JP6969923B2 - 基材コーティング装置 - Google Patents

Description

本発明は、基材コーティング装置、特に物理蒸着の装置に関する。

物理蒸着は、真空チャンバ内に配置された１つまたは複数の基材上に気化した原料物質の薄層を堆積させる方法である。既知のタイプの物理蒸着プロセスには、陰極アーク堆積法およびマグネトロンまたはスパッタ堆積法、高出力インパルスマグネトロンスパッタリングまたはＨＩＰＭＳまたはプラズマ支援化学蒸着法（ＰＡＣＶＤ）が含まれる。

物理蒸着に使用される装置は、真空チャンバを含み、真空チャンバは、開口及びドアを有し、開口を通じて基材を収容することができ、ドアは、開口を封止するように構成されている。取り外し可能なテーブルまたは支持構造は、真空チャンバの開口を通過するように構成され、真空チャンバ内で基材を支持するように構成される。コーティング工程開始時に、真空ポンプ、例えば粗引きポンプ及び／又はターボ分子ポンプが真空チャンバを排気するために使用される。次いで、金属イオンエッチング、アーク蒸発またはスパッタリングなどの物理的プロセスを用いて、真空チャンバ内に配置された１つまたは複数のターゲット材から原料物質の蒸気を生成する。原料物質が蒸気の形態でターゲット材から放出されると、それを基材上に堆積させてコーティング薄膜を形成することができる。ＰＡＣＶＤまたはＡｒイオンエッチングのような他のタイプの物理的プロセスでは、原料物質としてガスのみが使用される。

コーティングプロセスの間、基材は熱を吸収し、冷却を必要とする。同様に、基材は、コーティングプロセスの一部として加熱される必要があり得る。コーティングプロセスは真空チャンバ内で行われるので、信頼性が高くかつシンプルな加熱及び／又は冷却システムを設計することは困難である。例えば、冷媒を使用する冷却システムは、漏れが生じやすいかもしれない。さらに、コーティングプロセス中に基材へのおよび基材からの十分な熱伝達を可能にし、かつコーティングプロセスの前後において基材を容易に着脱することができる加熱及び／又は冷却システムを設計することは困難であることが判明している。したがって、広範囲のプロセス温度において確実に動作可能なコーティング装置が未だ必要とされている。

本発明は、基材をコーティングする装置であって、開口及び前記開口を密閉するように構成されたドアを有し、前記開口を通じて基材を収容することができる真空チャンバと、前記真空チャンバ内に配置された１つ又は複数のターゲット材と、前記基材を冷却するように構成された冷却ユニット及び／又は前記基材を加熱するように構成された加熱ユニットと、前記１つ又は複数のターゲット材と、前記冷却ユニット及び／又は前記加熱ユニットとに対して基材を回転させるように構成された回転手段と、前記真空チャンバの内部に連通し、前記冷却ユニット及び前記加熱ユニットを収容するように構成されたリフティングチャンバとを有する。前記真空チャンバは、リフティング軸を画定し、前記冷却ユニット及び／又は前記加熱ユニットと、前記リフティングチャンバとは、前記リフティング軸に沿って配置され、当該装置は、前記冷却ユニット及び／又は前記加熱ユニットを、前記真空チャンバと前記リフティングチャンバとの間で前記リフティング軸に沿って変位させるように構成された変位手段をさらに有する。

冷却ユニット及び／又は加熱ユニットが真空チャンバのリフティング軸に沿って変位可能に構成されていることにより、冷却ユニット及び／又は加熱ユニットを、コーティングプロセスの間、取り外し可能なテーブルの中心、そして複数の基材の間に配置することができ、テーブルを真空チャンバの開口を通じて容易に移動させて素早く基材を着脱することができるように、冷却ユニット及び／又は加熱ユニットをリフティングチャンバ内へと持ち上げることができる。

いくつかの実施形態では、変位手段は、冷却ユニット及び／又は加熱ユニットがリフティング軸の周りを回転しないように、冷却ユニット及び／又は加熱ユニットをリフティング軸に沿って変位させるように構成される。しばしば、冷却ユニットは、水が一連のチューブ及び／又は冷却通路を介して真空チャンバの内外を移動する冷却水システムを含む。水の代わりに、オイル又は液体窒素などの他のタイプの冷媒を使用することもできる。冷却ユニットがリフティング軸を中心に回転しないように構成されている場合、冷却通路の設計を単純化することができる。回転しない冷却ユニット及び加熱ユニットはまた、より簡単なリフティング機構に役立つ。

さらなる実施形態では、コーティング装置は、リフティングチャンバを真空チャンバから気密に密閉するように構成されたシーリングアセンブリ、例えばシーリングバルブをさらに備える。この態様によれば、真空チャンバが依然として真空下に置かれている間に、冷却ユニット及び／又は加熱ユニットを、変位手段によりリフティングチャンバ内に持ち上げることができる。その後、真空チャンバの開口が開けられて、基材が取り外され、次のセットの基材が取付けられる間、リフティングチャンバ内の真空を維持するために、シーリングバルブを閉じることができる。これにより、真空チャンバ内を再び真空にするための真空ポンプの労力が軽減される。

他の実施形態では、装置は冷却ユニット及び加熱ユニットの両方を有し、変位手段は冷却ユニット及び加熱ユニットの両方を変位させるように構成される。変位手段は、冷却ユニットと加熱ユニットの一方を他方から独立して変位させるように構成することも可能である。後者の場合、冷却ユニット及び加熱ユニットのどちらか使用されていない方を持ち上げることができ、加熱または冷却ユニットが気化した原料物質に不必要に曝露されるのを低減する。曝露が低減される結果として、加熱及び冷却ユニット上に堆積する原料物質がより少なくなり、積み重なった膜を除去するメンテナンスの必要性が低減される。

さらなる態様において、冷却ユニットは、加熱ユニットを囲むように構成された中空体を画定し、これにより、コンパクトな設計がもたらされる。冷却ユニットは、冷媒が通過するように構成された少なくとも１つの冷却通路を含んでもよい。例えば、冷却ユニットは、水冷ドラムを含んでもよい。あるいは、冷却ユニットは、伸縮機構を有してもよく、当該伸縮機構では、冷却通路が、例えば、半分の長さの２本のチューブであって、伸縮機構の上部はリフティングチャンバ内に留まったまま、冷却通路を真空チャンバ内に下げることができるようになっていてもよい。加えて、前記少なくとも１つの冷却通路に加熱液体を通すことによって加熱ユニットが形成されてもよい。

いくつかの実施形態では、装置は、真空チャンバの内壁に配置された１つ又は複数の補助加熱体を有する。それに加えて又はそれに替えて、真空チャンバの内壁に配置された１つ又は複数の補助冷却体、特に、冷却パネルを装置が有してもよい。この態様は、基材を効率的に冷却及び／又は加熱するために利用可能な壁スペースを利用し、真空チャンバのリフティング軸に沿って配置された冷却ユニット及び／又は加熱ユニットの負荷を軽減する。

さらなる実施形態では、装置は、基材の温度を検出するように構成され、温度制御モジュールに接続された温度センサを有し、前記温度制御モジュールは、加熱及び冷却ユニットの自動制御を可能にするために、加熱ユニット及び冷却ユニットのうちの少なくとも１つの動作を制御するように構成されている。

さらなる態様によれば、変位手段は、真空チャンバのリフティング軸に平行に配置された１つ又は複数のリニアアクチュエータ、例えば、空気圧シリンダを含む。例えば、そのようなリニアアクチュエータは、冷却ユニット及び加熱ユニットをリフティングチャンバ内に自動的に持ち上げるために、大きな空間を占有することなく、リフティングチャンバ内に配置することができる。あるいは、リニアアクチュエータをリフティングチャンバと真空チャンバとの両方の外側に配置し、接続部材を介してリニアアクチュエータを冷却ユニット及び／又は加熱ユニットに接続することが可能である。

変位手段は、真空チャンバのリフティング軸と平行に配置された１つ又は複数のレールと、レールと協働する１つ又は複数のガイド体、例えば、ホイール、軸受け又は摺動体を有することも可能である。例えば、モータによって駆動される歯車が、リフティングチャンバ内の静止位置に据え付けられ、加熱ユニット及び冷却ユニットに固定された歯付きラックと協働するようにしてもよい。モータが歯車を回転させると、加熱ユニットおよび冷却ユニットは、真空チャンバとリフティングチャンバとの間で移動される。この構成により、機械的に簡単で容易に利用可能な部品を用いて、冷却ユニットおよび加熱ユニットをリフティングチャンバ内にスライドさせることが可能になる。あるいは、変位手段は、重力を利用して冷却ユニット及び／又は加熱ユニットを真空チャンバ内に下げるプーリーおよびスチールワイヤを有してもよい。この構成はまた、プーリーを回転させて、冷却ユニット及び／又は加熱ユニットを、スチールワイヤを介して、リフティングチャンバ内に持ち上げるためのモータまたは駆動装置を含む。

さらなる実施形態によれば、回転手段は、個々の基材がそれぞれ真空チャンバのリフティング軸とロッドと両方の周りを回転することができるように、個々の基材がそれぞれロッド上に支持される遊星歯車配列を含む。このような遊星歯車配列は、真空チャンバの内壁に沿って配置された１つ又は複数のターゲット材と中央に配置された冷却および加熱ユニットとの両方に対して基材を均等に露出し、効率的な熱伝達および改善された堆積をもたらす。

本発明のさらなる特徴および利点は、以下の詳細な説明、添付の図面、および添付の特許請求の範囲から明らかになるであろう。

複数の基材が加熱ユニットおよび冷却ユニットの周りに配置される真空チャンバの水平断面図である。 別の構成の加熱、冷却ユニットを有する装置の、図１と同様の水平断面図である。 さらに別の構成の加熱、冷却ユニットを有する装置の、図１および図２と同様の水平断面図である。 図１の加熱ユニットおよび冷却ユニットを持ち上げるための空気圧変位手段を備えた実施形態を模式的に示す図である。 図１の加熱ユニットおよび冷却ユニットを持ち上げるための空気圧変位手段を備えた実施形態を模式的に示す図である。 図１の加熱ユニットおよび冷却ユニットを持ち上げるための空気圧変位手段を備えた実施形態を模式的に示す図である。 変位手段がリフティングチャンバおよび真空チャンバの外側に配置されている、図４の変形例を示す図である。 図１の加熱ユニットおよび冷却ユニットを持ち上げるための機械的変位手段を備えた実施形態を模式的に示す図である。 図１の加熱ユニットおよび冷却ユニットを持ち上げるための機械的変位手段を備えた実施形態を模式的に示す図である。 図１の加熱ユニットおよび冷却ユニットを持ち上げるための機械的変位手段を備えた実施形態を模式的に示す図である。

図１は、複数の基材１２をコーティングするための装置１０の水平断面である。図面では、基材１２は、単純な円筒形状を有するものとして模式的に示されているが、基材１２も複雑な外部形状を有してもよい。基材１２は真空チャンバ１４内に配置され、取り外し可能なテーブル１６上に支持される（図４Ａ参照）。真空チャンバ１４は、真空チャンバ１４の内壁２４に配置された複数のターゲット材２２を含む。図１には、それを通して真空チャンバ１４の内部にアクセス可能なドア１８が明確に示されている。ドア１８は他の図には示されていないが、他の図の真空チャンバ１４もこのようなドア１８を含むことと理解される。

装置１０は、例えば水冷ドラムである冷却ドラム２０からなる冷却ユニットをさらに備える。冷却ドラム２０はテーブル１６に配置され、基材１２は冷却ドラム２０の外面の周りに配置される。テーブル１６は、ロッド５０（図４Ａ参照）を中心にして基材１２の各々を冷却ドラム２０に対して回転させるように構成された回転手段を含む。

図１の実施形態では、冷却ドラム２０は、装置１０の加熱ユニットを形成する複数の加熱体２６を囲む中空体を形成する。ここでは模式的に示されている加熱体２６は、電気抵抗を有する管状発熱体、赤外線ヒーター、または特殊なオイルまたは他の媒体が加熱管の中を通される加熱体のいずれかとすることができる。

図４Ｃ及び図６Ｃに示すように、冷却ドラム２０を持ち上げて基材１２を加熱体２６に露出させることができる。加熱体２６もテーブル１６の中央に配置されているので、テーブル１６の回転手段は、基材１２を均一かつ効率的に加熱するために加熱体２６に対して基材１２を回転させることもできる。図１は、冷却ドラム２０と加熱体２６の両方を含む装置１０を示しているが、冷却ドラム２０または加熱体２６の一方を有するが他方を有しない装置１０（図示せず）とすることも可能である。

テーブル１６の中央に配置された冷却ドラム２０および加熱体２６に加えて、図１の実施形態は、真空チャンバ１４の内壁２４の隅に配置された複数の補助加熱または冷却パネル２８も含む。

さらに、装置１０は、基材１２の温度を検出するように構成され、冷却ドラム２０、加熱体２６及び／又は補助加熱または冷却パネル２８の動作を制御するように構成された温度制御モジュール３２に接続された温度センサ３０を備える。図１では、真空チャンバ１４の内壁２４に配置された温度センサ３０を示しているが、装置１０内の温度センサ３０の具体的な位置はこれと異なっていてもよい。例えば、温度センサ３０は、テーブル１６に配置されてもよい。あるいは、基材１２もセンサ３０の周りを回転し、センサ３０が冷却ドラム２０及び／又は冷却ドラム２０と共に持ち上げられることができるように、温度センサ３０は、冷却ドラム２０及び／又は加熱体２６に配置されてもよい。

図２は、冷却ドラム２０を除いては、図１の装置１０と同じ構成要素を有する装置１０の別の実施形態を示す。図１の装置１０における冷却ドラム２０の代わりに、図２には、４つの加熱体２６の間に配置された十字形状の冷却パネル３４が示されている。加熱パネル３４は、加熱ユニットおよび冷却ユニットの全体的なコンパクト設計を可能にするために十字形状であるが、加熱体２６の具体的な数及び／又はそのような冷却パネル３４の断面形状は、これと異なってもよいことと理解される。

図３は、図１の冷却ドラム２０及び図２の冷却パネル３４のさらなる変形例を示す。具体的には、図３の実施形態の冷却ユニットは、冷却ドラム３６であり、その外面には、加熱体２６を収容するための複数の凹部３８が設けられている。あるいは、冷却ドラム３６は、断面が円形であってもよく、すなわち、凹部３８を有していなくてもよい。この場合、加熱体２６は、単に冷却ドラム３６の外面の周りに間隔をおいて配置されてもよい。

図４Ａ乃至図４Ｃは、図１の装置１０の垂直断面図、特に真空チャンバ１４の内部と連通し、冷却ドラム２０および加熱体２６を収容するように構成されたリフティングチャンバ４０の垂直断面図を示す。具体的には、真空チャンバ１４は、リフティング軸、この場合、中央に配置された中心軸Ｘを画定し、冷却ドラム２０、加熱体２６及びリフティングチャンバ４０は、すべて、真空チャンバ１４の中心軸Ｘに沿って同軸に配置されている。図４乃至図６は、真空チャンバ１４およびリフティングチャンバ４０が装置１０の互いに接続された別個の部分として認識可能な設計を示す。しかしながら、リフティングチャンバ４０が真空チャンバ１４の一部として、すなわち真空チャンバ１４内に形成されることも可能である。この変形例では、真空チャンバ１４とリフティングチャンバ４０との間に明確な境界または分離が存在する必要はない。

装置１０は、リニアアクチュエータ４２の形態の変位手段をさらに備え、リニアアクチュエータ４２は、例えば、空気圧リニアアクチュエータであって、それぞれ、シリンダ６０内に配置されたロッド５８を含む。リニアアクチュエータ４２は、リフティングチャンバ４０の内部に、中心軸Ｘと平行に配置され、冷却ドラム２０および加熱体２６を真空チャンバ１４とリフティングチャンバ４０との間で移動させるようにそれぞれ構成されている。

図４Ａは、冷却ドラム２０及び加熱体２６の両方が真空チャンバ１４からリフティングチャンバ４０内へと持ち上げられた、装填又は取り外し状態の装置１０を示す。この状態において、テーブル１６は、開口４４から真空チャンバ１４へと迅速かつ容易に移動することができ、開口４４は、他の状態では、ドア１８（図１参照）によって密閉される。

図４Ａは、例えば真空バルブを用いて、リフティングチャンバ４０を真空チャンバ１４から気密に密閉するように構成されたシーリングアセンブリ５４を配置してもよい位置について、また模式的に示す。冷却ドラム２０および加熱体２６が持ち上げられた状態にあるとき、リフティングチャンバ４０内部の真空を維持するために、加熱体２６及び／又は冷却ドラム２０が、リフティングチャンバ４０の壁、リフティングチャンバ４０の蓋部６４、及びシーリングアセンブリ５４によって囲まれるように、シーリングアセンブリ５４が閉じられてもよい。

冷却ドラム２０および加熱体２６がリフティングチャンバ４０内に位置している状態において、真空チャンバ１４内で基材１２を支持するためのテーブル１６を含む支持構造をより明確に見ることができる。具体的には、テーブル１６は、真空チャンバ１４の開口４４を通ってテーブル１６を移動させる車輪付きベース４６を含む。上部ラック４８が車輪付きベース４６の上方に配置され、複数のロッド５０が上部ラック４８とベース４６との間に支持されている。各基材１２は、ロッド５０の周りを回転することができるように個々のロッド５０によって支持されている。模式的に示されたモータ５２は、テーブル１６に接続され、テーブル１６を駆動して、基材１２を、遊星配置で、ロッド５０の周りを回転させるのと同時に中心軸Ｘの周りを回転させる。

テーブル１６および基材１２が真空チャンバ１４内に装填されると、図４Ｂに示されるように、ドア１８を閉じることができ、真空チャンバ１４をポンプ５６により排気することができる。真空チャンバ１４が真空下に置かれると、コーティング（塗布）プロセスを開始してもよい。コーティングプロセス中、冷却ドラム２０（図４Ｂ）または加熱体２６（図４Ｃ）のいずれかを真空チャンバ１４内に降下させて、テーブル１６の中央に配置してもよい。

図４Ｂ及び図４Ｃに示すように、コーティングプロセスにおける気化した原料物質への暴露を低減するために、冷却ドラム２０または加熱体２６のうちのプロセス中に使用されていない何れかが、リフティングチャンバ４０内に留まってもよい。これにより、従来のコーティング装置のように、冷却ドラム２０および加熱体２６がすぐに原料物質でコーティングされてしまうことが防止され、装置１０のメンテナンスの頻度が低減される。加熱体２６または冷却ドラム２０がリフティングチャンバ４０内に引き込まれているときに、シーリングアセンブリ５４を閉じることによって、加熱体２６または冷却ドラム２０を意図しない原料物質からさらに遮蔽してもよい。

図４Ｂ及び図４Ｃに示す実施形態では、リニアアクチュエータ４２のシリンダ６０はリフティングチャンバ４０の内壁に固定されているが、冷却ドラム２０及び加熱体２６はリニアアクチュエータ４２のピストンロッド５８にそれぞれ接続されている。冷却ドラム２０および加熱体２６の変位手段として、リニアアクチュエータ４２の代わりに、リニア電気モータ又は任意の他のリニアアクチュエータを使用することも可能である。

図５は、図４に示す装置１０と実質的に同じ装置１０を示す。しかし、図５において、リニアアクチュエータ４２のシリンダ６０は、真空チャンバ１４及びリフティングチャンバ４０の両方の外側に配置されている。リニアアクチュエータ４２のピストン５８は、リフティングチャンバ４０の蓋部６４に設けられた密閉された開口を通って延在する接続部材６２を介して、冷却ドラム２０及び加熱体２６（不図示）に接続されている。リニアアクチュエータ４２をリフティングチャンバ４０および真空チャンバ１４の外側に配置することにより、リニアアクチュエータ４２は真空にさらされることがない。これにより、非常に低い圧力下では油圧油が漏出する危険性がある油圧式リニアアクチュエータを、容易かつ確実に使用することが可能になる。

図６Ａ乃至図６Ｃは、変位手段を除いては、図４Ａ乃至図４Ｃの装置１０に実質的に一致する装置１０を示す。図６Ａ乃至図６Ｃの実施形態では、ギヤホイール６６が、リフティングチャンバ４０の内壁に固定され、冷却ドラム２０及び加熱体２６にそれぞれ取り付けられた歯付きラック６８と協働する。ギヤホイール６６は、モータ６７（図６Ａにのみ模式的に示されている）によって駆動され、モータ６７がギヤホイールを回転させると、ラック６８が下方または上方に移動して、冷却ドラム２０及び加熱体２６を真空チャンバ１４とリフティングチャンバ４０との間で移動させる。

１０ 装置
１２ 基材
１４ 真空チャンバ
１６ テーブル
１８ ドア
２０ 冷却ドラム
２２ ターゲット材
２４ 真空チャンバの内壁
２６ 加熱体
２８ 加熱又は冷却パネル
３０ 温度センサ
３２ 温度制御モジュール
３４ 冷却パネル
３６ 冷却ドラム
３８ 凹部
４０ リフティングチャンバ
４２ リニアアクチュエータ
４４ 開口
４６ ベース
４８ 上部ラック
５０ ロッド
５２ モータ
５４ シャッターアセンブリ
５６ 真空ポンプ
５８ ピストン
６０ シリンダ
６２ 接続部材
６４ 蓋部
６６ ギアホイール
６７ モータ
６８ 歯付きラック
Ｘ 中心軸

Claims (14)

1. 基材（１２）をコーティングする装置（１０）であって、
   それを通して基材（１２）を収容することができる開口（４４）と、前記開口（４４）を密閉するように構成されたドア（１８）とを有する真空チャンバ（１４）と、
   前記真空チャンバ（１４）内に配置された１つ又は複数のターゲット材（２２）と、
   前記基材（１２）を冷却するように構成された冷却ユニット（２０，３４，３６）及び／又は前記基材（１２）を加熱するように構成された加熱ユニット（２６）と、
   前記１つ又は複数のターゲット材（２２）と、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）及び／又は前記加熱ユニット（２６）とに対して基材（１２）を回転させるように構成された回転手段と、
   前記真空チャンバ（１４）の内部に連通し、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）及び／又は前記加熱ユニット（２６）を収容するように構成されたリフティングチャンバ（４０）とを有し、
   前記真空チャンバ（１４）は、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）及び／又は前記加熱ユニット（２６）と、前記リフティングチャンバ（４０）とが、それに沿って配置されるリフティング軸（Ｘ）を画定し、
   前記装置（１０）は、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）及び／又は前記加熱ユニット（２６）を、前記真空チャンバ（１４）と前記リフティングチャンバとの間で前記リフティング軸に沿って変位させるように構成された変位手段（４２，６６，６８）をさらに有する
   基材コーティング装置（１０）。
2. 前記変位手段（４２，６６，６８）は、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）及び／又は前記加熱ユニット（２６）を、前記リフティング軸（Ｘ）の周りを回転させないように前記リフティング軸（Ｘ）に沿って変位させるように構成されている
   請求項１に記載の装置（１０）。
3. 前記冷却ユニット（２０，３４，３６）と、前記加熱ユニット（２６）とを有し、
   前記変位手段（４２，６６，６８）は、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）及び前記加熱ユニット（２６）の両方を変位させるように構成されている
   請求項１又は２に記載の装置（１０）。
4. 前記変位手段（４２，６６，６８）は、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）および前記加熱ユニット（２６）の一方を他方から独立して変位させるように構成されている
   請求項３に記載の装置（１０）。
5. 前記冷却ユニット（２０）は、前記加熱ユニット（２６）を囲むように構成された中空体を画定する
   請求項３又は４に記載の装置（１０）。
6. 前記冷却ユニット（２０，３６）は、冷媒が通過するように構成された少なくとも１つの冷却通路を有する
   請求項１ないし５の何れかに記載の装置（１０）。
7. 前記冷却ユニット（２０，３６）は、水冷ドラムを含む
   請求項６に記載の装置（１０）。
8. 前記真空チャンバ（１４）の内壁に配置された１つ又は複数の補助加熱体（２８）及び／又は前記真空チャンバ（１４）の内壁に配置された１つ又は複数の補助冷却体（２８）、特に、冷却パネルをさらに有する
   請求項１ないし７の何れかに記載の装置（１０）。
9. 前記基材（１２）の温度を検出するように構成され、前記加熱ユニット（２６）及び前記冷却ユニット（２０，３４，３６）のうちの少なくとも１つの動作を制御するように構成された温度制御モジュール（３２）に接続された温度センサ（３０）をさらに有する
   請求項１ないし８の何れかに記載の装置（１０）。
10. 前記変位手段（４２）は、前記真空チャンバ（１４）の前記リフティング軸（Ｘ）に平行に配置された１つ又は複数のリニアアクチュエータを含む
    請求項１ないし９の何れかに記載の装置（１０）。
11. 前記変位手段は、前記真空チャンバ（１４）の前記リフティング軸（Ｘ）に平行に配置され、前記冷却ユニット（２０，３４，３６）又は前記加熱ユニット（２６）に接続された１つ又は複数のレール（６８）と、前記リフティングチャンバ（４０）内に配置された１つ又は複数のガイド体（６６）とを含み、前記ガイド体（６６）は、前記レール（６８）と協働するように構成され、モータ（６７）によって駆動される
    請求項１ないし１０の何れかに記載の装置（１０）。
12. 前記変位手段（４２，６６，６８）は、前記リフティングチャンバ（４０）及び／又は前記真空チャンバ（１４）の内部に配置されている
    請求項１ないし１１の何れかに記載の装置（１０）。
13. 前記加熱ユニット（２６）及び／又は前記冷却ユニット（２０，３４，３６）を前記変位手段（４２）に接続するように構成された１つ又は複数の接続部材（６２）をさらに有し、前記変位手段（４２）は、前記真空チャンバ（１４）及び前記リフティングチャンバ（１４）の外側に配置されている
    請求項１ないし１１の何れかに記載の装置（１０）。
14. 前記回転手段は、個々の基材（１２）がロッド（５０）上にそれぞれ支持され、個々の基材（１２）が前記真空チャンバ（１４）のリフティング軸（Ｘ）及びロッド（５０）の両方の周りを回転可能な遊星歯車配列を含む
    請求項１ないし１３の何れかに記載の装置（１０）。

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