JP7361343B2 - module - Google Patents

module Download PDF

Info

Publication number
JP7361343B2
JP7361343B2 JP2021159868A JP2021159868A JP7361343B2 JP 7361343 B2 JP7361343 B2 JP 7361343B2 JP 2021159868 A JP2021159868 A JP 2021159868A JP 2021159868 A JP2021159868 A JP 2021159868A JP 7361343 B2 JP7361343 B2 JP 7361343B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
metal pattern
acoustic wave
wiring
wave device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021159868A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023049867A (en
Inventor
兼央 金原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SANAN JAPAN TECHNOLOGY
Original Assignee
SANAN JAPAN TECHNOLOGY
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SANAN JAPAN TECHNOLOGY filed Critical SANAN JAPAN TECHNOLOGY
Priority to JP2021159868A priority Critical patent/JP7361343B2/en
Priority to CN202211155167.6A priority patent/CN115882810A/en
Publication of JP2023049867A publication Critical patent/JP2023049867A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7361343B2 publication Critical patent/JP7361343B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

本開示は、モジュールに関連する。 This disclosure relates to modules.

特許文献1は、弾性波デバイスに関する技術の一例を開示する。 Patent Document 1 discloses an example of a technology related to an elastic wave device.

特開2019-54354号公報JP 2019-54354 Publication

弾性波デバイスは、他の電子デバイスとともにモジュールの配線基板に実装される。弾性波デバイスは、他の電子デバイスとともに封止部に封止される。この際、封止部と配線基板との密着性の向上が望まれる。 The acoustic wave device is mounted on the wiring board of the module along with other electronic devices. The acoustic wave device is sealed in the sealing part along with other electronic devices. At this time, it is desired to improve the adhesion between the sealing part and the wiring board.

本開示は、上述の課題を解決するためになされた。本開示の目的は、封止部と配線基板の密着性に優れたモジュールを提供することである。 The present disclosure has been made to solve the above problems. An object of the present disclosure is to provide a module with excellent adhesion between a sealing part and a wiring board.

本開示に係るモジュールは、
配線基板と、
前記配線基板上に実装された弾性波デバイスと、
前記配線基板上の外縁部分に形成された第1メタルパターンと、
前記弾性波デバイスを機密封止する封止部と、
を備え、
前記第1メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、
前記封止部は、前記第1メタルパターンと前記配線基板の露出部との両方に接合したモジュールとした。
The module according to the present disclosure is
a wiring board;
an acoustic wave device mounted on the wiring board;
a first metal pattern formed on an outer edge portion of the wiring board;
a sealing part that hermetically seals the acoustic wave device;
Equipped with
The first metal pattern has an uneven portion or a jagged portion,
The sealing portion was a module bonded to both the first metal pattern and the exposed portion of the wiring board.

前記配線基板上に実装され、前記弾性波デバイスとは異なる第1電子デバイスと、
前記第1電子デバイスよりも前記配線基板の縁部から離れた位置で前記配線基板上に実装された第2電子デバイスと、
を備え、
前記第1電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも大きく、
前記第2電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも小さいことが、本開示の一形態とされる。
a first electronic device mounted on the wiring board and different from the acoustic wave device;
a second electronic device mounted on the wiring board at a position farther from an edge of the wiring board than the first electronic device;
Equipped with
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the first electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion. larger than the area where the first metal pattern and the first metal pattern are bonded;
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the second electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion In one embodiment of the present disclosure, the first metal pattern is smaller than the area where the first metal pattern is bonded to the first metal pattern.

前記弾性波デバイスと電気的に接続された複数の電極パッド、
を備え、
前記複数の電極パッドの少なくとも一つは、グランド電位であり、グランド電位の前記電極パッドは、前記第1メタルパターンと電気的に接続されたことが、本開示の一形態とされる。
a plurality of electrode pads electrically connected to the acoustic wave device;
Equipped with
In one aspect of the present disclosure, at least one of the plurality of electrode pads is at a ground potential, and the electrode pad at the ground potential is electrically connected to the first metal pattern.

前記第1メタルパターンよりも前記配線基板の中央の側において前記第1メタルパターンに隣接して前記配線基板上に形成され、信号が流れる配線パターンと、
前記配線パターンよりも前記配線基板の中央の側において前記配線パターンに隣接して前記配線基板上に形成され、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、グランド電位である第2メタルパターンと、
を備えたことが、本開示の一形態とされる。
a wiring pattern formed on the wiring board adjacent to the first metal pattern on a side closer to the center of the wiring board than the first metal pattern, and through which a signal flows;
a second metal pattern formed on the wiring board adjacent to the wiring pattern on the side closer to the center of the wiring board than the wiring pattern, having an uneven portion or a jagged portion, and having a ground potential;
An embodiment of the present disclosure includes the following.

前記封止部は、合成樹脂で形成されたことが、本発明の一形態とされる。 In one form of the present invention, the sealing portion is formed of synthetic resin.

前記弾性波デバイスは、弾性表面波共振器を用いたフィルタであることが、本発明の一形態とされる。 In one form of the present invention, the acoustic wave device is a filter using a surface acoustic wave resonator.

前記弾性波デバイスは、音響薄膜共振器を用いたフィルタであることが、本開示の一形態とされる。 In one form of the present disclosure, the elastic wave device is a filter using an acoustic thin film resonator.

前記配線基板上に実装されたスイッチと、
前記配線基板上に実装されたパワーアンプと、
を備え、
前記弾性波デバイスは、TDDフィルタであり、前記スイッチにより送信信号と受信信号とが切り替えられ、前記パワーアンプにより増幅された信号を送信することが、本開示の一形態とされる。
a switch mounted on the wiring board;
a power amplifier mounted on the wiring board;
Equipped with
According to one embodiment of the present disclosure, the elastic wave device is a TDD filter, the switch switches between a transmission signal and a reception signal, and the power amplifier transmits the amplified signal.

本開示によれば、封止部と配線基板の密着性に優れたモジュールを提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a module with excellent adhesion between the sealing part and the wiring board.

実施の形態1におけるモジュールの縦断面図である。FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of the module in Embodiment 1. 実施の形態1におけるモジュールの等価回路図である。3 is an equivalent circuit diagram of a module in Embodiment 1. FIG. 実施の形態1におけるモジュールの要部の平面図である。FIG. 3 is a plan view of main parts of the module in Embodiment 1. FIG. 実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第1層の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the first layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. 実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第2層の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the second layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. 実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第3層の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the third layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. 実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第4層の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the fourth layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. 実施の形態1におけるモジュールに実装された弾性波デバイスの弾性波素子の第1例を示す図である。1 is a diagram showing a first example of an acoustic wave element of an acoustic wave device mounted in a module in Embodiment 1. FIG. 実施の形態1におけるモジュールに実装された弾性波デバイスの弾性波素子の第2例を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a second example of an acoustic wave element of an acoustic wave device mounted in a module in Embodiment 1.

実施の形態について添付の図面に従って説明する。なお、各図中、同一または相当する部分には同一の符号が付される。当該部分の重複説明は適宜に簡略化ないし省略される。 Embodiments will be described according to the attached drawings. In each figure, the same or corresponding parts are given the same reference numerals. Duplicate explanations of the relevant parts will be simplified or omitted as appropriate.

実施の形態1.
図1は実施の形態1におけるモジュールの縦断面図である。
Embodiment 1.
FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view of a module in the first embodiment.

図1に示されるように、モジュール1は、配線基板11と第1メタルパターン12と第2メタルパターン13と複数の電極パッド14と複数の配線パターン15と複数のバンプ16と弾性波デバイス17とスイッチ18とパワーアンプ19と複数の電子デバイス20と封止部21とを備える。 As shown in FIG. 1, the module 1 includes a wiring board 11, a first metal pattern 12, a second metal pattern 13, a plurality of electrode pads 14, a plurality of wiring patterns 15, a plurality of bumps 16, and an acoustic wave device 17. It includes a switch 18, a power amplifier 19, a plurality of electronic devices 20, and a sealing section 21.

例えば、配線基板11は、多層の樹脂からなる多層基板である。例えば、配線基板11は、複数の誘電体層からなる低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramics:LTCC)多層基板である。配線基板11は、複数の外部接続端子131を備える。 For example, the wiring board 11 is a multilayer board made of multilayer resin. For example, the wiring board 11 is a low temperature co-fired ceramics (LTCC) multilayer board made of a plurality of dielectric layers. The wiring board 11 includes a plurality of external connection terminals 131.

第1メタルパターン12は、配線基板11上の外縁部分に形成される。例えば、第1メタルパターン12は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第1メタルパターン12は、10μmから20μmの厚みを有する。
The first metal pattern 12 is formed on the outer edge portion of the wiring board 11 . For example, the first metal pattern 12 is formed of copper or an alloy containing copper. For example, the first metal pattern 12 has a thickness of 10 μm to 20 μm.

複数の第2メタルパターン13の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12よりも配線基板11の中央の側に形成される。例えば、複数の第2メタルパターン13の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、複数の第2メタルパターン13の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。 Each of the plurality of second metal patterns 13 is formed on the wiring board 11 closer to the center of the wiring board 11 than the first metal pattern 12 is. For example, each of the plurality of second metal patterns 13 is formed of copper or an alloy containing copper. For example, each of the plurality of second metal patterns 13 has a thickness of 10 μm to 20 μm.

第1グループの電極パッド14の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12と重なるように形成される。第1グループの電極パッド14の各々は、第1メタルパターン12と電気的に接続される。例えば、第1グループの電極パッド14の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第1グループの電極パッド14の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。第1グループの電極パッド14の各々は、グランド電位である。 Each of the first group of electrode pads 14 is formed on the wiring board 11 so as to overlap with the first metal pattern 12 . Each of the first group of electrode pads 14 is electrically connected to the first metal pattern 12 . For example, each of the first group of electrode pads 14 is made of copper or an alloy containing copper. For example, each of the first group of electrode pads 14 has a thickness of 10 μm to 20 μm. Each of the first group of electrode pads 14 is at ground potential.

第2グループの電極パッド14の各々は、配線基板11上において第2メタルパターン13と重なるように形成される。第2グループの電極パッド14は、第2メタルパターン13と電気的に接続される。例えば、第2グループの電極パッド14の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第2グループの電極パッド14の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。第2グループの電極パッド14の各々は、グランド電位である。 Each of the second group of electrode pads 14 is formed on the wiring board 11 so as to overlap with the second metal pattern 13 . The second group of electrode pads 14 is electrically connected to the second metal pattern 13 . For example, each of the second group of electrode pads 14 is made of copper or an alloy containing copper. For example, each of the second group of electrode pads 14 has a thickness of 10 μm to 20 μm. Each of the second group of electrode pads 14 is at ground potential.

第3グループの電極パッド14の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12にも第2メタルパターン13にも重ならないように形成される。例えば、第3グループの電極パッド14の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第3グループの電極パッド14の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。 Each of the third group of electrode pads 14 is formed on the wiring board 11 so as not to overlap either the first metal pattern 12 or the second metal pattern 13. For example, each of the third group of electrode pads 14 is made of copper or an alloy containing copper. For example, each of the third group of electrode pads 14 has a thickness of 10 μm to 20 μm.

複数の配線パターン15の各々は、モジュール1の内部において電気信号が流れ得るように設けられる。具体的には、複数の配線パターン15の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12と第2メタルパターン13との間に形成される。例えば、複数の配線パターン15の各々は、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金で形成される。例えば、複数の配線パターン15の各々は、複数の金属層が積層された積層金属膜で形成される。例えば、配線パターンの厚みは、1500nmから4500nmである。 Each of the plurality of wiring patterns 15 is provided so that an electric signal can flow inside the module 1. Specifically, each of the plurality of wiring patterns 15 is formed between the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13 on the wiring board 11. For example, each of the plurality of wiring patterns 15 is formed of a suitable metal or alloy such as silver, aluminum, copper, titanium, palladium, or the like. For example, each of the plurality of wiring patterns 15 is formed of a laminated metal film in which a plurality of metal layers are laminated. For example, the thickness of the wiring pattern is from 1500 nm to 4500 nm.

複数のバンプ16の各々は、複数の電極パッド14のいずれかと電気的に接続される。例えば、バンプ16は、金バンプである。例えば、バンプ16の高さは、10μmから50μmである。 Each of the plurality of bumps 16 is electrically connected to one of the plurality of electrode pads 14. For example, bump 16 is a gold bump. For example, the height of the bump 16 is 10 μm to 50 μm.

例えば、弾性波デバイス17は、送受信が同じ周波数帯のTDDフィルタである。弾性波デバイス17は、バンプ16を介して配線基板11の主面にフリップチップボンディングにより実装される。図示されないが、弾性波デバイス17は、配線基板と複数のバンプと少なくとも1つの弾性波デバイスチップと封止部とを備える。 For example, the elastic wave device 17 is a TDD filter that transmits and receives in the same frequency band. Acoustic wave device 17 is mounted on the main surface of wiring board 11 via bumps 16 by flip-chip bonding. Although not shown, the acoustic wave device 17 includes a wiring board, a plurality of bumps, at least one acoustic wave device chip, and a sealing part.

例えば、配線基板は、配線基板11と同等である。 For example, the wiring board is equivalent to the wiring board 11.

複数のバンプは、配線基板と電気的に接続される。例えば、バンプは、金バンプである。例えば、バンプの高さは、10μmから50μmである。 The plurality of bumps are electrically connected to the wiring board. For example, the bumps are gold bumps. For example, the height of the bump is 10 μm to 50 μm.

例えば、弾性波デバイスチップは、チップ基板と配線パターンと複数の弾性波素子とを備える。 For example, an acoustic wave device chip includes a chip substrate, a wiring pattern, and a plurality of acoustic wave elements.

例えば、チップ基板は、タンタル酸リチウムまたはリチウムナイオベートで形成される。チップ基板の主面は、複数のバンプを介して配線基板とボンディングされることで電気的に接続される。 For example, the chip substrate is formed from lithium tantalate or lithium niobate. The main surface of the chip substrate is electrically connected to the wiring board by bonding through a plurality of bumps.

配線パターンは、チップ基板の主面に形成される。例えば、配線パターンは、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金で形成される。例えば、配線パターンの厚みは、1500nmから4500nmである。 The wiring pattern is formed on the main surface of the chip substrate. For example, the wiring pattern is formed of a suitable metal or alloy such as silver, aluminum, copper, titanium, palladium, or the like. For example, the thickness of the wiring pattern is from 1500 nm to 4500 nm.

複数の弾性波素子は、チップ基板の主面に形成される。複数の弾性波素子は、配線パターンと電気的に接続される。例えば、複数の弾性波素子は、所望の周波数帯の電気信号が通過し得るように設けられる。例えば、複数の弾性波素子は、複数の直列共振器と複数の並列共振器からなるラダー型フィルタとして機能する。 A plurality of acoustic wave elements are formed on the main surface of the chip substrate. The plurality of acoustic wave elements are electrically connected to the wiring pattern. For example, a plurality of acoustic wave elements are provided so that electrical signals in a desired frequency band can pass therethrough. For example, the plurality of elastic wave elements function as a ladder filter consisting of a plurality of series resonators and a plurality of parallel resonators.

スイッチ18は、配線基板11の主面に実装される。スイッチ18は、ワイヤボンディングにより配線パターン15と電気的に接続される。スイッチ18は、モジュール1の送信信号と受信信号とを切り替え得るように設けられる。 Switch 18 is mounted on the main surface of wiring board 11. The switch 18 is electrically connected to the wiring pattern 15 by wire bonding. The switch 18 is provided to switch between the transmit signal and the receive signal of the module 1.

パワーアンプ19は、配線基板11の主面に実装される。パワーアンプ19は、ワイヤボンディングにより配線パターン15と電気的に接続される。パワーアンプ19は、モジュール1の送信信号を増幅し得るように設けられる。 Power amplifier 19 is mounted on the main surface of wiring board 11 . Power amplifier 19 is electrically connected to wiring pattern 15 by wire bonding. Power amplifier 19 is provided so as to be able to amplify the transmission signal of module 1 .

例えば、電子デバイス20は、インダクタである。例えば、電子デバイス20は、キャパシタである。電子デバイス20は、バンプ16を介して配線基板11の主面にフリップチップボンディングにより実装される。電子デバイス20は、インピーダンスマッチングのために実装される。 For example, electronic device 20 is an inductor. For example, electronic device 20 is a capacitor. Electronic device 20 is mounted on the main surface of wiring board 11 via bumps 16 by flip-chip bonding. Electronic device 20 is implemented for impedance matching.

封止部21は、弾性波デバイス17とスイッチ18とパワーアンプ19と複数の電子デバイス20とを覆うように形成される。封止部21は、配線基板11とともに、弾性波デバイス17とスイッチ18とパワーアンプ19と複数の電子デバイス20とを気密封止する。例えば、封止部21は、合成樹脂等の絶縁体で形成される。例えば、封止部21は、金属で形成される。例えば、封止部21は、絶縁層と金属層とで形成される。 The sealing portion 21 is formed to cover the acoustic wave device 17 , the switch 18 , the power amplifier 19 , and the plurality of electronic devices 20 . The sealing section 21 hermetically seals the acoustic wave device 17 , the switch 18 , the power amplifier 19 , and the plurality of electronic devices 20 together with the wiring board 11 . For example, the sealing part 21 is formed of an insulator such as synthetic resin. For example, the sealing part 21 is formed of metal. For example, the sealing part 21 is formed of an insulating layer and a metal layer.

封止部21が合成樹脂で形成される場合、当該合成樹脂は、エポキシ樹脂、ポリイミドなどである。好ましくは、封止部21は、低温硬化プロセスを用いてエポキシ樹脂で形成される。 When the sealing part 21 is made of synthetic resin, the synthetic resin is epoxy resin, polyimide, or the like. Preferably, the seal 21 is formed of epoxy resin using a low temperature curing process.

次に、図2を用いて、モジュール1の動作の概要を説明する。
図2は実施の形態1におけるモジュールの等価回路図である。
Next, an overview of the operation of the module 1 will be explained using FIG. 2.
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the module in the first embodiment.

図2に示されるように、モジュール1は、送信端子Term_Tと受信端子Term_Rとアンテナ端子Term_ANTとを備える。 As shown in FIG. 2, the module 1 includes a transmission terminal Term_T, a reception terminal Term_R, and an antenna terminal Term_ANT.

スイッチ18が第1状態の際、モジュール1の送信信号の経路が確立される。この際、送信信号は、送信端子Term_Tを通過した後、パワーアンプ19を通過する。この際、送信信号は、増幅される。その後、送信信号は、スイッチ18を通過する。その後、送信信号は、弾性波デバイス17を通過する。その後、送信信号は、アンテナ端子Term_Tを通過する。 When the switch 18 is in the first state, a path for the module 1's transmission signal is established. At this time, the transmission signal passes through the power amplifier 19 after passing through the transmission terminal Term_T. At this time, the transmitted signal is amplified. The transmitted signal then passes through switch 18. The transmitted signal then passes through the elastic wave device 17. The transmitted signal then passes through the antenna terminal Term_T.

スイッチ18が第2状態の際、モジュール1の受信信号の経路が確立される。この際、受信信号は、アンテナ端子Term_ANTを通過した後、弾性波デバイス17を通過する。その後、受信信号は、スイッチ18を通過する。その後、受信信号は、受信端子Term_Rを通過する。 When the switch 18 is in the second state, a path for the received signal of the module 1 is established. At this time, the received signal passes through the acoustic wave device 17 after passing through the antenna terminal Term_ANT. The received signal then passes through switch 18. Thereafter, the received signal passes through the receiving terminal Term_R.

次に、図3を用いて、モジュール1の要部を説明する。
図3は実施の形態1におけるモジュールの要部の平面図である。
Next, the main parts of the module 1 will be explained using FIG. 3.
FIG. 3 is a plan view of the main parts of the module in the first embodiment.

図3に示されるように、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有する。図示されないが、封止部21は、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13と配線基板11の露出部とに接合する。 As shown in FIG. 3, the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13 have uneven portions or jagged portions. Although not shown, the sealing portion 21 is bonded to the first metal pattern 12, the second metal pattern 13, and the exposed portion of the wiring board 11.

図3において、第1電子デバイス20aは、配線基板11の右側かつ下側に配置される。第2電子デバイス20bは、配線基板11の右側かつ上側に配置される。第2電子デバイス20bは、第1電子デバイス20aよりも配線基板11の右縁部から離れた位置に配置される。 In FIG. 3, the first electronic device 20a is arranged on the right side and below the wiring board 11. The second electronic device 20b is arranged on the right side and above the wiring board 11. The second electronic device 20b is placed further away from the right edge of the wiring board 11 than the first electronic device 20a.

第1電子デバイス20aと配線基板11の右縁部とに隣接する領域Aにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも大きい。 In region A adjacent to the first electronic device 20a and the right edge of the wiring board 11, the area where the sealing part 21 and the exposed part of the wiring board 11 are bonded is the area where the sealing part 21 and the first metal pattern 12 are bonded. larger than the area to be

第2電子デバイス20bと配線基板11の右縁部とに隣接する領域Bにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも小さい。 In region B adjacent to the second electronic device 20b and the right edge of the wiring board 11, the area where the sealing part 21 and the exposed part of the wiring board 11 are bonded is the area where the sealing part 21 and the first metal pattern 12 are bonded. smaller than the area to be

配線パターン15は、メタルパターンに適宜挟まれるように配置される。 The wiring pattern 15 is arranged so as to be appropriately sandwiched between the metal patterns.

例えば、領域Cにおいて、配線パターン15は、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とに挟まれるように配置される。具体的には、配線パターン15は、第1メタルパターン12よりも配線基板11の中央の側において第1メタルパターン12に隣接する。第2メタルパターン13は、配線パターン15よりも配線基板11の中央の側において配線パターン15に隣接する。 For example, in region C, the wiring pattern 15 is arranged so as to be sandwiched between the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13. Specifically, the wiring pattern 15 is adjacent to the first metal pattern 12 closer to the center of the wiring board 11 than the first metal pattern 12 is. The second metal pattern 13 is adjacent to the wiring pattern 15 closer to the center of the wiring board 11 than the wiring pattern 15 is.

例えば、領域Dにおいて、配線パターン15は、第1メタルパターン12に挟まれるように配置される。具体的には、配線パターン15は、第1メタルパターン12の凹部に収まるように配置される。 For example, in region D, the wiring pattern 15 is arranged so as to be sandwiched between the first metal patterns 12. Specifically, the wiring pattern 15 is arranged so as to fit into the recessed portion of the first metal pattern 12 .

例えば、領域Eにおいて、配線パターン15は、同じ第2メタルパターン13に挟まれるように配置される。具体的には、配線パターン15は、第2メタルパターン13の凹部に収まるように配置される。 For example, in region E, the wiring pattern 15 is arranged so as to be sandwiched between the same second metal patterns 13. Specifically, the wiring pattern 15 is arranged so as to fit into the recess of the second metal pattern 13.

例えば、領域Fにおいて、配線パターン15は、異なる第2メタルパターン13に挟まれるように配置される。具体的には、第2メタルパターン13の一方は、配線パターン15の一側に隣接する。第2メタルパターン13の他方は、配線パターン15の他側に隣接する。 For example, in region F, the wiring pattern 15 is arranged so as to be sandwiched between different second metal patterns 13. Specifically, one side of the second metal pattern 13 is adjacent to one side of the wiring pattern 15. The other side of the second metal pattern 13 is adjacent to the other side of the wiring pattern 15 .

次に、図4から図7を用いて、配線基板11を説明する。
図4は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第1層の平面図である。図5は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第2層の平面図である。図6は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第3層143の平面図である。図7は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第4層の平面図である。
Next, the wiring board 11 will be explained using FIGS. 4 to 7.
FIG. 4 is a plan view of the first layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. FIG. 5 is a plan view of the second layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. FIG. 6 is a plan view of the third layer 143 of the wiring board included in the module according to the first embodiment. FIG. 7 is a plan view of the fourth layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment.

図4の第1層141は、配線基板11の主面を形成する表面を有する層である。図4に示されるように、第1層141は、複数の第1層用ビア141aを備える。第1層141において、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、電気的に接続されていない。 The first layer 141 in FIG. 4 is a layer having a surface forming the main surface of the wiring board 11. As shown in FIG. 4, the first layer 141 includes a plurality of first layer vias 141a. In the first layer 141, the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13 are not electrically connected.

図5の第2層142は、第1層141の裏面に接合される層である。図5に示されるように、第2層142は、第2層用メタルパターン142aと複数の第2層用配線パターン142bと複数の第2層用ビア142cとを備える。 The second layer 142 in FIG. 5 is a layer bonded to the back surface of the first layer 141. As shown in FIG. 5, the second layer 142 includes a second layer metal pattern 142a, a plurality of second layer wiring patterns 142b, and a plurality of second layer vias 142c.

図6の第3層143は、第2層142の裏面に接合される層である。図6に示されるように、第3層143は、第3層用メタルパターン143aと複数の第3層用配線パターン143bと複数の第3層用ビア143cとを備える。 The third layer 143 in FIG. 6 is a layer bonded to the back surface of the second layer 142. As shown in FIG. 6, the third layer 143 includes a third layer metal pattern 143a, a plurality of third layer wiring patterns 143b, and a plurality of third layer vias 143c.

図7の第4層144は、第3層143の裏面に接合される層である。第4層144は、配線基板11の主面とは反対側の面を形成する層である。図7に示されるように、第4層144は、第4層用メタルパターン144aと複数の外部接続端子131とを備える。 The fourth layer 144 in FIG. 7 is a layer bonded to the back surface of the third layer 143. The fourth layer 144 is a layer that forms the surface of the wiring board 11 opposite to the main surface. As shown in FIG. 7, the fourth layer 144 includes a fourth layer metal pattern 144a and a plurality of external connection terminals 131.

第1層141から第4層144が積層されると、所望の電気的な接続が確立される。例えば、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、第1層141におけるグランド電位のビアと第2層用メタルパターン142aとを介して電気的に接続される。その結果、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、グランド電位となる。 When the first layer 141 to the fourth layer 144 are laminated, a desired electrical connection is established. For example, the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13 are electrically connected via a ground potential via in the first layer 141 and the second layer metal pattern 142a. As a result, the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13 are at ground potential.

次に、図8を用いて、弾性波素子の第1例を説明する。
図8は実施の形態1におけるモジュールに実装された弾性波デバイスの弾性波素子の第1例を示す図である。
Next, a first example of the acoustic wave element will be described using FIG. 8.
FIG. 8 is a diagram showing a first example of an acoustic wave element of an acoustic wave device mounted in a module in the first embodiment.

図8の例は、弾性波素子が弾性表面波共振器である例である。図8に示されるように、IDT(Interdigital Transducer)22aと一対の反射器22bとは、チップ基板の主面に形成される。一対の反射器22bの一方は、IDT22aの一側に隣接する。一対の反射器22bの他方は、IDT22aの他側に隣接する。IDT22aと一対の反射器22bとは、弾性表面波を励振し得るように設けられる。 The example in FIG. 8 is an example in which the acoustic wave element is a surface acoustic wave resonator. As shown in FIG. 8, an IDT (Interdigital Transducer) 22a and a pair of reflectors 22b are formed on the main surface of the chip substrate. One of the pair of reflectors 22b is adjacent to one side of the IDT 22a. The other of the pair of reflectors 22b is adjacent to the other side of the IDT 22a. The IDT 22a and the pair of reflectors 22b are provided to excite surface acoustic waves.

例えば、IDT22aと一対の反射器22bとは、アルミニウムと銅の合金で形成される。例えば、IDT22aと一対の反射器22bとは、チタン、パラジウム、銀などの適宜の金属もしくはこれらの合金で形成される。例えば、IDT22aと一対の反射器22bとは、複数の金属層が積層した積層金属膜で形成される。例えば、IDT22aと一対の反射器22bとの厚みは、150nmから400nmである。 For example, the IDT 22a and the pair of reflectors 22b are formed of an alloy of aluminum and copper. For example, the IDT 22a and the pair of reflectors 22b are made of a suitable metal such as titanium, palladium, silver, or an alloy thereof. For example, the IDT 22a and the pair of reflectors 22b are formed of a laminated metal film in which a plurality of metal layers are laminated. For example, the thickness of the IDT 22a and the pair of reflectors 22b is 150 nm to 400 nm.

IDT22aは、一対の櫛形電極22cを備える。一対の櫛形電極22cは、互いに対向する。櫛形電極22cは、複数の電極指22dとバスバー22eとを備える。複数の電極指22dは、長手方向を合わせて配置される。バスバー22eは、複数の電極指22dを接続する。 The IDT 22a includes a pair of comb-shaped electrodes 22c. A pair of comb-shaped electrodes 22c face each other. The comb-shaped electrode 22c includes a plurality of electrode fingers 22d and a bus bar 22e. The plurality of electrode fingers 22d are arranged with their longitudinal directions aligned. The bus bar 22e connects the plurality of electrode fingers 22d.

次に、図9を用いて、弾性波素子の第2例を説明する。
図9は実施の形態1におけるモジュールに実装された弾性波デバイスの弾性波素子の第2例を示す図である。
Next, a second example of the acoustic wave element will be described using FIG. 9.
FIG. 9 is a diagram showing a second example of the acoustic wave element of the elastic wave device mounted in the module in the first embodiment.

図9の例は、弾性波素子が圧電薄膜共振器である例である。図9において、チップ基板60は、シリコン等の半導体基板、または、サファイア、アルミナ、スピネルもしくはガラス等の絶縁基板である。 The example in FIG. 9 is an example in which the acoustic wave element is a piezoelectric thin film resonator. In FIG. 9, the chip substrate 60 is a semiconductor substrate such as silicon, or an insulating substrate such as sapphire, alumina, spinel, or glass.

圧電膜62は、チップ基板60上に設けられる。例えば、圧電膜62は、窒化アルミニウムで形成される。 A piezoelectric film 62 is provided on the chip substrate 60. For example, the piezoelectric film 62 is made of aluminum nitride.

下部電極64と上部電極66とは、圧電膜62を挟むように設けられる。例えば、下部電極64と上部電極66とは、ルテニウム等の金属で形成される。 The lower electrode 64 and the upper electrode 66 are provided so as to sandwich the piezoelectric film 62 therebetween. For example, the lower electrode 64 and the upper electrode 66 are made of metal such as ruthenium.

空隙68は、下部電極64とチップ基板60との間に形成される。 A gap 68 is formed between the lower electrode 64 and the chip substrate 60.

音響薄膜共振器において、下部電極64と上部電極66とは、圧電膜62の内部に厚み縦振動モードの弾性波を励振する。 In the acoustic thin film resonator, the lower electrode 64 and the upper electrode 66 excite elastic waves in the thickness longitudinal vibration mode inside the piezoelectric film 62 .

以上で説明された実施の形態1によれば、第1メタルパターン12は、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有する。封止部21は、第1メタルパターン12と配線基板11の露出部との両方に接合する。第1メタルパターン12が封止部21と接合する領域の境界線が長くなり、さらに、凹凸形状においては第1メタルパターン12の凹部部分に、ギザギザ形状においては、第1メタルパターン12の谷部分に、封止部21が入り込む。このため、アンカー効果が得られ、封止部21と配線基板11の密着性を向上させることができる。 According to the first embodiment described above, the first metal pattern 12 has an uneven portion or a jagged portion. The sealing portion 21 is bonded to both the first metal pattern 12 and the exposed portion of the wiring board 11 . The boundary line of the region where the first metal pattern 12 joins with the sealing part 21 becomes longer, and furthermore, in the uneven shape, the concave part of the first metal pattern 12, and in the jagged shape, the valley part of the first metal pattern 12. The sealing portion 21 is inserted into the hole. Therefore, an anchor effect can be obtained, and the adhesion between the sealing part 21 and the wiring board 11 can be improved.

なお、第1メタルパターン12は、配線基板11の端部から15μm程度内側に形成される。このため、封止部21と配線基板11の端部との密着性を向上させることができる。 Note that the first metal pattern 12 is formed approximately 15 μm inward from the end of the wiring board 11. Therefore, the adhesion between the sealing part 21 and the end of the wiring board 11 can be improved.

また、第1電子デバイス20aと配線基板11の縁部とに隣接する領域Aにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも大きい。第2電子デバイス20bと配線基板11の縁部とに隣接する領域Bにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも小さい。このため、配線基板11の縁部に近い第1電子デバイス20aの近傍においても、封止部21と配線基板11の露出部とが密着することで、封止部21と配線基板11の密着性をより確実に向上させることできる。さらに、配線基板11の縁部から第2電子デバイス20bの近傍においても、封止部21と配線基板11の露出部とが密着するだけでなく、ある程度の面積を有した第1メタルパターン12の領域が封止部21と接合することで、封止部21と配線基板11の密着性をより確実に向上させることできる。 Further, in the area A adjacent to the first electronic device 20a and the edge of the wiring board 11, the area where the sealing part 21 and the exposed part of the wiring board 11 are bonded is the area where the sealing part 21 and the first metal pattern 12 are bonded. Larger than the area to be joined. In region B adjacent to the second electronic device 20b and the edge of the wiring board 11, the area where the sealing part 21 and the exposed part of the wiring board 11 are bonded is the area where the sealing part 21 and the first metal pattern 12 are bonded. smaller than the area. Therefore, even in the vicinity of the first electronic device 20a near the edge of the wiring board 11, the sealing part 21 and the exposed part of the wiring board 11 come into close contact with each other, thereby improving the adhesion between the sealing part 21 and the wiring board 11. can be improved more reliably. Furthermore, from the edge of the wiring board 11 to the vicinity of the second electronic device 20b, not only the sealing part 21 and the exposed part of the wiring board 11 are in close contact with each other, but also the first metal pattern 12 having a certain area By joining the region to the sealing part 21, the adhesion between the sealing part 21 and the wiring board 11 can be improved more reliably.

また、第2メタルパターン13は、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有する。封止部21は、第2メタルパターン13と配線基板11の露出部との両方に接合する。第2メタルパターン13が封止部21と接合する領域の境界線が長くなり、さらに、凹凸形状においては第2メタルパターン13の凹部部分に、ギザギザ形状においては、第2メタルパターン13の谷部分に、封止部21が入り込む。このため、アンカー効果が得られ、封止部21と配線基板11の密着性を向上させることができる。 Further, the second metal pattern 13 has an uneven portion or a jagged portion. The sealing portion 21 is bonded to both the second metal pattern 13 and the exposed portion of the wiring board 11 . The boundary line of the region where the second metal pattern 13 joins with the sealing part 21 becomes longer, and further, in the uneven shape, the concave part of the second metal pattern 13, and in the jagged shape, the valley part of the second metal pattern 13. The sealing portion 21 is inserted into the hole. Therefore, an anchor effect can be obtained, and the adhesion between the sealing part 21 and the wiring board 11 can be improved.

また、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、配線基板11と封止部21との間の熱伝導性を高める。このため、モジュール1の放熱性をよくする。 Further, the first metal pattern 12 and the second metal pattern 13 increase thermal conductivity between the wiring board 11 and the sealing part 21. Therefore, the heat dissipation of the module 1 is improved.

また、第1メタルパターン12は、グランド電位の電極パッド14と電気的に接続される。このため、グランドを強化することができる。なお、第1メタルパターン12は、少なくとも1つのグランド電位の電極パッド14と電気的に接続されていればよい。 Further, the first metal pattern 12 is electrically connected to the electrode pad 14 at ground potential. Therefore, the ground can be strengthened. Note that the first metal pattern 12 only needs to be electrically connected to at least one electrode pad 14 at ground potential.

また、配線パターン15は、第1メタルパターン12よりも配線基板11の中央の側において第1メタルパターン12に隣接する。第2メタルパターン13は、配線パターン15よりも配線基板11の中央の側において配線パターン15に隣接する。このため、配線パターン15とグランドのカップリング減少を抑制することができる。その結果、モジュール1の特性の劣化を抑制することができる。 Further, the wiring pattern 15 is adjacent to the first metal pattern 12 on the side closer to the center of the wiring board 11 than the first metal pattern 12 is. The second metal pattern 13 is adjacent to the wiring pattern 15 closer to the center of the wiring board 11 than the wiring pattern 15 is. Therefore, reduction in coupling between the wiring pattern 15 and the ground can be suppressed. As a result, deterioration of the characteristics of the module 1 can be suppressed.

ここで、第1メタルパターン12または第2メタルパターン13が配線パターン15に近接している場合、当該メタルパターンと配線パターン15との間には、寄生容量が発生する。例えば、当該メタルパターンと配線パターン15との間の距離が一定である場合、一定の寄生容量が発生する。この際、当該メタルパターンがギザギザ形状部分を有すれば、当該メタルパターンと配線パターン15との間の距離を調整することができる。このため、当該メタルパターンによる放熱の効果を可能な限り増やしつつ、当該メタルパターンと配線パターン15との間の寄生容量が問題とならないように調整することができる。 Here, when the first metal pattern 12 or the second metal pattern 13 is close to the wiring pattern 15, a parasitic capacitance is generated between the metal pattern and the wiring pattern 15. For example, when the distance between the metal pattern and the wiring pattern 15 is constant, a constant parasitic capacitance occurs. At this time, if the metal pattern has a jagged portion, the distance between the metal pattern and the wiring pattern 15 can be adjusted. Therefore, it is possible to increase the heat dissipation effect of the metal pattern as much as possible while making adjustments so that the parasitic capacitance between the metal pattern and the wiring pattern 15 does not become a problem.

また、封止部21は、合成樹脂で形成される。このため、特に、配線基板11の露出部に対して封止部21の密着性を向上させることができる。 Moreover, the sealing part 21 is formed of synthetic resin. Therefore, the adhesion of the sealing portion 21 to the exposed portion of the wiring board 11 can be particularly improved.

また、弾性波デバイス17は、弾性表面波共振器を用いたフィルタである。このため、所望の周波数帯の電気信号が通過させるモジュール1を得ることができる。 Further, the acoustic wave device 17 is a filter using a surface acoustic wave resonator. Therefore, it is possible to obtain a module 1 through which electrical signals of a desired frequency band pass.

また、弾性波デバイス17は、音響薄膜共振器を用いたフィルタである。このため、所望の周波数帯の電気信号が通過させるモジュール1を得ることができる。 Further, the elastic wave device 17 is a filter using an acoustic thin film resonator. Therefore, it is possible to obtain a module 1 through which electrical signals of a desired frequency band pass.

また、弾性波デバイス17は、TDDフィルタである。弾性波デバイス17においては、スイッチ18により送信信号と受信信号とが切り替えられる。弾性波デバイス17は、パワーアンプ19により増幅された信号を送信する。モジュール1において、送信信号と受信信号とを切り替えられるだけでなく、適切な送信信号を出力することができる。 Moreover, the elastic wave device 17 is a TDD filter. In the elastic wave device 17, a switch 18 switches between a transmitted signal and a received signal. The elastic wave device 17 transmits a signal amplified by the power amplifier 19. In the module 1, not only can a transmission signal and a reception signal be switched, but also an appropriate transmission signal can be output.

なお、弾性波デバイス17として、2つの弾性波デバイスチップが実装されたデュプレクサ、1つの弾性波デバイスチップが実装されたバンドパスフィルタ、4つの弾性波デバイスチップが実装されたクアッドプレクサを採用してもよい。 As the acoustic wave device 17, a duplexer on which two acoustic wave device chips are mounted, a bandpass filter on which one acoustic wave device chip is mounted, and a quadplexer on which four acoustic wave device chips are mounted are employed. You can.

また、弾性波デバイス17として、弾性波デバイスチップを直接的に配線基板11を実装してもよい。 Further, as the acoustic wave device 17, an acoustic wave device chip may be directly mounted on the wiring board 11.

少なくとも一つの実施形態のいくつかの側面が説明されたが、様々な改変、修正および改善が当業者にとって容易に想起されることを理解されたい。かかる改変、修正および改善は、本開示の一部となることが意図され、かつ、本開示の範囲内にあることが意図される。 While several aspects of at least one embodiment have been described, it is to be understood that various alterations, modifications, and improvements will readily occur to those skilled in the art. Such alterations, modifications, and improvements are intended to be part of, and are intended to be within the scope of, this disclosure.

理解するべきことだが、ここで述べられた方法および装置の実施形態は、上記説明に記載され又は添付図面に例示された構成要素の構造および配列の詳細への適用に限られない。方法および装置は、他の実施形態で実装し、様々な態様で実施又は実行することができる。 It should be understood that the method and apparatus embodiments described herein are not limited to application to the details of structure and arrangement of components described in the foregoing description or illustrated in the accompanying drawings. The methods and apparatus may be implemented in other embodiments and of being practiced or carried out in various ways.

特定の実装例は、例示のみを目的としてここに与えられ、限定されることを意図しない。 Specific implementations are provided herein for illustrative purposes only and are not intended to be limiting.

本開示で使用される表現および用語は、説明目的であって、限定としてみなすべきではない。ここでの「含む」、「備える」、「有する」、「包含する」およびこれらの変形の使用は、以降に列挙される項目およびその均等物並びに付加項目の包括を意味する。 The expressions and terminology used in this disclosure are for descriptive purposes and should not be considered limiting. The use of "comprising," "comprising," "having," "including" and variations thereof herein means the inclusion of the items listed below and their equivalents and additional items.

「又は(若しくは)」の言及は、「又は(若しくは)」を使用して記載される任意の用語が、当該記載の用語の一つの、一つを超える、およびすべてのものを示すように解釈され得る。 References to "or" shall be construed to mean that any term listed using "or" refers to one, more than one, and all of the listed terms. can be done.

前後左右、頂底上下、横縦、表裏への言及は、いずれも、記載の便宜を意図する。当該言及は、本開示の構成要素がいずれか一つの位置的又は空間的配向に限られるものではない。したがって、上記説明および図面は、例示にすぎない。 References to front and back, left and right, top and bottom, horizontal and vertical, and front and back are intended for convenience of description. Such reference is not intended to limit the components of the present disclosure to any one positional or spatial orientation. Accordingly, the above description and drawings are illustrative only.

1 モジュール、 11 配線基板、 12 第1メタルパターン、 13 第2メタルパターン、 14 電極パッド、 15 配線パターン、 16 バンプ、 17 弾性波デバイス、 18 スイッチ、 19 パワーアンプ、 20 電子デバイス、 20a 第1電子デバイス、 20b 第2電子デバイス、 21 封止部、 22a IDT、 22b 反射器、 22c 櫛形電極、 22d 電極指、 22e バスバー、 60 チップ基板、 62 圧電膜、 64 下部電極、 66 上部電極、 68 空隙、 131 外部接続端子、 141 第1層、 141a 第1層用ビア、 142 第2層、 142a 第2層用メタルパターン、 142b 第2層用配線パターン、 142c 第2層用ビア、 143 第3層、 143a 第3層用メタルパターン、 143b 第3層用配線パターン、 143c 第3層用ビア、 144 第4層、 144a 第4層用メタルパターン 1 module, 11 wiring board, 12 first metal pattern, 13 second metal pattern, 14 electrode pad, 15 wiring pattern, 16 bump, 17 acoustic wave device, 18 switch, 19 power amplifier, 20 electronic device, 20a first electron device, 20b second electronic device, 21 sealing part, 22a IDT, 22b reflector, 22c comb-shaped electrode, 22d electrode finger, 22e bus bar, 60 chip substrate, 62 piezoelectric film, 64 lower electrode, 66 upper electrode, 68 void, 131 external connection terminal, 141 first layer, 141a via for first layer, 142 second layer, 142a metal pattern for second layer, 142b wiring pattern for second layer, 142c via for second layer, 143 third layer, 143a Metal pattern for third layer, 143b Wiring pattern for third layer, 143c Via for third layer, 144 Fourth layer, 144a Metal pattern for fourth layer

Claims (8)

配線基板と、
前記配線基板上に実装された弾性波デバイスと、
前記配線基板上の外縁部分に形成された第1メタルパターンと、
前記弾性波デバイスを機密封止する封止部と、
を備え、
前記第1メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、
前記封止部は、前記第1メタルパターンと前記配線基板の露出部との両方に接合したモジュール。
a wiring board;
an acoustic wave device mounted on the wiring board;
a first metal pattern formed on an outer edge portion of the wiring board;
a sealing part that hermetically seals the acoustic wave device;
Equipped with
The first metal pattern has an uneven portion or a jagged portion,
In the module, the sealing portion is bonded to both the first metal pattern and the exposed portion of the wiring board.
前記配線基板上に実装され、前記弾性波デバイスとは異なる第1電子デバイスと、
前記第1電子デバイスよりも前記配線基板の縁部から離れた位置で前記配線基板上に実装された第2電子デバイスと、
を備え、
前記第1電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも大きく、
前記第2電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも小さい請求項1に記載のモジュール。
a first electronic device mounted on the wiring board and different from the acoustic wave device;
a second electronic device mounted on the wiring board at a position farther from an edge of the wiring board than the first electronic device;
Equipped with
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the first electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion. larger than the area where the first metal pattern and the first metal pattern are bonded;
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the second electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion The module according to claim 1, wherein the area is smaller than the area where the first metal pattern and the first metal pattern are bonded.
前記弾性波デバイスと電気的に接続された複数の電極パッド、
を備え、
前記複数の電極パッドの少なくとも一つは、グランド電位であり、グランド電位の前記電極パッドは、前記第1メタルパターンと電気的に接続された請求項1または請求項2に記載のモジュール。
a plurality of electrode pads electrically connected to the acoustic wave device;
Equipped with
3. The module according to claim 1, wherein at least one of the plurality of electrode pads is at ground potential, and the electrode pad at ground potential is electrically connected to the first metal pattern.
前記第1メタルパターンよりも前記配線基板の中央の側において前記第1メタルパターンに隣接して前記配線基板上に形成され、信号が流れる配線パターンと、
前記配線パターンよりも前記配線基板の中央の側において前記配線パターンに隣接して前記配線基板上に形成され、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、グランド電位である第2メタルパターンと、
を備えた請求項3に記載のモジュール。
a wiring pattern formed on the wiring board adjacent to the first metal pattern on a side closer to the center of the wiring board than the first metal pattern, and through which a signal flows;
a second metal pattern formed on the wiring board adjacent to the wiring pattern on the side closer to the center of the wiring board than the wiring pattern, having an uneven portion or a jagged portion, and having a ground potential;
4. The module according to claim 3, comprising:
前記封止部は、合成樹脂で形成された請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のモ ジュール。 The module according to any one of claims 1 to 4, wherein the sealing part is made of synthetic resin. 前記弾性波デバイスは、弾性表面波共振器を用いたフィルタである請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のモジュール。 The module according to any one of claims 1 to 5, wherein the acoustic wave device is a filter using a surface acoustic wave resonator. 前記弾性波デバイスは、音響薄膜共振器を用いたフィルタである請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のモジュール。 The module according to any one of claims 1 to 5, wherein the elastic wave device is a filter using an acoustic thin film resonator. 前記配線基板上に実装されたスイッチと、前記配線基板上に実装されたパワーアンプと、
を備え、
前記弾性波デバイスは、TDDフィルタであり、前記スイッチにより送信信号と受信信号とが切り替えられ、前記パワーアンプにより増幅された信号を送信する請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のモジュール。
a switch mounted on the wiring board; a power amplifier mounted on the wiring board;
Equipped with
8. The elastic wave device is a TDD filter, the switch switches between a transmission signal and a reception signal, and the power amplifier transmits a signal amplified. module.
JP2021159868A 2021-09-29 2021-09-29 module Active JP7361343B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021159868A JP7361343B2 (en) 2021-09-29 2021-09-29 module
CN202211155167.6A CN115882810A (en) 2021-09-29 2022-09-22 Module comprising an elastic wave device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021159868A JP7361343B2 (en) 2021-09-29 2021-09-29 module

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023049867A JP2023049867A (en) 2023-04-10
JP7361343B2 true JP7361343B2 (en) 2023-10-16

Family

ID=85769957

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021159868A Active JP7361343B2 (en) 2021-09-29 2021-09-29 module

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7361343B2 (en)
CN (1) CN115882810A (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016010026A (en) 2014-06-25 2016-01-18 京セラ株式会社 Acoustic wave element and communication device
JP2019135770A (en) 2016-03-31 2019-08-15 Tdk株式会社 Electronic circuit package arranged by using composite magnetic sealing material

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016010026A (en) 2014-06-25 2016-01-18 京セラ株式会社 Acoustic wave element and communication device
JP2019135770A (en) 2016-03-31 2019-08-15 Tdk株式会社 Electronic circuit package arranged by using composite magnetic sealing material

Also Published As

Publication number Publication date
CN115882810A (en) 2023-03-31
JP2023049867A (en) 2023-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6934324B2 (en) Elastic wave device
JP3913700B2 (en) Surface acoustic wave device and manufacturing method thereof
JP2000209061A (en) Surface acoustic wave element and device
US9166559B2 (en) Circuit module and composite circuit module
JP7340344B2 (en) Acoustic wave devices, filters and multiplexers
JP2002314364A (en) Surface acoustic wave device, method of manufacturing the same and communication equipment
JP2023067933A (en) Acoustic wave device and module with the same
JP7361343B2 (en) module
JP6954701B1 (en) Elastic wave device
JP6940085B1 (en) Elastic wave device
JP7055492B1 (en) Elastic wave device
JP2022165310A (en) Acoustic wave device and module equipped with the acoustic wave device
JP7347956B2 (en) High frequency devices and multiplexers
JP6253306B2 (en) Electronic devices
JP7465515B1 (en) Acoustic Wave Devices
JP7055499B1 (en) A module with an elastic wave device and its elastic wave device
JP7055503B1 (en) Elastic wave device
JP2024038911A (en) Acoustic wave device and module including acoustic wave device
JP7370546B1 (en) elastic wave device
JP7370542B2 (en) elastic wave device
JP2022169399A (en) Acoustic wave device, module provided with acoustic wave device, and method for manufacturing acoustic wave device
JP2024111755A (en) Acoustic wave device and method for manufacturing same
JP2022175441A (en) Device and module with device
JP2022071310A (en) module
JP2023053471A (en) Elastic wave device chip, elastic wave device, and module with elastic wave device chip or elastic wave device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230626

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20230626

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230808

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230905

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230925

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230925

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7361343

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350