JP6965256B2 - 2種類の金属ドーパントを含んでいる、n型ドープされた半導体材料 - Google Patents
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Description
(i)1種類以上の実質的に共有結合性のマトリクス化合物からなる、実質的に共有結合性のマトリクス材料と、
(ii)Li、Na、K、Rb、及びCsからなる群より選択される、1種類以上の第1金属と、
(iii)Zn、Cd、Hg及びTeからなる群より選択される、1種類以上の第2金属と、
を含んでいる、半導体材料。
固体支持体に隣接している半導体層であって、本発明の半導体材料からなる半導体層。
第1電極及び第2電極の間に位置している、2つ以上の区別される層と、
任意構成で、前記電極間の外部空間に配置されている、他のデバイス部品と、
を備えている電子デバイスであって、
前記間に位置している層の1つ以上は、前記の段落に記載の半導体層である、電子デバイス。
本発明の半導体材料の製造方法であって、
(i)10−2Pa未満(好ましくは5×10−3Pa未満、より好ましくは10−3Pa未満、より一層好ましくは5×10−4Pa未満、最も好ましくは10−4Pa未満)の圧力下にて、第1金属、第2金属及び1種類以上の実質的に共有結合性のマトリクス化合物を共蒸着させる、1つ以上の共蒸着工程であって、
(a)Li、Na、K、Rb及びCsより選択される1種類以上の第1金属、及び、(b)Zn、Cd、Hg及びTeより選択される1種類以上の第2金属、を含んでいる組成物が、100℃〜600℃(好ましくは150℃〜550℃、より好ましくは200℃〜500℃、より一層好ましくは250℃〜450℃、最も好ましくは300℃〜400℃)に加熱された第1蒸着源中に含まれており、
1種類以上の実質的に共有結合性のマトリクス化合物からなる実質的に共有結合性のマトリクス材料が、100℃〜600℃(好ましくは150℃〜550℃、より好ましくは200℃〜500℃、より一層好ましくは250℃〜450℃、最も好ましくは300℃〜400℃)に加熱された第2蒸着源中に含まれている、共蒸着工程と、
(ii)前記第1金属、前記第2金属、及び前記実質的に共有結合性のマトリクス化合物を、前記第1蒸着源及び前記第2蒸着源よりも温度が低い表面上に堆積させる、(i)に引き続く1つ以上の共堆積工程と、
を含む、製造方法。
前述した本発明の半導体層を製造するための本発明の製造方法であって、表面として固体支持体を提供する工程を更に含む、製造方法。
電子デバイスを製造するための製造方法であって、
(i)前記第1電極、及び(前記デバイスに存在するならば)前記第1電極と前記半導体層との間に配置されている層を、順次提供する(providing subsequently)工程と、
(ii)本発明の製造方法によって前記半導体層を提供する工程であって、前記第1電極、又は前記半導体層に隣接している層を、前記固体支持体として機能させる工程と、
(iii)(前記デバイスに存在するならば)前記半導体層と前記第2電極との間にある残余の層、前記第2電極、及び、(存在するならば)前記電極間の外部空間にある任意の他のデバイス部品を提供する工程と、
を含む、製造方法。
本発明に係る半導体材料、層、又はデバイスを製造するための、金属合金の使用であって、
前記合金は、
Li、Na、K、Rb及びCsより選択される、1種類以上の第1金属と、
Zn、Cd、Hg及びTeより選択される、1種類以上の第2金属と、
を含む1つ以上の均一相を有している、使用。
図1はアノード(10)、発光層を含んでいる有機半導体層(11)、電子輸送層(ETL)(12)、及びカソード(13)の積層体を表す。その他の層も、本明細書において説明するように、これら描かれている層の間に挿入されてよい。
イオン化ポテンシャル(IP)を測定する方法には、紫外線光電子分光法(UPS)がある。固体状態の物質のイオン化ポテンシャルを測定することが通例であるが、気体におけるIPを測定することも可能である。両者の値は、固体効果の分だけ異なる。固体効果とは、例えば、光イオン化過程において生じる、正孔の分極エネルギーである。通常、分極エネルギーの値は、約1eVである。しかし、より大きな値の乖離が生じる場合もある。IPは、光電子の大きな運動エネルギー(すなわち、最も弱く結合している電子のエネルギー)近傍にある、光電子放出スペクトルの立ち上がりと関連している。UPSに関連する方法として、逆光電分光法(IPES)を用いて、電子親和力(EA)を測定することができる。しかし、この方法は一般的ではない。その代わり、固体の酸化電位(Eox)及び還元電位(Ered)を測定するのではなく、溶液中における電気化学的測定が成される。適切な方法としては、例えば、サイクリックボルタンメトリーがある。混乱を避けるため、請求項に記載のエネルギー準位は、レファレンス化合物との比較によって定義する。標準的な手順で測定した場合、レファレンス化合物のサイクリックボルタンメトリーにおける酸化還元電位は明確である。酸化還元電位を電子親和力及びイオン化ポテンシャルに変換するための、簡単な規則が頻繁に使用されている。すなわち、それぞれ、IP(eV)=4.8eV+e*Eox(Eoxは、Vvs.フェロセニウム/フェロセン(Fc+/Fc)で与えられる)EA(eV)=4.8eV+e*Ered(Eredは、Vvs.Fc+/Fcで与えられる)である([B.W. D'Andrade, Org. Electron. 6, 11-20 (2005)]を参照。e*は電気素量)。他の参照電極又は他の参照酸化還元対の場合における、電気化学ポテンシャルを再計算するための変換因子も知られている([A.J. Bard, L.R. Faulkner, "Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications", Wiley, 2. Ausgabe 2000]を参照)。使用する溶液の影響に関する情報は、[N.G. Connelly et al., Chem. Rev. 96, 877 (1996)]に見られる。完全に正しい訳ではないが、イオン化エネルギー及び電子親和力の同義語として、用語「HOMOのエネルギー(E(HOMO))」及び「LUMOのエネルギー(E(LUMO))」を、それぞれ用いるのが一般的である(Koopmans Theorem)。考慮に入れねばならないことには、イオン化ポテンシャル及び電子親和力は、通常、「これらの値が大きいほど、放出電子又は吸収電子の結合がより強いことをそれぞれ意味する」と言われている。フロンティア軌道(HOMO、LUMO)のエネルギー規模は、これとは反対である。したがって、粗い近似としては、以下の方程式が成立する:IP=−E(HOMO)、EA=E(LUMO)(真空をエネルギー0とする)。
基板は、柔らかいものであってもよく、硬いものであってもよい。また、基板は、透明であっても、不透明であっても、反射性であっても、半透明であってもよい。OLEDによって生成した光を、基板を通して透過させる場合(ボトム・エミッション)、基板は透明又は半透明であらねばらない。OLEDによって生成した光が基板と反対方向に出射される場合(いわゆるトップ・エミッション型)、基板は不透明のものであってもよい。OLEDもまた、透明であってもよい。基板は、カソード又はアノードのどちらの隣に配置されていてもよい。
電極とは、アノード及びカソードである。これらは、ある程度の伝導性を有していなければならず、好ましくは、金属性の高い導電性を有している導電体である。好ましくは、「第1電極」は、アノードである。光をデバイスの外部へ透過させるために、少なくとも1つの電極は、半透明又は透明なものである必要がある。典型的な電極は、金属及び/又は透明導電性酸化物を含んでいる、複数の層又は積層体である。他の可能な電極としては、薄いバスバー(例えば、薄い金属格子)から作られていて、ある程度の導電性を有している透明物質(例えばグラフェン、カーボンナノチューブ、ドープされた有機半導体等)で当該バスバーの隙間が満たされている(被覆されている)ものがある。
HTLは、ワイドギャップ半導体を含んでいる層であり、アノードから発光層(LEL)への、又はCGLから発光層への、正孔の輸送を担っている。HTLは、アノードとLELとの間、又は、CGLの正孔を発生させる側とLELとの間、に備えられている。HTLは、他の物質(例えばp型ドーパント)と混合することができる。この場合、HTLはp型ドープされていると言われる。複数の層がHTLに含まれていてもよく、これら複数の層は組成が異なっていてもよい。HTLをp型ドープすることにより、抵抗率が低減され、ドープしていない半導体の高い抵抗率に起因する出力の損失を避けられる。また、ドープしたHTLを、光学スペーサとして用いることもできる。というのも、HLTは、抵抗率を大幅に上昇させることなく、非常に肉厚に成形することができるからである(最大1000nm以上)。
HILは、アノード又はCGLの正孔を発生させる側から、隣接するHTL中へと、正孔の注入を促進する層である。通常、HTLは非常に薄い層である(10nm未満)。正孔注入層は、厚さ1nm程度の、p型ドーパントの純粋な層でありうる。HTLがドープされている場合は、HILは必要でない場合もある。注入の機能が、HTLによって既に与えられているためである。
発光層は、少なくとも1種類の発光物質を含んでいなければならない。また、任意構成で、追加の層を備えていてもよい。LELが2種類以上の物質の混合物を含んでいる場合、電荷キャリアの注入は、異なる物質間において生じてもよい(例えば、発光物質ではない物質において)。あるいは、発光物質に対して直接、電荷キャリアの注入が生じてもよい。LELの内部又は近傍では、多くの異なるエネルギー遷移過程が生じうる。その結果、異なる種類の発光が生じる。例えば、ホスト物質中で励起子が形成され、次に、一重項励起子又は三重項励起子として発光物質に遷移することがある。すると、この発光物質は、一重項状態又は三重項状態の発光物質となり、光を放射することができる。異なる種類の発光物質を混合することにより、効率を向上させることができる。発光ホスト及び発光ドーパントからの発光を利用することにより、白色光を実現することができる。可能な一実施形態において、発光層は、1種類以上の高分子を含んでいる。多くの蛍光性高分子が知られている。その代わりに(又はそれに加えて)、高分子に燐光性発光物質のホストの役割を担わせてもよい。別の実施形態において、発光物質は、真空蒸着処理が可能な低分子化合物であってもよい。金属を含まない有機化合物(例えば、多環芳香族炭化水素、多環複素環式化合物、多環芳香族アミン、及び、このようなビルディングブロックの多様な組み合わせとして設計される化合物)は、蛍光性発光物質として通常使用される。一方で、金属複合体又は有機金属化合物は、燐光性発光物質として通常利用される。
遮断層は、LEL中の電荷キャリアの拘束を促進するために使用できる。これらの遮断層は、US7,074,500B2において、より詳細に説明されている。
ETLは、ワイドギャップ半導体を含んでいる層であり、カソードからLELへの、又はCGLもしくはEIL(後述)からLELへの、電子の輸送を担っている。ETLは、カソードとLELの間、又は、CGLの電子を発生させる側とLELとの間、に備えられている。ETLは、電気的n型ドーパントと混合することができる。この場合、ETLは、n型ドープされていると言われる。複数の層がETLに含まれていてもよく、これら複数の層は組成が異なっていてもよい。ETLを電気的n型ドープすることにより、抵抗率が低減され、及び/又は、隣接する層への電子注入能が向上する。更に、ドープしていない半導体の高い抵抗率(及び/又は低い注入能)に起因する、出力の損失を避けられる。電気的ドープすることによって、ドープされていないETMと比較してドープされた半導体材料の導電率を実質的に増加させる程度の新たな電荷キャリアが発生するならば、このドープされたETLを光学スペーサとして用いることもできる。というのも、このドープされたETLを備えるデバイスの駆動電圧を顕著に上昇させることなく、ETLを非常に肉厚に成形することができるからである(最大1000nm以上)。新たな電荷キャリアを発生させると考えられている、多くの場合に好適な電気的ドーピングの一形態に、いわゆる酸化還元ドーピングがある。n型ドーピングの場合の酸化還元ドーピングは、ドーパントからマトリクス分子への電子の移動に相当する。
OLEDは、CGLを備えていてもよい。CGLを電極と結合させて逆接合点(inversion contact)として用いることもできるし、積層OLEDにおいては接合ユニットとして用いることもできる。CGLは、多くの異なる構成及び名称を有しうる(例としては、pn接合、接合ユニット、トンネル接合等)。US2009/0045728A1、US2010/0288362A1に開示されているpn接合が、その例である。
OLEDが、CGLによって隔てられている2つ以上のLELを備えている場合、当該OLEDを積層型OLEDと呼ぶ(そうでないものは、シングルユニット型OLEDと呼ぶ)。(i)最も近い2つのCGLの間にある層の群、又は(ii)電極の一方と最も近いCGLとの間にある層の群、のことを「エレクトロルミネッセント単位(ELU)」と呼ぶ。したがって、積層型OLEDは次のように表すことができる:アノード/ELU1/{CGLX/ELU1+X}X/カソード(xは正の整数である。それぞれのCGLX又はELU1+Xは、同じであっても異なっていてもよい)。また、US2009/0009072A1に開示されているように、2つのELUの互いに隣接している層によって、CGLを形成させることもできる。積層型OLEDについては、例えば、US2009/0045728A1、US2010/0288362A1及びこれらが援用する文献にて、更に説明されている。
電子デバイス中の任意の有機層は、公知の技術により積層することができる(例えば、真空蒸着(VTE)、有機気相蒸着、レーザ熱転写、スピンコーティング、ブレードコーティング、スロットダイコーティング、インクジェット印刷等)。本発明に係るOLEDを作製するための好適な方法は、真空蒸着である。重合性の材料は、適当な溶媒中の溶液から、コーティング技術によって、好適に処理される。
本発明の半導体材料は、1種類以上の第1金属の少なくとも一部と、1種類以上の第2金属の少なくとも一部とを、実質的に元素形態で含んでいる。それゆえ、本発明の製造方法においては、1種類以上の第1金属及び1種類以上の第2金属を、それらの元素形態又は実質的な元素形態から気化させることが有利である。これに関して、「実質的に金属性組成物」という用語は、1種類以上の第1金属及び1種類以上の第2金属を、それぞれ少なくとも部分的には、実質的な元素形態で含んでいる組成物のことであると理解されたい。つまり、電子状態及びエネルギーの観点、並びに化学結合の観点から、金属塩、共有結合性金属化合物、又は金属の配位化合物の形態よりも単体金属、自由金属原子、又は金属原子のクラスターの形態により近い。
最も信頼性が高いとともに、最も効率的であるOLEDとは、電気的にドープされた層を備えているOLEDである。一般的に、電気的ドーピングとは、電気特性を向上させること(とりわけ、ドーパントを含んでいない純粋な電荷発生マトリクスと比較して、ドープされた層の導電性及び/又は注入能を向上させること)を意味する。狭義には、正孔輸送層が適切なアクセプター物質でドープされているか(p型ドーピング)、あるいは、電子輸送層が適切なドナー物質でドープされている(n型ドーピング)。このようなドーピングは、通常、酸化還元ドーピング又は電荷輸送ドーピングと呼ばれている。酸化還元ドーピングによって、有機固相中の電荷キャリア密度を(したがって導電率を)、実質的に増加させることができる。換言すれば、酸化還元ドーピングによって、半導体マトリクスの電荷キャリア密度を、ドープされていないマトリクスの電荷キャリア密度と比較して増加させることができる。有機発光ダイオードにおけるドープされた電荷輸送層の使用(アクセプター様分子の混合による正孔輸送層のp型ドーピング、ドナー様分子の混合による電子輸送層のn型ドーピング)については、例えば、US2008/203406及びUS5,093,698に記載されている。
有機半導体における電気的ドーピングの実用上の重要性にもかかわらず、金属でドープした半導体材料の研究は、これまで滞ってきた。これは、研究室における実験上の障害、及び、工業的生産における技術上の障害(そして対応するQAの問題)が原因であった。このため、実用されているものは、1種類の金属と1種類のマトリクス化合物とからなる最も単純な系に専ら限定されていた。
(サイクリックボルタンメトリー)
特定の化合物の酸化還元電位は、試験物質の0.1M THF(アルゴンにより脱気し、乾燥させてある)溶液中で、アルゴン雰囲気下にて測定した。支持電解質として、0.1M テトラブチルアンモニウム・ヘキサフルオロホスフェートを使用した。白金製作用電極間にて、塩化銀で被覆されている銀ワイヤーからなるAg/AgCl疑似標準電極を用いて測定した。電極を測定溶液に直接浸漬し、スキャン速度は100mV/sとした。1回目の測定は、作用電極間に最も大きな範囲の電位差を設定して行い、その後の測定においては、当該範囲を適宜調整した。最後の3回の測定は、標準としてフェロセンを添加して行った(濃度:0.1M)。試験化合物の陰極ピーク及び陽極ピークに対応する電位の平均は、Fc+/Fc標準酸化還元対について測定した陰極電位及び陽極電位の平均を差し引いた後で、上述した最終的な値を得た。試験した全てのホスフィンオキシド化合物は、既報の比較化合物と同様に、明確に可逆的な電子化学的ふるまいを示した。
金属合金の合成は、標準的な冶金学的手法に沿って行った。密封したタンタル製又はセラミック製の坩堝内で、アルゴン雰囲気化において元素を融解させることにより、合成を行った。
[実施例1 青色OLED]
以下の手順により、第1の青色発光デバイスを作製した。まず、ITOガラス基板上に、PD2でドープしたA1の層(10nm、マトリクスのドーパントに対する重量比は92重量%:8重量%)を堆積させた。続いて、ドープされていないA2の層(125nm)を堆積させた。次に、NUBD370(Sun Fine Chemicals)でドープしたABH113(Sun Fine Chemicals)を、青色蛍光を発する発光層として堆積させた(厚さ:20nm、97重量%:3重量%)。次に、化合物A3の中間層(4nm)と、試験する半導体材料(35nm)とを、発光層の上に堆積させた。試験する半導体層は、化合物A4をマトリクスに用い、第1金属及び第2金属の含有率を表1に示した値として、作製した。作製方法は、3成分を3つの異なる蒸着源から共蒸着させるか、あるいは、合金(元素組成は、表から容易に算出できる)を使用する本発明の製造方法を用いるかの、いずれかとした。最後に、試験する半導体層の上に、カソードとしてアルミニウム層(厚さ:100nm)を堆積させた。
at% 原子パーセント
CGL 電荷発生層
CV サイクリックボルタンメトリー
DCM ジクロロメタン
DSC 示差走査熱量測定
EIL 電子注入層
EQE エレクトロルミネセンスの外部量子効率
ETL 電子輸送層
ETM 電子輸送マトリクス
EtOAc 酢酸エチル
Fc+/Fc フォロセニウム/フェロセン参照系
h 時間
HIL 正孔注入層
HOMO 最高被占分子軌道
HTL 正孔輸送層
HTM 正孔輸送マトリクス
ITO 酸化インジウムスズ
LUMO 最低空分子軌道
LEL 発光層
LiQ リチウム8−ヒドロキシキノリノラート
MeOH メタノール
mol% モルパーセント
OLED 有機発光ダイオード
QA 品質保証
RT 室温
THF テトラヒドロフラン
UV 紫外線(紫外光)
vol% 体積パーセント
v/v 体積/体積(割合)
VTE 熱蒸着
wt% 重量(質量)パーセント
Claims (18)
- (i)1種類以上の実質的に共有結合性のマトリクス化合物からなる、実質的に共有結合性のマトリクス材料と、
(ii)Li、Na、K、Rb、及びCsからなる群より選択される、1種類以上の第1金属と、
(iii)Znである第2金属と、
を含んでいる、半導体材料。 - 前記実質的に共有結合性のマトリクス化合物は、有機マトリクス化合物である、請求項1に記載の半導体材料。
- (i)前記第1金属は、Li及びNaより選択され、及び/又は、(ii)前記第2金属は、Znである、請求項1又は2に記載の半導体材料。
- 固体支持体上にある半導体層であって、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体材料からなる、半導体層。
- 厚さが150nm未満である、請求項4に記載の半導体層。
- 実質的に均一である、請求項4に記載の半導体層。
- 第1電極及び第2電極の間に位置している、2つ以上の区別される層と、
任意構成で、前記電極間の外部空間に配置されている、他のデバイス部品と、
を備えている電子デバイスであって、
前記区別される層の1つ以上は、請求項4〜6のいずれか1項に記載の半導体層である、電子デバイス。 - 有機発光ダイオード又は有機光起電力素子である、請求項7に記載の電子デバイス。
- 前記半導体層は、電極に隣接している、請求項7又は8に記載の電子デバイス。
- 前記半導体層は、電荷発生層の一部である、請求項7〜9のいずれか1項に記載の電子デバイス。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体材料の製造方法であって、
(i)10−2Pa未満の圧力下にて、第1金属、第2金属及び1種類以上の実質的に共有結合性のマトリクス化合物を共蒸着させる、1つ以上の共蒸着工程であって、
(a)Li、Na、K、Rb及びCsより選択される1種類以上の第1金属、及び、(b)Znである第2金属、を含んでいる組成物が、100℃〜600℃に加熱された第1蒸着源中に含まれており、
1種類以上の実質的に共有結合性のマトリクス化合物からなる実質的に共有結合性のマトリクス材料が、100℃〜600℃に加熱された第2蒸着源中に含まれている、共蒸着工程と、
(ii)前記第1金属、前記第2金属、及び前記実質的に共有結合性のマトリクス化合物を、前記第1蒸着源及び前記第2蒸着源よりも温度が低い表面上に堆積させる、(i)に引き続く1つ以上の共堆積工程と、
を含む、製造方法。 - 前記組成物は、実質的に金属性の金属合金である、請求項11に記載の製造方法。
- 前記第1蒸着源の温度は、前記金属合金の融点未満である、請求項12に記載の製造方法。
- 前記金属合金の融点は、前記第1金属及び/又は前記第2金属の融点のいずれよりも高い、請求項12又は13に記載の製造方法。
- (i)前記第1金属がナトリウムであるか、及び/又は、(ii)前記第2金属が亜鉛である、請求項11〜14のいずれか1項に記載の製造方法。
- 請求項4〜6のいずれか1項に記載の半導体層の製造方法であって、請求項11〜15のいずれか1項に記載の製造方法により前記半導体材料を製造し、前記表面として前記固体支持体を提供する工程を含む、半導体層の製造方法。
- 請求項7〜10のいずれか1項に記載の電子デバイスを製造するための製造方法であって、
(i)前記第1電極、及び(前記デバイスに存在するならば)前記第1電極と前記半導体層との間に配置されている層を、順次提供する(providing subsequently)工程と、
(ii)請求項16に記載の製造方法によって前記半導体層を提供する工程であって、前記第1電極、又は前記半導体層に隣接している層を、前記固体支持体として機能させる工程と、
(iii)(前記デバイスに存在するならば)前記半導体層と前記第2電極との間にある残余の層、前記第2電極、及び、(存在するならば)前記電極間の外部空間に配置されている任意の他のデバイス部品を提供する工程と、
を含む、製造方法。 - (i)請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体材料、及び/又は、(ii)請求項4〜6のいずれか1項に記載の半導体層、及び/又は、(iii)請求項7〜10のいずれか1項に記載の電子デバイスを製造するための、金属合金の使用であって、
前記合金は、
Li、Na、K、Rb及びCsより選択される、1種類以上の第1金属と、
Znである第2金属と、
を含む1つ以上の均一相を有している、使用。
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JPH05159882A (ja) * | 1991-12-04 | 1993-06-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 電子注入性電極の製造方法およびこの方法を用いた有機el素子の製造方法 |
JP2000068065A (ja) | 1998-08-13 | 2000-03-03 | Tdk Corp | 有機el素子 |
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US6841932B2 (en) * | 2001-03-08 | 2005-01-11 | Xerox Corporation | Display devices with organic-metal mixed layer |
JP2004164992A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Canon Inc | 電子注入性電極の製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2005108692A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Tdk Corp | 有機el素子及びその製造方法 |
KR101027896B1 (ko) | 2004-08-13 | 2011-04-07 | 테크니셰 유니베르시테트 드레스덴 | 발광 컴포넌트를 위한 층 어셈블리 |
EP1648042B1 (en) | 2004-10-07 | 2007-05-02 | Novaled AG | A method for doping a semiconductor material with cesium |
US7811679B2 (en) | 2005-05-20 | 2010-10-12 | Lg Display Co., Ltd. | Display devices with light absorbing metal nanoparticle layers |
US7728517B2 (en) * | 2005-05-20 | 2010-06-01 | Lg Display Co., Ltd. | Intermediate electrodes for stacked OLEDs |
KR100721428B1 (ko) * | 2005-10-20 | 2007-05-23 | 학교법인 포항공과대학교 | 유기 발광 다이오드 및 이의 제조 방법 |
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