JP6954701B1 - Elastic wave device - Google Patents
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Abstract
【課題】より放熱性がよく、封止部と配線基板の密着性に優れ、かつ、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンとのカップリングが発生しにくい優れた特性の弾性波デバイスを提供する。【解決手段】配線基板と、前記配線基板上に実装されたデバイスチップと、前記配線基板上の外延部分に形成されたメタルパターンと、前記デバイスチップを機密封止する封止部とを有し、前記メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、前記封止部は、前記メタルパターンと前記配線基板の両方に接合している弾性波デバイス。【選択図】図2PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal pattern having better heat dissipation, excellent adhesion between a sealing portion and a wiring substrate, and a metal pattern through which an electric signal in a desired frequency band passes, and a metal pattern in which an electric signal in a desired frequency band does not pass. Provided is an elastic wave device having excellent characteristics in which coupling is unlikely to occur. A wiring board, a device chip mounted on the wiring board, a metal pattern formed on an extension portion on the wiring board, and a sealing portion for hermetically sealing the device chip are provided. , The metal pattern has an uneven shape portion or a jagged shape portion, and the sealing portion is an elastic wave device bonded to both the metal pattern and the wiring board. [Selection diagram] Fig. 2
Description
本発明は、弾性波デバイスに関連する。 The present invention relates to elastic wave devices.
移動体通信端末に代表されるスマートフォンなどでは、複数の高周波数帯における通信に対応することが要請される。このため、高周波の周波数帯域の通信を通過させる複数のバンドパスフィルタを搭載したフロントエンドモジュールが用いられている。 Smartphones and the like represented by mobile communication terminals are required to support communication in a plurality of high frequency bands. For this reason, a front-end module equipped with a plurality of bandpass filters that pass communication in a high frequency band is used.
また、フロントエンドモジュールでは、バンドパスフィルタやデュプレクサ、クワトロプレクサといった弾性波デバイスが用いられている。 In addition, elastic wave devices such as bandpass filters, duplexers, and quattroplexers are used in front-end modules.
特許文献1には、弾性波デバイスに関する技術の一例が開示されている。
本発明が解決しようとする主たる課題について説明する。 The main problem to be solved by the present invention will be described.
バンドパスフィルタやデュプレクサなどの弾性波デバイスにおいては、SAWフィルタなどのデバイスチップが、配線基板にフリップチップボンディングされている。 In elastic wave devices such as bandpass filters and duplexers, device chips such as SAW filters are flip-chip bonded to a wiring board.
SAWフィルタを構成する共振器が機械的振動をするための中空領域を形成して、合成樹脂や金属などにより封止する。 The resonator constituting the SAW filter forms a hollow region for mechanical vibration, and is sealed with a synthetic resin, metal, or the like.
弾性波デバイスの共振器は、機械的な振動等により発熱するため、放熱性のよいパッケージ構造が望まれる。 Since the resonator of an elastic wave device generates heat due to mechanical vibration or the like, a package structure having good heat dissipation is desired.
また、封止された中空領域への水分の浸入を抑制するため、封止部と配線基板の密着性が高いことが望まれる。 Further, in order to suppress the infiltration of water into the sealed hollow region, it is desired that the sealing portion and the wiring board have high adhesion.
また、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンは、カップリング現象等が生じないように配慮されることが望まれる。 Further, it is desired that the metal pattern through which the electric signal of the desired frequency band passes and the metal pattern through which the electric signal of the desired frequency band does not pass are considered so as not to cause a coupling phenomenon or the like.
放熱性が悪いと、特性の劣化や耐電力寿命の低下等が生じてしまう。また、封止部と配線基板の密着性が低いと、内部の金属に錆等が発生しやすくなり、特性の劣化や寿命の劣化等が生じてしまう。また、カップリング現象が生じると、特性が劣化してしまう。 If the heat dissipation is poor, the characteristics will be deteriorated and the withstand power life will be shortened. Further, if the adhesion between the sealing portion and the wiring board is low, rust or the like is likely to occur in the metal inside, resulting in deterioration of characteristics, deterioration of life, and the like. Moreover, when the coupling phenomenon occurs, the characteristics deteriorate.
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、より放熱性がよく、封止部と配線基板の密着性に優れ、かつ、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンとのカップリングが発生しにくい優れた特性の弾性波デバイスを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and has better heat dissipation, excellent adhesion between the sealing portion and the wiring substrate, a metal pattern through which an electric signal in a desired frequency band passes, and a desired metal pattern. It is an object of the present invention to provide an elastic wave device having excellent characteristics in which coupling with a metal pattern through which an electric signal in a frequency band does not pass is unlikely to occur.
前記課題を達成するために、本発明にあっては、
配線基板と、
前記配線基板上に実装されたデバイスチップと、
前記配線基板上の外延部分に形成されたメタルパターンと、
前記デバイスチップを機密封止する封止部と
を有し、
前記メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、前記封止部は、前記メタルパターンと前記配線基板の両方に接合している弾性波デバイスとした。
In order to achieve the above object, in the present invention,
Wiring board and
The device chip mounted on the wiring board and
The metal pattern formed on the extension portion on the wiring board and
It has a sealing portion for hermetically sealing the device chip, and has a sealing portion.
The metal pattern has an uneven shape portion or a jagged shape portion, and the sealing portion is an elastic wave device bonded to both the metal pattern and the wiring board.
前記配線基板上に形成され、前記デバイスチップと電気的に接続された電極パッドを有し、
前記電極パッドと隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域においては、前記封止部と前記配線基板が接合する面積が、前記封止部と前記メタルパターンが接合する面積よりも大きいことが、本発明の一形態とされる。
It has an electrode pad formed on the wiring board and electrically connected to the device chip.
In the region of the uneven shape portion or the jagged shape portion adjacent to the electrode pad, the area where the sealing portion and the wiring board are joined may be larger than the area where the sealing portion and the metal pattern are joined. , A form of the present invention.
前記配線基板上に形成され、前記デバイスチップと電気的に接続された電極パッドを有し、
前記電極パッドと隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域における前記封止部と前記配線基板が接合する面積は、前記電極パッドと隣接しない前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域における前記封止部と前記配線基板が接合する面積よりも小さいことが、本発明の一形態とされる。
It has an electrode pad formed on the wiring board and electrically connected to the device chip.
The area where the sealing portion and the wiring board are joined in the region of the concave-convex shape portion or the jagged shape portion adjacent to the electrode pad is the sealing in the region of the concave-convex shape portion or the jagged shape portion not adjacent to the electrode pad. It is one embodiment of the present invention that the area is smaller than the area where the stop portion and the wiring board are joined.
前記配線基板上に形成され、前記デバイスチップと電気的に接続された電極パッドを有し、
前記電極パッドは、複数形成されており、前記電極パッドの少なくとも一つは、グランド電位であり、グランド電位の前記電極パッドは、前記メタルパターンと電気的に接続されていることが、本発明の一形態とされる。
It has an electrode pad formed on the wiring board and electrically connected to the device chip.
It is the present invention that a plurality of the electrode pads are formed, at least one of the electrode pads has a ground potential, and the electrode pads having a ground potential are electrically connected to the metal pattern. It is considered as one form.
前記配線基板上に形成され、前記デバイスチップと電気的に接続された電極パッドを有し、
前記配線基板上に形成され、前記電極パッドと電気的に接続された素子パターンを有し、前記素子パターンと隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域における前記封止部と前記配線基板が接合する面積は、前記封止部と前記メタルパターンが接合する面積よりも大きいことが、本発明の一形態とされる。
It has an electrode pad formed on the wiring board and electrically connected to the device chip.
The sealing portion and the wiring board in the area of the uneven shape portion or the jagged shape portion formed on the wiring substrate and electrically connected to the electrode pad and adjacent to the element pattern It is one embodiment of the present invention that the area to be joined is larger than the area where the sealing portion and the metal pattern are joined.
前記配線基板上に形成され、前記デバイスチップと電気的に接続された電極パッドを有し、
前記配線基板上に形成され、前記電極パッドと電気的に接続された素子パターンを有し、前記素子パターンと隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域における前記封止部と前記配線基板が接合する面積は、前記素子パターンと隣接しない前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域における前記封止部と前記配線基板が接合する面積よりも小さいことが、本発明の一形態とされる。
It has an electrode pad formed on the wiring board and electrically connected to the device chip.
The sealing portion and the wiring board in the area of the uneven shape portion or the jagged shape portion formed on the wiring substrate and electrically connected to the electrode pad and adjacent to the element pattern One embodiment of the present invention is that the area to be joined is smaller than the area where the sealing portion and the wiring substrate are joined in the region of the uneven shape portion or the jagged shape portion which is not adjacent to the element pattern.
前記封止部は、合成樹脂からなることが、本発明の一形態とされる。 One form of the present invention is that the sealing portion is made of a synthetic resin.
前記デバイスチップは、SAWフィルタであることが、本発明の一形態とされる。 One form of the present invention is that the device chip is a SAW filter.
前記デバイスチップは、音響薄膜共振器を用いたフィルタであることが、本発明の一形態とされる。 One embodiment of the present invention is that the device chip is a filter using an acoustic thin film resonator.
前記配線基板上に2つのデバイスチップが実装されたデュプレクサであることが、本発明の一形態とされる。 One embodiment of the present invention is a duplexer in which two device chips are mounted on the wiring board.
前記配線基板の最外延部分は、前記メタルパターンが形成されていないことが、本発明の一形態とされる。 One embodiment of the present invention is that the metal pattern is not formed on the outermost extending portion of the wiring board.
前記弾性波デバイスを備えるモジュールが、本発明の一形態とされる。 A module including the elastic wave device is one form of the present invention.
本発明によれば、より放熱性がよく、封止部と配線基板の密着性に優れ、かつ、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンとのカップリングが発生しにくい優れた特性の弾性波デバイスを提供することができる。 According to the present invention, the heat dissipation is better, the adhesion between the sealing portion and the wiring board is excellent, and the metal pattern through which the electric signal in the desired frequency band passes and the electric signal in the desired frequency band do not pass. It is possible to provide an elastic wave device having excellent characteristics in which coupling with a metal pattern is unlikely to occur.
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施の形態を説明することにより、本発明を明らかにする。 Hereinafter, the present invention will be clarified by explaining specific embodiments of the present invention with reference to the drawings.
図1は、本実施例にかかる弾性波デバイス1の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of the
図1に示すように、本実施例にかかる弾性波デバイス1は、配線基板3と、配線基板3上に実装された、2つのデバイスチップ5を備える。
As shown in FIG. 1, the
本実施例では、デバイスチップ5が2つ実装された、デュプレクサである弾性波デバイスの例を示すが、当然のことながら、本発明の適用対象として、デバイスチップ5が一つであるバンドパスフィルタとしての弾性波デバイスでもよく、デバイスチップ5が4つ実装されたクワトロプレクサでもよい。また、一つのデバイスチップ上にデュプレクサを実現する機能素子を形成することもできる。
In this embodiment, an example of an elastic wave device which is a duplexer in which two
配線基板3は、例えば、樹脂からなる多層基板、または、複数の誘電体層からなる低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co−fired Ceramics:LTCC)多層基板等が用いられる。また、配線基板3は、複数の外部接続端子31を備える。
As the wiring board 3, for example, a multilayer substrate made of resin, a low temperature co-fired ceramics (LTCC) multilayer substrate made of a plurality of dielectric layers, or the like is used. Further, the wiring board 3 includes a plurality of
デバイスチップ5は、例えば、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムまたは水晶などの圧電単結晶、あるいは圧電セラミックスからなる基板を用いることができる。
As the
また、デバイスチップ5は、圧電基板と支持基板が接合された基板を用いてもよい。支持基板は、例えば、サファイア基板、アルミナ基板、スピネル基板またはシリコン基板を用いることができる。
Further, as the
配線基板3上に、メタルパターン7および複数の電極パッド9が形成されている。メタルパターン7は、配線基板3の外延部分に形成されている。また、電極パッド9は、メタルパターン7の内側に形成されている。メタルパターン7および電極パッド9は、例えば、銅または銅を含む合金を用いることができる。また、メタルパターン7および電極パッド9は、例えば、10μm〜20μmの厚みとすることができる。 A metal pattern 7 and a plurality of electrode pads 9 are formed on the wiring board 3. The metal pattern 7 is formed on the outer extension portion of the wiring board 3. Further, the electrode pad 9 is formed inside the metal pattern 7. For the metal pattern 7 and the electrode pad 9, for example, copper or an alloy containing copper can be used. Further, the metal pattern 7 and the electrode pad 9 can have a thickness of, for example, 10 μm to 20 μm.
デバイスチップ5を覆うように、封止部17が形成されている。封止部17は、例えば、合成樹脂等の絶縁体により形成してもよく、金属を用いてもよい。合成樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミドなどを用いることができるが、これらに限るものではない。好ましくは、エポキシ樹脂を用い、低温硬化プロセスを用いて封止部17を形成する。
A sealing
デバイスチップ5は、バンプ15を介して、配線基板3にフリップチップボンディングにより実装されている。
The
バンプ15は、例えば、金バンプを用いることができる。バンプ15の高さは、例えば、20μmから50μmである。
As the
電極パッド9は、バンプ15を介して、デバイスチップ5と電気的に接続されている。
The electrode pad 9 is electrically connected to the
図2は、配線基板3のデバイスチップ5が実装される主面の構成例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration example of a main surface on which the
図2に示すように、配線基板3の外延部分にメタルパターン7が形成されている。メタルパターン7は、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有している。また、メタルパターン7は、必ずしも一つながりの金属パターンである必要はなく、間欠部分が形成されていてもよい。 As shown in FIG. 2, a metal pattern 7 is formed on the outer extension portion of the wiring board 3. The metal pattern 7 has an uneven shape portion or a jagged shape portion. Further, the metal pattern 7 does not necessarily have to be a continuous metal pattern, and an intermittent portion may be formed.
配線基板3の外延を示す実線と、当該実線の内側に記載された破線で挟まれた領域AREA17は、封止部17が接合する領域を示す。封止部17が接合する領域AREA17は、配線基板3に接合する領域と、配線基板3上に形成されたメタルパターン7に接合する領域がある。すなわち、封止部17(図2には図示なし)は、配線基板3とメタルパターン7の両方に接合している。
The solid line indicating the extension of the wiring board 3 and the
メタルパターン7は、配線基板3と封止部17間の熱伝導性を高め、弾性波デバイスの放熱性をよくする。また、封止部17が配線基板3と接合する領域と、封止部17がメタルパターン7と接合する領域の境界が、凹凸形状またはギザギザ形状となっていることにより、境界線が長くなり、さらに、凹凸形状においてはメタルパターン7の凹部部分に、ギザギザ形状においては、メタルパターン7の谷部分に、封止部17が入り込む。これにより、アンカー効果が得られ、封止部17と配線基板3の密着性が高まる。
The metal pattern 7 enhances the thermal conductivity between the wiring board 3 and the sealing
また、図2に示すように、配線基板3上に、複数の電極パッド9が形成されている。一部の電極パッドは、メタルパターン7と電気的に接続されており、グランド電位である電極パッドGND9として形成されている。これにより、グランドを強化することができる。 Further, as shown in FIG. 2, a plurality of electrode pads 9 are formed on the wiring board 3. Some of the electrode pads are electrically connected to the metal pattern 7 and are formed as an electrode pad GND9 which is a ground potential. This makes it possible to strengthen the ground.
一部の電極パッドは、素子パターン91と電気的に接続されている。素子パターン91は、例えば、インダクタンス成分を付加するなどの目的で適宜形成することができる。
Some electrode pads are electrically connected to the
また、図2に示すように、電極パッド9に隣接する領域であって、メタルパターン7の凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域として、一点鎖線で示す領域ADJ9は、封止部17と配線基板3が接合する面積が、封止部17とメタルパターン7が接合する面積よりも大きい。
Further, as shown in FIG. 2, the area ADJ9 indicated by the alternate long and short dash line as the area adjacent to the electrode pad 9 and as the uneven shape portion or the jagged shape portion of the metal pattern 7 is the sealing
これにより、電極パッド9とメタルパターン7のカップリング現象の発生を十分に抑制するための距離を確保することができる。 As a result, it is possible to secure a distance for sufficiently suppressing the occurrence of the coupling phenomenon between the electrode pad 9 and the metal pattern 7.
また、図2に示すように、電極パッド9に隣接する領域であって、メタルパターン7の凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域として、一点鎖線で示す領域ADJ9の封止部17と配線基板3が接合する面積は、電極パッド9に隣接しない領域であって、メタルパターン7の凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域として、一点鎖線で示す領域NOTADJ9の封止部17と配線基板3が接合する面積よりも小さい。
Further, as shown in FIG. 2, the sealing
これにより、電極パッド9とメタルパターン7のカップリング現象の発生を十分に抑制するための距離を確保しつつ、配線基板3の放熱に十分なメタルパターン7の面積を確保しやすくすることができる。 As a result, it is possible to easily secure an area of the metal pattern 7 sufficient for heat dissipation of the wiring board 3 while securing a distance for sufficiently suppressing the occurrence of the coupling phenomenon between the electrode pad 9 and the metal pattern 7. ..
また、図2に示すように、素子パターン91に隣接する領域であって、メタルパターン7の凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域として、一点鎖線で示す領域ADJ91は、封止部17と配線基板3が接合する面積が、封止部17とメタルパターン7が接合する面積よりも大きい。
Further, as shown in FIG. 2, a region adjacent to the
これにより、素子パターン91とメタルパターン7のカップリング現象の発生を十分に抑制するための距離を確保することができる。
As a result, it is possible to secure a distance for sufficiently suppressing the occurrence of the coupling phenomenon between the
また、図2に示すように、素子パターン91に隣接する領域であって、メタルパターン7の凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域として、一点鎖線で示す領域ADJ91の封止部17と配線基板3が接合する面積は、素子パターン91に隣接しない領域であって、メタルパターン7の凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域として、一点鎖線で示す領域NOTADJ91の封止部17と配線基板3が接合する面積よりも小さい。
Further, as shown in FIG. 2, a region adjacent to the
これにより、素子パターン91とメタルパターン7のカップリング現象の発生を十分に抑制するための距離を確保しつつ、配線基板3の放熱に十分なメタルパターン7の面積を確保しやすくすることができる。
As a result, it is possible to easily secure an area of the metal pattern 7 sufficient for heat dissipation of the wiring board 3 while securing a distance for sufficiently suppressing the occurrence of the coupling phenomenon between the
図3は、配線基板3のデバイスチップ5が実装される主面の他の構成例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing another configuration example of the main surface on which the
図3に示すように、配線基板の最外延部分10には、メタルパターン7が形成されていない。このような構造とすることにより、封止部17と配線基板3の密着性は、さらに高まる。また、メタルパターン7は、必ずしも一つながりの金属パターンである必要はなく、間欠部分が形成されていてもよい。その他の構成は、図2で説明した内容と同様である。
As shown in FIG. 3, the metal pattern 7 is not formed on the outermost extending
図4は、デバイスチップ5の構成を説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining the configuration of the
図4に示すように、デバイスチップ5上に、弾性波素子52および配線パターン54が形成されている。
As shown in FIG. 4, an
配線パターン54上に、絶縁体56が形成されている。絶縁体56は、例えば、ポリイミドを用いることができる。絶縁体56は、例えば、1000nmの膜厚で形成する。
An
絶縁体56上にも配線パターン54が形成されており、絶縁体56を介して立体的に交差するように配線が形成されている。
A
弾性波素子52および配線パターン54は、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金からなる。また、これらの金属パターンは、複数の金属層を積層してなる積層金属膜により形成されてもよい。弾性波素子52および配線パターン54は、その厚みが、例えば、150nmから400nmとすることができる。
The
配線パターン54は、入力パッドIn、出力パッドOutおよびグランドパッドGNDを構成する配線を含んでいる。また、配線パターン54は、弾性波素子52と電気的に接続されている。
The
図4に示すように、弾性波素子52を複数形成することで、例えば、バンドパスフィルタを構成することができる。バンドパスフィルタは、入力パッドInから入力された電気信号のうち、所望の周波数帯域のみの電気信号を通過させるように設計されている。
As shown in FIG. 4, for example, a bandpass filter can be configured by forming a plurality of
入力パッドInから入力された電気信号は、バンドパスフィルタを通過し、所望の周波数帯域の電気信号が、出力パッドOutに出力される。 The electric signal input from the input pad In passes through the bandpass filter, and the electric signal in the desired frequency band is output to the output pad Out.
出力パッドOutに出力された電気信号は、バンプ15および電極パッド9を介して、配線基板3の外部接続端子31から出力される。
The electric signal output to the output pad Out is output from the
図5は、本実施例にかかる弾性波デバイス1と、比較例の特性を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the characteristics of the
比較例は、配線基板上に形成されたメタルパターンにおいて、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有していない点以外、本実施例にかかる弾性波デバイス1と同様の構成である。
The comparative example has the same configuration as the
本実施例にかかる弾性波デバイス1の特性を実線の波形で、比較例にかかる特性を点線で示している。
The characteristics of the
図5に示すように、本実施例にかかる弾性波デバイス1は、比較例に比べて、カップリング現象が低減され、アイソレーション特性が改善していることが明らかである。特に、1.9GHzから2.0GHzの帯域においては、顕著な特性改善がみられた。
As shown in FIG. 5, it is clear that the
図6は、弾性波素子52が弾性表面波共振器である例を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an example in which the surface
図6に示すように、デバイスチップ5上に、弾性表面波を励振するIDT(Interdigital Transducer)52aと反射器52bが形成されている。IDT52aは、互いに対向する一対の櫛形電極52cを有する。
As shown in FIG. 6, an IDT (Interdigital Transducer) 52a and a
櫛形電極52cは、複数の電極指52dと複数の電極指52dを接続するバスバー52eを有する。反射器52bは、IDT52aの両側に設けられている。
The comb-shaped
IDT52aおよび反射器52bは、例えば、アルミニウムと銅の合金からなる。IDT52aおよび反射器52bは、その厚みが、例えば、150nmから400nmの薄膜である。
The
IDT52aおよび反射器52bは、他の金属、例えば、チタン、パラジウム、銀などの適宜の金属もしくはこれらの合金を含んでもよく、これらの合金により形成されてもよい。また、IDT52aおよび反射器52bは、複数の金属層を積層してなる積層金属膜により形成されてもよい。
The
図7は、弾性波素子52が圧電薄膜共振器である例を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example in which the
図7に示すように、チップ基板60上に圧電膜62が設けられている。圧電膜62を挟むように下部電極64および上部電極66が設けられている。下部電極64とチップ基板60との間に空隙68が形成されている。下部電極64および上部電極66は、圧電膜62内に、厚み縦振動モードの弾性波を励振する。
As shown in FIG. 7, the
チップ基板60は、例えば、シリコン等の半導体基板、または、サファイア、アルミナ、スピネルもしくはガラス等の絶縁基板を用いることができる。圧電膜62は、例えば、窒化アルミニウムを用いることができる。
As the
下部電極64および上部電極66は、例えば、ルテニウム等の金属を用いることができる。
For the
弾性波素子52は、所望のバンドパスフィルタとしての特性が得られるよう、適宜、多重モード型フィルタやラダー型フィルタに採用されることができる。
The
以上説明した本発明の一実施形態によれば、より放熱性がよく、封止部と配線基板の密着性に優れ、かつ、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンとのカップリングが発生しにくい優れた特性の弾性波デバイスを提供することができる。 According to one embodiment of the present invention described above, heat dissipation is better, adhesion between the sealing portion and the wiring substrate is excellent, a metal pattern through which an electric signal in a desired frequency band passes, and a desired frequency. It is possible to provide an elastic wave device having excellent characteristics in which coupling with a metal pattern through which an electric signal of a band does not pass is unlikely to occur.
(実施例2)
次に、本発明の別の実施形態である実施例2について説明する。
(Example 2)
Next, Example 2 which is another embodiment of the present invention will be described.
図8は、本発明の実施例2にかかるモジュール100の断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of the
図8に示すように、配線基板130の主面上に、弾性波デバイス1が実装されている。弾性波デバイス1は、例えば、図示はしないが、第1のバンドパスフィルタBPF1と、第2のバンドパスフィルタBPF2からなるデュアルフィルタであるとすることができる。
As shown in FIG. 8, the
配線基板130は、複数の外部接続端子131を有している。複数の外部接続端子131は、所定の移動通信端末のマザーボードに実装される構成となっている。
The
配線基板130の主面上に、インピーダンスマッチングのため、第1のインダクタンス111および第2のインダクタ112が実装されている。モジュール100は、弾性波デバイス1を含む複数の電子部品を封止するための封止部117により、封止されている。
A
配線基板130の内部に、集積回路部品ICが実装されている。集積回路部品ICは、図示はしないが、スイッチング回路SW、第1のローノイズアンプLNA1および第2のローノイズアンプLNA2を含む。
An integrated circuit component IC is mounted inside the
図9は、モジュール100の回路構成の概略を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an outline of the circuit configuration of the
図9に示すように、モジュール100の共通入力端子101(外部接続端子131)は、アンテナ端子ANTに接続されている。第1出力端子103および第2出力端子105(外部接続端子131)は、図示はしないが、信号処理回路に接続されている。
As shown in FIG. 9, the common input terminal 101 (external connection terminal 131) of the
共通入力端子101から、スイッチング回路SWによって、第1のバンドパスフィルタBPF1を通過する信号と、第2のバンドパスフィルタBPF2を通過する信号が切り分けられる。 From the common input terminal 101, the signal passing through the first bandpass filter BPF1 and the signal passing through the second bandpass filter BPF2 are separated by the switching circuit SW.
第1のバンドパスフィルタBPF1を通過した信号は、第1のインダクタ111によってインピーダンスマッチングがされ、第1のローノイズアンプLNA1により増幅され、第1出力端子103から出力される。或いは、第1のバンドパスフィルタBPF1が送信用フィルタである場合には、第1出力端子103は入力端子として機能し、第1のローノイズアンプLNA1により増幅され、かつ、第1のインダクタ111によってインピーダンスマッチングがされた信号が、第1のバンドパスフィルタBPF1を通過し、アンテナ端子から発信される。
The signal that has passed through the first bandpass filter BPF1 is impedance-matched by the
第2のバンドパスフィルタBPF2を通過した信号は、第2のインダクタ112によってインピーダンスマッチングがされ、第2のローノイズアンプLNA2により増幅され、第2出力端子105から出力される。或いは、第2のバンドパスフィルタBPF2が送信用フィルタである場合には、第2出力端子105は入力端子として機能し、第2のローノイズアンプLNA2により増幅され、かつ、第2のインダクタ112によってインピーダンスマッチングがされた信号が、第2のバンドパスフィルタBPF2を通過し、アンテナ端子から発信される。
The signal that has passed through the second bandpass filter BPF2 is impedance-matched by the
その他の構成は、実施例1で説明した内容と重複するため、省略する。 Other configurations are omitted because they overlap with the contents described in the first embodiment.
以上説明した本発明の実施形態によれば、より放熱性がよく、封止部と配線基板の密着性に優れ、かつ、所望の周波数帯の電気信号が通過するメタルパターンと、所望の周波数帯の電気信号が通過しないメタルパターンとのカップリングが発生しにくい優れた特性の弾性波デバイスを有するモジュールを提供することができる。 According to the embodiment of the present invention described above, the metal pattern has better heat dissipation, the sealing portion and the wiring substrate have excellent adhesion, and the electric signal of the desired frequency band passes through, and the desired frequency band. It is possible to provide a module having an elastic wave device having excellent characteristics in which coupling with a metal pattern through which an electric signal does not pass is unlikely to occur.
なお、当然のことながら、本発明は以上に説明した実施態様に限定されるものではなく、本発明の目的を達成し得るすべての実施態様を含むものである。 As a matter of course, the present invention is not limited to the embodiments described above, but includes all embodiments that can achieve the object of the present invention.
また、少なくとも一つの実施形態のいくつかの側面を上述したが、様々な改変、修正および改善が当業者にとって容易に想起されることを理解されたい。 Also, although some aspects of at least one embodiment have been described above, it should be appreciated that various modifications, modifications and improvements are readily recalled to those skilled in the art.
かかる改変、修正および改善は、本開示の一部となることが意図され、かつ、本発明の範囲内にあることが意図される。理解するべきことだが、ここで述べられた方法および装置の実施形態は、上記説明に記載され又は添付図面に例示された構成要素の構造および配列の詳細への適用に限られない。方法および装置は、他の実施形態で実装し、様々な態様で実施又は実行することができる。特定の実装例は、例示のみを目的としてここに与えられ、限定されることを意図しない。 Such modifications, modifications and improvements are intended to be part of this disclosure and are intended to be within the scope of the present invention. It should be understood that the methods and device embodiments described herein are not limited to application to the details of the structure and arrangement of components described above or illustrated in the accompanying drawings. The methods and devices can be implemented in other embodiments and implemented or implemented in various embodiments. Specific implementation examples are given herein for illustrative purposes only and are not intended to be limited.
また、ここで使用される表現および用語は、説明目的であって、限定としてみなすべきではない。ここでの「含む」、「備える」、「有する」、「包含する」およびこれらの変形の使用は、以降に列挙される項目およびその均等物並びに付加項目の包括を意味する。「又は(若しくは)」の言及は、「又は(若しくは)」を使用して記載される任意の用語が、当該記載の用語の一つの、一つを超える、およびすべてのものを示すように解釈され得る。前後左右、頂底上下、および横縦への言及はいずれも、記載の便宜を意図しており、本発明の構成要素がいずれか一つの位置的又は空間的配向に限られるものではない。したがって、上記説明および図面は例示にすぎない。 Also, the expressions and terms used herein are for explanatory purposes only and should not be considered limiting. The use of "include", "provide", "have", "include" and these variants herein means inclusion of the items listed below and their equivalents and additional items. References to "or (or)" are interpreted so that any term described using "or (or)" refers to one, more than, and all of the terms in the description. Can be done. References to front-back, left-right, top-bottom top-bottom, and horizontal-vertical are all intended for convenience of description, and the components of the present invention are not limited to any one of the positional or spatial orientations. Therefore, the above description and drawings are merely examples.
1 弾性波デバイス
3 130 配線基板
5 デバイスチップ
7 メタルパターン
9 GND9 電極パッド
10 最外延部分
15 バンプ
17 117封止部
31 131 外部接続端子
52 弾性波素子
54 配線パターン
56 絶縁体
60 チップ基板
62 圧電膜
64 下部電極
66 上部電極
68 空隙
100 モジュール
101 共通入力端子
103 第1出力端子
105 第2出力端子
111 第1のインダクタ
112 第2のインダクタ
ANT アンテナ端子
SW スイッチング回路
BPF1 第1のバンドパスフィルタ
BPF2 第2のバンドパスフィルタ
LNA1 第1のローノイズアンプ
LNA2 第2のローノイズアンプ
IC 集積回路部品
1 Elastic wave device 3 130
Claims (12)
前記配線基板上に実装されたデバイスチップと、
前記配線基板上の外延部分に形成されたメタルパターンと、
前記デバイスチップを機密封止する封止部と
を有し、
前記メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、前記封止部は、前記メタルパターンと前記配線基板の両方に接合している弾性波デバイス。 Wiring board and
The device chip mounted on the wiring board and
The metal pattern formed on the extension portion on the wiring board and
It has a sealing portion for hermetically sealing the device chip, and has a sealing portion.
The metal pattern has an uneven shape portion or a jagged shape portion, and the sealing portion is an elastic wave device bonded to both the metal pattern and the wiring board.
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1065480A (en) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Piezoelectric vibrator component |
JP2014082609A (en) * | 2012-10-16 | 2014-05-08 | Taiyo Yuden Co Ltd | Elastic wave device and design method for the same |
JP2015130331A (en) * | 2013-12-04 | 2015-07-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | secondary battery |
CN104932154A (en) * | 2015-07-08 | 2015-09-23 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | Display substrate, display panel and display device |
JP2016145374A (en) * | 2015-02-06 | 2016-08-12 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Film deposition method, display device, and production method of display device |
JP2019054354A (en) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | 太陽誘電株式会社 | Multiplexer |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1065480A (en) * | 1996-08-21 | 1998-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Piezoelectric vibrator component |
JP2014082609A (en) * | 2012-10-16 | 2014-05-08 | Taiyo Yuden Co Ltd | Elastic wave device and design method for the same |
JP2015130331A (en) * | 2013-12-04 | 2015-07-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | secondary battery |
JP2016145374A (en) * | 2015-02-06 | 2016-08-12 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Film deposition method, display device, and production method of display device |
CN104932154A (en) * | 2015-07-08 | 2015-09-23 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | Display substrate, display panel and display device |
JP2019054354A (en) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | 太陽誘電株式会社 | Multiplexer |
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