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Description
本開示は、モジュールに関連する。 This disclosure relates to modules.
特許文献1は、弾性波デバイスに関する技術の一例を開示する。
弾性波デバイスは、他の電子デバイスとともにモジュールの配線基板に実装される。弾性波デバイスは、他の電子デバイスとともに封止部に封止される。この際、封止部と配線基板との密着性の向上が望まれる。 The acoustic wave device is mounted on the wiring board of the module along with other electronic devices. The acoustic wave device is sealed in the sealing part along with other electronic devices. At this time, it is desired to improve the adhesion between the sealing part and the wiring board.
本開示は、上述の課題を解決するためになされた。本開示の目的は、封止部と配線基板の密着性に優れたモジュールを提供することである。 The present disclosure has been made to solve the above problems. An object of the present disclosure is to provide a module with excellent adhesion between a sealing part and a wiring board.
本開示に係るモジュールは、
配線基板と、
前記配線基板上に実装された弾性波デバイスと、
前記配線基板上の外縁部分に形成された第1メタルパターンと、
前記弾性波デバイスを機密封止する封止部と、
を備え、
前記第1メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、
前記封止部は、前記第1メタルパターンと前記配線基板の露出部との両方に接合したモジュールとした。
The module according to the present disclosure is
a wiring board;
an acoustic wave device mounted on the wiring board;
a first metal pattern formed on an outer edge portion of the wiring board;
a sealing part that hermetically seals the acoustic wave device;
Equipped with
The first metal pattern has an uneven portion or a jagged portion,
The sealing portion was a module bonded to both the first metal pattern and the exposed portion of the wiring board.
前記配線基板上に実装され、前記弾性波デバイスとは異なる第1電子デバイスと、
前記第1電子デバイスよりも前記配線基板の縁部から離れた位置で前記配線基板上に実装された第2電子デバイスと、
を備え、
前記第1電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも大きく、
前記第2電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも小さいことが、本開示の一形態とされる。
a first electronic device mounted on the wiring board and different from the acoustic wave device;
a second electronic device mounted on the wiring board at a position farther from an edge of the wiring board than the first electronic device;
Equipped with
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the first electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion. larger than the area where the first metal pattern and the first metal pattern are bonded;
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the second electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion In one embodiment of the present disclosure, the first metal pattern is smaller than the area where the first metal pattern is bonded to the first metal pattern.
前記弾性波デバイスと電気的に接続された複数の電極パッド、
を備え、
前記複数の電極パッドの少なくとも一つは、グランド電位であり、グランド電位の前記電極パッドは、前記第1メタルパターンと電気的に接続されたことが、本開示の一形態とされる。
a plurality of electrode pads electrically connected to the acoustic wave device;
Equipped with
In one aspect of the present disclosure, at least one of the plurality of electrode pads is at a ground potential, and the electrode pad at the ground potential is electrically connected to the first metal pattern.
前記第1メタルパターンよりも前記配線基板の中央の側において前記第1メタルパターンに隣接して前記配線基板上に形成され、信号が流れる配線パターンと、
前記配線パターンよりも前記配線基板の中央の側において前記配線パターンに隣接して前記配線基板上に形成され、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、グランド電位である第2メタルパターンと、
を備えたことが、本開示の一形態とされる。
a wiring pattern formed on the wiring board adjacent to the first metal pattern on a side closer to the center of the wiring board than the first metal pattern, and through which a signal flows;
a second metal pattern formed on the wiring board adjacent to the wiring pattern on the side closer to the center of the wiring board than the wiring pattern, having an uneven portion or a jagged portion, and having a ground potential;
An embodiment of the present disclosure includes the following.
前記封止部は、合成樹脂で形成されたことが、本発明の一形態とされる。 In one form of the present invention, the sealing portion is formed of synthetic resin.
前記弾性波デバイスは、弾性表面波共振器を用いたフィルタであることが、本発明の一形態とされる。 In one form of the present invention, the acoustic wave device is a filter using a surface acoustic wave resonator.
前記弾性波デバイスは、音響薄膜共振器を用いたフィルタであることが、本開示の一形態とされる。 In one form of the present disclosure, the elastic wave device is a filter using an acoustic thin film resonator.
前記配線基板上に実装されたスイッチと、
前記配線基板上に実装されたパワーアンプと、
を備え、
前記弾性波デバイスは、TDDフィルタであり、前記スイッチにより送信信号と受信信号とが切り替えられ、前記パワーアンプにより増幅された信号を送信することが、本開示の一形態とされる。
a switch mounted on the wiring board;
a power amplifier mounted on the wiring board;
Equipped with
According to one embodiment of the present disclosure, the elastic wave device is a TDD filter, the switch switches between a transmission signal and a reception signal, and the power amplifier transmits the amplified signal.
本開示によれば、封止部と配線基板の密着性に優れたモジュールを提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a module with excellent adhesion between the sealing part and the wiring board.
実施の形態について添付の図面に従って説明する。なお、各図中、同一または相当する部分には同一の符号が付される。当該部分の重複説明は適宜に簡略化ないし省略される。 Embodiments will be described according to the attached drawings. In each figure, the same or corresponding parts are given the same reference numerals. Duplicate explanations of the relevant parts will be simplified or omitted as appropriate.
実施の形態1.
図1は実施の形態1におけるモジュールの縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view of a module in the first embodiment.
図1に示されるように、モジュール1は、配線基板11と第1メタルパターン12と第2メタルパターン13と複数の電極パッド14と複数の配線パターン15と複数のバンプ16と弾性波デバイス17とスイッチ18とパワーアンプ19と複数の電子デバイス20と封止部21とを備える。
As shown in FIG. 1, the
例えば、配線基板11は、多層の樹脂からなる多層基板である。例えば、配線基板11は、複数の誘電体層からなる低温同時焼成セラミックス(Low Temperature Co-fired Ceramics:LTCC)多層基板である。配線基板11は、複数の外部接続端子131を備える。
For example, the
第1メタルパターン12は、配線基板11上の外縁部分に形成される。例えば、第1メタルパターン12は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第1メタルパターン12は、10μmから20μmの厚みを有する。
The
複数の第2メタルパターン13の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12よりも配線基板11の中央の側に形成される。例えば、複数の第2メタルパターン13の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、複数の第2メタルパターン13の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。
Each of the plurality of
第1グループの電極パッド14の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12と重なるように形成される。第1グループの電極パッド14の各々は、第1メタルパターン12と電気的に接続される。例えば、第1グループの電極パッド14の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第1グループの電極パッド14の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。第1グループの電極パッド14の各々は、グランド電位である。
Each of the first group of
第2グループの電極パッド14の各々は、配線基板11上において第2メタルパターン13と重なるように形成される。第2グループの電極パッド14は、第2メタルパターン13と電気的に接続される。例えば、第2グループの電極パッド14の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第2グループの電極パッド14の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。第2グループの電極パッド14の各々は、グランド電位である。
Each of the second group of
第3グループの電極パッド14の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12にも第2メタルパターン13にも重ならないように形成される。例えば、第3グループの電極パッド14の各々は、銅または銅を含む合金で形成される。例えば、第3グループの電極パッド14の各々は、10μmから20μmの厚みを有する。
Each of the third group of
複数の配線パターン15の各々は、モジュール1の内部において電気信号が流れ得るように設けられる。具体的には、複数の配線パターン15の各々は、配線基板11上において第1メタルパターン12と第2メタルパターン13との間に形成される。例えば、複数の配線パターン15の各々は、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金で形成される。例えば、複数の配線パターン15の各々は、複数の金属層が積層された積層金属膜で形成される。例えば、配線パターンの厚みは、1500nmから4500nmである。
Each of the plurality of
複数のバンプ16の各々は、複数の電極パッド14のいずれかと電気的に接続される。例えば、バンプ16は、金バンプである。例えば、バンプ16の高さは、10μmから50μmである。
Each of the plurality of
例えば、弾性波デバイス17は、送受信が同じ周波数帯のTDDフィルタである。弾性波デバイス17は、バンプ16を介して配線基板11の主面にフリップチップボンディングにより実装される。図示されないが、弾性波デバイス17は、配線基板と複数のバンプと少なくとも1つの弾性波デバイスチップと封止部とを備える。
For example, the
例えば、配線基板は、配線基板11と同等である。
For example, the wiring board is equivalent to the
複数のバンプは、配線基板と電気的に接続される。例えば、バンプは、金バンプである。例えば、バンプの高さは、10μmから50μmである。 The plurality of bumps are electrically connected to the wiring board. For example, the bumps are gold bumps. For example, the height of the bump is 10 μm to 50 μm.
例えば、弾性波デバイスチップは、チップ基板と配線パターンと複数の弾性波素子とを備える。 For example, an acoustic wave device chip includes a chip substrate, a wiring pattern, and a plurality of acoustic wave elements.
例えば、チップ基板は、タンタル酸リチウムまたはリチウムナイオベートで形成される。チップ基板の主面は、複数のバンプを介して配線基板とボンディングされることで電気的に接続される。 For example, the chip substrate is formed from lithium tantalate or lithium niobate. The main surface of the chip substrate is electrically connected to the wiring board by bonding through a plurality of bumps.
配線パターンは、チップ基板の主面に形成される。例えば、配線パターンは、銀、アルミニウム、銅、チタン、パラジウムなどの適宜の金属もしくは合金で形成される。例えば、配線パターンの厚みは、1500nmから4500nmである。 The wiring pattern is formed on the main surface of the chip substrate. For example, the wiring pattern is formed of a suitable metal or alloy such as silver, aluminum, copper, titanium, palladium, or the like. For example, the thickness of the wiring pattern is from 1500 nm to 4500 nm.
複数の弾性波素子は、チップ基板の主面に形成される。複数の弾性波素子は、配線パターンと電気的に接続される。例えば、複数の弾性波素子は、所望の周波数帯の電気信号が通過し得るように設けられる。例えば、複数の弾性波素子は、複数の直列共振器と複数の並列共振器からなるラダー型フィルタとして機能する。 A plurality of acoustic wave elements are formed on the main surface of the chip substrate. The plurality of acoustic wave elements are electrically connected to the wiring pattern. For example, a plurality of acoustic wave elements are provided so that electrical signals in a desired frequency band can pass therethrough. For example, the plurality of elastic wave elements function as a ladder filter consisting of a plurality of series resonators and a plurality of parallel resonators.
スイッチ18は、配線基板11の主面に実装される。スイッチ18は、ワイヤボンディングにより配線パターン15と電気的に接続される。スイッチ18は、モジュール1の送信信号と受信信号とを切り替え得るように設けられる。
パワーアンプ19は、配線基板11の主面に実装される。パワーアンプ19は、ワイヤボンディングにより配線パターン15と電気的に接続される。パワーアンプ19は、モジュール1の送信信号を増幅し得るように設けられる。
例えば、電子デバイス20は、インダクタである。例えば、電子デバイス20は、キャパシタである。電子デバイス20は、バンプ16を介して配線基板11の主面にフリップチップボンディングにより実装される。電子デバイス20は、インピーダンスマッチングのために実装される。
For example,
封止部21は、弾性波デバイス17とスイッチ18とパワーアンプ19と複数の電子デバイス20とを覆うように形成される。封止部21は、配線基板11とともに、弾性波デバイス17とスイッチ18とパワーアンプ19と複数の電子デバイス20とを気密封止する。例えば、封止部21は、合成樹脂等の絶縁体で形成される。例えば、封止部21は、金属で形成される。例えば、封止部21は、絶縁層と金属層とで形成される。
The sealing
封止部21が合成樹脂で形成される場合、当該合成樹脂は、エポキシ樹脂、ポリイミドなどである。好ましくは、封止部21は、低温硬化プロセスを用いてエポキシ樹脂で形成される。
When the sealing
次に、図2を用いて、モジュール1の動作の概要を説明する。
図2は実施の形態1におけるモジュールの等価回路図である。
Next, an overview of the operation of the
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the module in the first embodiment.
図2に示されるように、モジュール1は、送信端子Term_Tと受信端子Term_Rとアンテナ端子Term_ANTとを備える。
As shown in FIG. 2, the
スイッチ18が第1状態の際、モジュール1の送信信号の経路が確立される。この際、送信信号は、送信端子Term_Tを通過した後、パワーアンプ19を通過する。この際、送信信号は、増幅される。その後、送信信号は、スイッチ18を通過する。その後、送信信号は、弾性波デバイス17を通過する。その後、送信信号は、アンテナ端子Term_Tを通過する。
When the
スイッチ18が第2状態の際、モジュール1の受信信号の経路が確立される。この際、受信信号は、アンテナ端子Term_ANTを通過した後、弾性波デバイス17を通過する。その後、受信信号は、スイッチ18を通過する。その後、受信信号は、受信端子Term_Rを通過する。
When the
次に、図3を用いて、モジュール1の要部を説明する。
図3は実施の形態1におけるモジュールの要部の平面図である。
Next, the main parts of the
FIG. 3 is a plan view of the main parts of the module in the first embodiment.
図3に示されるように、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有する。図示されないが、封止部21は、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13と配線基板11の露出部とに接合する。
As shown in FIG. 3, the
図3において、第1電子デバイス20aは、配線基板11の右側かつ下側に配置される。第2電子デバイス20bは、配線基板11の右側かつ上側に配置される。第2電子デバイス20bは、第1電子デバイス20aよりも配線基板11の右縁部から離れた位置に配置される。
In FIG. 3, the first
第1電子デバイス20aと配線基板11の右縁部とに隣接する領域Aにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも大きい。
In region A adjacent to the first
第2電子デバイス20bと配線基板11の右縁部とに隣接する領域Bにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも小さい。
In region B adjacent to the second
配線パターン15は、メタルパターンに適宜挟まれるように配置される。
The
例えば、領域Cにおいて、配線パターン15は、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とに挟まれるように配置される。具体的には、配線パターン15は、第1メタルパターン12よりも配線基板11の中央の側において第1メタルパターン12に隣接する。第2メタルパターン13は、配線パターン15よりも配線基板11の中央の側において配線パターン15に隣接する。
For example, in region C, the
例えば、領域Dにおいて、配線パターン15は、第1メタルパターン12に挟まれるように配置される。具体的には、配線パターン15は、第1メタルパターン12の凹部に収まるように配置される。
For example, in region D, the
例えば、領域Eにおいて、配線パターン15は、同じ第2メタルパターン13に挟まれるように配置される。具体的には、配線パターン15は、第2メタルパターン13の凹部に収まるように配置される。
For example, in region E, the
例えば、領域Fにおいて、配線パターン15は、異なる第2メタルパターン13に挟まれるように配置される。具体的には、第2メタルパターン13の一方は、配線パターン15の一側に隣接する。第2メタルパターン13の他方は、配線パターン15の他側に隣接する。
For example, in region F, the
次に、図4から図7を用いて、配線基板11を説明する。
図4は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第1層の平面図である。図5は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第2層の平面図である。図6は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第3層143の平面図である。図7は実施の形態1におけるモジュールが備えた配線基板の第4層の平面図である。
Next, the
FIG. 4 is a plan view of the first layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. FIG. 5 is a plan view of the second layer of the wiring board included in the module according to the first embodiment. FIG. 6 is a plan view of the
図4の第1層141は、配線基板11の主面を形成する表面を有する層である。図4に示されるように、第1層141は、複数の第1層用ビア141aを備える。第1層141において、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、電気的に接続されていない。
The
図5の第2層142は、第1層141の裏面に接合される層である。図5に示されるように、第2層142は、第2層用メタルパターン142aと複数の第2層用配線パターン142bと複数の第2層用ビア142cとを備える。
The
図6の第3層143は、第2層142の裏面に接合される層である。図6に示されるように、第3層143は、第3層用メタルパターン143aと複数の第3層用配線パターン143bと複数の第3層用ビア143cとを備える。
The
図7の第4層144は、第3層143の裏面に接合される層である。第4層144は、配線基板11の主面とは反対側の面を形成する層である。図7に示されるように、第4層144は、第4層用メタルパターン144aと複数の外部接続端子131とを備える。
The
第1層141から第4層144が積層されると、所望の電気的な接続が確立される。例えば、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、第1層141におけるグランド電位のビアと第2層用メタルパターン142aとを介して電気的に接続される。その結果、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、グランド電位となる。
When the
次に、図8を用いて、弾性波素子の第1例を説明する。
図8は実施の形態1におけるモジュールに実装された弾性波デバイスの弾性波素子の第1例を示す図である。
Next, a first example of the acoustic wave element will be described using FIG. 8.
FIG. 8 is a diagram showing a first example of an acoustic wave element of an acoustic wave device mounted in a module in the first embodiment.
図8の例は、弾性波素子が弾性表面波共振器である例である。図8に示されるように、IDT(Interdigital Transducer)22aと一対の反射器22bとは、チップ基板の主面に形成される。一対の反射器22bの一方は、IDT22aの一側に隣接する。一対の反射器22bの他方は、IDT22aの他側に隣接する。IDT22aと一対の反射器22bとは、弾性表面波を励振し得るように設けられる。
The example in FIG. 8 is an example in which the acoustic wave element is a surface acoustic wave resonator. As shown in FIG. 8, an IDT (Interdigital Transducer) 22a and a pair of
例えば、IDT22aと一対の反射器22bとは、アルミニウムと銅の合金で形成される。例えば、IDT22aと一対の反射器22bとは、チタン、パラジウム、銀などの適宜の金属もしくはこれらの合金で形成される。例えば、IDT22aと一対の反射器22bとは、複数の金属層が積層した積層金属膜で形成される。例えば、IDT22aと一対の反射器22bとの厚みは、150nmから400nmである。
For example, the
IDT22aは、一対の櫛形電極22cを備える。一対の櫛形電極22cは、互いに対向する。櫛形電極22cは、複数の電極指22dとバスバー22eとを備える。複数の電極指22dは、長手方向を合わせて配置される。バスバー22eは、複数の電極指22dを接続する。
The
次に、図9を用いて、弾性波素子の第2例を説明する。
図9は実施の形態1におけるモジュールに実装された弾性波デバイスの弾性波素子の第2例を示す図である。
Next, a second example of the acoustic wave element will be described using FIG. 9.
FIG. 9 is a diagram showing a second example of the acoustic wave element of the elastic wave device mounted in the module in the first embodiment.
図9の例は、弾性波素子が圧電薄膜共振器である例である。図9において、チップ基板60は、シリコン等の半導体基板、または、サファイア、アルミナ、スピネルもしくはガラス等の絶縁基板である。
The example in FIG. 9 is an example in which the acoustic wave element is a piezoelectric thin film resonator. In FIG. 9, the
圧電膜62は、チップ基板60上に設けられる。例えば、圧電膜62は、窒化アルミニウムで形成される。
A
下部電極64と上部電極66とは、圧電膜62を挟むように設けられる。例えば、下部電極64と上部電極66とは、ルテニウム等の金属で形成される。
The
空隙68は、下部電極64とチップ基板60との間に形成される。
A
音響薄膜共振器において、下部電極64と上部電極66とは、圧電膜62の内部に厚み縦振動モードの弾性波を励振する。
In the acoustic thin film resonator, the
以上で説明された実施の形態1によれば、第1メタルパターン12は、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有する。封止部21は、第1メタルパターン12と配線基板11の露出部との両方に接合する。第1メタルパターン12が封止部21と接合する領域の境界線が長くなり、さらに、凹凸形状においては第1メタルパターン12の凹部部分に、ギザギザ形状においては、第1メタルパターン12の谷部分に、封止部21が入り込む。このため、アンカー効果が得られ、封止部21と配線基板11の密着性を向上させることができる。
According to the first embodiment described above, the
なお、第1メタルパターン12は、配線基板11の端部から15μm程度内側に形成される。このため、封止部21と配線基板11の端部との密着性を向上させることができる。
Note that the
また、第1電子デバイス20aと配線基板11の縁部とに隣接する領域Aにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも大きい。第2電子デバイス20bと配線基板11の縁部とに隣接する領域Bにおいて、封止部21と配線基板11の露出部が接合する面積は、封止部21と第1メタルパターン12が接合する面積よりも小さい。このため、配線基板11の縁部に近い第1電子デバイス20aの近傍においても、封止部21と配線基板11の露出部とが密着することで、封止部21と配線基板11の密着性をより確実に向上させることできる。さらに、配線基板11の縁部から第2電子デバイス20bの近傍においても、封止部21と配線基板11の露出部とが密着するだけでなく、ある程度の面積を有した第1メタルパターン12の領域が封止部21と接合することで、封止部21と配線基板11の密着性をより確実に向上させることできる。
Further, in the area A adjacent to the first
また、第2メタルパターン13は、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有する。封止部21は、第2メタルパターン13と配線基板11の露出部との両方に接合する。第2メタルパターン13が封止部21と接合する領域の境界線が長くなり、さらに、凹凸形状においては第2メタルパターン13の凹部部分に、ギザギザ形状においては、第2メタルパターン13の谷部分に、封止部21が入り込む。このため、アンカー効果が得られ、封止部21と配線基板11の密着性を向上させることができる。
Further, the
また、第1メタルパターン12と第2メタルパターン13とは、配線基板11と封止部21との間の熱伝導性を高める。このため、モジュール1の放熱性をよくする。
Further, the
また、第1メタルパターン12は、グランド電位の電極パッド14と電気的に接続される。このため、グランドを強化することができる。なお、第1メタルパターン12は、少なくとも1つのグランド電位の電極パッド14と電気的に接続されていればよい。
Further, the
また、配線パターン15は、第1メタルパターン12よりも配線基板11の中央の側において第1メタルパターン12に隣接する。第2メタルパターン13は、配線パターン15よりも配線基板11の中央の側において配線パターン15に隣接する。このため、配線パターン15とグランドのカップリング減少を抑制することができる。その結果、モジュール1の特性の劣化を抑制することができる。
Further, the
ここで、第1メタルパターン12または第2メタルパターン13が配線パターン15に近接している場合、当該メタルパターンと配線パターン15との間には、寄生容量が発生する。例えば、当該メタルパターンと配線パターン15との間の距離が一定である場合、一定の寄生容量が発生する。この際、当該メタルパターンがギザギザ形状部分を有すれば、当該メタルパターンと配線パターン15との間の距離を調整することができる。このため、当該メタルパターンによる放熱の効果を可能な限り増やしつつ、当該メタルパターンと配線パターン15との間の寄生容量が問題とならないように調整することができる。
Here, when the
また、封止部21は、合成樹脂で形成される。このため、特に、配線基板11の露出部に対して封止部21の密着性を向上させることができる。
Moreover, the sealing
また、弾性波デバイス17は、弾性表面波共振器を用いたフィルタである。このため、所望の周波数帯の電気信号が通過させるモジュール1を得ることができる。
Further, the
また、弾性波デバイス17は、音響薄膜共振器を用いたフィルタである。このため、所望の周波数帯の電気信号が通過させるモジュール1を得ることができる。
Further, the
また、弾性波デバイス17は、TDDフィルタである。弾性波デバイス17においては、スイッチ18により送信信号と受信信号とが切り替えられる。弾性波デバイス17は、パワーアンプ19により増幅された信号を送信する。モジュール1において、送信信号と受信信号とを切り替えられるだけでなく、適切な送信信号を出力することができる。
Moreover, the
なお、弾性波デバイス17として、2つの弾性波デバイスチップが実装されたデュプレクサ、1つの弾性波デバイスチップが実装されたバンドパスフィルタ、4つの弾性波デバイスチップが実装されたクアッドプレクサを採用してもよい。
As the
また、弾性波デバイス17として、弾性波デバイスチップを直接的に配線基板11を実装してもよい。
Further, as the
少なくとも一つの実施形態のいくつかの側面が説明されたが、様々な改変、修正および改善が当業者にとって容易に想起されることを理解されたい。かかる改変、修正および改善は、本開示の一部となることが意図され、かつ、本開示の範囲内にあることが意図される。 While several aspects of at least one embodiment have been described, it is to be understood that various alterations, modifications, and improvements will readily occur to those skilled in the art. Such alterations, modifications, and improvements are intended to be part of, and are intended to be within the scope of, this disclosure.
理解するべきことだが、ここで述べられた方法および装置の実施形態は、上記説明に記載され又は添付図面に例示された構成要素の構造および配列の詳細への適用に限られない。方法および装置は、他の実施形態で実装し、様々な態様で実施又は実行することができる。 It should be understood that the method and apparatus embodiments described herein are not limited to application to the details of structure and arrangement of components described in the foregoing description or illustrated in the accompanying drawings. The methods and apparatus may be implemented in other embodiments and of being practiced or carried out in various ways.
特定の実装例は、例示のみを目的としてここに与えられ、限定されることを意図しない。 Specific implementations are provided herein for illustrative purposes only and are not intended to be limiting.
本開示で使用される表現および用語は、説明目的であって、限定としてみなすべきではない。ここでの「含む」、「備える」、「有する」、「包含する」およびこれらの変形の使用は、以降に列挙される項目およびその均等物並びに付加項目の包括を意味する。 The expressions and terminology used in this disclosure are for descriptive purposes and should not be considered limiting. The use of "comprising," "comprising," "having," "including" and variations thereof herein means the inclusion of the items listed below and their equivalents and additional items.
「又は(若しくは)」の言及は、「又は(若しくは)」を使用して記載される任意の用語が、当該記載の用語の一つの、一つを超える、およびすべてのものを示すように解釈され得る。 References to "or" shall be construed to mean that any term listed using "or" refers to one, more than one, and all of the listed terms. can be done.
前後左右、頂底上下、横縦、表裏への言及は、いずれも、記載の便宜を意図する。当該言及は、本開示の構成要素がいずれか一つの位置的又は空間的配向に限られるものではない。したがって、上記説明および図面は、例示にすぎない。 References to front and back, left and right, top and bottom, horizontal and vertical, and front and back are intended for convenience of description. Such reference is not intended to limit the components of the present disclosure to any one positional or spatial orientation. Accordingly, the above description and drawings are illustrative only.
1 モジュール、 11 配線基板、 12 第1メタルパターン、 13 第2メタルパターン、 14 電極パッド、 15 配線パターン、 16 バンプ、 17 弾性波デバイス、 18 スイッチ、 19 パワーアンプ、 20 電子デバイス、 20a 第1電子デバイス、 20b 第2電子デバイス、 21 封止部、 22a IDT、 22b 反射器、 22c 櫛形電極、 22d 電極指、 22e バスバー、 60 チップ基板、 62 圧電膜、 64 下部電極、 66 上部電極、 68 空隙、 131 外部接続端子、 141 第1層、 141a 第1層用ビア、 142 第2層、 142a 第2層用メタルパターン、 142b 第2層用配線パターン、 142c 第2層用ビア、 143 第3層、 143a 第3層用メタルパターン、 143b 第3層用配線パターン、 143c 第3層用ビア、 144 第4層、 144a 第4層用メタルパターン 1 module, 11 wiring board, 12 first metal pattern, 13 second metal pattern, 14 electrode pad, 15 wiring pattern, 16 bump, 17 acoustic wave device, 18 switch, 19 power amplifier, 20 electronic device, 20a first electron device, 20b second electronic device, 21 sealing part, 22a IDT, 22b reflector, 22c comb-shaped electrode, 22d electrode finger, 22e bus bar, 60 chip substrate, 62 piezoelectric film, 64 lower electrode, 66 upper electrode, 68 void, 131 external connection terminal, 141 first layer, 141a via for first layer, 142 second layer, 142a metal pattern for second layer, 142b wiring pattern for second layer, 142c via for second layer, 143 third layer, 143a Metal pattern for third layer, 143b Wiring pattern for third layer, 143c Via for third layer, 144 Fourth layer, 144a Metal pattern for fourth layer
Claims (8)
前記配線基板上に実装された弾性波デバイスと、
前記配線基板上の外縁部分に形成された第1メタルパターンと、
前記弾性波デバイスを機密封止する封止部と、
を備え、
前記第1メタルパターンは、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、
前記封止部は、前記第1メタルパターンと前記配線基板の露出部との両方に接合したモジュール。 a wiring board;
an acoustic wave device mounted on the wiring board;
a first metal pattern formed on an outer edge portion of the wiring board;
a sealing part that hermetically seals the acoustic wave device;
Equipped with
The first metal pattern has an uneven portion or a jagged portion,
In the module, the sealing portion is bonded to both the first metal pattern and the exposed portion of the wiring board.
前記第1電子デバイスよりも前記配線基板の縁部から離れた位置で前記配線基板上に実装された第2電子デバイスと、
を備え、
前記第1電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも大きく、
前記第2電子デバイスと前記配線基板の前記縁部とに隣接する前記凹凸形状部分又はギザギザ形状部分の領域において、前記封止部と前記配線基板の露出部が接合する面積は、前記封止部と前記第1メタルパターンが接合する面積よりも小さい請求項1に記載のモジュール。 a first electronic device mounted on the wiring board and different from the acoustic wave device;
a second electronic device mounted on the wiring board at a position farther from an edge of the wiring board than the first electronic device;
Equipped with
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the first electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion. larger than the area where the first metal pattern and the first metal pattern are bonded;
In the region of the uneven portion or the jagged portion adjacent to the second electronic device and the edge of the wiring board, the area where the sealing portion and the exposed portion of the wiring board are bonded is equal to the area of the sealing portion The module according to claim 1, wherein the area is smaller than the area where the first metal pattern and the first metal pattern are bonded.
を備え、
前記複数の電極パッドの少なくとも一つは、グランド電位であり、グランド電位の前記電極パッドは、前記第1メタルパターンと電気的に接続された請求項1または請求項2に記載のモジュール。 a plurality of electrode pads electrically connected to the acoustic wave device;
Equipped with
3. The module according to claim 1, wherein at least one of the plurality of electrode pads is at ground potential, and the electrode pad at ground potential is electrically connected to the first metal pattern.
前記配線パターンよりも前記配線基板の中央の側において前記配線パターンに隣接して前記配線基板上に形成され、凹凸形状部分又はギザギザ形状部分を有し、グランド電位である第2メタルパターンと、
を備えた請求項3に記載のモジュール。 a wiring pattern formed on the wiring board adjacent to the first metal pattern on a side closer to the center of the wiring board than the first metal pattern, and through which a signal flows;
a second metal pattern formed on the wiring board adjacent to the wiring pattern on the side closer to the center of the wiring board than the wiring pattern, having an uneven portion or a jagged portion, and having a ground potential;
4. The module according to claim 3, comprising:
を備え、
前記弾性波デバイスは、TDDフィルタであり、前記スイッチにより送信信号と受信信号とが切り替えられ、前記パワーアンプにより増幅された信号を送信する請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のモジュール。 a switch mounted on the wiring board; a power amplifier mounted on the wiring board;
Equipped with
8. The elastic wave device is a TDD filter, the switch switches between a transmission signal and a reception signal, and the power amplifier transmits a signal amplified. module.
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