JP2022169399A - Acoustic wave device, module provided with acoustic wave device, and method for manufacturing acoustic wave device - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、弾性波デバイス、その弾性波デバイスを備えるモジュール、およびその弾性波デバイスの製造方法に関連する。 The present disclosure relates to an acoustic wave device, a module including the acoustic wave device, and a method of manufacturing the acoustic wave device.
特許文献1は、弾性波デバイスを開示する。当該弾性波デバイスは、配線間隔を狭くすることで実装面積が小さくなり得る。
しかしながら、特許文献1に記載の弾性波デバイスにおいて、配線間隔を限界まで狭めても、ある程度の実装面積が必要となる。このため、弾性波デバイスを小型にすることができない。
However, in the acoustic wave device described in
本開示は、上述の課題を解決するためになされた。本開示の目的は、実装面積を小さくすることができる弾性波デバイス、その弾性波デバイスを備えるモジュール、およびその弾性波デバイスの製造方法を提供することである。 The present disclosure has been made to solve the above problems. An object of the present disclosure is to provide an acoustic wave device capable of reducing the mounting area, a module including the acoustic wave device, and a method of manufacturing the acoustic wave device.
本開示にかかる弾性波デバイスは、
配線基板と、
前記配線基板上に実装された第1デバイスチップと、
前記第1デバイスチップ上に実装された第2デバイスチップと、
を備える弾性波デバイスであって、
前記第2デバイスチップは、前記第1デバイスチップを貫通する導電性部材を介して配線基板と電気的に接続されている弾性波デバイスとした。
The acoustic wave device according to the present disclosure is
a wiring board;
a first device chip mounted on the wiring substrate;
a second device chip mounted on the first device chip;
An acoustic wave device comprising:
The second device chip is an acoustic wave device electrically connected to the wiring board via a conductive member penetrating the first device chip.
前記第2デバイスチップは、前記配線基板と前記第1デバイスチップとの間のバンプを介して配線基板と電気的に接続されていることが、本開示の一形態とされる。 An aspect of the present disclosure is that the second device chip is electrically connected to the wiring substrate via bumps between the wiring substrate and the first device chip.
前記第1デバイスチップは受信フィルタであり、前記第2デバイスチップは送信フィルタであることが、本開示の一形態とされる。 An aspect of the present disclosure is that the first device chip is a reception filter and the second device chip is a transmission filter.
前記第1デバイスチップは、前記第2デバイスチップよりも薄く形成されていることが、本開示の一形態とされる。 An aspect of the present disclosure is that the first device chip is formed thinner than the second device chip.
前記第1デバイスチップのバンプは4つであり、前記第2デバイスチップのバンプは4つであることが、本発明の一形態とされる。 It is an aspect of the present invention that the first device chip has four bumps and the second device chip has four bumps.
前記第1デバイスチップのバンプは5つであり、前記第1デバイスチップの最も中央に近い位置に形成されたバンプは、前記導電性部材と接合されていることが、本発明の一形態とされる。 It is an aspect of the present invention that the first device chip has five bumps, and the bump formed closest to the center of the first device chip is joined to the conductive member. be.
前記第1デバイスチップの前記配線基板と対向する主面上には、弾性波機能素子が形成されており、前記第1デバイスチップの他の主面上には、前記導電性部材と電気的に接続された金属層が形成されていることが、本開示の一形態とされる。 An acoustic wave functional element is formed on the main surface of the first device chip facing the wiring board, and the other main surface of the first device chip is electrically connected to the conductive member. It is an aspect of this disclosure that a connected metal layer is formed.
前記第2デバイスチップの前記第1デバイスチップと対向する主面上には、弾性波機能素子が形成されており、前記第2デバイスチップの他の主面上には、前記第2デバイスチップを貫通する導電性部材と電気的に接続された金属層が形成されていることが、本開示の一形態とされる。 An elastic wave functional element is formed on the main surface of the second device chip facing the first device chip, and the second device chip is formed on the other main surface of the second device chip. It is an aspect of the present disclosure that a metal layer is formed that is electrically connected to the penetrating conductive member.
前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップの少なくとも一つは、弾性表面波フィルタが形成されていることが、本開示の一形態とされる。 An aspect of the present disclosure is that at least one of the first device chip and the second device chip is formed with a surface acoustic wave filter.
前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップの少なくとも一つは、音響薄膜共振器からなるバンドパスフィルタが形成されていることが、本開示のいち形態とされる。 An aspect of the present disclosure is that at least one of the first device chip and the second device chip is formed with a bandpass filter including an acoustic thin film resonator.
前記弾性波デバイスを備えるモジュールが、本開示の一形態とされる。 A module including the acoustic wave device is one aspect of the present disclosure.
本開示にかかる弾性波デバイスの製造方法は、
配線基板上において前記配線基板と電気的に接続するように第1デバイスチップを実装する第1実装工程と、
前記第1実装工程の後、導電性部材が前記配線基板と電気的に接続するように前記第1デバイスチップに前記導電性部材を貫通させる貫通工程と、
前記貫通工程の後、前記第1デバイスチップ上において前記導電性部材と電気的に接続するように第2デバイスチップを実装する第2実装工程と、
前記第2実装工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとが積層された複数の積層体を封止部によりまとめて封止することで集合体を形成する集合体形成工程と、
前記集合体形成工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとがまとめて切り出されるように前記集合体を切断することで複数の弾性波デバイスを形成するデバイス形成工程と、
を含む弾性波デバイスの製造方法とした。
A method for manufacturing an acoustic wave device according to the present disclosure includes:
a first mounting step of mounting a first device chip on a wiring board so as to be electrically connected to the wiring board;
After the first mounting step, a penetrating step of penetrating the conductive member through the first device chip so that the conductive member is electrically connected to the wiring substrate;
After the through step, a second mounting step of mounting a second device chip on the first device chip so as to be electrically connected to the conductive member;
After the second mounting step, a plurality of laminated bodies in which the wiring board, the first device chip, and the second device chip are laminated are collectively sealed by a sealing portion to form an assembly. a body formation process;
After the assembly forming step, a device forming step of forming a plurality of acoustic wave devices by cutting the assembly so that the wiring substrate, the first device chip, and the second device chip are cut out together. When,
A method for manufacturing an acoustic wave device including
本開示にかかる弾性波デバイスの製造方法は、
第1ウェハ上に第1デバイスチップを作成する第1作成工程と、
第2ウェハ上に第2デバイスチップを作成する第2作成工程と、
前記第1作成工程と前記第2作成工程の後、前記第1ウェハと前記第2ウェハとを接合する接合工程と、
前記接合工程の後、前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとが前記第1ウェハと前記第2ウェハとからそれぞれ切り出されるように、前記第1ウェハと前記第2ウェハとが積層された積層体をまとめて切断する第1切断工程と、
前記第1切断工程の後、配線基板上において前記第1デバイスチップが前記配線基板と電気的に接続するように前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとを実装する実装工程と、
前記実装工程の後、導電性部材が前記配線基板と電気的に接続するように前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとに導電性部材を貫通させる貫通工程と、
前記貫通工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとが積層された複数の積層体を封止部によりまとめて封止することで集合体を形成する集合体形成工程と、
前記集合体形成工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとがまとめて切り出されるように前記集合体を切断することで複数の弾性波デバイスを形成するデバイス形成工程と、
を含む弾性波デバイスの製造方法とした。
A method for manufacturing an acoustic wave device according to the present disclosure includes:
a first fabrication step of fabricating first device chips on a first wafer;
a second fabrication step of fabricating second device chips on a second wafer;
a bonding step of bonding the first wafer and the second wafer after the first creating step and the second creating step;
After the bonding step, the first wafer and the second wafer are stacked such that the first device chip and the second device chip are cut out from the first wafer and the second wafer, respectively. A first cutting step of cutting the laminate together;
After the first cutting step, a mounting step of mounting the first device chip and the second device chip on a wiring substrate such that the first device chip is electrically connected to the wiring substrate;
After the mounting step, a penetrating step of penetrating a conductive member through the first device chip and the second device chip so that the conductive member is electrically connected to the wiring board;
After the piercing step, a plurality of laminates in which the wiring board, the first device chip, and the second device chip are laminated are collectively sealed by a sealing portion to form an assembly. process and
After the assembly forming step, a device forming step of forming a plurality of acoustic wave devices by cutting the assembly so that the wiring substrate, the first device chip, and the second device chip are cut out together. When,
A method for manufacturing an acoustic wave device including
本開示によれば、実装面積を小さくすることができる弾性波デバイス、その弾性波デバイスを備えるモジュール、およびその弾性波デバイスの製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this indication, the acoustic wave device which can make a mounting area small, the module provided with the acoustic wave device, and the manufacturing method of the acoustic wave device can be provided.
実施の形態について添付の図面に従って説明する。なお、各図中、同一または相当する部分には同一の符号が付される。当該部分の重複説明は適宜に簡略化ないし省略される。 Embodiments will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, the same code|symbol is attached|subjected to the part which is the same or corresponds in each figure. Redundant description of the relevant part will be simplified or omitted as appropriate.
実施の形態1.
図1は実施の形態1における弾性波デバイスの縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an acoustic wave device according to
図1は、弾性波デバイス1として、デュプレクサである弾性波デバイスの例を示す。
FIG. 1 shows an example of an acoustic wave device that is a duplexer as an
図1に示されるように、弾性波デバイス1は、配線基板3と複数の第1バンプ15aと第1デバイスチップ5aと複数の導電性部材16と複数の第2バンプ15bと第2デバイスチップ5bと封止部17とを備える。
As shown in FIG. 1, the
例えば、配線基板3は、樹脂からなる多層基板である。例えば、配線基板3は、複数の誘電体層からなる低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramics:LTCC)多層基板である。
For example, the
複数の第1バンプ15aは、配線基板3の上面に形成される。例えば、第1バンプ15aは、金バンプである。例えば、第1バンプ15aの高さは、20μmから50μmである。
A plurality of
例えば、第1デバイスチップ5aは、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムまたは水晶などの圧電単結晶で形成された基板である。例えば、第1デバイスチップ5aは、圧電セラミックスで形成された基板である。例えば、第1デバイスチップ5aは、圧電基板と支持基板とが接合された基板である。例えば、支持基板は、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、水晶またはガラスで形成された基板である。
For example, the
第1デバイスチップ5aは、複数の第1バンプ15aを介して、配線基板3にフリップチップボンディングにより実装される。第1デバイスチップ5aは、複数の第1バンプ15aを介して配線基板3と電気的に接続される。
The
第1デバイスチップ5aは、機能素子が形成される基板である。例えば、第1デバイスチップ5aの主面(図1の下面)において、受信フィルタが形成される。
The
受信フィルタは、所望の周波数帯域の電気信号が通過し得るように形成される。例えば、受信フィルタは、複数の直列共振器と複数の並列共振器からなるラダー型フィルタである。 The receive filter is formed so that an electrical signal in a desired frequency band can pass. For example, the receive filter is a ladder-type filter consisting of a plurality of series resonators and a plurality of parallel resonators.
複数の導電性部材16は、第1デバイスチップ5aを貫通する。例えば、複数の導電性部材16は、第1デバイスチップ5aにおいてレーザにより開けられた複数の穴にそれぞれ充填される。複数の導電性部材16は、複数の第1バンプ15aと電気的にそれぞれ接続される。
A plurality of
複数の第2バンプ15bは、第1デバイスチップ5aの上面に形成される。例えば、第2バンプ15bは、金バンプである。例えば、第2バンプ15bの高さは、20μmから50μmである。複数の第2バンプ15bは、複数の導電性部材16と電気的にそれぞれ接続される。
A plurality of
例えば、第2デバイスチップ5bは、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウムまたは水晶などの圧電単結晶で形成された基板である。例えば、第2デバイスチップ5bは、圧電セラミックスで形成された基板である。例えば、第2デバイスチップ5bは、圧電基板と支持基板とが接合された基板である。例えば、支持基板は、サファイア、シリコン、アルミナ、スピネル、水晶またはガラスで形成された基板である。
For example, the
第2デバイスチップ5bは、複数の第2バンプ15bを介して、第1デバイスチップ5aにフリップチップボンディングにより実装される。第2デバイスチップ5bは、複数の第2バンプ15bと複数の導電性部材16と複数の第1バンプ15aとを介して配線基板3と電気的に接続される。
The
第2デバイスチップ5bは、機能素子が形成される基板である。例えば、第2デバイスチップ5bの主面(図1の下面)において、送信フィルタが形成される。
The
送信フィルタは、所望の周波数帯域の電気信号が通過し得るように形成される。例えば、送信フィルタは、複数の直列共振器と複数の並列共振器からなるラダー型フィルタである。 The transmission filter is formed so that an electrical signal in a desired frequency band can pass. For example, the transmission filter is a ladder-type filter consisting of multiple series resonators and multiple parallel resonators.
封止部17は、第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとを覆うように形成される。例えば、封止部17は、合成樹脂等の絶縁体により形成される。例えば、封止部17は、金属で形成される。例えば、封止部17は、樹脂層と金属層とで形成される。
The sealing
封止部17が合成樹脂で形成される場合、当該合成樹脂は、エポキシ樹脂、ポリイミドなどである。好ましくは、封止部17は、エポキシ樹脂を用い、低温硬化プロセスを用いてエポキシ樹脂で形成される。
When the sealing
次に、図2と図3とを用いて、第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとの例を説明する。
図2は実施の形態1における弾性波デバイスの第1デバイスチップの平面図である。図3は実施の形態1における弾性波デバイスの第2デバイスチップの平面図である。
Next, an example of the
2 is a plan view of the first device chip of the acoustic wave device according to
図2の右側は、第1デバイスチップ5aの配線基板3と対向する主面を示す。図2の左側は、第1デバイスチップ5aの他の主面を示す。図3の右側は、第2デバイスチップ5bの第1デバイスチップ5aと対向する主面を示す。図3の左側は、第2デバイスチップ5bの他の主面を示す。
The right side of FIG. 2 shows the main surface of the
図2の右側に示されるように、複数の第1弾性波素子52と第1配線パターン54とは、第1デバイスチップ5aの配線基板3と対向する主面に形成される。
As shown on the right side of FIG. 2, the plurality of first
図2の右側において、複数の第1弾性波素子52は、共振器「21」、「22」、「24」、2つの「25」、「26」、「28」、2つの「29」を含む。複数の第1弾性波素子52は、受信フィルタとして機能し得るように設けられる。
On the right side of FIG. 2, the plurality of first
例えば、第1配線パターン54は、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金により形成される。例えば、第1配線パターン54は、複数の金属層を積層してなる積層金属膜により形成される。例えば、第1配線パターン54の厚みは、1500nmから4500nmである。
For example, the
第1配線パターン54は、2つのアンテナ用バンプパッドANTと送信用バンプパッドTxと受信用バンプパッドRxと2つのグランドバンプパッドGNDとを含む。2つのグランドバンプパッドGNDは、受信用グランドバンプパッドである。第1配線パターン54は、第1弾性波素子52と電気的に接続される。他の2つのグランドバンプパッドGNDは、第1配線パターン54と電気的に接続されない。これらのグランドバンプパッドGNDは、送信用グランドバンプパッドである。
The
これらのバンプパッドは、複数の第1バンプ15aのそれぞれの位置に対応して設けられる。図示されないが、複数の導電性部材16は、複数の第1バンプ15aの一部のそれぞれの位置に対応して設けられる。
These bump pads are provided corresponding to respective positions of the plurality of
図2の左側において、2つのアンテナ用バンプパッドANTと送信用バンプパッドTxと受信用バンプパッドRxと2つのグランドバンプパッドGNDが設けられる。2つのグランドバンプパッドGNDは、送信用グランドバンプパッドである。 On the left side of FIG. 2, two antenna bump pads ANT, a transmission bump pad Tx, a reception bump pad Rx and two ground bump pads GND are provided. The two ground bump pads GND are transmission ground bump pads.
図示されないが、これらのバンプパッドは、複数の導電性部材16のそれぞれの位置に対応して設けられる。
Although not shown, these bump pads are provided corresponding to respective positions of the plurality of
図3の右側に示されるように、複数の第2弾性波素子55と第2配線パターン57とは、第2デバイスチップ5bの第1デバイスチップ5aと対向する主面に形成される。
As shown on the right side of FIG. 3, the plurality of second
図3の右側において、複数の第2弾性波素子55は、共振器「1」から「20」を含む。複数の第2弾性波素子55は、送信フィルタとして機能し得るように設けられる。
On the right side of FIG. 3, the plurality of second
例えば、第2配線パターン57は、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金により形成される。例えば、第2配線パターン57は、複数の金属層を積層してなる積層金属膜により形成される。例えば、第2配線パターン57の厚みは、1500nmから4500nmである。
For example, the
第2配線パターン57は、2つのアンテナ用バンプパッドANTと送信用バンプパッドTxと受信用バンプパッドRxと2つのグランドバンプパッドGNDとを含む。2つのグランドバンプパッドGNDは、送信用グランドバンプパッドである。第2配線パターン57は、第2弾性波素子55と電気的に接続される。
The
図示されないが、これらのバンプパッドは、複数の導電性部材16のそれぞれの位置に対応して設けられる。これらのバンプパッドは、複数の第2バンプ15bのそれぞれの位置に対応して設けられる。
Although not shown, these bump pads are provided corresponding to respective positions of the plurality of
図3の左側に示されるように、第2デバイスチップ5bの他の主面には、何も形成されない。
As shown on the left side of FIG. 3, nothing is formed on the other main surface of the
次に、図4を用いて、第1弾性波素子52の例を説明する。
図4は実施の形態1における弾性波デバイスの第1弾性波素子の例を示す図である。
Next, an example of the first
FIG. 4 is a diagram showing an example of the first acoustic wave element of the acoustic wave device according to
図4に示されるように、IDT(Interdigital Transducer)52aと一対の反射器52bとは、第1デバイスチップ5aの主面に形成される。IDT52aと一対の反射器52bとは、弾性表面波を励振し得るように設けられる。
As shown in FIG. 4, an IDT (Interdigital Transducer) 52a and a pair of
例えば、IDT52aと一対の反射器52bとは、アルミニウムと銅の合金で形成される。例えば、IDT52aと一対の反射器52bとは、チタン、パラジウム、銀などの適宜の金属もしくはこれらの合金で形成される。例えば、IDT52aと一対の反射器52bとは、複数の金属層が積層した積層金属膜により形成される。例えば、IDT52aと一対の反射器52bとの厚みは、150nmから400nmである。
For example, the
IDT52aは、一対の櫛形電極52cを備える。一対の櫛形電極52cは、互いに対向する。櫛形電極52cは、複数の電極指52dとバスバー52eとを備える。複数の電極指52dは、長手方向を合わせて配置される。バスバー52eは、複数の電極指52dを接続する。
The
一対の反射器52bの一方は、IDT52aの一側に隣接する。一対の反射器52bの他方は、IDT52aの他側に隣接する。
One of the pair of
図示されないが、第2弾性波素子55も、第1弾性波素子52と同様に構成される。
Although not shown, the second
次に、図5を用いて、第1弾性波素子52が音響薄膜共振器である例を説明する。
図5は実施の形態1における弾性波デバイスの第1弾性波素子が音響薄膜共振器である例を示す図である。
Next, an example in which the first
FIG. 5 is a diagram showing an example in which the first acoustic wave element of the acoustic wave device according to
図5において、チップ基板60は、第1デバイスチップ5aとして機能する。例えば、例えば、チップ基板60は、シリコン等の半導体基板、または、サファイア、アルミナ、スピネルもしくはガラス等の絶縁基板である。
In FIG. 5, the
圧電膜62は、チップ基板60上に設けられる。例えば、圧電膜62は、例えば、窒化アルミニウムで形成される。
A
下部電極64と上部電極66とは、圧電膜62を挟むように設けられる。例えば、下部電極64と上部電極66とは、ルテニウム等の金属で形成される。
The
空隙68は、下部電極64とチップ基板60との間に形成される。
A
音響薄膜共振器において、下部電極64と上部電極66とは、圧電膜62の内部に厚み縦振動モードの弾性波を励振する。
In the acoustic thin film resonator, the
図示されないが、第2弾性波素子55も、第1弾性波素子52と同様に構成される。
Although not shown, the second
次に、図6を用いて、弾性波デバイス1の製造方法を説明する。
図6は実施の形態1における弾性波デバイスの製造方法を説明するための縦断面図である。
Next, a method for manufacturing the
FIG. 6 is a longitudinal sectional view for explaining the method of manufacturing the acoustic wave device according to the first embodiment.
まず、第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとが作成される。その後、第1実装工程が行われる。第1実装工程においては、配線基板3上において配線基板3と電気的に接続するように第1デバイスチップ5aが実装される。その後、貫通工程が行われる。貫通工程においては、導電性部材16が配線基板3と電気的に接続するように第1デバイスチップ5aに導電性部材16を貫通させる。
First, a
その後、第2実装工程が行われる。第2実装工程においては、第1デバイスチップ5a上において導電性部材16と電気的に接続するように第2デバイスチップ5bを実装する。その後、集合体形成工程が行われる。集合体形成工程においては、配線基板3と第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとが積層された複数の積層体を封止部17によりまとめて封止することで集合体が形成される。その後、デバイス形成工程が行われる。デバイス形成工程においては、配線基板3と第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとがまとめて切り出されるように集合体を切断することで複数の弾性波デバイス1が形成される。
After that, a second mounting process is performed. In the second mounting step, the
以上で説明された実施の形態1によれば、第2デバイスチップ5bは、第1デバイスチップ5aを貫通する導電性部材16を介して配線基板3と電気的に接続されている。このため、弾性波デバイス1の実装面積を小さくすることができる。
According to the first embodiment described above, the
また、第2デバイスチップ5bは、配線基板3と第1デバイスチップ5aとの間の第1バンプ15aを介して配線基板3と電気的に接続されている。このため、弾性波デバイス1の実装面積をより確実に小さくすることができる。
Also, the
また、第1デバイスチップ5aは受信フィルタであり、第2デバイスチップ5bは送信フィルタである。このため、送信フィルタからの熱を封止部17を介して放散させることができる。
The
なお、第1デバイスチップ5aは、第2デバイスチップ5bよりも薄く形成されてもよい。この場合、弾性波デバイス1の高さを低くすることができる。
Note that the
また、第1バンプ15aは4つであり、第2バンプ15bは4つでもよい。この場合、簡単な構成で弾性波デバイス1の実装面積を小さくすることができる。
Also, the number of the
また、第1バンプ15aは5つであり、第1デバイスチップ5aの最も中央に近い位置に形成された第1バンプ15aは、導電性部材16と接合されていてもよい。この場合、第1デバイスチップ5aからの熱をより確実に放散させることができる。
Moreover, the number of the
また、第1デバイスチップ5aの配線基板3と対向する主面上には、弾性波機能素子が形成されており、第1デバイスチップ5aの他の主面上には、導電性部材16と電気的に接続された金属層が形成されてもよい。この場合、弾性波デバイス1の大型化を伴うことなく、容量素子、インダクタンス素子を形成することができる。
An elastic wave functional element is formed on the main surface of the
また、第2デバイスチップ5bの第1デバイスチップ5aと対向する主面上には、弾性波機能素子が形成されており、第2デバイスチップ5bの他の主面上には、第2デバイスチップ5bを貫通する導電性部材と電気的に接続された金属層が形成されてもよい。この場合、弾性波デバイス1の大型化を伴うことなく、容量素子、インダクタンス素子を形成することができる。
An elastic wave functional element is formed on the main surface of the
また、送信用グランドバンプパッドドと受信用グランドバンプパッドとは、電気的に接続されていない。このため、弾性波デバイス1のアイソレーション特性を向上することができる。
Also, the transmission ground bump pads and the reception ground bump pads are not electrically connected. Therefore, the isolation characteristics of the
また、第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bの少なくとも一つは、弾性表面波フィルタが形成されている。このため、簡単な構成で弾性波デバイス1の実装面積を小さくすることができる。
At least one of the
また、第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bの少なくとも一つは、音響薄膜共振器からなるバンドパスフィルタが形成される。このため、簡単な構成で弾性波デバイス1の実装面積を小さくすることができる。
At least one of the
実施の形態2.
図7は実施の形態2における弾性波デバイスが適用されるモジュールの縦断面図である。なお、実施の形態1の部分と同一又は相当部分には同一符号が付される。当該部分の説明は省略される。
Embodiment 2.
FIG. 7 is a longitudinal sectional view of a module to which the acoustic wave device according to Embodiment 2 is applied. The same reference numerals are given to the same or corresponding parts as those of the first embodiment. Description of this part is omitted.
図7において、モジュール100は、配線基板130と集積回路部品ICと弾性波デバイス1とインダクタ11と封止部117とを備える。
In FIG. 7 ,
配線基板130は、実施の形態1の配線基板3と同等である。
The
図示されないが、集積回路部品ICは、配線基板130の内部に実装される。集積回路部品ICは、スイッチング回路とローノイズアンプとを含む。
Although not shown, the integrated circuit component IC is mounted inside the
弾性波デバイス1は、配線基板130の主面に実装される。
インダクタ11は、配線基板130の主面に実装される。インダクタ11は、インピーダンスマッチングのために実装される。例えば、インダクタ111は、Integrated Passive Device(IPD)である。
Inductor 11 is mounted on the main surface of
封止部117は、弾性波デバイス1を含む複数の電子部品を封止する。
The sealing
以上で説明された実施の形態2によれば、モジュール100は、弾性波デバイス1を備える。このため、実装面積の小さいモジュール100を提供することができる。
According to the second embodiment described above,
実施の形態3.
図8と図9とは実施の形態3における弾性波デバイスの製造方法を説明するための縦断面図である。なお、実施の形態1の部分と同一又は相当部分には同一符号が付される。当該部分の説明は省略される。
8 and 9 are longitudinal sectional views for explaining the method of manufacturing the acoustic wave device according to the third embodiment. The same reference numerals are given to the same or corresponding parts as those of the first embodiment. Description of this part is omitted.
まず、第1作成工程と第2作成工程とが行われる。第1ウェハ作成工程においては、第1作成工程においては、第1ウェハ70上に複数の第1デバイスチップ5aが作成される。第2作成工程においては、第2ウェハ74上に第2デバイスチップ5bが作成される。
First, a first creation process and a second creation process are performed. In the first wafer forming process, a plurality of
接合工程が行われる。接合工程においては、第1ウェハ70と第2ウェハ74とが複数の金属体76を介して接合される。その後、第1ウェハ70上において第1デバイス5aに複数の第1バンプ15aが形成される。その後、第1切断工程が行われる。第1切断工程においては、第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとが第1ウェハ70と第2ウェハ74とからそれぞれ切り出されるように、第1ウェハ70と第2ウェハ74とが積層された積層体がまとめて切断される。
A bonding process is performed. In the bonding step, the
その後、実装工程が行われる。実装工程においては、配線基板3上において第1デバイスチップ5aが配線基板3と電気的に接続するように第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとが実装される。その後、貫通工程が行われる。貫通工程においては、導電性部材16が配線基板3と電気的に接続するように第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとに導電性部材を貫通させる。
After that, a mounting process is performed. In the mounting process, the
その後、集合体形成工程が行われる。集合体形成工程においては、配線基板3と第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとが積層された複数の積層体を封止部17によりまとめて封止することで集合体が形成される。その後、デバイス形成工程が行われる。デバイス形成工程においては、配線基板3と第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとがまとめて切り出されるように集合体を切断することで複数の弾性波デバイス1が形成される。
After that, an aggregate forming step is performed. In the assembly forming process, the assembly is formed by collectively sealing a plurality of laminates in which the
当該製造方法においては、複数の第2バンプ15bのかわりに、複数の金属体76が用いられる。第1デバイスチップ5aと第2デバイスチップ5bとは、金属体76と共晶接続される。
In this manufacturing method, a plurality of
以上で説明された実施の形態3によれば、実施の形態1と同様に、弾性波デバイス1の実装面積を小さくすることができる。
According to the third embodiment described above, as in the first embodiment, the mounting area of the
少なくとも一つの実施形態のいくつかの側面が説明されたが、様々な改変、修正および改善が当業者にとって容易に想起されることを理解されたい。かかる改変、修正および改善は、本開示の一部となることが意図され、かつ、本開示の範囲内にあることが意図される。 Having described several aspects of at least one embodiment, it is to be appreciated various alterations, modifications, and improvements will readily occur to those skilled in the art. Such alterations, modifications, and improvements are intended to be part of this disclosure, and are intended to be within the scope of this disclosure.
理解するべきことだが、ここで述べられた方法および装置の実施形態は、上記説明に記載され又は添付図面に例示された構成要素の構造および配列の詳細への適用に限られない。方法および装置は、他の実施形態で実装し、様々な態様で実施又は実行することができる。 It is to be understood that the method and apparatus embodiments described herein are not limited in application to the details of construction and arrangement of components set forth in the foregoing description or illustrated in the accompanying drawings. The methods and apparatus can be implemented in other embodiments and practiced or carried out in various ways.
特定の実装例は、例示のみを目的としてここに与えられ、限定されることを意図しない。 Specific implementations are provided here for illustrative purposes only and are not intended to be limiting.
本開示で使用される表現および用語は、説明目的であって、限定としてみなすべきではない。ここでの「含む」、「備える」、「有する」、「包含する」およびこれらの変形の使用は、以降に列挙される項目およびその均等物並びに付加項目の包括を意味する。 The phraseology and terminology used in this disclosure is for the purpose of description and should not be regarded as limiting. The use of "including", "comprising", "having", "including" and variations thereof herein is intended to be inclusive of the items listed below and equivalents thereof as well as additional items.
「又は(若しくは)」の言及は、「又は(若しくは)」を使用して記載される任意の用語が、当該記載の用語の一つの、一つを超える、およびすべてのものを示すように解釈され得る。 References to “or (or)” shall be construed such that any term stated using “or (or)” refers to one, more than one, and all of the terms of the statement. can be
前後左右、頂底上下、横縦、表裏への言及は、いずれも、記載の便宜を意図する。当該言及は、本開示の構成要素がいずれか一つの位置的又は空間的配向に限られるものではない。したがって、上記説明および図面は、例示にすぎない。 All references to front, rear, left, right, top, bottom, top, bottom, width, length, and front and back are intended for convenience of description. Such references are not limited to any one positional or spatial orientation of the components of this disclosure. Accordingly, the above description and drawings are exemplary only.
1 弾性波デバイス、 3 配線基板、 5a 第1デバイスチップ、 5b 第2デバイスチップ、 15a 第1バンプ、 15b 第2バンプ、 16 導電性部材、 17 封止部、 52 第1弾性波素子、 52a IDT、 52b 反射器、 52c 櫛形電極、 52d 電極指、 54 第1配線パターン、 55 第2弾性波素子、 57 第2配線パターン、 60 チップ基板、 62 圧電膜、 64 下部電極、 66 上部電極、 68 空隙、 70 第1ウェハ、 74 第2ウェハ、 76 金属体、 100 モジュール、 105 デバイスチップ、 111 インダクタ、 117 封止部、 130 配線基板
Claims (13)
前記配線基板上に実装された第1デバイスチップと、
前記第1デバイスチップ上に実装された第2デバイスチップと、
を備える弾性波デバイスであって、
前記第2デバイスチップは、前記第1デバイスチップを貫通する導電性部材を介して配線基板と電気的に接続されている弾性波デバイス。 a wiring board;
a first device chip mounted on the wiring substrate;
a second device chip mounted on the first device chip;
An acoustic wave device comprising:
The acoustic wave device, wherein the second device chip is electrically connected to a wiring board via a conductive member penetrating the first device chip.
前記第1実装工程の後、導電性部材が前記配線基板と電気的に接続するように前記第1デバイスチップに前記導電性部材を貫通させる貫通工程と、
前記貫通工程の後、前記第1デバイスチップ上において前記導電性部材と電気的に接続するように第2デバイスチップを実装する第2実装工程と、
前記第2実装工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとが積層された複数の積層体を封止部によりまとめて封止することで集合体を形成する集合体形成工程と、
前記集合体形成工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとがまとめて切り出されるように前記集合体を切断することで複数の弾性波デバイスを形成するデバイス形成工程と、
を含む弾性波デバイスの製造方法。 a first mounting step of mounting a first device chip on a wiring board so as to be electrically connected to the wiring board;
After the first mounting step, a penetrating step of penetrating the conductive member through the first device chip so that the conductive member is electrically connected to the wiring substrate;
After the through step, a second mounting step of mounting a second device chip on the first device chip so as to be electrically connected to the conductive member;
After the second mounting step, a plurality of laminated bodies in which the wiring board, the first device chip, and the second device chip are laminated are collectively sealed by a sealing portion to form an assembly. a body formation process;
After the assembly forming step, a device forming step of forming a plurality of acoustic wave devices by cutting the assembly so that the wiring substrate, the first device chip, and the second device chip are cut out together. When,
A method of manufacturing an acoustic wave device comprising:
第2ウェハ上に第2デバイスチップを作成する第2作成工程と、
前記第1作成工程と前記第2作成工程の後、前記第1ウェハと前記第2ウェハとを接合する接合工程と、
前記接合工程の後、前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとが前記第1ウェハと前記第2ウェハとからそれぞれ切り出されるように、前記第1ウェハと前記第2ウェハとが積層された積層体をまとめて切断する第1切断工程と、
前記第1切断工程の後、配線基板上において前記第1デバイスチップが前記配線基板と電気的に接続するように前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとを実装する実装工程と、
前記実装工程の後、導電性部材が前記配線基板と電気的に接続するように前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとに導電性部材を貫通させる貫通工程と、
前記貫通工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとが積層された複数の積層体を封止部によりまとめて封止することで集合体を形成する集合体形成工程と、
前記集合体形成工程の後、前記配線基板と前記第1デバイスチップと前記第2デバイスチップとがまとめて切り出されるように前記集合体を切断することで複数の弾性波デバイスを形成するデバイス形成工程と、
を含む弾性波デバイスの製造方法。
a first fabrication step of fabricating first device chips on a first wafer;
a second fabrication step of fabricating second device chips on a second wafer;
a bonding step of bonding the first wafer and the second wafer after the first creating step and the second creating step;
After the bonding step, the first wafer and the second wafer are stacked such that the first device chip and the second device chip are cut out from the first wafer and the second wafer, respectively. A first cutting step of cutting the laminate together;
After the first cutting step, a mounting step of mounting the first device chip and the second device chip on a wiring substrate such that the first device chip is electrically connected to the wiring substrate;
After the mounting step, a penetrating step of penetrating a conductive member through the first device chip and the second device chip so that the conductive member is electrically connected to the wiring board;
After the piercing step, a plurality of laminates in which the wiring board, the first device chip, and the second device chip are laminated are collectively sealed by a sealing portion to form an assembly. process and
After the assembly forming step, a device forming step of forming a plurality of acoustic wave devices by cutting the assembly so that the wiring substrate, the first device chip, and the second device chip are cut out together. When,
A method of manufacturing an acoustic wave device comprising:
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