ^１２の形成に用いられるジイソシアネートと異なるものであればよい。

また、Ｙ^１１は、アミノ酸に由来する基を有するイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基であって、前記アミノ酸に由来する基を有するイソシアネート化合物が下記式（５）で表される基を有するイソシアネート化合物であってもよい。

（一般式（５）中、アスタリスクは結合部位を表す。）

Ｙ^１１を含むウレトンイミン基の形成に用いられるイソシアネート化合物としては、アミノ酸に由来するイソシアネート及び３官能以上のイソシアネートのうち少なくともいずれかのイソシアネート化合物であることが好ましい。

すなわち、Ｙ^１１はアミノ酸に由来する基を有するイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基及び３官能以上のイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基のうち少なくともいずれかの基であることが好ましい。３官能以上のイソシアネートとしては、３官能のイソシアネートが好ましい。

Ｙ^１１を含むウレトンイミン基の形成に用いられるイソシアネート化合物としては、例えば、下記一般式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）」と称する場合がある）、ジイソシアネートモノマー又はトリイソシアネートモノマーを重合させてなるポリイソシアネート等が挙げられる。ポリイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート（以下、「ＨＤＩ」と略記する場合がある）系ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」と略記する場合がある）系ポリイソシアネート等が挙げられる。ＨＤＩ系ポリイソシアネートとしては、例えば、ビウレット型ポリイソシアネート、イソシアヌレート型ポリイソシアネート等が挙げられる。

（一般式（Ｉ−Ｂ）中、ｎ１１ｂは１以上の整数である。Ｒ^１１ｂは「ｎ１１ｂ」価の有機基である。）

［化合物（Ｉ−Ｂ）］
（ｎ１１ｂ）
一般式（Ｉ−Ｂ）中、製造の容易性や取り扱いの容易性を考慮すると、ｎ１１ｂは、１以上５以下の整数が好ましく、１以上３以下の整数がより好ましい。

（Ｒ^１１ｂ）
一般式（Ｉ−Ｂ）中、Ｒ^１１ｂとしては、炭素数３以上８５以下の有機基が好ましく、炭素数３以上３０以下の有機基がより好ましい。Ｒ^１１ｂにおける有機基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、又は、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合してなる基である。具体的なＲ^３１としては、例えば、環式炭化水素基、非環式炭化水素基、非環式炭化水素基と１種以上の環式基とが結合してなる基、及び、これらの基が特定の非金属原子と共有結合してなる基等が挙げられる。前記環式基としては、例えば、環式炭化水素基、ヘテロ環基、ヘテロ環式スピロ基、ヘテロ架橋環基等が挙げられる。前記環式炭化水素基としては、例えば、単環式炭化水素基、縮合多環式炭化水素基、架橋環式炭化水素基、スピロ炭化水素基、環集合炭化水素基、側鎖のある環式炭化水素基等が挙げられる。前記非金属原子としては、例えば、炭素、酸素、窒素、硫黄、ケイ素等が挙げられる。

１．１官能のイソシアネート化合物
化合物（Ｉ−Ｂ）において、ｎ１１ｂが１である１官能のイソシアネート化合物（すなわち、一分子中に１個のイソシアネート基を有する化合物）である場合、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）としては、例えば、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−１ａで表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−１ａ」と称する場合がある）、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−１ｂで表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ」と称する場合がある）等が挙げられる。
なお、これらの化合物は、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）の一例に過ぎず、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）はこれに限定されない。

（一般式（Ｉ−Ｂ）−１ａ中、Ｒ^１１１ｂは炭素数３以上８５以下の炭化水素基である。
一般式（Ｉ−Ｂ）−１ｂ中、Ｒ^１１３ｂは、酸素原子又は第２級アミノ基（−ＮＨ−）である。Ｒ^１１２ｂは水素原子、炭素数１以上１０以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上１０以下の芳香族炭化水素基である。Ｒ^１１２ｂにおける前記炭素数１以上１０以下の脂肪族炭化水素基及び前記炭素数６以上１０以下の芳香族炭化水素基は、硫黄原子、酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも１種を含んでもよい。Ｒ^１１４ｂは炭素数１以上１０以下の１価の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上１０以下の１価の芳香族炭化水素基である。）

なお、上記化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂは、α−アミノ酸骨格を有する化合物である。
α−アミノ酸では、α炭素へのアミノ基やカルボキシル基等の結合様式が立体的に２通り可能で、それぞれ、Ｄ型、Ｌ型の光学異性体として区別される。上記化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂの製造に使用されるアミノ酸（及びアミノ酸骨核を有する化合物）は、Ｄ型でもよく、Ｌ型でもよく、その混合物やラセミ体であってもよい。工業的に安価に入手できる多くのアミノ酸は、発酵で生産されるアミノ酸で、Ｌ型であることがほとんどであるが、それらは好ましく使用できる。本明細書中では、立体配置を示していないが、Ｄ型及びＬ型のいずれかを示している。

（Ｒ^１１１ｂ）
Ｒ^１１１ｂは炭素数３以上８５以下の炭化水素基である。Ｒ^１１１ｂにおける炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。Ｒ^１１１ｂにおける炭化水素基としては、上記Ｒ^１１ｂにおいて例示された炭化水素基と同様のものが挙げられる。

（Ｒ^１１２ｂ及びＲ^１１４ｂ）
Ｒ^１１２ｂ及びＲ^１１４ｂにおける炭素数１以上１０以下の１価の脂肪族炭化水素基として具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、デシル基等が挙げられる。Ｒ^１１２ｂ及びＲ^１１４ｂにおける炭素数６以上１０以下の１価の芳香族炭化水素基として具体的には、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ジエチルフェニル基等が挙げられる。また、Ｒ^１１２ｂにおける炭素数１以上１０以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１０以下の芳香族炭化水素基は、硫黄原子、酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも１種を含んでもよい。なお、硫黄原子又は酸素原子を含む場合には、炭素数１以上１０以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１０以下の芳香族炭化水素基を構成する炭素原子が硫黄原子又は酸素原子に置換されている。

（Ｒ^１１３ｂ）
Ｒ^１１３ｂは酸素原子（−Ｏ−）又は第２級アミノ基（−ＮＨ−）である。Ｒ^１１３ｂが酸素原子である場合、隣り合うカルボニル基とエステル結合を形成する。また、Ｒ^１１３ｂが第２級アミノ基（−ＮＨ−）である場合、隣り合うカルボニル基とアミド結合を形成する。

好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）−１ａとしては、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂとしては、例えば、下記式（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−１で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−１」と略記する場合がある）、下記式（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−２で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−２」と略記する場合がある）、下記式（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−３で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−３」と略記する場合がある）、下記式（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−４で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−４」と略記する場合がある）等が挙げられる。
なお、これら化合物は、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）の一例に過ぎず、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）はこれに限定されない。

２．２官能のイソシアネート化合物
化合物（Ｉ−Ｂ）において、ｎ１１ｂが２である２官能のイソシアネート化合物（すなわち、一分子中に２個のイソシアネート基を有する化合物）である場合、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）としては、例えば、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−２ａで表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−２ａ」と称する場合がある）、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−２ｂで表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｂ」と称する場合がある）、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−２ｃで表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｃ」と称する場合がある）、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−２ｄで表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｄ」と称する場合がある）等が挙げられる。
なお、これらの化合物は、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）の一例に過ぎず、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）はこれに限定されない。

（一般式（Ｉ−Ｂ）−２ａ中、Ｒ^１２１ｂは上記Ｒ^１１１ｂと同じである。
一般式（Ｉ−Ｂ）−２ｂ中、Ｒ^１２２ｂは上記Ｒ^１１２ｂと同じである。Ｒ^１２３ｂは上記Ｒ^１１３ｂと同じである。Ｒ^１２４ｂは炭素数１以上１０以下の２価の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上１０以下の２価の芳香族炭化水素基である。
一般式（Ｉ−Ｂ）−２ｃ中、Ｒ^１２５ｂは炭素数１以上５以下のアルキレン基である。Ｒ^１２６ｂは上記Ｒ^１１３ｂと同じである。Ｒ^１２７ｂは上記Ｒ^１１４ｂと同じである。
一般式（Ｉ−Ｂ）−２ｄ中、Ｒ^１２８ｂは上記Ｒ^１１２ｂと同じである。Ｒ^１２９ｂは上記Ｒ^１１３ｂと同じである。Ｒ^１３０ｂは上記Ｒ^１２５ｂと同じである。）

（Ｒ^１２４ｂ）
Ｒ^１２４ｂにおける炭素数１以上１０以下の２価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。Ｒ^１２４ｂにおける炭素数６以上１０以下の２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフタレン−ジイル基等が挙げられる。

（Ｒ^１２５ｂ及びＲ^１３０ｂ）
Ｒ^１２５ｂ及びＲ^１３０ｂはそれぞれ独立に、炭素数１以上５以下のポリアルキレン鎖である。すなわち、Ｒ^１２５ｂ及びＲ^１３０ｂは、下記一般式（Ｖ）で表される２価の基である。

−（ＣＨ_２）_ｎ５１− （Ｖ）

一般式（Ｖ）中、ｎ５１は１以上５以下の整数である。

炭素数１以上５以下のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。

好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）−２ａ、化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｂ、化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｃ及び化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｄとして具体的には、例えば、炭素数４以上３０以下の脂肪族ジイソシアネート、炭素数８以上３０以下の脂環族ジイソシアネート、炭素数８以上３０以下の芳香族ジイソシアネート等が挙げられる。これらジイソシアネートとして具体的には、後述する「カルボジイミド化合物」で例示されるものと同様のものが挙げられる。
また、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｄとしては、例えば、下記式（Ｉ−Ｂ）−２ｃ−１で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｃ−１」と略記する場合がある）等が挙げられる。
なお、これら化合物は、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）の一例に過ぎず、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）はこれに限定されない。

３．３官能のイソシアネート化合物
化合物（Ｉ−Ｂ）において、ｎ３１が３である３官能のイソシアネート化合物（すなわち、一分子中に３個のイソシアネート基を有する化合物）である場合、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）としては、例えば、下記一般式（１−Ｂ）−３ａで表される化合物（以下、「化合物（１−Ｂ）−３ａ」と称する場合がある）、下記一般式（１−Ｂ）−３ｂで表される化合物（以下、「化合物（１−Ｂ）−３ｂ」と称する場合がある）、下記一般式（１−Ｂ）−３ｃで表される化合物（以下、「化合物（１−Ｂ）−３ｃ」と称する場合がある）等が挙げられる。
なお、これらの化合物は、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）の一例に過ぎず、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）はこれらに限定されない。

（一般式（１−Ｂ）−３ａ中、Ｒ^１３１ｂは上記Ｒ^１１２ｂと同じである。Ｒ^１３２ｂは上記Ｒ^１１３ｂと同じである。Ｒ^１３３ｂは炭素数１以上１０以下の３価の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上１０以下の３価の芳香族炭化水素基である。
一般式（１−Ｂ）−３ｂ中、ｎ１３１ｂ、ｎ１３２ｂ及びｎ１３３ｂはそれぞれ独立に、１以上４以下の整数である。ｎ１３４ｂ、ｎ１３５ｂ及びｎ１３６ｂはそれぞれ独立に、０以上５以下の整数である。ｍ１３１ｂ、ｍ１３２ｂ及びｍ１３３ｂはそれぞれ独立に、０又は１である。
一般式（１−Ｂ）−３ｃ中、複数存在するＲ^１３４ｂはそれぞれ独立に、単結合、又は、エステル基及びエーテル基からなる群より選択される１種以上を含んでもよい炭素数１以上２０以下の２価の炭化水素基である。Ｒ^１３５ｂは、水素原子又は炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基である。炭素数１以上２０以下の２価の炭化水素基及び炭素数１以上２０以下の炭化水素基は置換基を有してもよい。）

（Ｒ^１３３ｂ）
Ｒ^１３３ｂは炭素数１以上１０以下の３価の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上１０以下の３価の芳香族炭化水素基である。
Ｒ^１３３ｂにおける炭素数１以上１０以下の３価の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メタントリイル基、エタントリイル、プロパントリイル基等が挙げられる。Ｒ^１３３ｂにおける炭素数６以上１０以下の３価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基等が挙げられる。

（Ｒ^１３４ｂ）
好ましいＲ^１３４ｂとしては、例えば、炭素数１以上２０以下の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数６以上２０以下の２価の芳香族炭化水素基、炭素数２以上２０以下であって脂肪族炭化水素基と脂肪族炭化水素基とがエステル基を介して結合した２価の基、炭素数２以上２０以下であって脂肪族炭化水素基と脂肪族炭化水素基とがエーテル基を介して結合した２価の基、炭素数７以上２０以下であって脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とがエステル基を介して結合した２価の基、炭素数７以上２０以下であって脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とがエーテル基を介して結合した２価の基、炭素数１４以上２０以下であって芳香族炭化水素基と芳香族炭化水素基とがエステル基を介して結合した２価の基、炭素数１４以上２０以下であって芳香族炭化水素基と芳香族炭化水素基とがエーテル基を介して結合した２価の基が挙げられる。

（Ｒ^１３５ｂ）
Ｒ^１３５ｂとしては、炭素数１以上１０以下の脂肪族炭化水素基、又は、炭素数６以上１０以下の芳香族炭化水素基が好ましい。Ｒ^１３５ｂにおける炭素数１以上１０以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１０以下の芳香族炭化水素基としては、上記Ｒ^１１２ｂ及び上記Ｒ^１１４ｂにおいて例示されたものと同様のものが挙げられる。

好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）−３ｂとしては、例えば、下記一般式（Ｉ−Ｂ）−３ｂ１で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ−Ｂ）−３ｂ１」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（Ｉ−Ｂ）−３ｂ１中、ｎ１３７ｂは２以上４以下の整数である。）

好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）−３ｂ１としては、例えば、リジントリイソシアネート（以下、「ＬＴＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
好ましい化合物（１−Ｂ）−３ｃとしては、例えば、ノナントリイソシアネート（以下、「ＮＴＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
なお、これら化合物は、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）の一例に過ぎず、好ましい化合物（Ｉ−Ｂ）はこれに限定されない。
等が挙げられる。

中でも、化合物（Ｉ−Ｂ）としては、３官能のイソシアネート化合物が好ましく、化合物（Ｉ−Ｂ）−３ｃがより好ましい。

好ましい化合物（１）としてより具体的には、例えば、下記一般式（１β）で表される基を有する化合物、下記一般式（１γ）で表される基を有する化合物、下記一般式（１δ）で表される化合物、下記一般式（１ε）で表される化合物、下記一般式（１ζ）で表される化合物、下記一般式（１η）で表される化合物、下記一般式（１θ）で表される化合物、下記一般式（１ι）で表される化合物、一般式（１κ）で表される化合物等が挙げられる。

一般式（１β）において、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に、１以上１２以下の整数である。ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に、０以上１０以下の整数であり、同時に０とはならない。ｍ１＋ｍ２の合計は１以上２０以下である。ｍ１及びｍ２はそれぞれのユニット組成数を表し、ランダムであってもよく、ブロック状に含まれていてもよく、そのユニット合計値がそれぞれ、ｍ１、ｍ２である。Ｙ^１１は上記Ｙ^１１と同じである。アスタリスクは末端基との結合部位を表す。

一般式（１γ）において、ｎ４は１以上２０以下の整数である。Ｙ^１１は上記Ｙ^１１と同じである。アスタリスクは末端基との結合部位を表す。

一般式（１δ）において、ｎ５及びｎ６はそれぞれ独立に、１以上１２以下の整数である。ｍ３、ｍ４及びｍ５は０以上２０以下の整数を表し、同時に０とならない。ｍ３＋ｍ４＋ｍ５の合計は１以上２０以下の整数である。ｍ３、ｍ４及びｍ５はそれぞれのユニット組成数を表し、ランダムであってもよく、ブロック状に含まれていてもよく、そのユニット合計値がそれぞれ、ｍ３、ｍ４及びｍ５である。Ｙ^１１は上記Ｙ^１１と同じである。Ｑ^５及びＱ^６は、１価の有機基を表し、下記式（１δ−１）で表される基又は式（１δ−２）で表される基である。

式中、ｎ７は１以上１２以下の整数である。アスタリスクは結合部位を表す。

一般式（１ε）〜一般式（１κ）において、ｍ６、ｍ７、ｍ８、ｍ９、ｍ１０及びｍ１１はそれぞれ独立に、１以上１２以下の整数である。Ｙ^１１は上記Ｙ^１１と同じである。

≪ウレトンイミン基含有化合物の製造方法≫
本実施形態の化合物は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソアネートに由来するカルボジイミド基と、イソシアネート化合物に由来するイソシアネート基とを反応させて製造される。

具体的には、下記一般式（２）で表されるカルボジイミド化合物（以下、「カルボジイミド化合物（２）」と称する場合がある）と、下記一般式（３）で表されるイソシアネート化合物（以下、「イソシアネート化合物（３）」と称する場合がある）とを反応させて製造される。

（一般式（２）中、Ｘ^２１は下記一般式（２−１）で表される基を１個以上含む基である。前記Ｘ^２１において、下記一般式（２−１）で表される基を２個以上含む場合、複数存在する下記一般式（２−１）で表される基は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｙ^２１は下記一般式（１−２）で表される基である。Ｑ^２１及びＱ^２２はそれぞれ独立に、水素原子、下記一般式（１−３）で表される基、下記一般式（１−４）で表される基又は下記一般式（１−５）で表される基である。）

（一般式（２−１）中、Ｘ^２２は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（一般式（１−２）〜一般式（１−５）中、アスタリスクは結合部位を表す。Ｙ^２は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。Ｑ^３は水素原子又は１価の炭素数１以上１５以下の有機基である。Ｚ^２は、下記一般式（１−ａ）で表される基、下記一般式（１−ｃ）で表される基又は下記一般式（１−ｄ）で表される基である。Ｒ^１は単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。）

（一般式（１−ａ）、一般式（１−ｃ）及び一般式（１−ｄ）中、アスタリスクは結合部位を表す。）

（一般式（３）中、Ｒ^３はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。）

カルボジイミド化合物（２）の詳細については、後述する。また、イソシアネート化合物（３）は、上記Ｙ^１１で例示されたイソシアネート化合物（化合物（Ｉ−Ｂ））と同様のものが挙げられる。

＜化合物（１α）の製造方法１＞
本実施形態のウレトンイミン基含有化合物の具体的な製造方法として、上記化合物（１α）の製造方法を下記に例示する。
化合物（１α）は、例えば、カルボジイミド化合物と、イソシアネート化合物とを反応させて、ウレトンイミン基を有する化合物を得る工程（以下、「ウレトンイミン基含有化合物製造工程」と称する場合がある）と、得られたウレトンイミン基含有化合物と単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとを反応させて、化合物（１α）を得る工程（以下、「化合物（１α）製造工程」と称する場合がある）とを有する製造方法により、製造することができる。

［ウレトンイミン基含有化合物製造工程］
ウレトンイミン基含有化合物製造工程では、カルボジイミド化合物と、イソシアネート化合物とを反応させて、ウレトンイミン基を有する化合物を得る。ウレトンイミン基を有する化合物を得る反応は、公知の反応である。
反応温度は、例えば、１５℃以上７０℃以下とすることができ、２０℃以上６０℃以下とすることができる。
反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては特に限定されないが、例えば、炭化水素、エーテル、アミド結合を有する化合物、スルホキシド、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。エーテルとしては、例えば、テトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略記する場合がある）、ジエチルエーテル等が挙げられる。アミド結合を有する化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。スルホキシドとしては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素としては、例えば、塩化メチレン、クロロベンゼン等が挙げられる。溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、２種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。

イソシアネート化合物の使用量は、イソシアネート化合物のイソシアネート基のモル量がカルボジイミド化合物のカルボジイミド基のモル量に対して、０．８倍以上１．５倍以下となる量とすることができる。
ウレトンイミン基含有化合物製造工程において、反応終了後は、公知の手法によって、必要に応じて後処理を行い、ウレトンイミン基含有化合物を取り出せばよい。すなわち、適宜必要に応じて、ろ過、洗浄、抽出、ｐＨ調整、脱水、濃縮等の後処理操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて行い、濃縮、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー等により、ウレトンイミン基含有化合物を取り出せばよい。また、取り出したウレトンイミン基含有化合物は、さらに必要に応じて、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー、抽出、溶媒による結晶の撹拌洗浄等の操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて１回以上行うことで、精製してもよい。
ウレトンイミン基含有化合物製造工程においては、反応終了後、ウレトンイミン基含有化合物を取り出さずに、次工程で用いてもよいが、目的物である化合物（１α）の収率が向上する点から、ウレトンイミン基含有化合物を上述の方法で取り出すことが好ましい。

（カルボジイミド化合物）
本実施形態の化合物の製造に用いられるカルボジイミド化合物としては、例えば、下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物等が挙げられる。

（一般式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ^１１ａ及びＲ^１２ａはそれぞれ上記Ｒ^１１及びＲ^１２と同じである。ｎ１１ａは上記ｎ１１と同じである。）

カルボジイミド化合物は、公知の方法を用いて製造することができる。例えば、ジイソシアネートを、溶媒存在下又は溶媒非存在下で、ホスホレンオキサイド等を触媒として使用し、１００℃以上２００℃以下で加熱することで製造できる。溶媒としては、上記「ウレトンイミン基含有化合物製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。触媒としては、例えば、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド等が挙げられる。
このようにして製造されたカルボジイミド化合物は、反応終了後に、ウレトンイミン基含有化合物製造工程の場合と同様の方法で、カルボジイミド化合物を取り出すことができ、取り出したカルボジイミド化合物をさらに同様の方法で精製してもよい。

・ジイソシアネート
カルボジイミド化合物の製造に用いられるジイソシアネートとしては、例えば、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート等が挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，５−ペンタメチレンジイソシアネート、ＨＤＩ、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。
脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、ＩＰＤＩ、４，４’−メチレンビスシクロヘキシルジイソシアネート（以下、「水添ＭＤＩ」と略記する場合がある）、ジメチルシクロへキサンジイソシアネート（以下、「水添ＸＤＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート及びその混合物（以下、「ＴＤＩｓ」と略記する場合がある）、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（以下、「ＭＤＩ」と略記する場合がある）、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート（以下、「ＮＤＩ」と略記する場合がある）、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニレンジイソシアネート（以下、「ＴＯＤＩ」と略記する場合がある）、粗製ＴＤＩｓ、ポリメチレンポリフェニルジイソシアネート、粗製ＭＤＩ、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（以下、「ＸＤＩ」と略記する場合がある）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（以下、「ＴＭＸＤＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
中でも、ジイソシアネートとしては、脂環式ジイソシアネート又は芳香族ジイソシアネートが好ましく、ＩＰＤＩ、水添ＭＤＩ、ＭＤＩ又はＴＭＸＤＩがより好ましい。

・ポリイソシアネート
カルボジイミド化合物の製造に用いられるポリイソシアネートとしては、上記「Ｒ^１１及びＲ^１２」で例示されたものと同様のものが挙げられる。中でも、ポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート基を有するポリイソシアネートが好ましい。
カルボジイミド化合物の製造において、ポリイソシアネートを用いる場合、ジイソシアネートと組み合わせて用いることが好ましい。このとき、ジイソシアネートに対するポリイソシアネートの使用量（ポリイソシアネート／ジイソシアネート）は、質量比で、例えば、２０／８０以上１／９９以下とすることができ、１５／８５以上５／９５以下とすることができる。

（イソシアネート化合物）
上記一般式（１α）中のＹ^１１の説明において例示されたものと同様のものが挙げられる。好ましいイソシアネート化合物としては、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、フェニルイソシアネート、化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−１、化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−２、化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−３、化合物（Ｉ−Ｂ）−１ｂ−４、ペンタメチレンジイソシアネート、ＨＤＩ、化合物（Ｉ−Ｂ）−２ｃ−１、ＮＴＩ、ＬＴＩ、ＨＤＩ系ポリイソシアネート等が挙げられる。

［化合物（１α）製造工程］
化合物（１α）製造工程においては、ウレトンイミン基含有化合物と、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとを反応させて、化合物（１α）を得る。
具体的には、ウレトンイミン基含有化合物の末端のイソシアネート基と、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基とが反応し、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基の水素原子を除く残基が、ウレトンイミン基含有化合物の末端に導入されることで、化合物（１α）が生成される。
反応温度は、例えば、８０℃以上２００℃以下とすることができ、１００℃以上１５０℃以下とすることができる。
反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては上記「ウレトンイミン基含有化合物製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。
単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、上記「化合物（１α）」の説明において例示されたものと同様のものが挙げられる。好ましい単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、及び、それらのコポリマー等が挙げられる。

化合物（１α）製造工程において、反応終了後は、ウレトンイミン基含有化合物製造工程の場合と同様の方法で、化合物（１α）を取り出すことができ、取り出した化合物（１α）をさらに同様の方法で精製してもよい。

化合物（１α）、ウレトンイミン基含有化合物、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物等の各化合物は、例えば、核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法、質量分析法（ＭＳ）、赤外分光法（ＩＲ）等、公知の手法で構造を確認できる。

＜化合物（１α）の製造方法２＞
また、化合物（１α）は、カルボジイミド化合物と、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとを反応させて、親水性カルボジイミド化合物を得る工程（以下、「親水性カルボジイミド化合物製造工程」と称する場合がある）と、得られた親水性カルボジイミド化合物とイソシアネート化合物とを反応させて、化合物（１α）を得る工程（以下、「化合物（１α）製造工程」と称する場合がある）とを有する製造方法により、製造することができる。
なお、化合物（１α）の製造に用いられるカルボジイミド化合物、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコール及びイソシアネート化合物は、上述した「化合物（１α）の製造方法１」で例示されたものと同様のものが挙げられる。

［親水性カルボジイミド化合物製造工程］
親水性カルボジイミド化合物製造工程では、カルボジイミド化合物と、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとを反応させて、親水性カルボジイミド化合物を得る。具体的には、カルボジイミド化合物の末端のイソシアネート基と、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基とが反応し、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基の水素原子を除く残基が、カルボジイミド化合物の末端に導入されることで、親水性カルボジイミド化合物が生成される。
親水性カルボジイミド化合物を得る反応は、公知の反応である。

反応温度は、例えば、８０℃以上２００℃以下とすることができ、１００℃以上１８０℃以下とすることができる。
単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、上記「化合物（１α）」の説明において例示されたものと同様のものが挙げられる。好ましい単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル、及び、それらのコポリマー等が挙げられる。

反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては特に限定されないが、例えば、炭化水素、エーテル、アミド結合を有する化合物、スルホキシド、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。エーテルとしては、例えば、テトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略記する場合がある）、ジエチルエーテル等が挙げられる。アミド結合を有する化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。スルホキシドとしては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素としては、例えば、塩化メチレン、クロロベンゼン等が挙げられる。溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、２種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。

親水性カルボジイミド化合物製造工程において、反応終了後は、公知の手法によって、必要に応じて後処理を行い、親水性カルボジイミド化合物を取り出せばよい。すなわち、適宜必要に応じて、ろ過、洗浄、抽出、ｐＨ調整、脱水、濃縮等の後処理操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて行い、濃縮、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー等により、親水性カルボジイミド化合物を取り出せばよい。また、取り出した親水性カルボジイミド化合物は、さらに必要に応じて、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー、抽出、溶媒による結晶の撹拌洗浄等の操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて１回以上行うことで、精製してもよい。
親水性カルボジイミド化合物製造工程においては、反応終了後、親水性カルボジイミド化合物を取り出さずに、次工程で用いてもよいが、目的物である化合物（１α）の収率が向上する点から、親水性カルボジイミド化合物を上述の方法で取り出すことが好ましい。

［化合物（１α）製造工程］
化合物（１α）製造工程においては、得られた親水性カルボジイミド化合物とイソシアネート化合物とを反応させて、化合物（１α）を得る。
具体的には、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基と、イソシアネート化合物の末端のイソシアネート基とが反応し、ウレトンイミン基が形成されることで、化合物（１α）が生成される。化合物（１α）を得る反応は、公知の反応である。
反応温度は、例えば、５０℃以上１００℃以下とすることができ、６０℃以上９０℃以下とすることができる。
反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては上記「親水性カルボジイミド化合物製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。

化合物（１α）製造工程において、反応終了後は、親水性カルボジイミド化合物製造工程の場合と同様の方法で、化合物（１α）を取り出すことができ、取り出した化合物（１α）をさらに同様の方法で精製してもよい。

化合物（１α）、親水性カルボジイミド化合物、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物等の各化合物は、例えば、核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法、質量分析法（ＭＳ）、赤外分光法（ＩＲ）等、公知の手法で構造を確認できる。

≪カルボジイミド化合物≫
本実施形態のカルボジイミド化合物は、下記一般式（２）で表される化合物である。

（一般式（２）中、Ｘ^２１は下記一般式（２−１）で表される基を１個以上含む基である。前記Ｘ^２１において、下記一般式（２−１）で表される基を２個以上含む場合、複数存在する下記一般式（２−１）で表される基は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｙ^２１は下記一般式（１−２）で表される基である。Ｑ^２１及びＱ^２２はそれぞれ独立に、水素原子、下記一般式（１−３）で表される基、下記一般式（１−４）で表される基又は下記一般式（１−５）で表される基である。）

（一般式（２−１）中、Ｘ^２２は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（一般式（１−２）〜一般式（１−５）中、アスタリスクは結合部位を表す。Ｙ^２は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。Ｑ^３は水素原子又は１価の炭素数１以上１５以下の有機基である。Ｚ^２は、下記一般式（１−ａ）で表される基、下記一般式（１−ｃ）で表される基又は下記一般式（１−ｄ）で表される基である。Ｒ^１は単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。）

（一般式（１−ａ）、一般式（１−ｃ）及び一般式（１−ｄ）中、アスタリスクは結合部位を表す。）

Ｘ^２２及びＹ^２は、脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかのジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。Ｘ^２２及びＹ^２としては、炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基であることが好ましい。具体的には、上記Ｘ^２及び上記Ｙ^２において例示されたものと同様のものが挙げられる。

このようなＸ^２２及びＹ^２としては、前記式（ＩＩＩ−１）で表される基、前記式（ＩＩＩ−２）で表される基、前記式（ＩＩＩ−３）で表される基、前記式（ＩＩＩ−５）で表される基、前記式（ＩＩＩ−６）で表される基、前記式（ＶＩ−１）で表される基、前記式（ＶＩ−２）で表される基又は前記式（ＶＩ−３）で表される基が好ましい。

すなわち、Ｘ^２１としては、下記一般式（ＩＩＩ−１−２）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−２−３）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−２−４）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−３−２）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−５−２）で表される基、下記一般式（ＩＩＩ−６−２）で表される基、下記一般式（ＶＩ−１−２）で表される基、下記一般式（ＶＩ−２−２）で表される基及び下記一般式（ＶＩ−３−２）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基を１個以上含む基が好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６３は１以上１０以下の整数である。）

また、Ｙ^２１としては、前記式（ＩＩＩ−１）で表される基、前記式（ＩＩＩ−２）で表される基、前記式（ＩＩＩ−３）で表される基、前記式（ＩＩＩ−５）で表される基、前記式（ＩＩＩ−６）で表される基、前記式（ＶＩ−１）で表される基、前記式（ＶＩ−２）で表される基又は前記式（ＶＩ−３）で表される基が好ましい。

＜好ましい化合物（２）＞
好ましい化合物（２）としては、例えば、下記一般式（２α）で表される化合物（以下、「化合物（２α）」と称する場合がある）等が挙げられる。化合物（２α）は、カルボジイミド基を少なくとも１つ有する化合物である。

（一般式（２α）中、ｎ１２は１以上１００以下の整数である。Ｘ^１３及びＸ^１４はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基（以下、「基（ＩＩ−１）」と称する場合がある）又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基（以下、「基（ＩＩ−２）」と称する場合がある）である。Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２１はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２２はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
アスタリスクは結合部位を表す。）

化合物（２α）は、上記基（ＩＩ−１）又は上記基（ＩＩ−２）を末端に有することで、樹脂組成物に用いたときの貯蔵安定性に優れる。

化合物（２α）の構造について下記に詳細を説明する。

［ｎ１２］
ｎ１２は、カルボジイミド基の繰り返し数を表し、１以上１００以下の整数である。

［Ｘ^１３及びＸ^１４］
Ｘ^１３及びＸ^１４はそれぞれ独立に、上記基（ＩＩ−１）又は上記基（ＩＩ−２）である。Ｘ^１３及びＸ^１４は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造しやすいことから、同一であることが好ましい。
化合物（２α）は、疎水性であるカルボジイミド基を有する主骨格、弱親水性であるプロピレンオキシド繰り返し単位、及び、強親水性であるエチレンオキシド繰り返し単位が中心から末端にかけてこの順に結合する構造を有するため、安定的に水分散させることができ、水系溶媒中においてカルボン酸やアルコールのカルボジイミド基への侵入をより効果的に抑制することができる。また、上記基（ＩＩ−１）又は上記基（ＩＩ−２）において、エチレンオキシド繰り返し単位及びプロピレンオキシド繰り返し単位は、ブロック重合されていてもよく、ランダム重合されていてもよい。

（ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３及びｎ２４）
ｎ２１及びｎ２４はそれぞれ独立に、プロピレンオキシド繰り返し単位の数を表し、ｎ２２及びｎ２３はそれぞれ独立に、エチレンオキシド繰り返し単位の数を表す。ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下であり、１以上２０以下が好ましく、２以上１５以下がより好ましく、５以上１０以下がさらに好ましい。ｎ２１、ｎ２２、ｎ２３及びｎ２４が上記範囲であることで、水系溶媒中においてカルボン酸やアルコールのウレトンイミン基への侵入をより効果的に抑制することができる。
また、ｎ２２に対するｎ２１の比（ｎ２１／ｎ２２）は、例えば、０．８以上１．２以下とすることができ、１．０が好ましい。
また、ｎ２３に対するｎ２４の比（ｎ２４／ｎ２３）は、例えば、０．８以上１．２以下とすることができ、１．０が好ましい。
ｎ２１／ｎ２２及びｎ２４／ｎ２３が上記範囲であることで、水系溶媒中においてカルボン酸やアルコールのウレトンイミン基への侵入をより効果的に抑制することができる。

（Ｒ^２１及びＲ^２２）
Ｒ^２１及びＲ^２２におけるアルキル基としては、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状アルキル基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられる。分岐鎖状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、イソヘキシル基等が挙げられる。環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ^２１及びＲ^２２におけるカルボニル基を含んでもよいアルキル基としては、例えば、下記一般式（ＩＩａ）で表される基（以下、「基（ＩＩａ）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＩＩａ）中、Ｒ^２３は炭素数１以上１１以下のアルキル基である。アスタリスクは結合部位を表す。）

Ｒ^２３におけるアルキル基としては、上記Ｒ^２１及びＲ^２２において例示されたもののうち、炭素数１以上１１以下のアルキル基が挙げられる。

中でも、Ｒ^２１としては、炭素数１以上８以下のアルキル基が好ましく、炭素数１以上６以下の鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１以上４以下の直鎖状アルキル基がさらに好ましい。

より好ましいＸ^１１及びＸ^１２としては、例えば、下記一般式（ＩＩ−１−１）で表される基（以下、「基（ＩＩ−１−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−１−２）で表される基（以下、「基（ＩＩ−１−２）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−２−１）で表される基（以下、「基（ＩＩ−２−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＩ−２−２）で表される基（以下、「基（ＩＩ−２−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＩＩ−１−１）中、ｎ２１１及びｎ２１２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。
一般式（ＩＩ−１−２）中、ｎ２１３及びｎ２１４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。
一般式（ＩＩ−２−１）中、ｎ２２１及びｎ２２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。
一般式（ＩＩ−２−２）中、ｎ２２３及びｎ２２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。）

［Ｒ^１３及びＲ^１４］
Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。Ｒ^１３及びＲ^１４は互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造しやすいことから、同一であることが好ましい。
Ｒ^１３及びＲ^１４が、ジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である場合、Ｒ^１３及びＲ^１４は、２価の炭化水素基である。

２価の炭化水素基としては、炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基が好ましい。具体的には、例えば、直鎖炭化水素基、無置換の脂環式炭化水素基（シクロアルキレン基）、アルキル置換脂環式炭化水素基、ジアルキル置換脂環式炭化水素基、トリアルキル置換脂環式炭化水素基、直鎖炭化水素基とトリアルキル置換脂環式炭化水素基とが結合してなる基、無置換の芳香族炭化水素基、モノアルキル置換アリーレン基、ジアルキル置換アリーレン基等が挙げられる。

直鎖炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。

無置換の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基、アルキレンビス（シクロヘキシレン）基等が挙げられる。アルキレンビス（シクロヘキシレン）基としては、例えば、メチレンビス（シクロヘキシレン）基、エチレンビス（シクロヘキシレン）基等が挙げられる。

アルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、メチルシクロペンチレン基、エチルシクロペンチレン基、メチルシクロヘキシレン基（各異性体）、エチルシクロヘキシレン基（各異性体）、プロピルシクロヘキシレン基（各異性体）、ブチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ペンチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ヘキシルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。

ジアルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、ジメチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ジエチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ジブチルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。

トリアルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、１，５，５−トリメチルシクロヘキシレン基、１，５，５−トリエチルシクロヘキシレン基、１，５，５−トリプロピルシクロヘキシレン基（各異性体）、１，５，５−トリブチルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。

直鎖炭化水素基とトリアルキル置換脂環式炭化水素基とが結合してなる基としては、例えば、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

無置換の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ジフェニルアルカン−ジイル基等が挙げられる。
モノアルキル置換アリーレン基としては、例えば、トルエン−ジイル基、エチルフェニレン基、プロピルフェニレン基等が挙げられる。
ジアルキル置換アリーレン基としては、例えば、キシレン−ジイル基、ジエチルフェニレン基、ジプロピルフェニレン基、テトラメチルキシリレン基等が挙げられる。

中でも、Ｒ^１３及びＲ^１４としては、アルキレンビス（シクロヘキシレン）基、基（ＩＩＩ−２）、ジフェニルアルカン−ジイル基、トルエン−ジイル基、テトラメチルキシリレン基又は下記一般式（ＶＩ）で表される基（以下、「基（ＶＩ）」と称する場合がある）が好ましく、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−１）」と称する場合がある）、基（ＩＩＩ−２）、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−３）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−４）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−４）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−５）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−６）」と称する場合がある）又は基（ＶＩ）がより好ましく、基（ＶＩ）がさらに好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。）

（Ｒ^６１）
Ｒ^６１における炭素数１以上１８以下のアルキレン基としては、上記「Ｒ^１１及びＲ^１２」における炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基として例示されたもののうち、炭素数１以上１８以下のものが挙げられる。
Ｒ^６１における炭素数６以上１８以下のアリーレン基としては、上記「Ｒ^１１及びＲ^１２」における炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基として例示されたもののうち、炭素数１以上１８以下のものが挙げられる。
中でも、Ｒ^６１としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、シクロヘキシレン基又はフェニレン基が挙げられる。

好ましい基（ＶＩ）としては、例えば、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基（以下、「基（ＶＩ−１）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩ−２）で表される基（以下、「基（ＶＩ−２）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩ−３）で表される基（以下、「基（ＶＩ−３）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は３以上１０以下の整数である。）

好ましい基（ＶＩ−１）としては、例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、中でも、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基が好ましい。

Ｒ^１３及びＲ^１４が、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である場合、Ｒ^１１及びＲ^１２の由来となるポリイソシアネートは、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有する。中でも、ポリイソシアネートは、イソシアヌレート基を有することが好ましい。

また、好ましい化合物（２）としては、例えば、下記一般式（２β）で表される化合物（以下、「化合物（２β）」と称する場合がある）等が挙げられる。化合物（２β）は、カルボジイミド基を少なくとも１つ有する化合物である。

（一般式（２β）中、ｎ１３は１以上１００以下の整数である。Ｘ^１５及びＸ^１６はそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ）」と称する場合がある）である。Ｒ^１５及びＲ^１６はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）

（一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｙ^８１はカルボジイミド基、尿素基又はウレタン基である。Ｒ^８１はカルボニル基又はエステル結合を含んでもよい炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基である。アスタリスクは結合部位を表す。）

化合物（２β）は、上記基（ＶＩＩＩ）を末端に有することで、特に、疎水性溶媒を含む樹脂組成物に用いたときの貯蔵安定性に優れる。

化合物（２β）の構造について下記に詳細を説明する。

［ｎ１３］
ｎ１３は、カルボジイミド基の繰り返し数を表し、１以上１００以下の整数である。

［Ｒ^１５及びＲ^１６］
Ｒ^１５及びＲ^１６はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。Ｒ^１５及びＲ^１６は互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造しやすいことから、同一であることが好ましい。
Ｒ^１５及びＲ^１６が、ジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である場合、Ｒ^１５及びＲ^１６は、２価の炭化水素基である。

２価の炭化水素基としては、炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基又は炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基が好ましい。具体的には、例えば、直鎖炭化水素基、無置換の脂環式炭化水素基（シクロアルキレン基）、アルキル置換脂環式炭化水素基、ジアルキル置換脂環式炭化水素基、トリアルキル置換脂環式炭化水素基、直鎖炭化水素基とトリアルキル置換脂環式炭化水素基とが結合してなる基、無置換の芳香族炭化水素基、モノアルキル置換アリーレン基、ジアルキル置換アリーレン基等が挙げられる。

直鎖炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。

無置換の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基、アルキレンビス（シクロヘキシレン）基等が挙げられる。アルキレンビス（シクロヘキシレン）基としては、例えば、メチレンビス（シクロヘキシレン）基、エチレンビス（シクロヘキシレン）基等が挙げられる。

アルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、メチルシクロペンチレン基、エチルシクロペンチレン基、メチルシクロヘキシレン基（各異性体）、エチルシクロヘキシレン基（各異性体）、プロピルシクロヘキシレン基（各異性体）、ブチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ペンチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ヘキシルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。

ジアルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、ジメチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ジエチルシクロヘキシレン基（各異性体）、ジブチルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。

トリアルキル置換脂環式炭化水素基としては、例えば、１，５，５−トリメチルシクロヘキシレン基、１，５，５−トリエチルシクロヘキシレン基、１，５，５−トリプロピルシクロヘキシレン基（各異性体）、１，５，５−トリブチルシクロヘキシレン基（各異性体）等が挙げられる。

直鎖炭化水素基とトリアルキル置換脂環式炭化水素基とが結合してなる基としては、例えば、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

無置換の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ジフェニルアルカン−ジイル基等が挙げられる。
モノアルキル置換アリーレン基としては、例えば、トルエン−ジイル基、エチルフェニレン基、プロピルフェニレン基等が挙げられる。
ジアルキル置換アリーレン基としては、例えば、キシレン−ジイル基、ジエチルフェニレン基、ジプロピルフェニレン基、テトラメチルキシリレン基等が挙げられる。

中でも、Ｒ^１５及びＲ^１６としては、アルキレンビス（シクロヘキシレン）基、基（ＩＩＩ−２）、ジフェニルアルカン−ジイル基、トルエン−ジイル基、テトラメチルキシリレン基又は下記一般式（ＶＩ）で表される基（以下、「基（ＶＩ）」と称する場合がある）が好ましく、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−１）」と称する場合がある）、基（ＩＩＩ−２）、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−３）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−４）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−４）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−５）」と称する場合がある）、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基（以下、「基（ＩＩＩ−６）」と称する場合がある）又は基（ＶＩ）がより好ましく、基（ＶＩ）がさらに好ましい。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。）

（Ｒ^６１）
Ｒ^６１における炭素数１以上１８以下のアルキレン基としては、上記「Ｒ^１１及びＲ^１２」における炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基として例示されたもののうち、炭素数１以上１８以下のものが挙げられる。
Ｒ^６１における炭素数６以上１８以下のアリーレン基としては、上記「Ｒ^１１及びＲ^１２」における炭素数６以上２２以下の芳香族炭化水素基として例示されたもののうち、炭素数１以上１８以下のものが挙げられる。
中でも、Ｒ^６１としては、トリメチレン基、テトラメチレン基、シクロヘキシレン基又はフェニレン基が挙げられる。

好ましい基（ＶＩ）としては、例えば、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基（以下、「基（ＶＩ−１）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩ−２）で表される基（以下、「基（ＶＩ−２）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩ−３）で表される基（以下、「基（ＶＩ−３）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は３以上１０以下の整数である。）

好ましい基（ＶＩ−１）としては、例えば、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、中でも、テトラメチレン基、ペンタメチレン基又はヘキサメチレン基が好ましい。

Ｒ^１５及びＲ^１６が、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である場合、Ｒ^１１及びＲ^１２の由来となるポリイソシアネートは、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有する。中でも、ポリイソシアネートは、イソシアヌレート基を有することが好ましい。

［Ｘ^１５及びＸ^１６］
Ｘ^１５及びＸ^１６はそれぞれ独立に、基（ＶＩＩＩ）である。Ｘ^１５及びＸ^１６は、互いに同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造しやすいことから、同一であることが好ましい。
化合物（２β）は、疎水性であるカルボジイミド基を有する主骨格、両末端に疎水性である基（ＶＩＩＩ）を有する構造であるため、安定的に疎水性溶媒に分散させることができる。

（Ｙ^８１）
Ｙ^８１はカルボジイミド基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）、尿素基（−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−）又はウレタン基（−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−）である。

（Ｒ^８１）
Ｒ^８１における１価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。

１価の脂肪族炭化水素基（アルキル基）としては、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状脂肪族炭化水素基（鎖状アルキル基）としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられる。分岐鎖状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、イソヘキシル基等が挙げられる。環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

脂肪族炭化水素基は置換基を有してもよい。置換基としては、例えば芳香族炭化水素基等が挙げられる。

置換基を有する脂肪族炭化水素基としては、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基等が挙げられる。

１価の芳香族炭化水基（アリール基）としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

芳香族炭化水素基は置換基を有してもよい。置換基としては、例えば脂肪族炭化水素基等が挙げられる。

置換基を有する脂肪族炭化水素基としては、例えば、トリル基、キシリル基等が挙げられる。

Ｒ^８１におけるカルボニル基又はエステル結合を含んでもよい炭化水素基としては、例えば、下記一般式（ＶＩＩＩａ）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩａ）」と称する場合がある）、下記一般式（ＶＩＩＩｂ）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩｂ）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＶＩＩＩａ）及び一般式（ＶＩＩＩｂ）中、Ｒ^８２及びＲ^８４はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数１以上１０以下の２価の炭化水素基である。Ｒ^８３及びＲ^８５はそれぞれ独立に、炭素数１以上１１以下の１価の炭化水素基である。Ｒ^８２の炭素数ｘ１及びＲ^８３の炭素数ｙ１について、０＜ｙ１、１≦ｘ１＋ｙ１≦１１の関係を満たす。Ｒ^８４の炭素数ｘ２及びＲ^８５の炭素数ｙ２について、０＜ｙ２、１≦ｘ２＋ｙ２≦１１の関係を満たす。アスタリスクは結合部位を表す。）

Ｒ^８２及びＲ^８４における２価の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。

２価の脂肪族炭化水素基（アルキレン基）としては、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状脂肪族炭化水素基（鎖状アルキレン基）としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。直鎖状アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、１−メチルメタン−１，１−ジイル基、１，２−ジメチルエチレン基、１−メチルエタン−１，１−ジイル基等が挙げられる。環状アルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基等が挙げられる。

２価の芳香族炭化水基（アリーレン基）としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。

中でも、Ｒ^８２及びＲ^８４における２価の炭化水素基としては、アルキレン基が好ましく、鎖状アルキレン基がより好ましく、炭素数１以上３以下の鎖状アルキレン基がさらに好ましい。

Ｒ^８３及びＲ^８５における１価の炭化水素基としては、上記Ｒ^８１において例示されたもののうち、炭素数１以上１１以下の１価の炭化水素基が挙げられる。
中でも、Ｒ^８３及びＲ^８５としては、炭素数１以上８以下のアルキル基が好ましく、炭素数１以上６以下の鎖状アルキル基がより好ましく、炭素数１以上４以下の直鎖状アルキル基がさらに好ましい。

中でも、Ｒ^８１としては、カルボニル基又はエステル結合を含んでもよい炭素数１以上１０以下の１価の炭化水素基が好ましく、エステル結合を含んでもよい炭素数１以上９以下の１価の炭化水素基がより好ましく、炭素数１以上６以下のアルキル基がさらに好ましく、炭素数１以上６以下の直鎖状アルキル基が特に好ましい。

基（ＶＩＩＩ）は、下記一般式（ＶＩＩＩ−１）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＶＩＩＩ−２）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２）」と称する場合がある）、又は、下記一般式（ＶＩＩＩ−３）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３）」と称する場合がある）である。

（一般式（ＶＩＩＩ−１）、一般式（ＶＩＩＩ−２）及び一般式（ＶＩＩＩ−３）中、Ｒ^８１１、Ｒ^８２１及びＲ^８３１は、それぞれ独立に上記Ｒ^８１と同じである。）

好ましい基（ＶＩＩＩ−１）としては、例えば、下記式（ＶＩＩＩ−１−１）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−１）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−２）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−２）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−３）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−３）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−４）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−４）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−５）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−５）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−６）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−６）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−７）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−７）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−８）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−８）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−１−９）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−１−９）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（上記式中、アスタリスクは結合部位を表す。）

好ましい基（ＶＩＩＩ−２）としては、例えば、下記式（ＶＩＩＩ−２−１）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−１）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−２）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−２）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−３）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−３）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−４）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−４）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−５）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−５）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−６）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−６）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−７）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−７）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−８）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−８）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−２−９）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−２−９）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（上記式中、アスタリスクは結合部位を表す。）

好ましい基（ＶＩＩＩ−３）としては、例えば、下記式（ＶＩＩＩ−３−１）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−１）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−３−２）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−２）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−３−３）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−３）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−３−４）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−４）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−３−５）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−５）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−３−６）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−６）」と称する場合がある）、下記式（ＶＩＩＩ−３−７）で表される基（以下、「基（ＶＩＩＩ−３−７）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（上記式中、アスタリスクは結合部位を表す。）

≪カルボジイミド化合物の製造方法≫
本実施形態のカルボジイミド化合物は、例えば、以下の方法で製造することができる。
例えば、上記化合物（２α）は、ジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせを触媒存在下で脱炭酸縮合反応させて、末端にイソシアネート基を有するカルボジイミド化合物（以下、「カルボジイミド化合物Ａ」と称する場合がある）を得る工程（以下、「カルボジイミド化合物Ａ製造工程」と称する場合がある）と、得られたカルボジイミド化合物Ａと下記一般式（ＩＶ）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ）」と称する場合がある）又は下記一般式（ＩＶ’）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ’）」と称する場合がある）とを反応させて、化合物（２α）を得る工程（以下、「化合物（２α）製造工程１」と称する場合がある）とを有する第１の製造方法により、製造することができる。

（一般式（ＩＶ）中、ｎ４１及びｎ４２は、上記ｎ２１及びｎ２２と同じである。Ｒ^４１は上記Ｒ^２１と同じである。
一般式（ＩＶ’）中、ｎ４３及びｎ４４は、上記ｎ２１及びｎ２２と同じである。Ｒ^４２は上記Ｒ^２１と同じである。）

又は、例えば、ジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせと、化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）とを反応させて、親水性イソシアネート化合物を得る工程（以下、「親水性イソシアネート化合物製造工程」と称する場合がある）と、得られた親水性イソシアネート化合物を触媒存在下で脱炭酸縮合反応させて、化合物（２α）を得る工程（以下、「化合物（２α）製造工程２」と称する場合がある）と、を有する第２の製造方法により、製造することができる。

第１の製造方法では、カルボジイミド基の形成反応を行った後に、親水性基の導入反応を行い、化合物（２α）を得ている。一方、第２の製造方法では、親水性基の導入反応を行った後、カルボジイミド基の形成反応を行い、化合物（２α）を得ている。すなわち、反応の順番が異なっているが、各反応条件及び用いられる原料は共通する。

＜第１の製造方法＞
［カルボジイミド化合物Ａ製造工程］
カルボジイミド化合物Ａ製造工程では、ジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせを触媒存在下で脱炭酸縮合反応させて、カルボジイミド化合物Ａを得る。カルボジイミド化合物Ａを得る脱炭酸縮合反応は、公知の反応である。

反応温度は、例えば、１００℃以上２００℃以下とすることができる。

反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、炭化水素、エーテル、アミド結合を有する化合物、スルホキシド、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。エーテルとしては、例えば、テトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略記する場合がある）、ジエチルエーテル等が挙げられる。アミド結合を有する化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。スルホキシドとしては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素としては、例えば、塩化メチレン、クロロベンゼン等が挙げられる。溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、２種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。

触媒としては、例えば、ホスホレンオキサイド等が挙げられる。ホスホレンオキサイドとしては、例えば、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド等が挙げられる。

カルボジイミド化合物Ａ製造工程において、反応終了後は、公知の手法によって、必要に応じて後処理を行い、カルボジイミド化合物Ａを取り出せばよい。すなわち、適宜必要に応じて、ろ過、洗浄、抽出、ｐＨ調整、脱水、濃縮等の後処理操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて行い、濃縮、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー等により、カルボジイミド化合物Ａを取り出せばよい。また、取り出したカルボジイミド化合物Ａは、さらに必要に応じて、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー、抽出、溶媒による結晶の撹拌洗浄等の操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて１回以上行うことで、精製してもよい。

カルボジイミド化合物Ａ製造工程においては、反応終了後、カルボジイミド化合物Ａを取り出さずに、次工程で用いてもよいが、目的物である化合物（２α）の収率が向上する点から、カルボジイミド化合物Ａを上述の方法で取り出すことが好ましい。

（ジイソシアネート）
カルボジイミド化合物Ａ製造工程で用いられるジイソシアネートとしては、例えば、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート等が挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，５−ペンタメチレンジイソシアネート、ＨＤＩ、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。
脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、ＩＰＤＩ、４，４’−メチレンビスシクロヘキシルジイソシアネート（以下、「水添ＭＤＩ」と略記する場合がある）、ジメチルシクロへキサンジイソシアネート（以下、「水添ＸＤＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート及びその混合物（以下、「ＴＤＩｓ」と略記する場合がある）、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（以下、「ＭＤＩ」と略記する場合がある）、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート（以下、「ＮＤＩ」と略記する場合がある）、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニレンジイソシアネート（以下、「ＴＯＤＩ」と略記する場合がある）、粗製ＴＤＩｓ、ポリメチレンポリフェニルジイソシアネート、粗製ＭＤＩ、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（以下、「ＸＤＩ」と略記する場合がある）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（以下、「ＴＭＸＤＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
中でも、ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ＩＰＤＩ、水添ＭＤＩ、水添ＸＤＩ、ＭＤＩ、ＸＤＩ又はＴＭＸＤＩが好ましい。

（ポリイソシアネート）
カルボジイミド化合物Ａ製造工程で用いられるポリイソシアネートとしては、上記「Ｒ^１３及びＲ^１４」で例示されたものと同様のものが挙げられる。中でも、ポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート基を有するポリイソシアネートが好ましい。
カルボジイミド化合物Ａ製造工程において、ポリイソシアネートを用いる場合、ジイソシアネートと組み合わせて用いることが好ましい。このとき、ジイソシアネートに対するポリイソシアネートの使用量（ポリイソシアネート／ジイソシアネート）は、質量比で、例えば、２０／８０以上１／９９以下とすることができ、１５／８５以上５／９５以下とすることができる。

［化合物（２α）製造工程１］
化合物（２α）製造工程１では、得られたカルボジイミド化合物Ａと化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）とを反応させて、化合物（２α）を得る。
具体的には、カルボジイミド化合物Ａの末端のイソシアネート基と、化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）の末端の水酸基とが反応し、化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）の末端の水酸基の水素原子を除く残基が、カルボジイミド化合物Ａの末端に導入されることで、化合物（２α）が生成される。

反応温度は、例えば、８０℃以上２００℃以下とすることができ、１００℃以上１５０℃以下とすることができる。

反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては上記「カルボジイミド化合物Ａ製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。

（化合物（ＩＶ）及び化合物（ＩＶ’））
化合物（ＩＶ）は、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物であり、化合物（ＩＶ’）は、下記一般式（ＩＶ’）で表される化合物であり、それぞれポリオキシエチレン−オキシプロピレン（ランダム及びブロックのうち少なくともいずれかの重合様式の）グリコールモノアルキルエーテルである。

（一般式（ＩＶ）中、ｎ４１及びｎ４２は、上記ｎ２１及びｎ２２と同じである。Ｒ^４１は上記Ｒ^２１と同じである。
一般式（ＩＶ’）中、ｎ４３及びｎ４４は、上記ｎ２１及びｎ２２と同じである。Ｒ^４２は上記Ｒ^２１と同じである。）

好ましい化合物（ＩＶ）としては、例えば、下記一般式（ＩＶ−１）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＶ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＩＶ−１）及び一般式（ＩＶ−２）中、ｎ４１１、ｎ４１２、ｎ４２１及びｎ４２２は、上記ｎ２１及びｎ２２と同じである。）

また、好ましい化合物（ＩＶ’）としては、例えば、下記一般式（ＩＶ’−１）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ’−１）」と称する場合がある）、下記一般式（ＩＶ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ’−２）」と称する場合がある）等が挙げられる。

（一般式（ＩＶ’−１）及び一般式（ＩＶ’−２）中、ｎ４１３、ｎ４１４、ｎ４２３及びｎ４２４は、上記ｎ２１及びｎ２２と同じである。）

化合物（ＩＶ）及び化合物（ＩＶ’）の分子量の下限値は、５０が好ましく、１００がより好ましく、１５０がさらに好ましく、２００が特に好ましい。一方で、分子量の上限値は、３０００が好ましく、２５００がより好ましく、２０００がさらに好ましく、１５００が特に好ましい。
すなわち、化合物（ＩＶ）及び化合物（ＩＶ’）の分子量は、５０以上３０００以下が好ましく、１００以上２５００以下がより好ましく、１５０以上２０００以下がさらに好ましく、２００以上１５００以下が特に好ましい。
化合物（ＩＶ）及び化合物（ＩＶ’）の分子量が上記範囲であることで、化合物（２α）の水分散性がより良好となる。

化合物（２α）製造工程１において、反応終了後は、カルボジイミド化合物Ａ製造工程の場合と同様の方法で、化合物（２α）を取り出すことができ、取り出した化合物（２α）をさらに同様の方法で精製してもよい。

化合物（２α）、化合物（ＩＶ）、化合物（ＩＶ’）、カルボジイミド化合物Ａ、ジイソシアネート、ポリイソシアネート等の各化合物は、例えば、核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法、質量分析法（ＭＳ）、赤外分光法（ＩＲ）等、公知の手法で構造を確認できる。

＜第２の製造方法＞
［親水性イソシアネート化合物製造工程］
親水性イソシアネート化合物製造工程では、ジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせと、化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）とを反応させて、親水性イソシアネート化合物を得る。
具体的には、ジイソシアネート又はポリイソシアネートの末端のイソシアネート基と、化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）の末端の水酸基とが反応し、化合物（ＩＶ）又は化合物（ＩＶ’）の末端の水酸基の水素原子を除く残基が、ジイソシアネート又はポリイソシアネートの末端に導入されることで、親水性イソシアネート化合物が生成される。

反応温度は、例えば、８０℃以上２００℃以下とすることができ、１００℃以上１５０℃以下とすることができる。

反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては上記「カルボジイミド化合物Ａ製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。

親水性イソシアネート化合物製造工程においては、反応終了後、親水性イソシアネート化合物を取り出さずに、次工程で用いてもよいが、目的物である化合物（２α）の収率が向上する点から、親水性イソシアネート化合物を上述の方法で取り出すことが好ましい。

［化合物（２α）製造工程２］
化合物（２α）製造工程２では、得られた親水性イソシアネート化合物を触媒存在下で脱炭酸縮合反応させて、化合物（２α）を得る。このとき、親水性基が導入されていないジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせをさらに添加してもよい。添加されるジイソシアネート又はポリイソシアネートは、上記「親水性イソシアネート化合物製造工程」で用いられたものと同一のものであってもよく、異なっていてもよい。
触媒としては上記「カルボジイミド化合物Ａ製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。
反応温度は、例えば、１００℃以上２００℃以下とすることができる。
反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては上記「カルボジイミド化合物Ａ製造工程」において例示されたものと同様のものが挙げられる。

化合物（２α）製造工程２において、反応終了後は、カルボジイミド化合物Ａ製造工程の場合と同様の方法で、化合物（２α）を取り出すことができ、取り出した化合物（２α）をさらに同様の方法で精製してもよい。

化合物（２α）、化合物（ＩＶ）、化合物（ＩＶ’）、親水性イソシアネート化合物、ジイソシアネート、ポリイソシアネート等の各化合物は、例えば、核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法、質量分析法（ＭＳ）、赤外分光法（ＩＲ）等、公知の手法で構造を確認できる。

また、例えば、上記化合物（２β）は、ジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせと、疎水性基含有化合物と、を触媒存在下で反応させて、末端に疎水性基を有するカルボジイミド化合物、すなわち、化合物（２β）を得る工程（以下、「化合物（２β）製造工程」と称する場合がある）を有する製造方法により、製造することができる。

＜化合物（２β）製造工程＞
化合物（２β）製造工程において、ジイソシアネート、ジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネート又はそれらの組み合わせを触媒存在下で脱炭酸縮合反応させてカルボジイミド基を形成させ、また、同時に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートの末端のイソシアネート基と疎水性基含有化合物と反応させて、末端に疎水性基を導入し、化合物（２β）を得る。化合物（２β）を得る脱炭酸縮合反応及び末端に疎水性基を導入する反応は公知の反応である。

反応温度は、例えば、１００℃以上２００℃以下とすることができる。

反応は、溶媒存在下又は溶媒非存在下で行うことができる。溶媒としては、特に限定されないが、例えば、炭化水素、エーテル、アミド結合を有する化合物、スルホキシド、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。エーテルとしては、例えば、テトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略記する場合がある）、ジエチルエーテル等が挙げられる。アミド結合を有する化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられる。スルホキシドとしては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素としては、例えば、塩化メチレン、クロロベンゼン等が挙げられる。溶媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、２種以上を併用する場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。

触媒としては、例えば、ホスホレンオキサイド等が挙げられる。ホスホレンオキサイドとしては、例えば、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド等が挙げられる。

化合物（２β）製造工程において、反応終了後は、公知の手法によって、必要に応じて後処理を行い、化合物（２β）を取り出せばよい。すなわち、適宜必要に応じて、ろ過、洗浄、抽出、ｐＨ調整、脱水、濃縮等の後処理操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて行い、濃縮、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー等により、化合物（２β）を取り出せばよい。また、取り出した化合物（２β）は、さらに必要に応じて、結晶化、再沈殿、カラムクロマトグラフィー、抽出、溶媒による結晶の撹拌洗浄等の操作をいずれか単独で、又は２種以上組み合わせて１回以上行うことで、精製してもよい。

（ジイソシアネート）
化合物（２β）製造工程で用いられるジイソシアネートとしては、例えば、脂肪族ジイソシアネート、脂環式ジイソシアネート、芳香族ジイソシアネート等が挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，５−ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（以下、「ＨＤＩ」と略記する場合がある）、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。
脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート（以下、「ＩＰＤＩ」と略記する場合がある）、４，４’−メチレンビスシクロヘキシルジイソシアネート（以下、「水添ＭＤＩ」と略記する場合がある）、ジメチルシクロへキサンジイソシアネート（以下、「水添ＸＤＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート及びその混合物（以下、「ＴＤＩｓ」と略記する場合がある）、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（以下、「ＭＤＩ」と略記する場合がある）、ナフタレン−１，５−ジイソシアネート（以下、「ＮＤＩ」と略記する場合がある）、３，３−ジメチル−４，４−ジフェニレンジイソシアネート（以下、「ＴＯＤＩ」と略記する場合がある）、粗製ＴＤＩｓ、ポリメチレンポリフェニルジイソシアネート、粗製ＭＤＩ、フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（以下、「ＸＤＩ」と略記する場合がある）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（以下、「ＴＭＸＤＩ」と略記する場合がある）等が挙げられる。
中でも、ジイソシアネートとしては、テトラメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ＩＰＤＩ、水添ＭＤＩ、水添ＸＤＩ、ＭＤＩ、ＸＤＩ又はＴＭＸＤＩが好ましい。

（ポリイソシアネート）
化合物（２β）製造工程で用いられるポリイソシアネートとしては、上記「Ｒ^１５及びＲ^１６」で例示されたものと同様のものが挙げられる。中でも、ポリイソシアネートとしては、イソシアヌレート基を有するポリイソシアネートが好ましい。
化合物（Ｉ）製造工程において、ポリイソシアネートを用いる場合、ジイソシアネートと組み合わせて用いることが好ましい。このとき、ジイソシアネートに対するポリイソシアネートの使用量（ポリイソシアネート／ジイソシアネート）は、質量比で、例えば、２０／８０以上１／９９以下とすることができ、１５／８５以上５／９５以下とすることができる。

（疎水性基含有化合物）
疎水性基含有化合物とは疎水性基を有する化合物である。疎水性基としては、例えば、炭化水素基等が挙げられる。疎水性基含有化合物は疎水性基に加えて、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートの末端イソシアネート基と反応し得る官能基を１つ有することが好ましい。当該官能基としては、例えば、イソシアネート基、アミノ基、水酸基等が挙げられる。疎水性基含有化合物として具体的には、例えば、単官能イソシアネート、第１級アミン化合物、１価のアルコール化合物等が挙げられる。単官能イソシアネートとして具体的には、例えば、下記一般式（ＩＸ−１）で表される化合物等が挙げられる。第１級アミン化合物として具体的には、例えば、下記一般式（ＩＸ−２）で表される化合物等が挙げられる。１価のアルコール化合物として具体的には、例えば、下記一般式（ＩＸ−３）で表される化合物等が挙げられる。

（一般式（ＩＸ−１）中、Ｒ^９１１はＲ^８１１と同じである。一般式（ＩＸ−２）中、Ｒ^９２１はＲ^８２１と同じである。一般式（ＩＸ−３）中、Ｒ^９３１はＲ^８３１と同じである。）

好ましい化合物（ＩＸ−１）としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネート、１−ヘキシルイソシアネート、α，α−ジメチルベンジルイソシアナート、（Ｓ）−１−フェニルエチルイソシアナート、イソシアン酸ベンジル、フェニルイソシアネート、（Ｓ）−（−）−２−イソシアナトプロピオン酸メチル、（Ｓ）−（−）−２−イソシアナトアセチル酸メチル等が挙げられる。

好ましい化合物（ＩＸ−２）としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、Ｎ−ヘキシルアミン、α，α−ジメチルベンジルアミン、（Ｓ）−１−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、フェニルアミン、アラニンメチル、グリシンメチル等が挙げられる。

好ましい化合物（ＩＸ−３）としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、シクロヘキサノール、１−ヘキサノール、２−フェニル−２−プロパノール、１−フェニルエタノール、ベンジルアルコール、フェノール等が挙げられる。

化合物（２β）、化合物（ＩＸ−１）、化合物（ＩＸ−２）、化合物（ＩＸ−３）、ジイソシアネート、ポリイソシアネート等の各化合物は、例えば、核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法、質量分析法（ＭＳ）、赤外分光法（ＩＲ）等、公知の手法で構造を確認できる。

≪使用用途≫
本実施形態のウレトンイミン基含有化合物又はカルボジイミド化合物は、末端に親水性基を有するため、水分散性が良好であり、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性に優れる。そのため、本実施形態の化合物は、例えば、電着塗料等の塗料組成物の硬化剤、水分散組成物等に好適に用いられる。
すなわち、一実施形態において、本発明は、上記ウレトンイミン基含有化合物又はカルボジイミド化合物を含む、硬化剤組成物を提供する。

（その他の架橋剤）
硬化剤組成物は、上記ウレトンイミン基含有化合物又はカルボジイミド化合物に加えて、その他の架橋剤を含んでもよい。その他の架橋剤としては、例えば、オキサゾリン化合物、エポキシ化合物、メラミン化合物、イソシアネート化合物、ヒドラジン化合物、セミカルバジド化合物等が挙げられる。

オキサゾリン化合物としては、オキサゾリン基を側鎖に少なくとも２個有する重合体状の化合物、１分子中にオキサゾリン基を少なくとも２個有する単量体の化合物等が挙げられる。オキサゾリン化合物の市販品としては、例えば、エポクロスＷＳ−５００（日本触媒製、標品名）等が挙げられる。

エポキシ化合物としては、１分子にエポキシ基を２個以上有する樹脂であればよい。エポキシ基含有化合物として具体的には、例えば、ビスフェノールにエポクロルヒドリンを付加させて得られるビスフェノール型エポキシ基含有化合物、フェノールノボラック樹脂にエピクロルヒドリンを付加させて得られるノボラック型エポキシ基含有化合物、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ基含有化合物は、必要に応じて水分散化した状態のものであってもよい。

メラミン化合物としては、例えば、メラミンとアルデヒドとの反応によって得られる部分又は完全メチロール化メラミン樹脂等が挙げられる。
前記アルデヒドとしは、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等が挙げられる。
また、前記メチロール化メラミン樹脂のメチロール基をアルコールによって部分的に又は完全にエーテル化したものであってもよい。エーテル化に用いられるアルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、２−エチルブタノール、２−エチルヘキサノール等が挙げられる。
メラミン化合物の市販品としては、例えば、サイメル３０３、サイメル３２３、サイメル３２５、サイメル３２７、サイメル３５０、サイメル３７０、サイメル３８０、サイメル３８５、サイメル２１２、サイメル２５１、サイメル２５４、マイコート７７６（いずれもオルネクス社製、商品名）等が挙げられる。

イソシアネート化合物としては、脂肪族、脂環族若しくは芳香族に属する炭化水素基と、イソシアネート基とを有するジイソシアネート、又はポリイソシアネートである。前記ジイソシアネートとしては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）、ペンタメチレンジイソシアネート（ＰＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサン−１，６−ジイソシアネート、２−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート（ＭＰＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）−シクロヘキサン（１，３−Ｈ６−ＸＤＩ）、３（４）−イソシアナトメチル−１−メチル−シクロヘキシルイソアネート（ＩＭＣＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ビス（イソシアナトメチル）−ノルボルナン（ＮＢＤＩ）、１，３−ビス（イソシアナトメチル）−ベンゼン、１，３−ビス（２−イソシアナトプロピル−２）ベンゼン、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、リジンジイソシアネート（ＬＤＩ）等が挙げられる。中でも、耐候性、工業的入手の容易さから、ＨＤＩ又はＩＰＤＩが好ましい。
前記ポリイソシアネートとは、触媒を用いて、又は加熱をすることにより、前記ジイソシアネートを重合したものであり、分子中にイソシアヌレート構造、ウレトジオン構造、アロファネート構造、イミノジオキサジアジンジオン構造、ウレタン構造、ビウレット構造等が含まれる。中でも、耐候性の観点から、ポリイソシアネートは、イソシアヌレート構造を有するものが好ましい。
また、他のイソシアネート化合物として、４−イソシアネートメチル−１，８−オクタメチレンジイソシアネート（ＮＴＩ）、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート（ＨＴＩ）、ビス（２−イソシアナトエチル）２−イソシアナトグルタレート（ＧＴＩ）、リジントリイソシアネート（ＬＴＩ）等のトリイソシアネートが挙げられる。
これらイソシアネート化合物は２種以上を併用しても構わない。
さらに、前記イソシアネート化合物を公知の活性メチレン系ブロック剤、公知のオキシム系ブロック剤、公知のアミン系ブロック剤及び公知のピラゾール系ブロック剤からなる群より選ばれる１種以上のブロック剤を用いてブロック化されたブロックイソシアネート化合物を用いることができる。

中でも、その他の架橋剤としては、工業的入手の容易さ、低温硬化性、塗料の貯蔵性の観点で、メラミン化合物、又は（ブロック）イソシアネート化合物が好ましい。

≪樹脂組成物≫
上記硬化剤組成物は、主剤成分としてカルボキシ基を有する化合物と併用することで、樹脂組成物とすることができる。
すなわち、一実施形態において、本発明は、上記硬化剤組成物と、カルボキシ基を有する化合物と、を含む樹脂組成物を提供する。
本実施形態の樹脂組成物は、上記化合物を硬化剤成分として含むため、貯蔵安定性が良好である。

前記カルボキシ基を有する化合物としては、例えば、カルボキシ基を有するポリエステル、カルボキシ基を有するポリアミド、カルボキシ基を有するポリウレタン、カルボキシ基を有するアクリル、カルボキシ基を有するポリオレフィン等が挙げられる。カルボキシ基を有するポリオレフィンを構成するポリオレフィンとしては、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリプロピレン−ポリエチレン（ランダム・ブロック）共重合体、その他の繰り返し単位の炭素数が４以上のポリオレフィン等が挙げられる。
これらカルボキシ基を有する化合物は、１種単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。

また、本実施形態の樹脂組成物において、カルボキシ基を有する化合物は、その他成分と混合した主剤組成物の形態で用いてもよい。

本実施形態の樹脂組成物において、前記カルボキシ基を有する化合物のカルボキシ基に対する、上記化合物のカルボジイミド基のモル当量比（カルボジイミド基／カルボキシ基）の下限値は、例えば０．１であり、０．２が好ましく、０．５がより好ましい。一方、カルボジイミド基／カルボキシ基の上限値は、例えば５．０であり、２．０が好ましく、１．５がより好ましい。
すなわち、カルボジイミド基／カルボキシ基は、０．１以上５．０以下であり、０．２以上２．０以下が好ましく、０．５以上１．５以下がより好ましい。
カルボジイミド基／カルボキシ基が上記範囲内であることで、得られる樹脂硬化物の耐水性がより優れ、且つ、架橋密度がより高くなる傾向にある。

本実施形態の樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、エポキシ樹脂、触媒、塗工改良剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等の安定剤、可塑剤、界面活性剤、顔料、充填剤、有機又は無機微粒子、防黴剤、シランカップリング剤等の添加剤を更に含んでもよい。これらの添加剤の配合量は、その目的及び用途により適宜決定される。

＜使用用途＞
本実施形態の樹脂組成物は、例えば、コーティング材料、接着材料（接着剤）、粘着材料（粘着材）、インキ、シーラント、成形材料、フォーム、光学材料、さらには、ポリエステル、ポリ乳酸、ポリアミド、ポリイミド等の樹脂を改質する樹脂改質剤等の各種分野において、好適に用いられる。

コーティング材料としては、例えば、プラスチック用塗料、自動車外装用塗料、自動車内装用塗料、電気及び電子材料用塗料、光学材料用塗料、建材用塗料、ガラスコート塗料、木工塗料、フィルムコーティング塗料、インキ用樹脂、人工及び合成皮革用塗料（コート剤）、缶用塗料（コート剤）、紙コート塗料等が挙げられる。光学材料としては、例えば、レンズ等が挙げられる。

すなわち、一実施形態において、本発明は、上記樹脂組成物を含む、塗料組成物を提供する。

プラスチック塗料としては、例えば、プラスチック材料が用いられる成形品用塗料、具体的には、筐体用塗料、自動車部品用塗料、家庭用電化製品用塗料、ロボット材料用塗料、家具用塗料、文具用塗料、柔軟な素材からなる成形品用の塗料、アイウエア材料用塗料、電子機器の光学レンズ用塗料（表面コート剤）等が挙げられる。プラスチック材料としては、例えば、ポリオレフィン類、ＡＢＳ、ポリカーボネート類、ポリアミド類、ポリエステル類、及びこれらの複合体等の各種高分子材料が挙げられる。筐体としては、例えば、携帯電話、スマートフォン、パソコン、タブレット等が挙げられる。自動車部品としては、例えば、自動車内装材、ヘッドランプ等が挙げられる。柔軟な素材としては、例えば、ゴム、エラストマー、ゲル等が挙げられる。アイウエア材料としては、例えば、レンズ等が挙げられる。

また、自動車外装用塗料としては、例えば、新車向け塗料、自動車補修用塗料、外装部品用塗料等が挙げられる。新車向け塗料及び自動車補修用塗料としては、例えば、中塗り塗料、ベース塗料、トップ塗料等が挙げられる。外装部品としては、例えば、アルミニウムホイール、バンパー等が挙げられる。上記樹脂組成物を自動車外装用塗料として使用する場合、主剤としては、カルボキシ基を有する水系樹脂又はカルボキシ基を有する油系樹脂を使用することができるが、カルボキシ基を有する水系樹脂を用いることが好ましい。
好ましいカルボキシ基を有する水系樹脂としては、例えば、カルボキシ基を有する親水性アクリル樹脂、カルボキシ基を有する親水性ポリウレタン樹脂、カルボキシ基を有する親水性ポリエステル樹脂等が挙げられる。中でも、カルボキシ基を有する親水性アクリル樹脂又はカルボキシ基を有する親水性ポリエステル樹脂が好ましい。これらカルボキシ基を有する水系樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種類以上併用してもよい。

フィルムコーティング塗料としては、例えば、光学用部材用塗料、光学用コーティング材料、繊維用塗料、電子電機材料用塗料、食品パッケージ用塗料、医療フィルム用塗料、化粧品パッケージ用塗料、加飾フィルム用塗料、離形フィルム用塗料等が挙げられる。光学用部材としては、例えば、光学フィルム、光学シート等が挙げられる。

インキ用樹脂としては、版インキ、スクリーンインキ、フレキソインキ、グラビアインキ、ジェットインキ等の各種インキのビヒクルが挙げられる。

接着剤としては、例えば、包材用接着剤、電気機器用接着剤、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用接着剤、有機ＥＬディスプレイ用接着剤、有機ＥＬ照明用接着剤、表示装置用接着剤、ＬＥＤ用接着剤、自動車用内外装向け接着剤、家電用接着剤、太陽電池バックシート用接着剤、各種電池用接着剤等が挙げられる。表示装置としては、例えば、電子ペーパー、プラズマディスプレイ等が挙げられる。各種電池としては、例えば、アルカリマンガン乾電池、リチウムイオン電池等が挙げられる。

なお、樹脂組成物の用途は、上記に限定されず、例えば、固体として、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ乳酸に添加してもよい。或いは、例えば、液状として、ポリエステルポリオール等の耐加水分解防止剤として用いてもよい。或いは、例えば、マレイン酸変性ポリオレフィン等の酸変性ポリオレフィンと複合化させてもよく、酸変性ポリオレフィンを水分散したポリオレフィン系エマルションに添加してもよい。或いは、酸部位を含有するアクリルエマルションと複合化させてもよく、前記アクリルエマルションの硬化剤と用いてもよい。或いは、カーボンファイバーやガラス繊維等の各種繊維の収束材として用いてもよく、炭素繊維強化プラスチック（Carbon Fiber Reinforced Plastics；ＣＦＲＰ）等の繊維強化プラスチック（Fiber Reinforced Plastics；ＦＲＰ）の強化材やサイジング剤、硬化剤等として用いてもよい。本実施形態の樹脂組成物は、これらの用途に好適である。

≪樹脂硬化物≫
上記樹脂組成物（又は、上記塗料組成物）を硬化させることで、樹脂硬化物を得ることができる。
すなわち、一実施形態において、本発明は、上記樹脂組成物（又は、上記塗料組成物）を硬化させてなる樹脂硬化物を提供する。本実施形態の樹脂硬化物は、耐候性及び耐水性が良好である。

樹脂硬化物を製造する方法としては、特に制限されないが、例えば、上記樹脂組成物が一液タイプの場合は樹脂組成物をそのまま、被塗物又は被着物に塗布する方法が挙げられる。また、樹脂組成物が二液タイプの場合は上記硬化剤組成物及びカルボキシ基を有する化合物と、必要に応じて添加剤等とを混合して、得られた樹脂組成物を、被塗物又は被着物に塗布する方法が挙げられる。次いで、被塗物又は被着物に塗布された樹脂組成物を加熱硬化させることにより、樹脂硬化物が得られる。

樹脂組成物の硬化温度の上限値は、例えば１４０℃であり、１００℃が好ましく、８０℃がより好ましい。一方、硬化温度の下限値は、例えば２０℃であり、３０℃が好ましく、４０℃がより好ましい。
すなわち、樹脂組成物の硬化温度は、２０℃以上１４０℃以下であり、３０℃以上１００℃以下が好ましく、４０℃以上８０℃以下がより好ましい。

樹脂組成物の塗装方法としては、例えば、ロール塗装、カーテンフロー塗装、スプレー塗装、ベル塗装、静電塗装等が挙げられる。

以下、具体的な実施例を挙げて本実施形態をより具体的に説明するが、本実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。なお、実施例１−１、１−２、及び５−１〜５−７１は参考例である。

≪参考例１−１、実施例１−１〜１−４≫
［参考例１−１］
内容積１ＬのＳＵＳ３１６製撹拌槽に、キシレン３００ｇ、イソシアネート化合物５００ｇを投入し１４０℃に加熱した。ここに、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド１ｇを投入し５時間撹拌した。キシレン、余剰のヘキサメチレンジイソシアネートを留去し、ポリカルボジイミドを得た。

［実施例１−１］
イソシアネート化合物として、ヘキサメチレンジイソシアネートを使用して、参考例１−１と同様の方法でカルボジイミド化合物を製造した。次いで、得られたカルボジイミド化合物とフェニルイソシアネートとを、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対してフェニルイソシアネートのイソシアネート基が化学量論比で１．０５倍となるように混合し８０℃で５時間加熱した。反応物を分析したところ、下記式（Ｅ−１）で表される化合物が生成していた。

式（Ｅ−１）中、平均重合度Ｅ１は１０であった。

［実施例１−２］
イソシアネート化合物として、ジフェニルメタンジイソシアネートを使用して、参考例１−１と同様の方法でカルボジイミド化合物を製造した。得られたカルボジイミド化合物と、シクロヘキシルイソシアネートとを、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対してシクロヘキシルイソシアネートのイソシアネート基が化学量論比で１．０５倍となるように混合し８０℃で５時間加熱した。反応物を分析したところ、下記式（Ｅ−２）で表される化合物が生成していた。

式（Ｅ−２）中、平均重合度Ｅ２は３であった。

［実施例１−３］
イソシアネート化合物として、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートを使用して、参考例１−１と同様の方法でカルボジイミド化合物を製造した。得られたカルボジイミド化合物と、２−イソシアナト−４−メチル吉草酸メチルとを、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対して２−イソシアナト−４−メチル吉草酸メチルのイソシアネート基が化学量論比で１．０５倍となるように混合し８０℃で５時間加熱した。反応物を分析したところ、下記式（Ｅ−３）で表される化合物が生成していた。

式（Ｅ−３）中、平均重合度Ｅ３は８であった。

［実施例１−４］
イソシアネート化合物として、水添キシリレンジイソシアネートを使用して、参考例１と同様の方法でカルボジイミド化合物を製造した。得られたカルボジイミド化合物と、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタンとを、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対して１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタンのイソシアネート基が化学量論比で３．１５倍となるように混合し、さらにトルエンを加えて基質濃度が５重量％とし、８０℃で５時間加熱した。反応物を分析したところ、下記一般式（Ｅ−４）で表される化合物が生成していた。

一般式（Ｅ−４）中、Ｒ^ｅは１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタンからイソシアネート基を１つ除いた残基（下記式（Ｅ−４−１）で表される基、下記式（Ｅ−４−２）で表される基又は下記式（Ｅ−４−３）で表される基）であり、平均重合度Ｅ４は４であった。

（式（Ｅ−４−１）〜（Ｅ−４−３）中、アスタリスクは結合部位を表す。）

≪実施例２−１〜２−４５及び比較例２−１≫
＜評価方法＞
［評価２−１］樹脂組成物の貯蔵安定性
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物の評価を行った。
具体的には、まず、実施例及び比較例で得られた化合物：１ｇを水：１０ｇに分散し、アクリルポリオール（オルネクス社製ＳＥＴＡＱＵＡ６５１５）：１５ｇを加えて撹拌し、均一溶液（樹脂組成物）とした。この均一溶液（樹脂組成物）を４０℃で１０日間保持した後、内容物を目視観察した。以下の評価基準に従い、貯蔵安定性を評価した。

（評価基準）
良好：ゲルが生じていない
不良：ゲルが生じている

＜ウレトンイミン基含有化合物の製造＞
［実施例２−１］
（工程１）
カルボジイミド化合物を製造するためのジイソシアネート（以下、「ジイソシアネートＡ」と称する場合がある）として、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートを使用した。内容積１ＬのＳＵＳ３１６製撹拌槽に、キシレン：３００ｇ、及び、ジイソシアネートＡ：５００ｇを投入し、１４０℃に加熱した。ここに、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド：１ｇを投入し５時間撹拌した。得られた反応液を、予め１８０℃に加熱し内部を０．１ｋＰａ（絶対圧）に減圧した薄膜蒸留装置に供給し、キシレン、余剰のイソシアネート化合物を留去し、カルボジイミド化合物を得た。得られたカルボジイミド化合物の平均重合度は５であった。次いで、カルボジイミド化合物と反応させるイソシアネート化合物（以下、「イソシアネート化合物Ｂ」と称する場合がある）として、フェニルイソシアネートと使用して、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対してイソシアネート化合物Ｂのイソシアネート基が化学量論比で１．０５倍となるように混合し、８０℃で５時間加熱した。反応物を赤外分光計で分析したところ、ウレトンイミン基及びウレタン基の伸縮振動由来の１７２０ｃｍ^−１付近に吸光が確認された。

（工程２）
上記工程１で得られた反応物に、親水性基を有する化合物（以下、「親水性基含有化合物」と称する場合がある）として、ポリ（オキシエチレン、オキシプロピレン）グリコールモノブチルエーテル（数平均分子量：３００、下記式（ＩＶ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ−２）」と称する場合がある）：７００ｇを加え、１２０℃で２時間、撹拌しながら加熱した。得られた化合物は、赤外分光スペクトルにおいて、カルボジイミド基の伸縮振動由来の２０２０ｃｍ^−１付近の吸光度ｘと、ウレトンイミン基およびウレタン基の伸縮振動由来の１７２０ｃｍ^−１付近の吸光度ｙについて、ｘ／ｙで表される値が０．５である化合物であった。また、得られた化合物について、上記評価方法により樹脂組成物の貯蔵安定性について評価した結果、良好であった。

（一般式（ＩＶ−２）中、ｎ４２２に対するｎ４２１の比は、１である。）

［実施例２−２〜２−４５及び比較例２−１］
ジイソシアネートＡ、イソシアネート化合物Ｂ及び親水性基含有化合物の種類を以下の表１〜４に示すとおりとした以外は、実施例２−１と同様の方法を用いて、化合物を製造し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性について評価した。結果を以下の表１〜４に示す。なお、表１〜４において、親水性基含有化合物の略称は、以下の化合物を表す。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量が３００、５１０及び１８００と異なるもの（重合度が異なるもの）を適宜用いた。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量３００及び５００のランダム共重合体であるものも適宜用いた。

（親水性基含有化合物）
ＭＰＥＧ２２０：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：２２０）
ＭＰＥＧ４００：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：４００）
ＭＰＥＧ５５０：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：５５０）

表１〜４から、実施例２−１〜２−４５で製造された化合物はいずれも樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が良好であったのに対して、比較例２−１で製造された化合物は樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が不良であった。

≪実施例３−１〜３−４５及び比較例３−１≫
＜評価方法＞
［評価３−１］樹脂組成物の貯蔵安定性
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物の評価を行った。
具体的には、まず、実施例及び比較例で得られた化合物：１ｇを水：１０ｇに分散し、アクリルポリオール（オルネクス社製ＳＥＴＡＱＵＡ６５１５）：１５ｇを加えて撹拌し、均一溶液（樹脂組成物）とした。この均一溶液（樹脂組成物）を４０℃で１０日間保持した後、内容物を目視観察した。以下の評価基準に従い、貯蔵安定性を評価した。

（評価基準）
良好：ゲルが生じていない
不良：ゲルが生じている

＜ウレトンイミン基含有化合物の製造＞
［実施例３−１］
（工程１）
内容積１ＬのＳＵＳ３１６製撹拌槽に、キシレン：３００ｇ、及び、ヘキサメチレンジイソシアネート：５００ｇを投入し、１４０℃に加熱した。ここに、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド：１ｇを投入し５時間撹拌した。得られた反応液を、予め１８０℃に加熱し内部を０．１ｋＰａ（絶対圧）に減圧した薄膜蒸留装置に供給し、キシレン、余剰のイソシアネート化合物を留去し、化合物を得た。得られた化合物を赤外分光計で分析したところ、ウレトンイミン基及びカルボジイミド基に由来する吸光ピークが確認された。

（工程２）
上記工程１で得られた化合物に、親水性基を有する化合物（以下、「親水性基含有化合物」と称する場合がある）として、ポリ（オキシエチレン、オキシプロピレン）グリコールモノブチルエーテル（数平均分子量：３００、下記式（ＩＶ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ−２）」と称する場合がある）：８９０ｇを加え、１５０℃で８時間、撹拌しながら加熱した。得られた化合物について^１３Ｃ−ＮＭＲ分析を行ったところ、ウレトンイミン基に対応するケミカルシフトにピークは観測されなかった。

（一般式（ＩＶ−２）中、ｎ４２２に対するｎ４２１の比は、１である。）

（工程３）
上記工程２で得られた化合物に、カルボジイミド基と反応させるイソシアネート化合物（以下、「イソシアネート化合物Ｂ」と称する場合がある）として、フェニルイソシアネートと使用して、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対してイソシアネート化合物Ｂのイソシアネート基が化学量論比で１．０５倍となるように混合し、８０℃で５時間加熱した。得られた化合物は、赤外分光スペクトルにおいて、カルボジイミド基の伸縮振動由来の２０２０ｃｍ^−１付近の吸光度ｘと、ウレトンイミン基およびウレタン基の伸縮振動由来の１７２０ｃｍ^−１付近の吸光度ｙについて、ｘ／ｙで表される値は０．３であった。また、得られた化合物について、上記評価方法により樹脂組成物の貯蔵安定性について評価した結果、良好であった。

［実施例３−２〜３−４５及び比較例３−１］
ジイソシアネートＡ、イソシアネート化合物Ｂ及び親水性基含有化合物の種類を以下の表１〜４に示すとおりとした以外は、実施例３−１と同様の方法を用いて、化合物を製造し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性について評価した。結果を以下の表５〜８に示す。なお、表５〜８において、親水性基含有化合物の略称は、以下の化合物を表す。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量が３００、５１０及び１８００と異なるもの（重合度が異なるもの）を適宜用いた。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量３００及び５００のランダム共重合体であるものも適宜用いた。

（親水性基含有化合物）
ＭＰＥＧ２２０：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：２２０）
ＭＰＥＧ４００：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：４００）
ＭＰＥＧ５５０：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：５５０）

表５〜８から、実施例３−１〜３−４５で製造された化合物はいずれも樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が良好であったのに対して、比較例３−１で製造された化合物は樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が不良であった。

≪実施例４−１〜４−２４及び比較例４−１≫
＜評価方法＞
［評価４−１］樹脂組成物の貯蔵安定性
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物の評価を行った。
具体的には、まず、実施例及び比較例で得られた化合物：１ｇを水：１０ｇに分散し、アクリルポリオール（オルネクス社製ＳＥＴＡＱＵＡ６５１５）：１５ｇを加えて撹拌し、均一溶液（樹脂組成物）とした。この均一溶液（樹脂組成物）を４０℃で１０日間保持した後、内容物を目視観察した。以下の評価基準に従い、貯蔵安定性を評価した。

（評価基準）
良好：ゲルが生じていない
不良：ゲルが生じている

＜カルボジイミド化合物の製造＞
［実施例４−１］
（工程１）
内容積１ＬのＳＵＳ３１６製撹拌槽に、キシレン：３００ｇ、及び、ヘキサメチレンジイソシアネート：５００ｇを投入し、１４０℃に加熱した。ここに、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド：１ｇを投入し５時間撹拌した。得られた反応液を、予め１８０℃に加熱し内部を０．１ｋＰａ（絶対圧）に減圧した薄膜蒸留装置に供給し、キシレン、余剰のイソシアネート化合物を留去し、化合物を得た。得られた化合物を赤外分光計で分析したところ、ウレトンイミン基及びカルボジイミド基に由来する吸光ピークが確認された。

（工程２）
上記工程１で得られた化合物に、親水性基を有する化合物（以下、「親水性基含有化合物」と称する場合がある）として、ポリ（オキシエチレン、オキシプロピレン）グリコールモノブチルエーテル（数平均分子量：３００、下記式（ＩＶ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ−２）」と称する場合がある）：８９０ｇを加え、１５０℃で８時間、撹拌しながら加熱した。得られた化合物について^１３Ｃ−ＮＭＲ分析を行ったところ、ウレトンイミン基に対応するケミカルシフトにピークは観測されなかった。

（一般式（ＩＶ−２）中、ｎ４２２に対するｎ４２１の比は、１である。）

［実施例４−２〜４−２３及び比較例４−１］
ジイソシアネート及び親水性基含有化合物の種類を以下の表９〜１０に示すとおりとした以外は、実施例４−１と同様の方法を用いて、化合物を製造し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性について評価した。結果を以下の表９〜１０に示す。なお、表９〜１０において、親水性基含有化合物の略称は、以下の化合物を表す。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量が３００、５１０及び１８００と異なるもの（重合度が異なるもの）を適宜用いた。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量３００及び５００のランダム共重合体であるものも適宜用いた。

（親水性基含有化合物）
ＭＰＥＧ４００：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：４００）

［実施例４−２４］
内容積１ＬのＳＵＳ３１６製撹拌槽に、水添ＸＤＩ（化合物（ＶＩ−２）−１）：８４．１ｇと、化合物（ＩＶ−２）（数平均分子量：３００、一般式（ＩＶ−２）中、ｎ４２２に対するｎ４２１の比は、１）：８２．５ｇとを投入し、１２０℃で１時間撹拌し、さらに、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（化合物（ＩＩＩ−６）−１）：１３．１ｇと、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド：１．９４ｇとを加え、窒素気流下１８５℃で更に５時間撹拌して、化合物を得た。赤外分光計で反応液を分析したところ、２２００ｃｍ^−１以上２３００ｃｍ^−１以下のイソシアネート基の吸収が消滅していた。
また、得られた化合物について、^１３Ｃ−ＮＭＲ分析を行ったところ、ウレトンイミン基に対応するケミカルシフトにピークは観測されなかった。

表９〜１０から、実施例４−１〜４−２４で製造された化合物はいずれも樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が良好であったのに対して、比較例４−１で製造された化合物は樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が不良であった。

≪実施例５−１〜５−７１≫
＜評価方法＞
［評価５−１］樹脂組成物の貯蔵安定性
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物の評価を行った。
具体的には、まず、実施例及び比較例で得られた化合物：１ｇを酢酸ブチル：１０ｇに分散し、アクリルポリオール（オルネクス社製ＳＥＴＡＬＡＸ１１５２）：１５ｇを加えて撹拌し、均一溶液（樹脂組成物）とした。この均一溶液（樹脂組成物）を４０℃で１０日間保持した後、内容物を目視観察した。以下の評価基準に従い、貯蔵安定性を評価した。

（評価基準）
良好：製造直後の粘度に対する４０℃１０日間保存後の粘度が１．５倍未満
不良：製造直後の粘度に対する４０℃１０日間保存後の粘度が１．５倍以上

＜カルボジイミド基含有化合物の製造＞
［実施例５−１］
還流管を具備する内容積２ＬのＳＵＳ３１６製撹拌槽に、キシレン：６００ｇ、ヘキサメチレンジイソシアネート：５００ｇ、及び、ｔｅｒｔ−ブチルイソシアネート：１１８ｇを投入し、１４０℃に加熱した。ここに、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド：１ｇを投入し３０時間撹拌した。得られた反応液を、予め１８０℃に加熱し内部を０．１ｋＰａ（絶対圧）に減圧した薄膜蒸留装置に供給し、キシレンを留去し、化合物を得た。得られた化合物を赤外分光計で分析したところカルボジイミド基に由来する吸光ピークが確認された。
得られた化合物について、上記評価方法により樹脂組成物の貯蔵安定性について評価した結果、良好であった。

［実施例５−２〜５−７１］
ジイソシアネート及び疎水性基含有化合物の種類を以下の表１１〜１８に示すとおりとした以外は、実施例５−１と同様の方法を用いて、実施例５−１と同様の方法を用いて、化合物を製造し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性について評価した。

表１１〜１８から、実施例５−１〜５−７１で製造された化合物はいずれも樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が良好であった。

≪実施例６−１〜６−２１、比較例６−１〜６−２≫
＜評価方法＞
［評価６−１］貯蔵安定性評価（樹脂組成物の評価１）
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物を用いた樹脂組成物のゲル化時間を測定することで貯蔵安定性の評価を行った。
具体的には、まず、実施例及び比較例で得られた化合物：２ｇを水：５ｇに分散し、ポリウレタン水分散体（第一工業製薬製、スーパーフレックス １５０）：２０ｇに添加した後攪拌し、均一溶液（樹脂組成物）とした。この均一溶液（樹脂組成物）を４０℃に加温し、内容物を５時間おきに目視観察してゲル化の有無を確認し、ゲル化が確認されるまでの時間を求め、ゲル化時間とした。次いで、得られたゲル化時間から、以下の評価基準に従い、貯蔵安定性を評価した。

（評価基準）
良好： ゲル化時間が１０時間以上
不良： ゲル化時間が１０時間未満

［評価６−２］主剤との反応性評価（樹脂組成物の評価２）
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物を用いた樹脂組成物のゲル分率増加率を測定することで主剤との反応性の評価を行った。
具体的には、まず、水：５ｇをポリウレタン水分散体(第一工業製薬製、スーパーフレックス １５０)：２０ｇに添加した後攪拌し、均一溶液とした。この均一溶液を、ポリプロピレン板（以下、「ＰＰ板」と略記する場合がある）上に塗布し、１００℃の乾燥機内で硬化させた。その後、ＰＰ板から塗膜を切り出し平織金網に入れアセトン溶液に１６時間浸漬した後、平織金網ごと塗膜を取り出し、乾燥機で乾燥した。そしてアセトン溶液浸漬前後の塗膜の変化質量を測定し、塗膜の変化質量を浸漬前の塗膜の質量で割り返した値をもって参照ゲル分率とした。
次に、実施例及び比較例で得られた化合物：２ｇを水：５ｇに分散し、ポリウレタン水分散体（第一工業製薬製、スーパーフレックス １５０）：２０ｇに添加した後攪拌し、均一溶液（樹脂組成物）とした。この均一溶液（樹脂組成物）を上記と同様にＰＰ板上に塗布し硬化させた後、上記と同様の方法を用いてゲル分率を測定し、参照ゲル分率との差からゲル分率増加率を求めた。次いで、得られたゲル分率増加率から、以下の評価基準に従い、主剤との反応性を評価した。

（評価基準）
良好： ゲル分率増加率が１０％以上
不良： ゲル分率増加率が１０％未満

［評価６−３］塗膜の耐水性（塗膜の評価１）
以下に示す方法により実施例及び比較例で得られた化合物を用いた塗膜の耐水性の評価を行った。具体的には、まず、水：５ｇをポリウレタン水分散体(第一工業製薬製、スーパーフレックス １５０)：２０ｇに添加した後攪拌し、均一溶液とした。この均一溶液(樹脂組成物)をＰＰ板上に塗布し１００℃の乾燥機内で硬化させた。その後、塗膜上にОリング(内径:１．７８ｍｍ、線径:１．７８ｍｍ)を置き、Оリング中にイオン交換水を１ｍＬ滴下した。その後、５時間室温で静置し塗膜の白化の程度を目視で確認し参照とした。
次に、実施例及び比較例で得られた化合物：２ｇを水：５ｇに分散し、ポリウレタン水分散体(第一工業製薬製、スーパーフレックス １５０)：２０ｇに添加した後攪拌し、均一溶液(樹脂組成物)とした。この均一溶液(樹脂組成物)を上記と同様にＰＰ板上に塗布し硬化させた後、上記と同様の方法を用いて塗膜の白化の程度を目視で確認し、参照と比較した。得られた目視の結果から、以下の評価基準に従い、塗膜の耐水性を評価した。

（評価基準）
良好：白化の程度が参照未満で耐水性が高い
不良：白化の程度が参照以上で耐水性が低い

［比較例６−１］
（工程１）
カルボジイミド化合物を製造するためのジイソシアネート(以下、「ジイソシアネートＡ」と称する場合がある)として、ヘキサメチレンジイソシアネートを使用した。内容積１ＬのＳＵＳ３１６製攪拌槽に、キシレン：３００ｇ、及び、ジイソシアネートＡ：５００ｇを投入し１４０℃に加熱した。ここに、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド：１ｇを投入し５時間攪拌した。得られた反応液から薄膜蒸留装置によって、キシレン、余剰のイソシアネート化合物を留去し、化合物を得た。得られた化合物を赤外分光計で分析したとところ、ウレトンイミン基及びカルボジイミド基に由来する吸光ピークが確認された。

（工程２）
上記工程１で得られた化合物に、親水性基を有する化合物（以下、「親水性基含有化合物」と称する場合がある）として、ポリ（オキシエチレン、オキシプロピレン）グリコールモノブチルエーテル（数平均分子量：９７０、下記式（ＩＶ−２）で表される化合物（以下、「化合物（ＩＶ−２）」と称する場合がある）：８９０ｇを加え、１５０℃で８時間、撹拌しながら加熱した。得られた化合物について^１３Ｃ−ＮＭＲ分析を行ったところ、ウレトンイミン基に対応するケミカルシフトにピークは観測されなかった。

（一般式（ＩＶ−２）中、ｎ４２２に対するｎ４２１の比は、１である。）

(工程３)
上記工程２で得られた化合物に、カルボジイミド基と反応させるイソシアネート化合物（以下、「イソシアネート化合物Ｂ」と称する場合がある）として、フェニルイソシアネートを使用して、カルボジイミド化合物のカルボジイミド基に対してイソシアネート化合物Ｂのイソシアネート基が化学量論比で１．０５倍となるように混合し８０℃で５時間加熱した。得られた化合物は、赤外分光スペクトルにおいて、カルボジイミド基の伸縮振動由来の２０２０ｃｍ^−１付近の吸光度ｘと、ウレトンイミン基およびウレタン基の伸縮振動由来の１７２０ｃｍ^−１付近の吸光度ｙについて、ｘ／ｙで表される値は０．３であった。

［比較例６−２、実施例６−１〜６−２０］
ジイソシアネートＡ、イソシアネート化合物Ｂ及び親水性基含有化合物の種類を以下の表１９〜２０に示すとおりとした以外は、比較例６−１と同様の方法を用いて、化合物を製造し、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性、主剤との反応性及び塗膜としたときの耐水性について評価した。なお、表１９〜２０において、イソシアネート化合物Ｂのうち化合物Ｘは以下に示すものである。また、親水性基含有化合物の略称は、以下の化合物を表す。また、化合物（ＩＶ−２）については、数平均分子量が３００、５１０、９７０及び１８００と異なるもの（重合度が異なるもの）を適宜用いた。

（イソシアネート化合物Ｂ）
化合物Ｘは、公知の手法で得られるヘキサメチレンジイソシアネートの片端のイソシアネート基を単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールで変性した以下の式（Ｘ）で表される化合物である。

（式（Ｘ）中、Ｒ^１０１は以下の式（Ｘ−１）で表される基である。）

（一般式（Ｘ−１）中、ｎ１１２に対するｎ１１１の比は、１である。）

（親水性基含有化合物）
ＭＰＥＧ２２０：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：２２０）
ＭＰＥＧ５５０：ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（数平均分子量：５５０）

表１９〜２０から、実施例６−１〜６−２０で製造された化合物はいずれも樹脂組成物としたときの貯蔵安定性、主剤との反応性、及び塗膜としたときの耐水性が全て良好であった。一方、比較例６−１で製造された化合物は主剤との反応性、及び塗膜としたときの耐水性が良好であるものの、樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が不良であった。また、比較例６−２で製造された化合物は樹脂組成物としたときの貯蔵安定性が良好であるものの、主剤との反応性、及び塗膜としたときの耐水性が不良であった。

本実施形態の化合物によれば、ウレトンイミン基を有する新規化合物を提供することができる。本実施形態の化合物によれば、新規のカルボジイミド化合物を提供することができる。本実施形態の化合物は、水分散性に優れており、水系樹脂組成物の硬化剤成分として好適に用いられる。

Claims (23)

1. 脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかに由来するカルボジイミド化合物を構成単位として含み、且つ、イソシアネート化合物を構成単位として含むウレトンイミン基を有する化合物であって、
   前記イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基と、前記カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基とが異なり、
   下記一般式（１α）で表される、ウレトンイミン基を有する化合物。
   

   

   （一般式（１α）中、ｎ１１は１以上１００以下の整数である。Ｘ ^１１ 及びＸ ^１２ はそれぞれ独立に、単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールの末端の水酸基から水素原子を除いた残基である。Ｑ ^１１ は下記式（１−ａ）で表される基又は下記一般式（１−ｂ）で表される基である。ｎ１１が１のとき、Ｑ ^１１ は下記一般式（１−ｂ）で表される基であり、ｎ１１が２以上であるとき、複数存在するＱ ^１１ は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ ^１１ 及びＲ ^１２ はそれぞれ独立に、ジイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）
   

   

   （式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（１−ｂ）中、Ｙ ^１１ はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。なお、前記ジイソシアネートと前記イソシアネート化合物とは異なる化合物である。）
2. 赤外分光分析による測定スペクトルにおいて、ウレトンイミン基及びウレタン基由来の吸光度に対するカルボジイミド基由来の吸光度の比が０以上１．５未満である、請求項１に記載の化合物。
3. 前記単官能性ポリアルキレンオキシドポリエーテルアルコールは、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールモノアルキルエーテル又はそれらのコポリマーである、請求項１又は２に記載の化合物。
4. 前記Ｘ ^１１ 及び前記Ｘ ^１２ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
   

   

   （一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２１はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
   一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ^２２はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
   アスタリスクは結合部位を表す。）
5. 前記Ｒ ^１１ 及び前記Ｒ ^１２ はそれぞれ独立に、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基、下記式（ＶＩ−１）で表される基、下記式（ＶＩ−２）で表される基又は下記式（ＶＩ−３）で表される基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
   

   

   （式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）
6. 前記Ｒ ^１１ 及び前記Ｒ ^１２ はそれぞれ独立に、が下記一般式（ＶＩ）で表される基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
   

   

   （一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。前記アルキレン基及び前記アリーレン基は、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有してもよい。アスタリスクは結合部位を表す。）
7. 前記Ｒ ^１１ 及び前記Ｒ ^１２ がそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基、下記一般式（ＶＩ−２）及び下記一般式（ＶＩ−３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、請求項６に記載の化合物。
   

   

   （式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）
8. 前記カルボジイミド化合物が脂肪族ジイソシアネートに由来するカルボジイミド化合物であって、前記イソシアネート化合物が脂肪族イソシアネート化合物である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の化合物。
9. 前記ウレトンイミン基に結合する、前記イソシアネート化合物から前記イソシアネート基を除いた残基の炭素原子と、前記ウレトンイミン基に結合する、前記カルボジイミド化合物から前記カルボジイミド基を除いた残基の炭素原子と、において、
   一方の炭素原子が第１級炭素原子若しくは電子求引性基が結合した第１級炭素原子であり、且つ他方の炭素原子が第２級炭素原子である、又は
   一方の炭素原子が電子求引性基が結合した第１級炭素原子であり、且つ他方の炭素原子が電子求引性基が結合していない第１級炭素原子である、請求項８に記載の化合物。
10. 前記イソシアネート化合物が、アミノ酸に由来するイソシアネート及び３官能以上のイソシアネートのうち少なくともいずれかである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の化合物。
11. 前記３官能以上のイソシアネートが３官能のイソシアネートである、請求項１０に記載の化合物。
12. 前記３官能のイソシアネートが下記一般式（１−Ｂ）−３ｃで表される化合物である、請求項１１に記載の化合物。
    

    

    （一般式（１−Ｂ）−３ｃ中、複数存在するＲ^１３４ｂはそれぞれ独立に、単結合、又は、エステル基及びエーテル基からなる群より選択される１種以上を含んでもよい炭素数１以上２０以下の２価の炭化水素基である。Ｒ^１３５ｂは、水素原子又は炭素数１以上１２以下の１価の炭化水素基である。）
13. 前記アミノ酸に由来する基を有するイソシアネートが、下記式（５）で表される基を有するイソシアネートである、請求項１０に記載の化合物。
    

    

    （式（５）中、アスタリスクは結合部位を表す。）
14. 脂肪族ジイソシアネート及び芳香族ジイソシアネートのうち少なくともいずれかに由来するカルボジイミド化合物を構成単位として含み、且つ、イソシアネート化合物を構成単位として含むウレトンイミン基を有する化合物であって、
    前記イソシアネート化合物からイソシアネート基を除いた残基と、前記カルボジイミド化合物からカルボジイミド基を除いた残基とが異なり、
    下記一般式（１η）で表される、ウレトンイミン基を有する化合物。
    

    

    （一般式（１η）中、ｍ９は１以上１２以下の整数である。Ｙ ^１１ はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。なお、前記ジイソシアネートと前記イソシアネート化合物とは異なる化合物である。）
15. 下記一般式（２α）で表される、カルボジイミド化合物。
    

    

    （一般式（２α）中、ｎ１２は１以上１００以下の整数である。Ｘ ^１３ 及びＸ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基である。Ｒ ^１３ 及びＲ ^１４ はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）
    

    

    （一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２１ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
    一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２２ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
    アスタリスクは結合部位を表す。）
16. 前記Ｒ ^１３ 及び前記Ｒ ^１４ はそれぞれ独立に、下記式（ＩＩＩ−１）で表される基、下記式（ＩＩＩ−２）で表される基、下記式（ＩＩＩ−３）で表される基、下記式（ＩＩＩ−５）で表される基、下記式（ＩＩＩ−６）で表される基、下記式（ＶＩ−１）で表される基、下記式（ＶＩ−２）で表される基又は下記式（ＶＩ−３）で表される基である、請求項１５に記載の化合物。
    

    

    （式中、アスタリスクは結合部位を表す。ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）
17. 前記Ｒ ^１３ 及び前記Ｒ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ）で表される基である、請求項１５に記載の化合物。
    

    

    （一般式（ＶＩ）中、Ｒ^６１は、炭素数１以上１８以下のアルキレン基又は炭素数６以上１８以下のアリーレン基である。前記アルキレン基及び前記アリーレン基は、イソシアヌレート基、アロファネート基、ビウレット基、ビウレット基、ウレトジオン基、イミノオキサジアジンジオン基及びウレタン基からなる群より選ばれる少なくとも１種の官能基を有してもよい。アスタリスクは結合部位を表す。）
18. 前記Ｒ ^１３ 及び前記Ｒ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＶＩ−１）で表される基、下記一般式（ＶＩ−２）及び下記一般式（ＶＩ−３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、請求項１７に記載の化合物。
    

    

    （式中、アスタリスクは結合部位を表す。一般式（ＶＩ−１）中、ｎ６１は１以上１０以下の整数である。）
19. 請求項１〜１３のいずれか一項に記載の化合物の製造方法であって、
    下記一般式（２α）で表されるカルボジイミド化合物と、下記一般式（３）で表されるイソシアネート化合物と、を反応させて、前記一般式（１α）で表されるウレトンイミン基を有する化合物を製造する、製造方法。
    

    

    （一般式（２α）中、ｎ１２は１以上１００以下の整数である。Ｘ ^１３ 及びＸ ^１４ はそれぞれ独立に、下記一般式（ＩＩ−１）で表される基又は下記一般式（ＩＩ−２）で表される基である。Ｒ ^１３ 及びＲ ^１４ はそれぞれ独立に、ジイソシアネート又はジイソシアネートから誘導されたポリイソシアネートから２つのイソシアネート基を除いた残基である。）
    

    

    （一般式（ＩＩ−１）中、ｎ２１及びｎ２２はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２１ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
    一般式（ＩＩ−２）中、ｎ２３及びｎ２４はそれぞれ独立に、１以上３０以下の整数である。Ｒ ^２２ はカルボニル基を含んでもよい炭素数１以上１２以下のアルキル基である。
    アスタリスクは結合部位を表す。）
    

    

    （一般式（３）中、Ｒ^３はイソシアネート化合物から１つのイソシアネート基を除いた残基である。）
20. 請求項１〜１８のいずれか一項に記載の化合物を含む、硬化剤組成物。
21. 請求項２０に記載の硬化剤組成物と、カルボキシ基を有する化合物と、を含む、樹脂組成物。
22. 請求項２１に記載の樹脂組成物を含む、塗料組成物。
23. 請求項２２に記載の塗料組成物を硬化させてなる、樹脂硬化物。