JP6957501B2 - 2パート硬化性組成物 - Google Patents

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Description

背景
分野
2パート(two part)硬化性組成物が提供され、該組成物は、構造Iに示される化合物を参照して定義される硬化促進剤を含む:
Figure 0006957501
(式中、Aは、CH又はベンジルであり、Rは、C1−10アルキルであり、R’は、H又はC1−10アルキルであるか、あるいはRとR’が一緒になって、ベンゼン環に縮合した4〜7員環を形成していてもよく、R”は任意であるが、R”が存在する場合、R”は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、アルコキシ、アミノ、アルキレン−若しくはアルケニレン−エーテル、アルキレン(メタ)アクリレート、カルボニル、カルボキシル、ニトロソ、スルホネート、ヒドロキシル、又はハロアルキルであり、そしてEWGは、示されているように、電子求引性基、例えばニトロ、ニトリル、カルボキシレート、又はトリハロアルキルである)
関連技術の簡単な説明
2パート硬化性接着剤組成物は、一般によく知られている。例えば、米国特許第7,776,963号、第6,730,411号、第6,512,043号、第4,536,546号、第7,638,195号、第8,794,282号、第8,642,691号、及び米国特許出願公開第2005/0192364号、第2014/0221544号、及び第2010/0305282号を参照されたい。
現状の技術水準にもかかわらず、既存の製品から差別化し、また原材料の供給不足や供給停止の場合に供給を保証するために、硬化促進剤の代替技術を見出すという継続的な要求がある。従来の硬化剤として使用されているいくつかの原材料は、程度の差はあっても、規制当局の監視下に置かれなければならないため、代替の硬化剤が望ましい。したがって、その機能のための新規材料を同定することが望ましい。
その要求を満たす別の選択肢として、2パート硬化性組成物のための硬化促進剤が本明細書に提供される。
2パート硬化性組成物のための硬化促進剤として有用な化合物は、構造Iを参照して定義される:
Figure 0006957501
(式中、Aは、CH又はベンジルであり、Rは、C1−10アルキルであり、R’は、H又はC1−10アルキルであるか、あるいはRとR’が一緒になって、ベンゼン環に縮合した4〜7員環を形成していてもよく、R”は任意であるが、R”が存在する場合、R”は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、アルコキシ、アミノ、アルキレン−若しくはアルケニレン−エーテル、アルキレン(メタ)アクリレート、カルボニル、カルボキシル、ニトロソ、スルホネート、ヒドロキシル、又はハロアルキルであり、そしてEWGは、示されているように、電子求引性基、例えばニトロ、ニトリル、カルボキシレート、又はトリハロアルキルである)
構造Iに含まれる化合物は、以下の出発物質IIから調製することができる:
Figure 0006957501
(式中、R、R’、及びR”は上記のとおりである)
構造Iに含まれる化合物は、以下のような一般的な反応スキームで調製することができる:
Figure 0006957501
(式中、A、R、R’、R”、及びEWGは、上記のとおりである。)
より具体的には、反応スキームは以下のように表すことができる:
Figure 0006957501
(式中、上のスキームにおいてnは、1又は2であり、そしてXは、示されているような代表的な電子吸引基である)。このスキームでは、電子求引性基含有アルキル(例えば、メチル)又は臭化ベンジルが反応物質として示されているが、同様に、他のハロゲン化物、並びにトシラート及びメシラートなどの他の脱離基を使用してもよい。
本発明の硬化剤を使用した2パート硬化性組成物が提供される。
本発明の硬化剤を用いて調製された2パート硬化性組成物の調製方法及び使用方法もまた提供され、また硬化性組成物の反応生成物も提供される。
本発明に含まれる硬化促進剤を使用した2パート硬化性組成物の引張せん断強度性能の棒グラフを、3種の異なる基材について、対照と比較して示す。 本発明に含まれる硬化促進剤を使用した2パート硬化性組成物のT剥離(T peel)強度性能の棒グラフを、スチール基材について、対照と比較して示す。 本発明に含まれる硬化促進剤を使用した2パート硬化性組成物のくさび(wedge)衝撃強度性能の棒グラフを、スチール基材について、対照と比較して示す。
詳細な説明
上記のように、2液型(two part)組成物のための硬化促進剤が提供され、該硬化促進剤は、構造Iに示される化合物を参照して定義される:
Figure 0006957501
(式中、Aは、CH又はベンジルであり、Rは、C1−10アルキルであり、R’は、H又はC1−10アルキルであるか、あるいはRとR’が一緒になって、ベンゼン環に縮合した4〜7員環を形成していてもよく、R”は任意であるが、R”が存在する場合、R”は、ハロゲン、アルキル、アルケニル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、アルコキシ、アミノ、アルキレン−若しくはアルケニレン−エーテル、アルキレン(メタ)アクリレート、カルボニル、カルボキシル、ニトロソ、スルホネート、ヒドロキシル、又はハロアルキルであり、そしてEWGは、示されているように、電子求引性基、例えばニトロ、ニトリル、カルボキシレート、又はトリハロアルキルである)
構造Iに含まれる化合物の特定の例は:
Figure 0006957501
である。
上記のように、構造Iに含まれる化合物は、以下の出発物質IIから調製することができる:
Figure 0006957501
(式中、R、R’、及びR”は上記のとおりである)
構造IIに含まれるこれらの化合物の例としては、以下のものが挙げられる:
Figure 0006957501
したがって、構造Iに含まれる化合物は、以下のような一般的な反応スキームによって調製することができる:
Figure 0006957501
(式中、A、R、R’、R”、及びEWGは、上記のとおりであり、そしてXは、脱離基、例えばハロゲン、望ましくは臭素、トシラート、又はメシラートである)
より具体的には、反応スキームは、以下のように表すことができる:
Figure 0006957501
(式中、上のスキームにおいてnは、1又は2であり、そしてXは、示されているような代表的な電子求引性基である)。このスキームでは、電子求引性基含有アルキル(メチルなど)又は臭化ベンジルが反応物質として示されているが、同様に他のハロゲン化物、又はトシラート若しくはメシラートなどの他の脱離基を使用してもよい。
構造Iの化合物の調製において、反応は溶媒の存在下で行うことができ、この場合、構造IIの化合物は、ハロゲン化アルキルとの反応前に溶媒に溶解しても、又はその逆であってもよい。
反応に用いられる温度もまた広範に変えることができる。成分が、およそ化学当量で、又は一方が他方よりも僅かに過剰に組み合わせられている場合、有用な温度は、室温以下、例えば10℃〜15℃から、最大100℃の温度(100℃を含む)まで変わり得る。
このように形成された化合物は、反応副生成物や反応物質に付随する不純物など、不純物を除去するために精製してもよい。化合物は、精製された反応生成物が本質的に不純物を含まないか、又は含まれる不純物が約1重量%未満となるように、例えば蒸留、ろ過、ストリッピング、クロマトグラフィー、又は再結晶によって精製することができる。
このような化合物を、特定の従来の硬化促進剤(トルイジン、DE−p−T、及びDM−o−Tなど)の一部又は全量に代えて、硬化促進剤として2パート硬化性組成物中に添加すると、驚くべきことに、従来の2パート硬化性組成物で認められるものに匹敵しながら、最大の接着特性が発現する。
ここで、構造Iに包含される本発明の促進剤を使用すれば、トルイジンを全く添加しないとは言わないまでも、少なくともトルイジンのレベルの低減(例えば従来の2パート硬化性組成物において使用される量の約50重量%以下、例えば約10重量パーセント未満、例えば約5重量パーセント未満、望ましくは約1重量パーセント未満)が達成され得る。
本発明において(メタ)アクリレート成分として使用するのに好適な(メタ)アクリレートモノマーは、HC=CGCO10(式中、Gは、水素、ハロゲン、又は1〜約4個の炭素原子を有するアルキル基であってよく、そしてR10は、1〜約16個の炭素原子を有する、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルカリール基、アルカリール基、又はアリール基から選択されてよく、それらのいずれも、任意選択で、場合によりシラン、ケイ素、酸素、ハロゲン、カルボニル、ヒドロキシル、エステル、カルボン酸、尿素、ウレタン、カーボネート、アミン、アミド、硫黄、スルホネート、スルホン等で置換又は中断されていてもよい)によって表されるものなど、幅広い物質から選択され得る。
本明細書における使用に好適な追加の(メタ)アクリレートモノマーとしては、多官能性(メタ)アクリレートモノマー、例えば、二官能性又は三官能性(メタ)アクリレート、例えばポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフラン(メタ)アクリレート及びジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート(「HPMA」)、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(「TMPTMA」)、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート(「TRIEGMA」)、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジ−(ペンタメチレングリコール)ジ(メタ)アクリレート、テトラエチレンジグリコールジ(メタ)アクリレート、ジグリセロールテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチレンジ(メタ)アクリレート、エチレンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、並びにビスフェノール−Aモノ及びジ(メタ)アクリレート、例えばエトキシル化ビスフェノール−A(メタ)アクリレート(「EBIPMA」)、並びにビスフェノール−Fモノ及びジ(メタ)アクリレート、例えばエトキシル化ビスフェノール−A(メタ)アクリレートが挙げられる。
本明細書において使用され得るさらに他の(メタ)アクリレートモノマーとしては、シリコーン(メタ)アクリレート部分構造(「SiMA」)、例えば、米国特許第5,605,999号(Chu)(参照によって本明細書に組み込まれる)によって教示及び特許請求されているものが挙げられる。
他の好適なモノマーとしては、以下の式によって表されるポリアクリレートエステルが挙げられる:
Figure 0006957501
(式中、Rは、水素、ハロゲン、又は1〜約4個の炭素原子のアルキルから選択される基であり;qは、少なくとも1に等しく、好ましくは1〜約4に等しい整数であり;そしてXは、少なくとも2個の炭素原子を含み、かつ総結合価(total bonding capacity)がq+1である、有機基である)。X中の炭素原子数の上限に関しては、本質的に任意の値で有効なモノマーが存在する。しかしながら、実際上、一般的な上限は、約50個の炭素原子、例えば望ましくは約30、望ましくは約20である。
例えば、Xは、以下の式の有機基であることができる:
Figure 0006957501
(式中、Y及びYの各々は、有機基、例えば、少なくとも2個の炭素原子、望ましくは2〜約10個の炭素原子を含有する炭化水素基であり、そしてZは、有機基、好ましくは、少なくとも1個の炭素原子、好ましくは2〜約10個の炭素原子を含有する炭化水素基である)
有用なモノマーの他の種類は、ジ−又はトリ−アルキロールアミン(例えば、エタノールアミン又はプロパノールアミン)とアクリル酸との反応生成物、例えば、仏国特許第1,581,361号に開示されているものである。
また、(メタ)アクリレート官能基を有するオリゴマーを使用してもよい。有用な(メタ)アクリレート官能化オリゴマーの例としては、以下の一般式を有するものが挙げられる:
Figure 0006957501
[式中、Rは、水素、1〜約4個の炭素原子の低級アルキル、1〜約4個の炭素原子のヒドロキシアルキル、又は
Figure 0006957501
(式中、Rは、水素、ハロゲン、又は1〜約4個の炭素原子の低級アルキルから選択される基である)であり;Rは、水素、ヒドロキシル、又は
Figure 0006957501
から選択される基であり、mは少なくとも1に等しい、例えば1〜約15又はそれ以上、望ましくは1〜約8の整数であり;nは少なくとも1に等しい、例えば1〜約40又はそれ以上、望ましくは約2〜約10の整数であり;そしてpは、0又は1である]
上記一般式に相当するアクリルエステルオリゴマーの典型的な例としては、ジ−、トリ−、及びテトラエチレングリコールジメタクリレート;ジ(ペンタメチレングリコール)ジメタクリレート;テトラエチレングリコールジアクリレート;テトラエチレングリコールジ(クロロアクリレート);ジグリセロールジアクリレート;ジグリセロールテトラメタクリレート;ブチレングリコールジメタクリレート;ネオペンチルグリコールジアクリレート;及びトリメチロールプロパントリアクリレートが挙げられる。
ジ−及び他のポリアクリレートエステル、特に前述の段落に記載のポリアクリレートエステルが望ましい場合があるが、単官能性アクリレートエステル(1個のアクリレート基を含有するエステル)もまた使用され得る。単官能性アクリレートエステルに関して、比較的極性の高いアルコール部分構造を有するエステルを使用することが非常に好ましい。このような物質は、低分子量アルキルエステルよりも揮発性が低く、より重要なことに、極性基は、硬化中及び硬化後に分子間引力をもたらし、それによって、より望ましい硬化特性、及びより耐久性をあるシーラント又は接着剤をもたらす。最も好ましくは、極性基は、活性水素(labile hydrogen)、複素環式環、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、及びハロ極性基から選択される。このカテゴリーに含まれる化合物の典型的な例は、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、シアノエチルアクリレート、及びクロロエチルメタクリレートである。
別の有用な種類の物質は、イソシアネート基の全てをウレタン基又はウレイド基にそれぞれ変換するために好適な比率の、(メタ)アクリレート官能化、ヒドロキシル又はアミノ含有物質とポリイソシアネートとの反応生成物である。このように形成された(メタ)アクリレートウレタン又は尿素エステルは、その非アクリレート部分にヒドロキシ又はアミノ官能基を含んでもよい。使用に好適な(メタ)アクリレートエステルは、以下の式を有する:
Figure 0006957501
[式中、Xは、−O−、及び
Figure 0006957501
(式中、Rは、水素又は1〜7個の炭素原子の低級アルキルから選択される)から選択され;Rは、水素、ハロゲン(塩素など)、又はアルキル(メチル基及びエチル基など)から選択され;そしてRは、1〜8個の炭素原子の低級アルキレン、フェニレン、及びナフチレンから選択される二価の有機基である]。これらの基は、ポリイソシアネートと適切に反応すると、以下の一般式のモノマーを生成する:
Figure 0006957501
(式中、nは、2〜約6の整数であり;Bは、置換及び非置換の両方の、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アルカリール基、アルカリール基、及び複素環基、並びにそれらの組み合わせから選択される多価有機基であり;そしてR、R、及びXは、上に示した意味を有する)
Bの性質に依存して、尿素又はウレタン結合を有するこれらの(メタ)アクリレートエステルは、オリゴマークラス(約1,000〜約5,000など)又はポリマークラス(約5,000超など)に分類される分子量を有し得る。
また当然ながら、これらの(メタ)アクリレートモノマーの組み合わせを使用してもよい。
(メタ)アクリレート成分は、組成物の約10〜約90重量%、例えば、組成物の総重量に基づいて約60〜約90重量%を構成し得る。
従来の硬化性組成物には、配合物あるいはその反応生成物の物性を変えるために、これまで追加成分が含まれていた。例えば、耐熱性付与共反応物(マレイミド成分など)、高温条件で反応性の希釈成分、モノ又はポリヒドロキシアルカン、ポリマー可塑剤、増粘剤、非反応性可塑剤、充填剤、強化剤(エラストマー及びゴムなど)、及びキレート剤(参照により本明細書に組み込まれる米国特許第6,391,993号を参照されたい)のうちの一又は複数を、配合物の物性及び/若しくは硬化プロファイル、並びに/又は硬化した接着剤の強度若しくは温度耐性を改変するために含めてもよい。
使用される場合、共反応物、反応性希釈剤、可塑剤、モノ若しくはポリヒドロキシアルカン、充填剤、及び/又は強化剤は、組成物の総重量に基づいて、約1重量%〜約30重量%の範囲内の量で存在し得る。
また本発明の組成物は、フリーラジカル開始剤、フリーラジカル共促進剤、及びフリーラジカル発生阻害剤、並びに金属触媒など、他の慣用成分を含んでもよい。
ヒドロペルオキシド、例えばクメンヒドロペルオキシド(「CHP」)、パラメンタンヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド(「TBH」)、及びt−ブチルペルベンゾエートを含めて、さまざまな酸化剤を2パート硬化性組成物に使用してもよい。他の過酸化物としては、ベンゾイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、1,3−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ジアセチルペルオキシド、ブチル4,4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレレート、p−クロロベンゾイルペルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、t−ブチルペルベンゾエート、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−t−ブチルペルオキシヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−t−ブチル−ペルオキシヘキサ−3−イン、4−メチル−2,2−ジ−t−ブチルペルオキシペンタン、t−アミルヒドロペルオキシド、1,2,3,4−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、及びそれらの組み合わせが挙げられる。
このような過酸化物は、典型的には、本発明において、組成物の総重量に基づいて約0.1〜約10重量%の範囲で用いられ、約1〜約5重量%が望ましい。
また、早過ぎる過酸化物の分解及び本発明の組成物の重合を制御及び防止するための安定剤及び阻害剤(ヒドロキノンを含めたフェノール類及びキノン類など)を用いてもよく、それら由来の微量の金属混入物を捕捉するためにキレート剤[例えば、エチレンジアミン四酢酸(「EDTA」)の四ナトリウム塩]を用いてもよい。使用される場合、キレート剤は、通常、組成物の総重量に基づいて約0.001重量%〜約0.1重量%の量で組成物中に存在し得る。
本発明の硬化促進剤は、組成物の総重量に基づいて、約0.1〜約5重量%、例えば約1〜約2重量%の量で使用され得る。従来の促進剤(かかる従来の促進剤よりも低いレベルではあるが)と組み合わせて使用する場合、本発明の促進剤は、組成物の総重量に基づいて、約0.01〜約5重量%、例えば約0.02〜約2重量%の量で使用されるべきである。
本発明はまた、本発明の硬化性組成物の調製方法及び使用方法、並びに該組成物の反応生成物も提供する。
本発明の組成物は、当業者によく知られている従来の方法を使用して調製することができる。例えば、本発明の2パート硬化性組成物の成分は、組成物中で該成分が果たそうとする役割及び機能にふさわしいそれぞれの分量で任意の好都合な順序で一緒に混合することができる。既知の装置を使用した従来の混合技術を用いてもよい。
本発明の組成物を、本明細書に記載の所望の利益及び利点を得て機能するように、様々な基材(substrate)に塗布してもよい。例えば、適切な基材は、スチール、黄銅、銅、アルミニウム、亜鉛、及び他の金属及び合金、セラミック、並びに熱硬化性樹脂から構成することができる。硬化性組成物のための適切なプライマーを選択した基材の表面に塗布して硬化速度を高めてもよい。あるいは、本発明の硬化促進剤を、基材の表面にプライマーとして塗布してもよい。
さらに、本発明は、2パート硬化性組成物を調製する方法を提供し、該方法の工程は、(メタ)アクリレート成分と、構造Iに示される硬化促進剤化合物とを一緒に混合する工程を含む。
本発明はまた、本発明の2パート硬化性組成物から反応生成物を調製するプロセスを提供し、該プロセスの工程は、組成物を少なくとも1つの所望の基材表面に塗布して、組成物を硬化させる工程を含む。ここで、1つの基材表面が提供される場合は、コーティングが形成され得;2つの基材表面が提供され、組成物がそれらの間に配置される場合は、接着接合が形成され得る。
本発明はまた、構造Iの化合物を、2パート硬化性組成物のための硬化促進剤として使用する方法を提供する。この方法は、2パート硬化性組成物の第1パート(first part)及び第2パート(second part)を提供する工程であって、該パートの少なくとも一方がアクリレート成分である、工程と;第1パート中に構造Iの硬化促進剤を提供する工程と;第1パートと第2パートとを混合し、硬化性組成物を、該組成物を硬化するのに好ましい条件に暴露する工程と、を含む。
また、本発明は、硬化促進剤化合物を使用する方法であって、(I)硬化促進剤化合物を、(a)硬化性組成物中、若しくは(b)2パート硬化性組成物の第1パート中に混合する工程か、又は(II)硬化促進剤化合物を基材の表面上に塗布し、その上に硬化性組成物を塗布する工程を含む、方法を提供する。当然ながら、本発明はまた、対合した基材の間に本発明の組成物を用いて形成された接合も提供する。
本発明の上記の説明を考慮すれば、広範な実施可能性がもたらされることは明らかである。以下の実施例は単に例示を目的とするものであり、本明細書の教示を何ら限定するものと解釈されるべきではない。
合成
N−酢酸エチルテトラヒドロキノリン
凝縮器、熱電対、撹拌子、磁気撹拌器、及び窒素入口を備えた1000mL4つ口丸底フラスコに、テトラヒドロキノリン(50g、0.38mol)、ブロモ酢酸エチル(75.2g、0.45mol)、ジイソプロピルエチルアミン(58.2g、0.45mol)、及びアセトニトリル(500mL)を撹拌しながら添加した。溶液を加熱して還流させた。反応物を還流下で4時間撹拌した。反応混合物を2000mL分液ロート中のHO及びi−PrO各500mLに添加した。水層を除去し、有機層をHO各500mLで3回洗浄した。有機層を分離し、乾燥し(MgSO)、ろ過した。溶媒を減圧下で除去した。残留物を減圧蒸留した。粗収率=77.5g(94%);B.P.(℃)=130〜133/2.0トール。5画分を回収し、画分2〜5を純粋な生成物として合わせた。蒸留収量=75.4g(92%);H NMR(CDCl) δδ6.95−7.05(m,2,Ar−H),6.6(t,1,Ar−H),6.4(d,1,Ar−H),4.2(q,2,O−CH),4.0(s,2,N−CH−COO),3.4(t,2,N−CH),2.8(t,2,Ar−CH),2.0(m,2,CH),1.3(t,3,CH);13C NMR(CDCl) 171,145,129,127,123,117,110,61,53,51,28,22,14;IR(neat) 2931,1745,1729,1601,1499,1329,1179,1022,971,742cm−1
N−アセトニトリルテトラヒドロキノリン
テトラヒドロキノリン(75g、0.44mol)、ブロモアセトニトリル(81.2g、0.68mol)、ジイソプロピルエチルアミン(87.3g、0.68mol)、及びアセトニトリル(500mL)を用いて上記と同じ手順を使用した。粗収率=100g;B.P.(℃)=134〜135/2.0トール。5画分を回収し、画分2〜5を純粋な生成物として合わせた。蒸留収量=81.2g(84%);H NMR(CDCl) δδ7.1(t,1,Ar−H),7.0(d,1,Ar−H),6.7(t,1,Ar−H),6.6(d,1,Ar−H),4.0(s,2,N−CH−CN),3.3(t,2,N−CH),2.8(t,2,Ar−CH),2.0(m,2,CH);13C NMR(CDCl) 143,129,127,125,119,116,112,50,40,27,22;IR(neat) 2932,2238(CN),1603,1496,1328,1240,1194,861,742,713cm−1。生成物は周囲温度で放置すると結晶化した。
N−酢酸エチルインドリン
インドリン(50g、0.42mol)、ブロモ酢酸エチル(83.5g、0.50mol)、ジイソプロピルエチルアミン(64.5g、0.50mol)、及びアセトニトリル(500mL)を用いて上記と同じ手順を使用した。粗収率=91.1g;B.P.(℃)=120〜123/2.0トール。5画分を回収し、画分2〜5を純粋な生成物として合わせた。蒸留収量=80.3g(93%);H NMR(CDCl) δδ7.0−7.1(m,2,Ar−H),6.7(t,1,Ar−H),6.4(d,1,Ar−H),4.2(q,2,O−CH),3.9(s,2,N−CH−COO),3.5(t,2,N−CH),3.0(t,2,Ar−CH),1.3(t,3,CH);13C NMR(CDCl) 170,151,129,127,124,118,107,61,54,50,28,14;IR(neat) 2980,1744,1731,1607,1489,1251,1180,1020,742,709cm−1
N−アセトニトリルインドリン
インドリン(50g、0.42mol)、ブロモアセトニトリル(60.0g、0.50mol)、ジイソプロピルエチルアミン(64.5g、0.50mol)、及びアセトニトリル(500mL)を用いて同じ手順を使用した。粗収率=69.9g;B.P.(℃)=125〜130/2.0トール。5画分を回収し、画分3〜5を純粋な生成物として合わせた。蒸留収量=55.5g(83%);H NMR(CDCl) δδ7.1(m,2,Ar−H),6.8(t,1,Ar−H),6.6(d,1,Ar−H),4.0(s,2,N−CH−CN),3.4(t,2,N−CH),2.8(t,2,Ar−CH);13C NMR(CDCl) 149,130,127,124,115,108,53,37,28;IR(neat) 2848,2238(CN),1607,1486,1309,1242,1149,870,750,719cm−1。生成物は周囲温度で放置すると結晶化した。
N−酢酸エチル−N−メチル−アニリン
N−メチルアニリン(53.5g、0.50mol)、ブロモ酢酸エチル(100.2g、0.60mol)、ジイソプロピルエチルアミン(77.4g、0.60mol)、及びアセトニトリル(500ml)を用いて上記と同じ手順を使用した。粗収率=102.7g;B.P.(℃)=99〜101/1.0トール。5画分を回収し、画分3〜5を純粋な生成物として合わせた。蒸留収量=76.9g(80%);H NMR(CDCl) δδ7.2(t,2,Ar−H),6.8(t,1,Ar−H),6.7(d,2,Ar−H),4.2(q,2,O−CH),4.0(s,2,N−CH−COO),3.0(s,3,N−CH),1.3(t,3,CH);13C NMR(CDCl) 170,149,129,112,107,61,54,39,14;IR(neat) 2981,1745,1729,1600,1505,1366,1184,1117,1027,945,747,689cm−1
N−アセトニトリル−N−メチル−アニリン
N−メチルアニリン(30.2g、0.28mol)、ブロモアセトニトリル(40.7g、0.34mol)、ジイソプロピルエチルアミン(43.7g、0.34mol)、及びアセトニトリル(500ml)を用いて上記と同じ手順を使用した。粗収率=58.1g;B.P.(℃)=98〜99/2.0トール。5画分を回収し、画分3〜5を純粋な生成物として合わせた。蒸留収量=28.8g(57%):H NMR(CDCl) δδ7.3(t,2,Ar−H),6.9(t,1,Ar−H),6.8(d,2,Ar−H),4.1(s,2,N−CH−COO),3.0(s,3,N−CH);13C NMR(CDCl) 147,129,120,115,114,41,39;IR(neat) 2819,2238(CN),1599,1500,1335,1245,1117,998,924,753,690cm−1
N−ニトロベンジルテトラヒドロキノリン
凝縮器、熱電対、撹拌子、磁気撹拌器、及び窒素入口を備えた1000mL四つ口丸底フラスコに、テトラヒドロキノリン(25g、0.19mol)、ニトロベンジルブロミド(40.6g、0.19mol)、ジイソプロピルエチルアミン(27.1g、0.21mol)、及びアセトニトリル(500mL)を撹拌しながら添加した。溶液を加熱して還流させた。反応物を還流下で4時間撹拌した。反応混合物を2000mL分液ロート中のHO及びEtOAc各500mLに添加した。水層を除去し、有機層をHO各500mLで3回洗浄した。有機層を分離し、乾燥し(MgSO)、ろ過した。溶媒を減圧下で除去した。生成物を結晶性の橙色固体として単離した。収量=77.5g(94%);M.P.=101℃:H NMR(CDCl) δ 8.2 (d,2,Ar−H),7.4(d,2,Ar−H),6.95−7.05(m,2,Ar−H),6.6(t,1,Ar−H),6.3(d,1,Ar−H),4.5(s,2,N−CH−Ar),3.4(t,2,N−CH),2.8(t,2,Ar−CH),2.0(m,2,CH):13C NMR(CDCl) 147.2,147.0,145,129,127,124,122,117,111,55,50,28,22;IR(neat) 2944,1597,1505,1339,1329,1107,950,857,732cm−1
N−シアノベンジルテトラヒドロキノリン
テトラヒドロキノリン(18.3g、137mmol)、4−シアノベンジルブロミド(25.0g、137mmol)、ジイソプロピル−エチルアミン(18.1g、140mmol)、及びアセトニトリル(500mL)を用いて上記と同じ手順を使用した。収量=32.4g(定量的);M.P.=約35℃:H NMR(CDCl) δ 7.6(Ar−H),7.4(d,2,Ar−H),7.0(m,2,Ar−H),6.6(t,1,Ar−H),6.3(d,1,Ar−H),4.5(s,2,N−CH−Ar),3.4(t,2,N−CH),2.8(t,2,Ar−CH),2.0(m,2,CH):13C NMR(CDCl) 145,132,129,127,122,125,119,117,116,114,111,110,55,50,27,22;IR(neat) 2838,2225,1601,1504,1438,1307,1155,973,811,743,711cm−1。生成物は周囲温度で放置すると結晶化した。
N−ニトロベンジルインドリン
インドリン(25.0g、210mmol)、ニトロベンジルブロミド(45.4g、210mmol)、ジイソプロピル−エチルアミン(29.7g、230mmol)、及びアセトニトリル(500mL)を用いて上記と同じ手順を使用した。収量=50.5g(95%);M.P.=99℃:H NMR(CDCl) δ 8.2(d,2,Ar−H),7.5(d,2,Ar−H),7.0−7.1(m,2,Ar−H),6.7(t,1,Ar−H),6.4(d,1,Ar−H),4.3(s,2,N−CH−Ar),3.4(t,2,N−CH),3.0(t,2,Ar−CH):13C NMR(CDCl) 151,147,146,130,128,127,124,123,118,107,54,53,28;IR(neat) 2836,1597,1509,1488,1339,1235,1105,1020,845,737,712cm−1
N−シアノベンジルインドリン
インドリン(16.3g、137mmol)、シアノベンジルブロミド(25.0g、137mmol)、ジイソプロピル−エチルアミン(18.1g、140mmol)、及びアセトニトリル(500mL)を用いて上記と同じ手順を使用した。収量=30.1g(定量的);M.P.=約35℃:H NMR(CDCl) δ7.6(d,2,Ar−H),7.4(d,2,Ar−H),7.0−7.1(m,2,Ar−H), 6.7(t,1,Ar−H),6.4(d,1,Ar−H),4.3(s,2,N−CH−Ar),3.3(t,2,N−CH),3.0(t,2,Ar−CH):13C NMR(CDCl) 152,144,132,130,128,127,124,119,118,111,107,54,53,29;IR(neat) 2835,2220,1604,1485,1377,1236,1146,1022,823,747,718cm−1
2パート硬化性組成物の調製
下記表に列挙した以下の成分を使用して、評価用の2パート硬化性組成物を製造した。パートA(Part A)は、パートB(Part B)に対して、10:1の体積比で使用した:
Figure 0006957501
Figure 0006957501
硬化促進剤の種類に基づいてパートAを変更した。各々を下記表に列挙する。
スチール及びステンレススチールから構成される重ねせん断試験片を使用して、対照用促進剤及び上に列挙した促進剤の各々を用いて製造した2パート硬化性組成物のせん断強度を評価した。評価のために、試験片上に2パート硬化性組成物を各々分注し、試験片を対合させてアセンブリを形成した。アセンブリの対合した試験片の間に配置された組成物を硬化させてアセンブリを形成した。ASTM D1002−05を使用してせん断強度評価を行った。結果を下記表1に示す:
Figure 0006957501
これらのサンプルについて、せん断強度に加えて剥離強度評価も行った。剥離強度は、2パート硬化性組成物をスチール基材上に分注し、その上に別のスチール基材を間隙を介して配置することによって測定した。2パート硬化性組成物をいったん分配したら、約80℃の温度で約20分間、続いて室温で24時間硬化させた。次に、対合したアセンブリを、基材のうちの一方を他方の基材から180°の方向に離して剥離し、2枚のスチール基材を分離するのに必要な力を測定することによって評価した。ASTM D1876を使用してせん断強度評価を行った。結果を下記表2に示す。
Figure 0006957501
これらのサンプルについて、くさび衝撃評価も行った。結果を下記表3に示す:
Figure 0006957501
このデータは、本発明による配合物が満足できる性能を示し、場合によっては従来の硬化促進剤より優れた性能を発揮したことを示す。

Claims (6)

  1. パートA:以下から選択される、1又は複数の化合物:
    Figure 0006957501
    及び
    パートB:酸化剤
    を含み、
    パートA又はパートBのうちの少なくとも一方は、(メタ)アクリレート成分を含む、2パート硬化性組成物。
  2. 2つの対合した基材の間に請求項1に記載の組成物を用いて形成された接合を含む物品
  3. (メタ)アクリレート成分が、一般構造HC=CGCO(式中、Gは、水素又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であってよく、Rは、1〜16個の炭素原子を有する、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルカリール基、アラルキル基、又はアリール基から選択されてよく、ここでそれらのいずれも、任意選択で、場合によりシラン、ケイ素、酸素、ハロゲン、カルボニル、ヒドロキシル、エステル、カルボン酸、尿素、ウレタン、カーボネート、アミン、アミド、硫黄、スルホネート、及びスルホンで置換又は中断されていてもよい)を有する、請求項1に記載の組成物。
  4. (メタ)アクリレート成分が、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフラン(メタ)アクリレート及びジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、ジ−(ペンタメチレングリコール)ジメタクリレート、テトラエチレンジグリコールジアクリレート、ジグリセロールテトラメタクリレート、テトラメチレンジメタクリレート、エチレンジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、並びにビスフェノール−Aモノ及びジ(メタ)アクリレート、並びにビスフェノール−Fモノ及びジ(メタ)アクリレートから選択される、請求項1に記載の組成物。
  5. 酸化剤が、クメンヒドロペルオキシド、パラメンタンヒドロペルオキシド、t−アミルヒドロペルオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、t−ブチルヒドロペルオキシド、t−ブチルペルベンゾエート、ベンゾイルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、1,3−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、ジアセチルペルオキシド、ブチル4,4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレレート、p−クロロベンゾイルペルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、t−ブチルペルベンゾエート、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−t−ブチルペルオキシヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−t−ブチルペルオキシヘキサ−3−イン、4−メチル−2,2−ジ−t−ブチルペルオキシペンタン、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項1、3及び4のいずれか1項に記載の組成物。
  6. 2パート硬化性組成物のための硬化促進剤として、
    Figure 0006957501
    から選択される、1又は複数の化合物を使用する方法であって、以下の工程:
    (a)第1パート中に前記1又は複数の化合物を提供する工程;
    (b)第2パート中に酸化剤を提供する工程;
    (c)少なくとも第1パート又は第2パート中に(メタ)アクリレート成分を提供する工程;及び、
    (d)組成物を硬化させるのに好ましい条件下で第1パートと第2パートとを混合する工程
    を含む、方法。
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