JP6927215B2 - 酸性成分除去剤、その製造方法および酸性成分除去方法 - Google Patents
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Description
排ガス流路2の上流側には、一般廃棄物、産業廃棄物等の焼却炉(図示略)等が設置されている。排出ガス流路2には、焼却炉等からの塩化水素、窒素酸化物、硫黄酸化物等の酸性成分を含んだ排ガスが流通している。
供給管3は、上流側から流通させた空気流によって、開口部3aから供給された酸性成分除去剤Mを下流側に送出するものである。供給管3の下流側末端は、排ガス流路2内に配置されている。供給管3の下流側末端には、酸性成分除去剤Mを排ガス中に噴出させる噴出器3bが取り付けられている。
ハウジング41の上部41cと中央部41bとが仕切り板45によって仕切られており、ハウジング41の中央部41bから上部41cに排ガスが移動する際に排ガスが濾布43を必ず通過するように構成されている。
仕切り板45には貫通部45aが設けられ、この貫通部45aには濾布の中空部43aとハウジング41の上部41cとを連通させる連通管46が取り付けられている。
粉体定量供給装置5を作動させて、サイロ1中の酸性成分除去剤Mを供給管3に供給する。供給管3に供給された酸性成分除去剤Mは、気体流を用いて搬送されて下流末端に送られ、噴出器3bから排ガス流路2の排ガス中に噴出される。
噴出された酸性成分除去剤Mは、一部が排ガス中の酸性成分と反応して反応生成物となる。そして、反応生成物と未反応の酸性成分除去剤Mとが、排ガスとともにバグフィルター4に送られる。
バグフィルター4においては、反応生成物と未反応の酸性成分除去剤Mとが濾布43の表面に堆積して濾過層を形成し、該濾過層によって排ガス中の酸性成分がさらに除去される。酸性成分が除去された排ガスは、濾布43を通過し、連通管46を介して排出口44から排出される。
しかし、酸性成分除去剤の流動性が極端に向上すると、バグフィルターの濾布を構成する繊維の隙間に酸性成分除去剤の粒子が侵入しやすくなる。このため、濾布における圧力損失が上昇して排ガスの流通量が大幅に低下する、酸性成分除去剤の粒子が濾布を通過し排ガス中に漏れ出す、濾布の表面に堆積した濾過層が過度に剥がれ落ちる、といった問題が発生するおそれがある。また、濾布の圧力損失を復旧させるため、圧縮空気を排ガスの流れの逆方向から流して、濾布の表面および濾布の繊維の隙間の酸性成分除去剤の粒子の払い落し(逆洗)を実施しても、復旧しにくくなる恐れもある。
そこで、バグフィルターの濾布における圧力損失の上昇、濾布からの酸性成分除去剤の漏れ、および濾布の表面に堆積した濾過層の脱落を抑制する酸性成分除去剤として、炭酸水素ナトリウムと、疎水性ヒュームドシリカと、膠質炭酸カルシウムとを混合し、粉砕する、またはこれらを粉砕と同時に混合する酸性成分除去剤の製造方法であって、前記膠質炭酸カルシウムの1次粒子の平均粒径が、50nm以下であり、前記疎水性ヒュームドシリカの含有割合が、酸性成分除去剤中、0.2〜0.5質量%であり、前記膠質炭酸カルシウムの含有割合が、酸性成分除去剤中、1.5〜2.5質量%であり、酸性成分除去剤の平均粒子径が3〜20μmである酸性成分除去剤の製造方法が提案されている(特許文献3)。
[1]炭酸水素ナトリウム、膠質炭酸カルシウム、および任意に疎水性ヒュームドシリカを含有する平均粒径が3〜20μmの酸性成分除去剤であって、前記膠質炭酸カルシウムは、1次粒子の平均粒径が50nm以下であり、酸性成分除去剤における含有割合が0.05〜5質量%であり、かつ、前記疎水性ヒュームドシリカは、酸性成分除去剤における含有割合が0.2質量%未満であることを特徴とする酸性成分除去剤。
[2]前記膠質炭酸カルシウムは、表面処理が施されていないものであり、酸性成分除去剤における含有割合が0.5〜5質量%である前記[1]の酸性成分除去剤。
[3]前記膠質炭酸カルシウムは、表面処理が施されたものであり、酸性成分除去剤における含有割合が0.05〜2質量%である前記[1]の酸性成分除去剤。
[4]前記疎水性ヒュームドシリカの炭素含有率が0.8〜5質量%である前記[1]〜[3]のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤。
[5]前記疎水性ヒュームドシリカは、酸性成分除去剤における含有割合が0.01質量%未満である[1]〜[4]のいずれかの酸性成分除去剤。
[6]前記膠質炭酸カルシウムの2次粒子の平均粒径が1〜10μmであり、前記炭酸水素ナトリウムの平均粒径よりも小さい、前記[1]〜[5]のいずれかの酸性成分除去剤。
[7]前記膠質炭酸カルシウムのBET比表面積が30m2/g以上である前記[1]〜[6]のいずれかの酸性成分除去剤。
[8]前記酸性成分の破断応力が、350mN以下である前記[1]〜[7]のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤。
[9]前記[1]〜[8]のいずれかの酸性成分除去剤の製造方法であって、炭酸水素ナトリウム、膠質炭酸カルシウム、および任意に疎水性ヒュームドシリカを混合したのち粉砕手段により粉砕する、または粉砕手段により混合しながら粉砕する酸性成分除去剤の製造方法。
[10]炭酸水素ナトリウム、膠質炭酸カルシウム、および任意に疎水性ヒュームドシリカを前記粉砕手段により粉砕したのち、粉砕して得られた粉砕物を分級手段により分級する前記[9]の製造方法。
[11]前記分級手段により分級された粒径が50μmを超える粒子を前記粉砕手段に戻す前記[10]の製造方法。
[12]前記粉砕手段が衝撃式粉砕機またはジェットミルである前記[9]〜[11]のいずれかの製造方法。
[13]前記[1]〜[8]のいずれかの酸性成分除去剤を、貯留設備に一旦貯留したのちに酸性成分を含む気体中に供給する、気体中の酸性成分除去方法。
[14]前記[1]〜[8]のいずれかの酸性成分除去剤を、貯留設備から排出させて気体流を用いて搬送し、酸性成分を含む気体中に供給する前記[13]の酸性成分除去方法。
「差圧」とは、バグフィルターの入り口と出口との排ガスの圧力差を意味する。
「残留圧損」とは、酸性成分の除去装置や集塵性能試験装置などの装置を一定期間運転した後の圧力損失を意味する。
「逆洗」とは、排ガス処理を行って、圧力損失が高くなった濾布の状態を復旧させるため、排ガスの流れの逆方向から圧縮空気を逆に流して濾布の表面および濾布の繊維の隙間の酸性成分除去剤の粒子を払い落す操作を意味する。
「平均粒径」は、平均粒子径と同じ意味である。
「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明の酸性成分除去剤は、炭酸水素ナトリウム、膠質炭酸カルシウム、および任意に疎水性ヒュームドシリカを含有する平均粒径が3〜20μmの酸性成分除去剤であって、前記膠質炭酸カルシウムは、1次粒子の平均粒径が50nm以下であり、酸性成分除去剤中の含有割合が0.05〜5質量%であり、かつ前記疎水性ヒュームドシリカは、酸性成分除去剤中の含有割合が0.2質量%未満である。
なお、酸性成分除去剤の平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置(例えば、日機装社製、マイクロトラックFRA9220)を用いて測定した体積基準における平均粒径(MV)である。
本発明の酸性成分除去剤に用いられる炭酸水素ナトリウムは、炭酸水素ナトリウム粒子の平均粒径の大きさに制限なく用いることができる。炭酸水素ナトリウム粒子の平均粒径とは、1次粒子と2次粒子を合わせたもの全体の平均粒径である。炭酸水素ナトリウム粒子の平均粒径は50μm以上であることが好ましく、90〜300μmであることが好ましい。
なお、炭酸水素ナトリウム粒子の平均粒径は、標準篩を用いた音波振動式ふるい分け測定器(例えば、セイシン企業社製、自動乾式ふるい分け測定器ロボットシフターRPS−105)によって測定された累積質量の50質量%における粒径(メジアン径、D50)である。
本発明の酸性成分除去剤に含まれる膠質炭酸カルシウムとは、反応晶析法などにより化学的に製造されるものであり、所謂コロイダル炭酸カルシウムまたはコロイド炭酸カルシウムと呼ばれる沈降炭酸カルシウム(合成炭酸カルシウム)が好ましい。本明細書において、膠質炭酸カルシウムとは、表面処理を目的とした成分を添加せずに製造されたものと、表面処理を目的とした成分を添加し、表面処理を施したものとを合わせた総称として用いる。
なお、膠質炭酸カルシウムの1次粒子の平均粒径は、走査型電子顕微鏡(SEM)によって測定したものであり、具体的には、100個の1次粒子について各粒子のSEM画像からその粒径を計測し、計測値を算術平均したものである。
膠質炭酸カルシウムの2次粒子の平均粒径は、レーザー回折散乱方式の測定装置によって測定した体積基準における平均粒径(MV)である。
表面処理膠質炭酸カルシウムは、粒子の凝集が抑制され、均一に分散しやすい。表面処理膠質炭酸カルシウムは、膠質炭酸カルシウム粒子の表面に、ロジン酸、リグニン酸等の樹脂酸や脂肪酸を付着させる表面処理が施されたものであることが好ましい。
表面処理膠質炭酸カルシウムの1次粒子及び2次粒子の平均粒径並びに窒素吸着法での測定によるBET比表面積は、前述の膠質炭酸カルシウムと同様であり、好ましい態様も同様である。
表面処理膠質炭酸カルシウムとしては、市販のものを適宜用いることができる。例えば、NCCシリーズ(日東粉化工業社製品名)、白石工業社製白艶華シリーズ、Calmos、Vigotシリーズ(白石カルシウム社製品名)が挙げられる。
表面処理が施されていない膠質炭酸カルシウムとしては、市販のものを適宜用いることができる。例えば、ネオライトVT(竹原化学工業社製品名)、カルライトKT(白石工業社製品名)が挙げられる。
膠質炭酸カルシウムが、表面処理が施されていないものである場合、該膠質炭酸カルシウムの酸性成分除去剤における含有割合は、0.5〜5質量%が好ましい。0.5質量%以上であれば、サイロからの排出性が充分に向上しやすく、5質量%以下であれば、濾布目詰まり等の問題が起こりにくい。該含有割合は1〜4質量%がより好ましく、2〜3質量%がさらに好ましい。
本発明の酸性成分除去剤に含まれる疎水性ヒュームドシリカの含有割合は、酸性成分除去剤100質量%対して、0.2質量%未満である。疎水性ヒュームドシリカとは、ヒュームドシリカの表面が疎水化処理を施されたものをいい、表面が疎水化処理を施されていない、通常のヒュームドシリカと区別される。
ヒュームドシリカとしては、合成非晶質シリカのうち、特に乾式法により製造されるものが好ましい。具体的には燃焼法、自己燃焼法、または加熱法により製造されるものが挙げられる。
疎水性ヒュームドシリカの疎水化度とは、ヒュームドシリカの表面に付着しているジメチルシラン等の疎水化処理剤の付着量の程度を示す指標であり、疎水性ヒュームドシリカの炭素含有率で表す。疎水性ヒュームドシリカの炭素含有率は、燃焼式の炭素量測定装置(SUMIGRAPH NC−80(住化分析センター社製)やEMIA−110(堀場製作所社製)など)によって測定される。
なお、疎水性ヒュームドシリカの1次粒子とは、SEM観察像の目視観察により判断される構成粒子の最小単位をいう。疎水性ヒュームドシリカの1次粒子の平均粒径は、SEMによって測定したものであり、具体的には100個の1次粒子について、各粒子のSEM画像からその粒径を計測し、計測値を算術平均したものである。
本発明の酸性成分除去剤は、疎水化処理が施されていないヒュームドシリカを含んでもよい。疎水化処理が施されていないヒュームドシリカは、合成非晶質シリカのうち、特に乾式法により製造されるものが好ましい。乾式法としては、燃焼法、自己燃焼法、加熱法等が挙げられる。
疎水化処理が施されていないヒュームドシリカの1次粒子とは、SEM観察像の目視観察により判断される構成粒子の最小単位をいう。ヒュームドシリカの1次粒子の平均粒径は、SEMよって測定したものであり、具体的には100個の1次粒子について、各粒子のSEM画像からその粒径を計測し、計測値を算術平均したものである。
疎水化処理が施されていないヒュームドシリカを含む場合には、ヒュームドシリカの酸性成分除去剤における含有割合は、0.01〜5質量%が好ましく、粒子の流動性を調整する観点から0.05〜3質量%がより好ましい。
本発明の酸性成分除去剤に含有してもよい成分としては、上記の他に、炭酸水素カリウム、消石灰、ゼオライト等の酸性成分除去成分、活性炭等の吸着剤、上記以外のシリカ系粉体、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、珪藻土等の固結防止剤等が挙げられる。
酸性成分除去剤において、その他の成分を含有する場合を除き、残余は炭酸水素ナトリウムであることが好ましい。炭酸水素ナトリウム、膠質炭酸カルシウムおよび疎水性ヒュームドシリカの合計の含有割合は、酸性成分除去剤中、85質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましい。
本発明の酸性成分除去剤は、炭酸水素ナトリウム、膠質炭酸カルシウムおよび任意に疎水性ヒュームドシリカを混合したのち粉砕する方法、または粉砕と同時に混合する方法で製造することができる。粉砕を行なう時間の大部分においてこれらの粉体が共存していることが好ましいため、これらの粉体を混合してその混合物を粉砕機に供給するか、またはこれらの粉体をほぼ同時に粉砕機に供給して粉砕することが好ましい。
粉砕手段としては、衝撃式粉砕機(高速回転する羽根等による粉砕機)、ジェットミル(衝突気流による粉砕機)、ボールミルが好ましい。細かい粒子を得ることができるため、衝撃式粉砕機またはジェットミルを用いることがより好ましい。ジェットミルは、動力に要する費用が高くなるが、微粒子化に適しているため、特に好ましい。
粉砕手段と分級手段とは、それぞれに独立した装置であってもよいし、粉砕手段と分級手段とが一体となった装置であってもよい。
粉砕手段と分級手段とが一体となった装置の例としては、風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機などが挙げられる。風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機を用いると、粉砕機から排出される粉砕物は連続的に粒径により分級され、粉砕手段に戻されるため、生産性を向上することができる。
酸性成分除去剤において、その他の成分を含有する場合にも、上記と同様に製造することができ、好ましい態様も同様である。
本発明の酸性成分除去剤を用いて気体中の酸性成分を除去する方法としては、酸性成分除去剤を貯留設備に一旦貯留したのちに、酸性成分を含む気体中に供給する方法が好ましい。貯留設備に一旦貯留した酸性成分除去剤を貯留設備から排出させて、気体流を用いて搬送し、該気体流により搬送した酸性成分除去剤を、酸性成分を含む気体中に供給する方法がより好ましい。
貯留設備は、サイロであってよい。貯留設備から酸性成分除去剤を排出する方法としては、例えば、通常一般に使用される、ロータリーバルブやテーブルフィーダーを用いる方法が挙げられる。
貯留設備から排出された酸性成分除去剤を搬送し、酸性成分を含む気体中に供給する気体流は、空気流であってよい。酸性成分を含む気体としては、例えば、一般廃棄物(都市ゴミ)の焼却処理、ボイラ、各種製品の製造工程において排出される排ガスが挙げられる。
酸性成分を含む気体の温度は、それらの酸性成分の露点より高いことが好ましい。一般廃棄物、産業廃棄物、医療廃棄物の焼却炉の排ガス処理の場合、ダイオキシン類の生成抑制の点からは低い温度が好ましく、具体的には100〜200℃が好ましい。酸性成分を効率よく除去するという点においては、酸性成分が凝縮しないため150〜200℃がより好ましい。後述するバグフィルターの濾布として、ダイオキシン類を分解する触媒を担持した濾布を使用している場合や、ダイオキシン類や窒素酸化物を低減させる触媒を有した設備を併用する場合は、200〜250℃であってもよい。
バグフィルターの濾布としては、種々の材質ものを用いることができる。例えば、合成繊維、ガラス繊維、炭素繊維、フッ素樹脂が挙げられる。合成繊維としては、例えば、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリフェニレンスルファイド、ポリイミド、アラミドが挙げられる。フッ素樹脂としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(以下、PTFEという。)、ポリビニリデンフルオライドが挙げられる。これらの繊維を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。濾布の材質としては、合成繊維、ガラス繊維またはフッ素樹脂が好ましく、ガラス繊維またはフッ素樹脂がより好ましい。
濾布としては、ガラス繊維二重織濾布、表面にラミネート処理を施したガラス繊維二重織濾布、PTFEを備えた不織布濾布が好ましく用いられる。
酸性成分除去剤の破断応力は、サイロ等の貯留設備内部における酸性成分除去剤の固結し易さ、崩れ易さの指標となる。該破断応力は、小さい方が好ましい。350mN以下が好ましく、300mN以下がより好ましく、250mN以下がさらに好ましい。該破断応力が350mN以下であれば、濾布の表面に堆積した濾過層の脱落が生じにくく、また、濾布に対して逆洗を行う際に、濾過層を濾布から容易に取り除くことがでる。また、サイロ等の貯留設備内部においてラットホールやブリッジを形成しにくくなり、酸性成分除去剤を安定して排出することができる。
濾布における残留圧損および濾布からの酸性成分除去剤の漏れ濃度、運転可能時間は、CIN(ドイツ規格協会の制定したドイツ連邦規格)に準拠した集塵性能試験装置(Filter MeCiaTester)や、2007年に制定されたJIS Z8909−1(集塵用濾布の試験方法)に準拠した装置、あるいはこれらを参考にした装置による計測によって求めることができる。
リング状のせん断セル(ジェニケ・セル、内直径:64mm、ステンレス鋼SUS316製)を用いたせん断試験を実施し、付着力、壁面摩擦角、ホッパー傾斜角および出口径を下記のようにして求めた。
試験に用いる垂直荷重(W)およびせん断荷重(W1〜W3)は、試験粉体のかさ比重にしたがい、表1のように決定した。下部固定型せん断セルに試験粉体を詰めた後、せん断セルの上蓋に垂直荷重をかけて予圧密を行い、同じ垂直荷重を加えたまません断力が定常値になるまで圧密を行った。この後、表1に従って、せん断荷重をかけながらせん断応力を測定した。せん断荷重に対してせん断応力をプロットして破壊包絡線を得て、この破壊包絡線の切片から、付着力を求めた。付着力は、粉体相互における付着力の指標であり、小さい方が好ましい。
試験に用いる垂直荷重(W)およびせん断荷重(W1〜W4)は、試験粉体のかさ比重にしたがい、表2のように決定した。下部固定型せん断セルに試験粉体を詰めた後、底部材質がステンレス鋼SUS316であるせん断セル上蓋に垂直荷重をかけて予圧密を行った。表2に従って、せん断荷重をかけながらせん断応力を測定した。せん断荷重に対してせん断応力をプロットして壁破壊包絡線を得て、この壁破壊包絡線の傾きから、ステンレス鋼SUS316との壁面摩擦角を得た。壁面摩擦角は、粉体と容器との相互付着力の指標であり、小さい方が好ましい。
測定値から算出された壁面摩擦角を用い、ff等高線よりホッパー傾斜角を得た。ホッパー傾斜角が大きいほど、ホッパーの角度が緩やかであっても粒子が流動することを示す。ホッパー傾斜角は、図4に示される角度αのことである。図4に示される点線Xは鉛直線である。すなわち、ホッパー傾斜角は、粉体がサイロから安定して排出されるために必要な、サイロ底面の傾きのことであり、大きい方が取扱いやすい粉体であることを示す。
付着力試験の際の垂直荷重をレベル1とし、表3のレベル2〜4についても同様の試験を行い、それぞれの破壊包絡線を得た。これらのプロットから各々のレベルの最大主応力と、非拘束破壊応力を読み取り、粉体の流動関数として直線FFを求めた。このFFと、壁面摩擦角とホッパー傾斜角による直線ffとの交点からfD(非拘束破壊応力)を求めた。さらに次式より出口径を得た。ここでいう出口関数は、ホッパー傾斜角とホッパーの形状によって決定される関数である。出口径は、粉体がサイロから安定して排出されるために必要な、サイロ出口の口径のことであり、小さい方が好ましい。
出口径[Dm]=fD×出口関数÷使用粉体のかさ密度
吊り下げ式粉体層付着力測定装置(ホソカワミクロン社製、コヒテスタDT−2型)を用いた破断応力試験を実施し、破断応力を下記のようにして求めた。
JIS Z8909−1(集塵用濾布の試験方法)に準拠した集塵性能試験装置を用い、残留圧損、運転可能時間を下記のようにして求めた。
濾過面積の0.0139m2、濾過速度の2.0m/分、ダスト濃度の5.0g/m3の条件下で、フィルターの差圧が1000Paとなるまで運転した。次いで、パルス圧力の0.5MPa、パルス作動時間の50msの条件下で、パルスによるフィルタークリーニングを行い、フィルターに集められたダストを払い落とした。上記の方法で、パルスによるフィルタークリーニングを15回行うまで継続して運転した後、ダストの供給を停止して、運転を停止した。上記と同様の条件で、パルスによるフィルタークリーニングを10回実施した後、測定された圧力損失を残留圧損とした。
上記の条件で、試験開始後、フィルターに集められたダストを15回払い落して、ダストの供給を停止するまでに要した時間を運転可能時間とした。
濾布からの漏れ濃度は、上記の残留圧損試験において、テストフィルターの後段に設置したアブソリュートフィルターで捕捉した薬剤量と通過ガス量から算出した。
試験に使用したフィルターは、以下のとおりである。
X:ガラス繊維二重織濾布。
Y:表面ラミネート処理有りガラス繊維二重織濾布。
Z:PTFE不織布濾布。
試験に使用した成分は以下のとおりである。
A:炭酸水素ナトリウム(平均粒径:95μm)。
B:膠質炭酸カルシウム(1次粒子の平均粒径:20nm、2次粒子の平均粒径:1〜10μm、BET比表面積:49m2/g)。
C:表面処理膠質炭酸カルシウム(1次粒子の平均粒径:20nm、2次粒子の平均粒径:1〜10μm、BET比表面積:49m2/g、脂肪酸添加品)。
D:疎水性ヒュームドシリカ(1次粒子の平均粒径:20nm、炭素含有率:1質量%)。
(酸性成分除去剤の製造)
上記成分A、B、C、Dの各成分の含有割合が表4に示す割合となるように混合した後、風力式分級機を備えた衝撃式粉砕機(ホソカワミクロン社製、ADMパルベライザーADM―10A型)を用い、粉砕機から排出される粉砕物を分級し、50μmを超える粒子は再度粉砕機に戻しながら粉砕することによって、平均粒径が9μmの酸性成分除去剤を得て比較した。なお、例5、6および8〜10は実施例であり、例3、4は参考例であり、例1、2および7比較例である。
例5で得た酸性成分除去剤を、粉体流動化策としてのエアレーションノズル(エム・テクニック社製、フルイダイザー)を設置したサイロに一旦貯留し、テーブルフィーダーにて排出した。図1に示されるフローを流れる塩化水素を含む排ガス中へ供給したところ、酸性成分除去剤は安定してサイロから排出され、塩化水素は除去された。また、バグフィルターでの問題は一切発生しなかった。
なお、2016年7月12日に出願された日本特許出願2016−137445号の明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (14)
- 炭酸水素ナトリウム、および表面処理が施されていない膠質炭酸カルシウムのみからなる平均粒径が3〜20μmの酸性成分除去剤であって、
前記表面処理は樹脂酸または脂肪酸を付着させる表面処理であり、
前記膠質炭酸カルシウムは、1次粒子の平均粒径が50nm以下であり、酸性成分除去剤における含有割合が2.5〜3質量%であることを特徴とする酸性成分除去剤。 - 炭酸水素ナトリウム、および表面処理が施された膠質炭酸カルシウムのみからなる平均粒径が3〜20μmの酸性成分除去剤であって、
前記表面処理は樹脂酸または脂肪酸を付着させる表面処理であり、
前記膠質炭酸カルシウムは、1次粒子の平均粒径が50nm以下であり、酸性成分除去剤における含有割合が0.3〜0.8質量%であることを特徴とする酸性成分除去剤。 - 前記膠質炭酸カルシウムの2次粒子の平均粒径が1〜10μmであり、かつ前記炭酸水素ナトリウムの平均粒径よりも小さい、請求項1または2に記載の酸性成分除去剤。
- 前記膠質炭酸カルシウムのBET比表面積が30m2/g以上である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤。
- 前記酸性成分除去剤の破断応力が、350mN以下である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤の製造方法であって、炭酸水素ナトリウム、および膠質炭酸カルシウムを混合したのち粉砕手段により粉砕するか、または粉砕手段により混合しながら粉砕する酸性成分除去剤の製造方法。
- 炭酸水素ナトリウム、および膠質炭酸カルシウムを前記粉砕手段により粉砕したのち、粉砕して得られた粉砕物を分級手段により分級する請求項6に記載の製造方法。
- 前記分級手段により分級された粒径が50μmを超える粒子を前記粉砕手段に戻す請求項7に記載の製造方法。
- 前記粉砕手段が衝撃式粉砕機またはジェットミルである請求項6〜8のいずれか一項に記載の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤を、貯留設備に一旦貯留したのちに酸性成分を含む気体中に供給する、気体中の酸性成分除去方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤を、貯留設備から排出させて気体流を用いて搬送し、酸性成分を含む気体中に供給する請求項10に記載の酸性成分除去方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の酸性成分除去剤を、貯留設備から排出させて気体流を用いて搬送し、酸性成分を含む気体中に供給し、バグフィルターで前記酸性成分除去剤と前記酸性成分との反応制生成物および未反応の前記酸性成分除去剤を濾過する酸性成分除去方法であって、
前記バグフィルターの濾布が、表面にラミネート処理を施したガラス繊維二重織濾布またはPTFE不織布濾布である請求項10または11に記載の酸性成分除去方法。 - 酸性成分除去剤を、貯留設備から排出させて気体流を用いて搬送し、酸性成分を含む気体中に供給し、バグフィルターで前記酸性成分除去剤と前記酸性成分との反応制生成物および未反応の前記酸性成分除去剤を濾過する酸性成分除去方法であって、
前記バグフィルターの濾布が、表面にラミネート処理を施したガラス繊維二重織濾布またはPTFE不織布濾布であり、
前記酸性成分除去剤は、炭酸水素ナトリウム、および表面処理が施されていない膠質炭酸カルシウムのみからなる平均粒径が3〜20μmの酸性成分除去剤であって、
前記表面処理は樹脂酸または脂肪酸を付着させる表面処理であり、
前記膠質炭酸カルシウムは、1次粒子の平均粒径が50nm以下であり、酸性成分除去剤における含有割合が2.5〜3質量%である酸性成分除去方法。 - 酸性成分除去剤を、貯留設備から排出させて気体流を用いて搬送し、酸性成分を含む気体中に供給し、バグフィルターで前記酸性成分除去剤と前記酸性成分との反応制生成物および未反応の前記酸性成分除去剤を濾過する酸性成分除去方法であって、
前記バグフィルターの濾布が、表面にラミネート処理を施したガラス繊維二重織濾布またはPTFE不織布濾布であり、
前記酸性成分除去剤は、炭酸水素ナトリウム、および表面処理が施された膠質炭酸カルシウムのみからなる平均粒径が3〜20μmの酸性成分除去剤であって、
前記表面処理は樹脂酸または脂肪酸を付着させる表面処理であり、
前記膠質炭酸カルシウムは、1次粒子の平均粒径が50nm以下であり、酸性成分除去剤における含有割合が0.3〜0.8質量%である酸性成分除去方法。
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