JP6977308B2 - ガラス基板およびガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
当該ガラス基板は、相互に対向する第1および第2の表面を有し、各孔は、前記第1の表面に開口を有するように配置されており、
前記複数の孔は、第1の孔群および第2の孔群を有し、
前記第1の孔群は、前記第1の表面に、第1のばらつきを含む第1の開口直径φ1を有する、複数の第1の孔を有し、
前記第2の孔群は、前記第1の表面に、第2のばらつきを含む第2の開口直径φ2を有する、1または複数の第2の孔を有し、
前記第1の孔は、アスペクト比が1よりも大きく、内壁の表面粗さ(算術平均粗さRa)が0.1μm未満であり、
前記第2の開口直径φ2は、前記第1の開口直径φ1よりも15%以上大きく、または前記第1の開口直径φ1よりも15%以上小さい、ガラス基板が提供される。
(1)相互に対向する第1および第2の表面を有するガラス板の前記第1の表面に、第1のレーザ光の照射により、複数の第1の孔を形成する工程であって、
各第1の孔は、前記第1の表面に、第1のばらつきを含む第1の開口直径φ1を有する第1の開口を有する、工程と、
(2)第2のレーザ光の照射により、前記ガラス板の前記第1の表面に、1または複数の第2の孔を形成する工程であって、
各第2の孔は、前記第1の表面に、第2のばらつきを含む第2の開口直径φ2を有する第2の開口を有する、工程と、
を有し、
前記(1)および(2)の工程は、順不同であり、
前記第2の開口直径φ2は、前記第1の開口直径φ1よりも15%以上大きく、または前記第1の開口直径φ1よりも15%以上小さい、製造方法が提供される。
図1には、本発明の一実施形態によるガラス基板(以下、「第1のガラス基板」と称する)の模式的な斜視図を示す。
図2には、第1の孔群120の模式的な上面図を示す。
図3には、第2の孔群140の模式的な上面図を示す。
図4には、第3の孔群160の模式的な上面図を示す。
次に、図5を参照して、本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法の一例について説明する。
(1)相互に対向する第1および第2の表面を有するガラス板を準備する工程(工程S110)と、
(2)第1のレーザ光の照射により、前記ガラス板の前記第1の表面に、第1の孔を形成する工程(工程S120)と、
(3)第2のレーザ光の照射により、前記ガラス板の前記第1の表面に、第2の孔を形成する工程(工程S130)と、
(4)第3のレーザ光の照射により、前記ガラス板の前記第1の表面に、第3の孔を形成する工程(工程S140)と、
を有する。
まず、被加工用のガラス板が準備される。
次に、ガラス板210の第1の表面212に、第1のレーザ光が照射される。これにより、ガラス板210に第1の孔群が形成される。
次に、ガラス板210の第1の表面212に、第2のレーザ光が照射される。これにより、ガラス板210の第1の表面212に、第2の孔群が形成される。
次に、必要な場合、ガラス板210の第1の表面212に、第3のレーザ光が照射される。これにより、ガラス板210の第1の表面212に、第3の孔群が形成される。ただし、この工程S140は、省略されても良い。
以下の方法で、複数の孔を有するガラス基板を製造した。
被加工用ガラス板として、厚さ0.2mmの無アルカリガラス板を準備した。
次に、同じレーザ光を使用して、ガラス板の第1の表面に、第1の孔とは開口直径が異なる第2の孔を一つ形成した。ただし、この工程では、CO2レーザの照射時間は、430μsecとした。
次に、同じレーザ光を使用して、ガラス板の第1の表面に、再度、第1の孔を2つ形成した。加工条件は、第1の工程と同様である。
以下の方法で、複数の孔を有するガラス基板を製造した。
被加工用ガラス板として、厚さ0.2mmの無アルカリガラス板を準備した。
次に、同じレーザ光を使用して、ガラス板の第1の表面に、第1の孔とは開口直径が異なる第2の孔を2つ形成した。ただし、この工程では、CO2レーザの照射時間は、1000μsecとした。また、焦点位置は、第1の表面からガラス板の内部に0.4mm進入した位置とした。
102 第1の表面
104 第2の表面
120 第1の孔群
122 第1の孔
124 第1の開口
140 第2の孔群
142 第2の孔
144 第2の開口
160 第3の孔群
162 第3の孔
164 第3の開口
210 ガラス板
212 第1の表面
214 第2の表面
220 第1の孔群
222 第1の孔
240 第2の孔群
260 第3の孔群
Claims (21)
- 複数の孔を有するガラス基板であって、
当該ガラス基板は、相互に対向する第1および第2の表面を有し、各孔は、前記第1の表面に開口を有するように配置されており、
前記複数の孔は、第1の孔群および第2の孔群を有し、
前記第1の孔群は、前記第1の表面に、第1のばらつきを含む第1の開口直径φ1を有する、1,000個〜1,000,000個の第1の孔を有し、
前記第2の孔群は、前記第1の表面に、第2のばらつきを含む第2の開口直径φ2を有する、1または複数の第2の孔を有し、
前記第1の孔は、アスペクト比が1よりも大きく、内壁の表面粗さ(算術平均粗さRa)が0.1μm未満であり、
前記第2の開口直径φ2は、前記第1の開口直径φ1よりも15%以上大きく、または前記第1の開口直径φ1よりも15%以上小さく、
前記第2の孔は、位置合わせ用の孔または表示マーク用の孔であり、
前記第2の孔群は、複数の第2の孔を有し、隣接する第2の孔は、相互に重複または接触する状態で配置される、ガラス基板。 - 前記第2の孔は表示マーク用の孔であり、複数の第2の孔の組み合わせにより、識別可能な識別子が構成される、請求項1に記載のガラス基板。
- 前記第2の孔は、複数組み合わされて、環状リングを構成する、請求項1または2に記載のガラス基板。
- 前記複数の孔は、さらに、第3の孔群を有し、
該第3の孔群は、前記第1の表面に、第3のばらつきを含む第3の開口直径φ3を有する、1または複数の第3の孔を有し、
第3の開口直径φ3は、第2の開口直径φ2とは異なり、
第3の開口直径φ3は、第1の開口直径φ1よりも15%以上大きく、または第1の開口直径φ1よりも15%以上小さい、請求項1乃至3のいずれか一つに記載のガラス基板。 - 前記第3のばらつきは、第3の開口直径φ3±10%の範囲である、請求項4に記載のガラス基板。
- 前記第2の孔は位置合わせ用の孔であり、前記第3の孔は表示マーク用の孔であり、またはその逆である、請求項4または5に記載のガラス基板。
- 前記第3の孔は表示マーク用の孔であり、複数の第3の孔の組み合わせにより、識別可能な識別子が構成される、請求項4乃至6のいずれか一つに記載のガラス基板。
- 前記第3の孔は、複数組み合わされて、環状リングを構成する、請求項4乃至7のいずれか一つに記載のガラス基板。
- 前記第1の孔は、貫通孔である、請求項1乃至8のいずれか一つに記載のガラス基板。
- 前記第1の孔の第1の開口直径φ1は、10μm〜200μmの範囲から選定される、請求項1乃至9のいずれか一つに記載のガラス基板。
- 前記第1のばらつきは、第1の開口直径φ1±10%の範囲であり、および/または
前記第2のばらつきは、第2の開口直径φ2±10%の範囲である、請求項1乃至10のいずれか一つに記載のガラス基板。 - 複数の孔を有するガラス基板の製造方法であって、
(1)相互に対向する第1および第2の表面を有するガラス板の前記第1の表面に、第1のレーザ光の照射により、1,000個〜1,000,000個の第1の孔を形成する工程であって、
各第1の孔は、前記第1の表面に、第1のばらつきを含む第1の開口直径φ1を有する第1の開口を有する、工程と、
(2)第2のレーザ光の照射により、前記ガラス板の前記第1の表面に、1または複数の第2の孔を形成する工程であって、
各第2の孔は、前記第1の表面に、第2のばらつきを含む第2の開口直径φ2を有する第2の開口を有する、工程と、
を有し、
前記(1)および(2)の工程は、順不同であり、
前記第2の開口直径φ2は、前記第1の開口直径φ1よりも15%以上大きく、または前記第1の開口直径φ1よりも15%以上小さく、
前記第2の孔は、位置合わせ用の孔または表示マーク用の孔であり、
前記第2の孔は、複数の第2の孔を有し、隣接する第2の孔は、相互に重複または接触する状態で配置される、製造方法。 - 前記第1のレーザ光と前記第2のレーザ光は、同じレーザから出射される、請求項12に記載の製造方法。
- 前記(2)の工程では、前記(1)の工程とは異なる照射時間で、前記第2のレーザ光が照射される、請求項12または13に記載の製造方法。
- 前記(2)の工程では、前記ガラス板の厚さ方向において、前記(1)の工程とは異なる焦点位置で、前記第2のレーザ光が照射される、請求項12乃至14のいずれか一つに記載の製造方法。
- さらに、
(3)第3のレーザ光の照射により、前記ガラス板の前記第1の表面に、1または複数の第3の孔を形成する工程であって、
各第3の孔は、前記第1の表面に、第3のばらつきを含む第3の開口直径φ3を有する第3の開口を有する、工程、
を有し、
前記(1)〜(3)の工程は、順不同であり、
前記第3の開口直径φ3は、前記第2の開口直径φ2とは異なり、
前記第3の開口直径φ3は、前記第1の開口直径φ1よりも15%以上大きく、または前記第1の開口直径φ1よりも15%以上小さい、請求項12乃至15のいずれか一つに記載の製造方法。 - 前記第3のばらつきは、第3の開口直径φ3±10%の範囲である、請求項16に記載の製造方法。
- 前記第1〜第3のレーザ光は、同じレーザから出射される、請求項16または17に記載の製造方法。
- 前記第1の孔は、貫通孔である、請求項12乃至18のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記第1の孔の第1の開口直径φ1は、10μm〜200μmの範囲から選定される、請求項12乃至19のいずれか一つに記載の製造方法。
- 前記第1のばらつきは、第1の開口直径φ1±10%の範囲であり、および/または
前記第2のばらつきは、第2の開口直径φ2±10%の範囲である、請求項12乃至20のいずれか一つに記載の製造方法。
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