JP6923358B2 - Manufacturing method of thermal print head and thermal print head - Google Patents

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Description

本発明は、サーマルプリントヘッドおよびサーマルプリントヘッドの製造方法に関する。 The present invention relates to a thermal print head and a method for manufacturing a thermal print head.

特許文献1には、従来のサーマルプリントヘッドの一例が開示されている。同文献に開示されたサーマルプリントヘッドは、基板、グレーズ層、電極層、抵抗体層および保護層を備えている。基板は、絶縁材料からなる板状の部材である。グレーズ層は、基板の表面に形成されており、たとえばガラスからなる。電極層は、グレーズ層上に形成されており、抵抗体層に選択的に電流を流すための電流経路を構成している。電極層は、共通電極および複数の個別電極を有している。共通電極と個別電極とは、電気的に対極となる。抵抗体層は、電極層を主走査方向に横断するように覆っている。抵抗体層のうち共通電極と個別電極とによって主走査方向に挟まれた部位が発熱部となる。保護層は、電極層を保護するためのものであり、たとえばガラスからなる。 Patent Document 1 discloses an example of a conventional thermal print head. The thermal printhead disclosed in the document includes a substrate, a glaze layer, an electrode layer, a resistor layer and a protective layer. The substrate is a plate-shaped member made of an insulating material. The glaze layer is formed on the surface of the substrate and is made of, for example, glass. The electrode layer is formed on the glaze layer, and constitutes a current path for selectively passing a current through the resistor layer. The electrode layer has a common electrode and a plurality of individual electrodes. The common electrode and the individual electrode are electrically opposite electrodes. The resistor layer covers the electrode layer so as to traverse the main scanning direction. The portion of the resistor layer sandwiched between the common electrode and the individual electrode in the main scanning direction becomes the heat generating portion. The protective layer is for protecting the electrode layer, and is made of, for example, glass.

抵抗体ペーストを厚膜印刷した後に焼成することにより形成された抵抗体層は、副走査方向中央が上方に膨出し、副走査方向両端が薄肉である断面形状となる。この抵抗体層に通電された場合、抵抗体層の副走査方向中央に電流が集中しやすい。このため、抵抗体層の副走査方向中央の部分的な発熱が顕著となる。 The resistor layer formed by printing a thick film of the resistor paste and then firing it has a cross-sectional shape in which the center in the sub-scanning direction bulges upward and both ends in the sub-scanning direction are thin. When the resistor layer is energized, the current tends to concentrate in the center of the resistor layer in the sub-scanning direction. For this reason, partial heat generation in the center of the resistor layer in the sub-scanning direction becomes remarkable.

特開2017−13334号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-13334

本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、抵抗体層をより均一に発熱させることが可能なサーマルプリントヘッドおよびサーマルプリントヘッドの製造方法を提供することをその課題とする。 The present invention has been devised under the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a thermal print head and a method for manufacturing a thermal print head capable of generating heat more uniformly in the resistor layer. And.

本発明の第1の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドは、基板を含む支持体と、電極層と、主走査方向に配列された複数の発熱部を含み、前記電極層の少なくとも一部を覆う抵抗体層と、を備えるサーマルプリントヘッドであって、前記抵抗体層は、主走査方向に延びる帯状であり、副走査方向両側に前記基板が広がる方向に対して起立した一対の抵抗体側面を有する。 The thermal printhead provided by the first aspect of the present invention includes a support including a substrate, an electrode layer, and a plurality of heat generating portions arranged in the main scanning direction, and covers at least a part of the electrode layer. A thermal printhead including a resistor layer, wherein the resistor layer has a strip shape extending in the main scanning direction, and has a pair of side surfaces of the resistor standing upright on both sides in the sub-scanning direction with respect to the direction in which the substrate spreads. Have.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記電極層は、各々が副走査方向に延びており且つ主走査方向に互いに離間配置された複数の共通電極帯状部と、各々が副走査方向に延びており且つ隣り合う前記共通電極帯状部の間に各別に配置された複数の個別電極帯状部と、を有し、前記抵抗体層は、前記複数の共通電極帯状部および前記複数の個別電極帯状部を主走査方向に横断するように覆っている。 In a preferred embodiment of the present invention, the electrode layer has a plurality of common electrode strips each extending in the sub-scanning direction and spaced apart from each other in the main scanning direction, and each extending in the sub-scanning direction. It has a plurality of individual electrode strips separately arranged between the common electrode strips adjacent to each other, and the resistor layer comprises the plurality of common electrode strips and the plurality of individual electrode strips. Is covered so as to cross in the main scanning direction.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記抵抗体層は、副走査方向において前記一対の抵抗体側面の間に位置する天面を有する。 In a preferred embodiment of the invention, the resistor layer has a top surface located between the pair of resistor sides in the sub-scanning direction.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記天面は、前記基板から離間する側に膨出する曲面状である。 In a preferred embodiment of the present invention, the top surface has a curved surface shape that bulges toward a side away from the substrate.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記天面は、前記基板側に凹む凹部を有する。 In a preferred embodiment of the present invention, the top surface has a recess recessed on the substrate side.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記天面は、平坦な面である。 In a preferred embodiment of the present invention, the top surface is a flat surface.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記抵抗体層は、前記一対の抵抗体側面に対して前記基板側に繋がり且つ前記基板に近づくほど副走査方向外方に位置する形状である一対の抵抗体傾斜面を有する。 In a preferred embodiment of the present invention, the resistor layer is a pair of resistors having a shape that is connected to the substrate side with respect to the side surfaces of the pair of resistors and is located outward in the sub-scanning direction as it approaches the substrate. It has an inclined surface.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記抵抗体傾斜面の前記基板の厚さ方向における寸法は、前記抵抗体側面の前記厚さ方向における寸法よりも小である。 In a preferred embodiment of the present invention, the dimension of the inclined surface of the resistor in the thickness direction of the substrate is smaller than the dimension of the side surface of the resistor in the thickness direction.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記共通電極帯状部および前記個別電極帯状部の少なくともいずれかの主走査方向両側に隣接し且つ前記抵抗体層と同じ材質からなるとともに前記基板に近づくほど主走査方向外方に位置する形状である被覆体傾斜面を有する被覆体をさらに備える。 In a preferred embodiment of the present invention, the common electrode strip-shaped portion and the individual electrode strip-shaped portion are adjacent to both sides of at least one of the main scanning directions and are made of the same material as the resistor layer, and the closer they are to the substrate, the more main they are. A covering body having a covering body inclined surface having a shape located outside the scanning direction is further provided.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記被覆体は、前記基板の厚さ方向視において前記抵抗体層に繋がる。 In a preferred embodiment of the present invention, the covering is connected to the resistor layer in the thickness direction of the substrate.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記支持体は、前記基板と前記電極層および前記抵抗体層との間に介在するグレーズ層をさらに備える。 In a preferred embodiment of the invention, the support further comprises a glaze layer interposed between the substrate, the electrode layer and the resistor layer.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記グレーズ層は、前記抵抗体層と前記基板との間に位置し且つ前記基板から離間する側に膨出する膨出部を含む。 In a preferred embodiment of the present invention, the glaze layer includes a bulging portion located between the resistor layer and the substrate and bulging to a side away from the substrate.

本発明の第2の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドの製造方法は、基板を含む支持体に、導電性ペーストを印刷する導電性ペースト印刷工程と、前記導電性ペーストを焼成することにより電極層を形成する電極層形成工程と、前記電極層の少なくとも一部を覆うように抵抗体ペーストを印刷する抵抗体ペースト印刷工程と、前記抵抗体ペーストを乾燥させる乾燥工程と、乾燥した前記抵抗体ペーストの副走査方向両側部分を除去する除去工程と、前記抵抗体ペーストを焼成することにより抵抗体層を形成する抵抗体層形成工程と、を備えることを特徴としている。 The method for manufacturing a thermal printhead provided by the second aspect of the present invention includes a conductive paste printing step of printing a conductive paste on a support including a substrate, and an electrode layer by firing the conductive paste. The electrode layer forming step of forming the above electrode layer, the resistor paste printing step of printing the resistor paste so as to cover at least a part of the electrode layer, the drying step of drying the resistor paste, and the dried resistor paste. It is characterized by including a removing step of removing both side portions in the sub-scanning direction of the above, and a resistor layer forming step of forming a resistor layer by firing the resistor paste.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記除去工程においては、ショットブラストを用いる。 In a preferred embodiment of the present invention, shot blasting is used in the removal step.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記除去工程においては、副走査方向に離間した一対の貫通部を有するマスクを用いて、当該一対の貫通部を前記抵抗体ペーストに対して主走査方向に移動させながら、当該一対の貫通部から投射材を吹き付ける。 In a preferred embodiment of the present invention, in the removing step, a mask having a pair of penetrating portions separated in the sub-scanning direction is used to move the pair of penetrating portions in the main scanning direction with respect to the resistor paste. While moving, the projection material is sprayed from the pair of penetrating portions.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記乾燥工程の後、前記抵抗体層形成工程の前に、ショットブラストにより前記抵抗体ペーストの一部を凹ませる凹部形成工程をさらに備える。 In a preferred embodiment of the present invention, a recess forming step of denting a part of the resistor paste by shot blasting is further provided after the drying step and before the resistor layer forming step.

本発明の第3の側面によって提供されるサーマルプリントヘッドの製造方法は、抵抗体ペーストを中間支持体に印刷する抵抗体ペースト印刷工程と、前記中間支持体に印刷された前記抵抗体ペーストの溶媒を前記中間支持体によって吸収する溶媒吸収工程と、前記中間支持体に印刷された前記抵抗体ペーストを、支持体に形成された電極層の少なくとも一部を覆うように転写する転写工程と、転写された前記抵抗体ペーストを焼成することにより抵抗体層を形成する抵抗体層形成工程と、を備えることを特徴としている。 The method for manufacturing a thermal printhead provided by the third aspect of the present invention includes a resistor paste printing step of printing a resistor paste on an intermediate support and a solvent for the resistor paste printed on the intermediate support. Is absorbed by the intermediate support, and the resistor paste printed on the intermediate support is transferred so as to cover at least a part of the electrode layer formed on the support. It is characterized by comprising a resistor layer forming step of forming a resistor layer by firing the obtained resistor paste.

本発明の好ましい実施の形態においては、前記抵抗体ペースト印刷工程においては、スクリーン印刷を用いる。 In a preferred embodiment of the present invention, screen printing is used in the resistor paste printing step.

本発明によれば、抵抗体層をより均一に発熱させることができる。 According to the present invention, the resistor layer can generate heat more uniformly.

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。 Other features and advantages of the present invention will become more apparent with the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

本発明の第1実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示す平面図である。It is a top view which shows the thermal print head based on 1st Embodiment of this invention. 図1のII−II線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the line II-II of FIG. 図1のサーマルプリントヘッドを示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows the thermal print head of FIG. 図1のサーマルプリントヘッドを示す要部拡大平面図である。It is an enlarged plan view of the main part which shows the thermal print head of FIG. 図1のサーマルプリントヘッドを示す要部拡大平面図である。It is an enlarged plan view of the main part which shows the thermal print head of FIG. 図5のVI−VI線に沿う要部断面図である。It is sectional drawing of the main part along the VI-VI line of FIG. 図5のVI−VI線に沿う要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part along the VI-VI line of FIG. 図5のVIII−VIII線に沿う要部断面図である。It is sectional drawing of the main part along the line VIII-VIII of FIG. 図5のVIII−VIII線に沿う要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part along the line VIII-VIII of FIG. 図5のX−X線に沿う要部断面図である。It is sectional drawing of the main part along the X-ray line of FIG. 図5のXI−XI線に沿う要部断面図である。It is sectional drawing of the main part along the line XI-XI of FIG. 図5のXI−XI線に沿う要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part along the XI-XI line of FIG. 図1のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 図13のXIV−XIV線に沿う要部断面図である。It is sectional drawing of the main part along the XIV-XIV line of FIG. 図1のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部平面図である。It is a main part plan view which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 図15のXVI−XVI線に沿う要部断面図である。It is sectional drawing of the main part along the XVI-XVI line of FIG. 本発明の第2実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示す要部拡大断面図である。It is an enlarged sectional view of the main part which shows the thermal print head based on 2nd Embodiment of this invention. 図17のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部断面図である。It is sectional drawing of the main part which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 本発明の第3実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示す要部拡大断面図である。It is an enlarged sectional view of the main part which shows the thermal print head based on 3rd Embodiment of this invention. 図19のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部断面図である。It is sectional drawing of the main part which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 図19のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部断面図である。It is sectional drawing of the main part which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 図19のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部断面図である。It is sectional drawing of the main part which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 図19のサーマルプリントヘッドの製造方法の一例を示す要部断面図である。It is sectional drawing of the main part which shows an example of the manufacturing method of the thermal printhead of FIG. 本発明の第4実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示す要部断面図である。It is sectional drawing of the main part which shows the thermal print head based on 4th Embodiment of this invention.

以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

図1〜図12は、本発明に係るサーマルプリントヘッドの一例を示している。本実施形態のサーマルプリントヘッドA1は、支持体1、電極層3、抵抗体層4、保護層5、駆動IC71、封止樹脂72、コネクタ73、配線基板74および放熱部材75を備えている。サーマルプリントヘッドA1は、たとえばバーコードシートやレシートを作成するためにプラテンローラ81によって押圧される感熱紙82に対する印刷を施すプリンタに組み込まれるものである。なお、理解の便宜上、図1、図3〜図5においては、保護層5を省略している。これらの図においては、主走査方向xおよび副走査方向yと基板11の厚さ方向zを座標基準として用いている。 1 to 12 show an example of a thermal print head according to the present invention. The thermal print head A1 of the present embodiment includes a support 1, an electrode layer 3, a resistor layer 4, a protective layer 5, a drive IC 71, a sealing resin 72, a connector 73, a wiring board 74, and a heat radiating member 75. The thermal print head A1 is incorporated in a printer that prints on the thermal paper 82 pressed by the platen roller 81 to produce, for example, a barcode sheet or a receipt. For convenience of understanding, the protective layer 5 is omitted in FIGS. 1 and 3 to 5. In these figures, the main scanning direction x, the sub-scanning direction y, and the thickness direction z of the substrate 11 are used as coordinate references.

図1は、サーマルプリントヘッドA1を示す平面図である。図2は、図1のII−II線に沿う断面図である。図3は、サーマルプリントヘッドA1を示す要部平面図である。図4は、サーマルプリントヘッドA1を示す要部拡大平面図である。図5は、サーマルプリントヘッドA1を示す要部拡大平面図である。図6は、図5のVI−VI線に沿う要部断面図である。図7は、図5のVI−VI線に沿う要部拡大断面図である。図8は、図5のVIII−VIII線に沿う要部断面図である。図9は、図5のVIII−VIII線に沿う要部拡大断面図である。図10は、図5のX−X線に沿う要部断面図である。図11は、図5のXI−XI線に沿う要部断面図である。図12は、図5のXI−XI線に沿う要部拡大断面図である。 FIG. 1 is a plan view showing the thermal print head A1. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. FIG. 3 is a plan view of a main part showing the thermal print head A1. FIG. 4 is an enlarged plan view of a main part showing the thermal print head A1. FIG. 5 is an enlarged plan view of a main part showing the thermal print head A1. FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part along the VI-VI line of FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of a main part along the VI-VI line of FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view of a main part along the line VIII-VIII of FIG. FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of a main part along the line VIII-VIII of FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part taken along the line XX of FIG. FIG. 11 is a cross-sectional view of a main part along the XI-XI line of FIG. FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view of a main part along the XI-XI line of FIG.

支持体1は、電極層3、抵抗体層4および保護層5を支持するものである。支持体1は、基板11およびグレーズ層12からなる。 The support 1 supports the electrode layer 3, the resistor layer 4, and the protective layer 5. The support 1 is composed of a substrate 11 and a glaze layer 12.

基板11は、たとえばAlN、Al23などのセラミックスからなり、たとえばその厚さが0.6〜1.0mm程度とされている。図1に示すように、基板11は、主走査方向xに長く延びる長矩形状とされている。図2に示すように、たとえばガラスエポキシ樹脂からなる基材層とCuなどからなる配線層とが積層された配線基板74が、支持体1に隣接して設けられた構造としてもよい。基板11の下面には、たとえばAlなどの金属からなる放熱部材75が設けられている。配線基板74を有する構成においては、たとえば放熱部材75上に基板11および配線基板74が隣接して配置され、基板11上の電極層3と配線基板74の配線(またはこの配線に接続されたIC)とが、たとえばワイヤボンディングなどにより接続される。さらに、配線基板74に、図1に示すコネクタ73を設けてもよい。 The substrate 11 is made of, for example, ceramics such as AlN and Al 2 O 3, and the thickness thereof is, for example, about 0.6 to 1.0 mm. As shown in FIG. 1, the substrate 11 has an elongated rectangular shape extending long in the main scanning direction x. As shown in FIG. 2, for example, the wiring board 74 in which the base material layer made of glass epoxy resin and the wiring layer made of Cu or the like are laminated may be provided adjacent to the support 1. A heat radiating member 75 made of a metal such as Al is provided on the lower surface of the substrate 11. In the configuration having the wiring board 74, for example, the board 11 and the wiring board 74 are arranged adjacent to each other on the heat radiating member 75, and the wiring of the electrode layer 3 on the board 11 and the wiring board 74 (or an IC connected to this wiring). ) Is connected by, for example, wire bonding. Further, the connector 73 shown in FIG. 1 may be provided on the wiring board 74.

グレーズ層12は、基板11上に形成されており、たとえば非晶質ガラスなどのガラス材料からなる。このガラス材料の軟化点は、たとえば800〜850℃である。グレーズ層12は、ガラスペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。本実施形態においては、基板11の図中上面すべてがグレーズ層12によって覆われている。また、本実施形態においては、グレーズ層12は、膨出部121および補助部122を有する。 The glaze layer 12 is formed on the substrate 11 and is made of a glass material such as amorphous glass. The softening point of this glass material is, for example, 800 to 850 ° C. The glaze layer 12 is formed by printing a thick film of glass paste and then firing the glass paste. In the present embodiment, the entire upper surface of the substrate 11 in the drawing is covered with the glaze layer 12. Further, in the present embodiment, the glaze layer 12 has a bulging portion 121 and an auxiliary portion 122.

膨出部121は、主走査方向xに延びる帯状であり、図中上方に若干膨出した断面円弧形状である。抵抗体層4は、膨出部121上に形成されている。膨出部121は、抵抗体層4の発熱部40から発せられた熱が、基板11へと過度に伝達されることを抑制するためのものである。 The bulging portion 121 has a band shape extending in the main scanning direction x, and has a cross-sectional arc shape slightly bulging upward in the drawing. The resistor layer 4 is formed on the bulging portion 121. The bulging portion 121 is for suppressing the heat generated from the heat generating portion 40 of the resistor layer 4 from being excessively transferred to the substrate 11.

補助部122は、基板11のうち膨出部121から露出した部分を覆うように形成されている。膨出部121は、相対的に粗面である基板11の表面を覆うことにより、電極層3を形成するのに適した平滑面を構成するためのものである。 The auxiliary portion 122 is formed so as to cover the portion of the substrate 11 exposed from the bulging portion 121. The bulging portion 121 is for forming a smooth surface suitable for forming the electrode layer 3 by covering the surface of the substrate 11, which is a relatively rough surface.

膨出部121および補助部122は、たとえばガラスからなる。かかるガラスの具体的選定は、膨出部121の蓄熱機能および補助部122の平滑機能を十分に発揮させることを鑑みてなされる。なお、補助部122の材料として、膨出部121の材料となるガラスペーストよりも低粘度のガラスペーストを用いることが好ましい。 The bulging portion 121 and the auxiliary portion 122 are made of, for example, glass. The specific selection of such glass is made in view of fully exerting the heat storage function of the bulging portion 121 and the smoothing function of the auxiliary portion 122. As the material of the auxiliary portion 122, it is preferable to use a glass paste having a lower viscosity than the glass paste used as the material of the bulging portion 121.

電極層3は、抵抗体層4に通電するための経路を構成するためのものであり、導電性材料によって形成されている。電極層3の材質は特に限定されず、たとえば添加元素としてロジウム、バナジウム、ビスマス、シリコンなどが添加されたAuまたはPtからなる。本実施形態においては、電極層3の主成分は、Auである。電極層3は、有機化合物を含むレジネートAuのペーストを厚膜印刷したのちに、これを焼成することにより形成されている。このような電極層3は、焼成過程を経ることにより、ガラス粒子を含む。電極層3は、複数のAu層を積層させることによって構成してもよい。電極層3の厚さは、たとえば0.4μm〜1.0μm程度である。 The electrode layer 3 is for forming a path for energizing the resistor layer 4, and is formed of a conductive material. The material of the electrode layer 3 is not particularly limited, and is composed of Au or Pt to which rhodium, vanadium, bismuth, silicon or the like is added as an additive element, for example. In the present embodiment, the main component of the electrode layer 3 is Au. The electrode layer 3 is formed by printing a thick film of a paste of registered Au containing an organic compound and then firing the paste. Such an electrode layer 3 contains glass particles by undergoing a firing process. The electrode layer 3 may be formed by laminating a plurality of Au layers. The thickness of the electrode layer 3 is, for example, about 0.4 μm to 1.0 μm.

図3に示すように、電極層3は、共通電極33および複数の個別電極36を有している。 As shown in FIG. 3, the electrode layer 3 has a common electrode 33 and a plurality of individual electrodes 36.

共通電極33は、複数の共通電極帯状部34および共通電極連結部35を有している。共通電極連結部35は、基板11の副走査方向y下流側端寄りに配置されており、主走査方向xに延びる帯状である。複数の共通電極帯状部34は、各々が共通電極連結部35から副走査方向yに延びており、主走査方向xに等ピッチで配列されている。また、本実施形態においては、図4に示すように、共通電極連結部35には、Ag層351が積層されている。Ag層351は、共通電極連結部35の抵抗値を低減させるためのものである。 The common electrode 33 has a plurality of common electrode band-shaped portions 34 and a common electrode connecting portion 35. The common electrode connecting portion 35 is arranged near the end on the downstream side in the sub-scanning direction y of the substrate 11, and has a band shape extending in the main scanning direction x. Each of the plurality of common electrode band-shaped portions 34 extends from the common electrode connecting portion 35 in the sub-scanning direction y, and is arranged at equal pitches in the main scanning direction x. Further, in the present embodiment, as shown in FIG. 4, the Ag layer 351 is laminated on the common electrode connecting portion 35. The Ag layer 351 is for reducing the resistance value of the common electrode connecting portion 35.

複数の個別電極36は、抵抗体層4に対して部分的に通電するためのものであり、共通電極33に対して逆極性となる部位である。個別電極36は、抵抗体層4から駆動IC71に向かって延びている。複数の個別電極36は、主走査方向xに配列されており、各々が個別電極帯状部38、個別電極連結部37およびボンディング部39を有している。 The plurality of individual electrodes 36 are for partially energizing the resistor layer 4, and are portions having opposite polarities with respect to the common electrode 33. The individual electrode 36 extends from the resistor layer 4 toward the drive IC 71. The plurality of individual electrodes 36 are arranged in the main scanning direction x, and each has an individual electrode band-shaped portion 38, an individual electrode connecting portion 37, and a bonding portion 39.

各個別電極帯状部38は、副走査方向yに延びた帯状部分であり、共通電極33の隣り合う2つの共通電極帯状部34の間に位置している。個別電極36の個別電極帯状部38と共通電極33の共通電極帯状部34とは、幅がたとえば25μm以下とされており、隣り合う個別電極36の個別電極帯状部38と共通電極33の共通電極帯状部34との間隔はたとえば40μm以下となっている。 Each individual electrode band-shaped portion 38 is a band-shaped portion extending in the sub-scanning direction y, and is located between two adjacent common electrode band-shaped portions 34 of the common electrode 33. The width of the individual electrode band-shaped portion 38 of the individual electrode 36 and the common electrode band-shaped portion 34 of the common electrode 33 is, for example, 25 μm or less, and the individual electrode band-shaped portion 38 of the adjacent individual electrodes 36 and the common electrode of the common electrode 33 are common electrodes. The distance from the strip 34 is, for example, 40 μm or less.

個別電極連結部37は、個別電極帯状部38から駆動IC71に向かって延びる部分であり、そのほとんどが副走査方向yに沿った部位および副走査方向yに対して傾斜した部位を有している。個別電極連結部37のほとんどの部位は、その幅がたとえば40μm以下とされており、隣り合う個別電極連結部37どうしの間隔はたとえば40μm以下となっている。なお、図示された例においは、個別電極連結部37の幅は、個別電極帯状部38の幅よりも大である。 The individual electrode connecting portion 37 is a portion extending from the individual electrode strip-shaped portion 38 toward the drive IC 71, and most of them have a portion along the sub-scanning direction y and a portion inclined with respect to the sub-scanning direction y. .. The width of most of the individual electrode connecting portions 37 is, for example, 40 μm or less, and the distance between adjacent individual electrode connecting portions 37 is, for example, 40 μm or less. In the illustrated example, the width of the individual electrode connecting portion 37 is larger than the width of the individual electrode strip-shaped portion 38.

共通電極33の複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極36の個別電極帯状部38は、膨出部121上に形成されている。 The plurality of common electrode band-shaped portions 34 of the common electrode 33 and the individual electrode strip-shaped portions 38 of the plurality of individual electrodes 36 are formed on the bulging portion 121.

図3に示すように、ボンディング部39は、個別電極36の副走査方向y端部に形成されており、個別電極36と駆動IC71とを接続するためのワイヤ61がボンディングされている。隣り合う個別電極36のボンディング部39どうしは、副走査方向yに互い違いに配置されている。これにより、ボンディング部39は、個別電極連結部37のほとんどの部位よりも幅が大きいにも関わらず、たがいに干渉することが回避されている。 As shown in FIG. 3, the bonding portion 39 is formed at the y-end portion in the sub-scanning direction of the individual electrode 36, and the wire 61 for connecting the individual electrode 36 and the drive IC 71 is bonded. The bonding portions 39 of the adjacent individual electrodes 36 are arranged alternately in the sub-scanning direction y. As a result, the bonding portion 39 is prevented from interfering with each other even though the width of the bonding portion 39 is larger than that of most of the individual electrode connecting portions 37.

個別電極連結部37のうち隣り合うボンディング部39に挟まれた部位は、個別電極36において最も幅が小さく、その幅がたとえば10μm以下である。また、個別電極連結部37と隣のボンディング部39との間隔もたとえば10μm以下となっている。このように、共通電極33および複数の個別電極36は、線幅および配線間隔が小さい微細パターンとなっている。 The portion of the individual electrode connecting portion 37 sandwiched between the adjacent bonding portions 39 has the smallest width in the individual electrode 36, and the width is, for example, 10 μm or less. Further, the distance between the individual electrode connecting portion 37 and the adjacent bonding portion 39 is, for example, 10 μm or less. As described above, the common electrode 33 and the plurality of individual electrodes 36 have a fine pattern in which the line width and the wiring interval are small.

抵抗体層4は、電極層3を構成する材料よりも抵抗率が大であるたとえば酸化ルテニウムなどからなり、主走査方向xに延びる帯状に形成されている。抵抗体層4は、共通電極33の複数の共通電極帯状部34と複数の個別電極36の個別電極帯状部38とに交差している。さらに、抵抗体層4は、共通電極33の複数の共通電極帯状部34と複数の個別電極36の個別電極帯状部38に対して基板11とは反対側に積層されている。抵抗体層4のうち各共通電極帯状部34と各個別電極帯状部38とに挟まれた部位が、電極層3によって部分的に通電されることにより発熱する発熱部40とされている。発熱部40の発熱によって印字ドットが形成される。抵抗体層4の厚さは、たとえば4μm〜10μmである。 The resistor layer 4 is made of, for example, ruthenium oxide, which has a higher resistivity than the material constituting the electrode layer 3, and is formed in a band shape extending in the main scanning direction x. The resistor layer 4 intersects the plurality of common electrode strips 34 of the common electrode 33 and the individual electrode strips 38 of the plurality of individual electrodes 36. Further, the resistor layer 4 is laminated on the side opposite to the substrate 11 with respect to the plurality of common electrode band-shaped portions 34 of the common electrode 33 and the individual electrode strip-shaped portions 38 of the plurality of individual electrodes 36. A portion of the resistor layer 4 sandwiched between each common electrode band-shaped portion 34 and each individual electrode strip-shaped portion 38 is a heat-generating portion 40 that generates heat when partially energized by the electrode layer 3. Print dots are formed by the heat generated by the heat generating portion 40. The thickness of the resistor layer 4 is, for example, 4 μm to 10 μm.

図5〜図9に示すように、本実施形態においては、抵抗体層4は、一対の抵抗体側面41、天面42および一対の抵抗体傾斜面44を有する。 As shown in FIGS. 5 to 9, in the present embodiment, the resistor layer 4 has a pair of resistor side surfaces 41, a top surface 42, and a pair of resistor inclined surfaces 44.

一対の抵抗体側面41は、抵抗体層4の副走査方向y両側に位置しており、基板11が広がる方向(xy平面)に対して起立した面である。本明細書における起立した面とは、基準となる平面となす角度が典型的には90°の面であるが、少なくとも基準となる平面になだらかに繋がる面を含まない意図である。たとえば、抵抗体側面41の一例としては、図7および図9に示す角度αが80°〜90°程度である面をいう。 The pair of resistor side surfaces 41 are located on both sides of the resistor layer 4 in the sub-scanning direction y, and are surfaces that stand upright in the direction in which the substrate 11 spreads (xy plane). The upright plane in the present specification is a plane having an angle of 90 ° with respect to the reference plane, but is intended not to include at least a plane that is gently connected to the reference plane. For example, as an example of the side surface 41 of the resistor, a surface having an angle α of about 80 ° to 90 ° shown in FIGS. 7 and 9 is referred to.

天面42は、一対の抵抗体側面41の間に位置しており、基板11とは反対側を向いている。本実施形態においては、天面42は、基板11から離間する側に膨出する曲面状である。 The top surface 42 is located between the pair of resistor side surfaces 41 and faces the side opposite to the substrate 11. In the present embodiment, the top surface 42 has a curved surface shape that bulges toward the side away from the substrate 11.

一対の抵抗体傾斜面44は、一対の抵抗体側面41に対して基板11側に繋がっており、厚さ方向zにおいて基板11に近づくほど副走査方向y外方に位置する形状の面である。図示された例においては、抵抗体傾斜面44は、凹曲面とされている。また、抵抗体傾斜面44の厚さ方向zにおける寸法は、抵抗体側面41の厚さ方向zにおける寸法よりも小である。 The pair of resistor inclined surfaces 44 are connected to the substrate 11 side with respect to the pair of resistor side surfaces 41, and are surfaces having a shape located outward in the sub-scanning direction y as they approach the substrate 11 in the thickness direction z. .. In the illustrated example, the resistor inclined surface 44 is a concave curved surface. Further, the dimension of the resistor inclined surface 44 in the thickness direction z is smaller than the dimension of the resistor side surface 41 in the thickness direction z.

本実施形態においては、図5、図12に示すように、サーマルプリントヘッドA1には、複数の被覆体48が設けられている。なお、図5においては、理解の便宜上、抵抗体層4に相対的に淡いトーンの離散点からなるハッチングを付しており、被覆体48に相対的に濃いトーンの離散点からなるハッチングを付している。複数の被覆体48は、グレーズ層12の膨出部121上において、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38の少なくともいずれかの主走査方向x両側に隣接している。すなわち、被覆体48は、グレーズ層12の膨出部121と共通電極帯状部34および個別電極帯状部38の少なくともいずれかとの境界を覆っている。図12は、個別電極帯状部38に隣接した抵抗体傾斜面44を示しており、同図に示された抵抗体傾斜面44と同様の抵抗体傾斜面44が、図5から理解されるように共通電極帯状部34に隣接して設けられている。 In the present embodiment, as shown in FIGS. 5 and 12, the thermal print head A1 is provided with a plurality of covering bodies 48. In FIG. 5, for convenience of understanding, the resistor layer 4 is provided with hatches consisting of relatively light tone discrete points, and the covering 48 is provided with hatches consisting of relatively dark tone discrete points. doing. The plurality of covering bodies 48 are adjacent to at least one of the common electrode band-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 on both sides of the main scanning direction x on the bulging portion 121 of the glaze layer 12. That is, the covering body 48 covers the boundary between the bulging portion 121 of the glaze layer 12 and at least one of the common electrode strip-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38. FIG. 12 shows a resistor inclined surface 44 adjacent to the individual electrode band-shaped portion 38, and a resistor inclined surface 44 similar to the resistor inclined surface 44 shown in the figure can be understood from FIG. Is provided adjacent to the common electrode band-shaped portion 34.

被覆体48は、抵抗体層4と同じ材質からなる。被覆体48は、被覆体傾斜面49を有する。被覆体傾斜面49は、厚さ方向zにおいて基板11に近づくほど主走査方向x外方に位置する形状である。図示された例においては、被覆体傾斜面49は、凹曲面である。また被覆体傾斜面49の大きさや曲率は、抵抗体傾斜面44の大きさや曲率と同じであってもよい。図5に示すように、被覆体48は、厚さ方向z視において抵抗体層4に繋がっている。なお、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38のうち被覆体48が隣接する領域は、抵抗体層4によって覆われた部分から副走査方向yにそれぞれ所定距離内にある領域である。この領域は、後述するサーマルプリントヘッドA1の製造方法に依存する。 The covering body 48 is made of the same material as the resistor layer 4. The covering body 48 has a covering body inclined surface 49. The cover inclined surface 49 has a shape that is located outward in the main scanning direction as it approaches the substrate 11 in the thickness direction z. In the illustrated example, the covering inclined surface 49 is a concave curved surface. Further, the size and curvature of the covering inclined surface 49 may be the same as the size and curvature of the resistor inclined surface 44. As shown in FIG. 5, the covering body 48 is connected to the resistor layer 4 in the z-view in the thickness direction. The region of the common electrode strip-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 adjacent to the covering body 48 is a region within a predetermined distance in the sub-scanning direction y from the portion covered by the resistor layer 4. This region depends on the manufacturing method of the thermal print head A1 described later.

保護層5は、電極層3および抵抗体層4を保護するためのものである。保護層5は、たとえば非晶質ガラスからなる。ただし、保護層5は、複数の個別電極36のボンディング部39を含む領域を露出させている。 The protective layer 5 is for protecting the electrode layer 3 and the resistor layer 4. The protective layer 5 is made of, for example, amorphous glass. However, the protective layer 5 exposes a region including the bonding portion 39 of the plurality of individual electrodes 36.

駆動IC71は、複数の個別電極36を選択的に通電させることにより、抵抗体層4を部分的に発熱させる機能を果たす。駆動IC71には、複数のパッドが設けられている。駆動IC71のパッドと複数の個別電極36とは、それぞれにボンディングされた複数のワイヤ61を介して接続されている。ワイヤ61は、Auからなる。図1および図2に示すように、駆動IC71およびワイヤ61は、封止樹脂72によって覆われている。封止樹脂72は、たとえば黒色の軟質樹脂からなる。また、駆動IC71とコネクタ73とは、図示しない信号線によって接続されている。 The drive IC 71 functions to partially generate heat in the resistor layer 4 by selectively energizing a plurality of individual electrodes 36. The drive IC 71 is provided with a plurality of pads. The pad of the drive IC 71 and the plurality of individual electrodes 36 are connected to each other via a plurality of wires 61 bonded to each other. The wire 61 is made of Au. As shown in FIGS. 1 and 2, the drive IC 71 and the wire 61 are covered with the sealing resin 72. The sealing resin 72 is made of, for example, a black soft resin. Further, the drive IC 71 and the connector 73 are connected by a signal line (not shown).

次に、サーマルプリントヘッドA1の製造方法の一例について、図13〜図16を参照しつつ以下に説明する。 Next, an example of a method for manufacturing the thermal print head A1 will be described below with reference to FIGS. 13 to 16.

まず、図13および図14に示すように、たとえばAlNからなる基板11を用意する。次いで、基板11上にガラスペーストを厚膜印刷した後に、これを焼成することにより、膨出部121および補助部122を有するグレーズ層12を形成する。次いで、レジネートAuのペーストを厚膜印刷する導電性ペースト印刷工程を行う。次いで、電極形成工程を行う。この工程においては、導電性ペーストを焼成することにより、金属膜を形成する。なお、当該厚膜印刷および焼成の工程を、複数回繰り返して行ってもよい。次いで、金属膜に対してたとえばエッチング等を用いたパターニングを施すことにより、電極層3を形成する。電極層3は、共通電極33、複数の個別電極36および複数のボンディング部39を有している。 First, as shown in FIGS. 13 and 14, a substrate 11 made of, for example, AlN is prepared. Next, a glass paste is printed on the substrate 11 as a thick film, and then the glass paste is fired to form a glaze layer 12 having a bulging portion 121 and an auxiliary portion 122. Next, a conductive paste printing step of thick-film printing the resinate Au paste is performed. Next, an electrode forming step is performed. In this step, a metal film is formed by firing the conductive paste. The thick film printing and firing steps may be repeated a plurality of times. Next, the electrode layer 3 is formed by performing patterning on the metal film by, for example, etching. The electrode layer 3 has a common electrode 33, a plurality of individual electrodes 36, and a plurality of bonding portions 39.

次いで、たとえば酸化ルテニウムなどの抵抗体を含む抵抗体ペースト4Aを厚膜印刷する抵抗体ペースト印刷工程を行う。この工程においては、複数の共通電極帯状部34および複数の個別電極帯状部38を主走査方向xに横断するように抵抗体ペースト4Aを印刷する。また、印刷された抵抗体ペースト4Aの副走査方向y寸法は、上述した抵抗体層4よりも十分に大である。図14に示すように、厚膜印刷された抵抗体ペースト4Aの表面は、厚さ方向zに緩やかに膨出する曲面である。また、抵抗体ペースト4Aのy方向両端は、グレーズ層12になだらかに繋がっており、起立した部位とはなっていない。 Next, a resistor paste printing step is performed in which a resistor paste 4A containing a resistor such as ruthenium oxide is printed in a thick film. In this step, the resistor paste 4A is printed so as to cross the plurality of common electrode strips 34 and the plurality of individual electrode strips 38 in the main scanning direction x. Further, the sub-scanning direction y dimension of the printed resistor paste 4A is sufficiently larger than that of the resistor layer 4 described above. As shown in FIG. 14, the surface of the thick film-printed resistor paste 4A is a curved surface that gently bulges in the thickness direction z. Further, both ends of the resistor paste 4A in the y direction are gently connected to the glaze layer 12, and are not standing portions.

次いで、乾燥工程を行う。この工程においては、電極層3および抵抗体ペースト4Aが意図しない変質等を生じない環境において、抵抗体ペースト4Aを乾燥させる。この乾燥により、抵抗体ペースト4Aに含まれる溶媒が減少する。このような乾燥した抵抗体ペースト4Aは、図14に示す断面形状を維持するものの、乾燥前と比べて顕著に脆い性質のものとなる。 Then, a drying step is performed. In this step, the resistor paste 4A is dried in an environment where the electrode layer 3 and the resistor paste 4A do not cause unintended deterioration or the like. This drying reduces the solvent contained in the resistor paste 4A. Such a dried resistor paste 4A maintains the cross-sectional shape shown in FIG. 14, but has a significantly brittle property as compared with that before drying.

次いで、図15および図16に示すように、乾燥した抵抗体ペースト4Aの副走査方向両側部分を除去する除去工程を行う。除去工程における除去手法は特に限定されず、本実施形態においては、ショットブラストを用いている。支持体1に対してマスク91を対面させる。マスク91は、一対の貫通部92が設けられている。一対の貫通部92は、各々がマスク91を厚さ方向zに貫通する貫通孔であり、副走査方向yに離間して設けられている。一対の貫通部92どうしの間の距離は、形成すべき抵抗体層4の副走査方向y寸法とされる。 Next, as shown in FIGS. 15 and 16, a removal step of removing both side portions of the dried resistor paste 4A in the sub-scanning direction is performed. The removal method in the removal step is not particularly limited, and shot blasting is used in the present embodiment. The mask 91 is made to face the support 1. The mask 91 is provided with a pair of penetrating portions 92. The pair of penetrating portions 92 are through holes each penetrating the mask 91 in the thickness direction z, and are provided apart from each other in the sub-scanning direction y. The distance between the pair of penetrating portions 92 is the sub-scanning direction y dimension of the resistor layer 4 to be formed.

一対の貫通部92が厚さ方向z視において乾燥した抵抗体ペースト4Aの副走査方向y両端に重ならせた状態で、一対の貫通部92から投射材を抵抗体ペースト4Aに吹き付ける。投射材は、適宜選択される粒状体であり、本実施形態においては、乾燥した抵抗体ペースト4Aを適切に除去しつつ、電極層3やグレーズ層12を傷つけない硬度のものが選択されることが好ましい。そして、一対の貫通部92からの投射材の吹付けを行いながら、マスク91を支持体1に対して主走査方向xに移動させる。これにより、抵抗体ペースト4Aの副走査方向y両側部分が連続的に除去される。抵抗体ペースト4Aのうち除去されることによって形成された側面が、上述した一対の抵抗体側面41となる。また、抵抗体ペースト4Aの表面の一部が、上述した天面42となる。残存した抵抗体ペースト4Aは、形成すべき抵抗体層4と厚さ方向z視における形状および寸法がほぼ同じとなっている。 A projection material is sprayed onto the resistor paste 4A from the pair of penetrating portions 92 in a state where the pair of penetrating portions 92 are overlapped on both ends of the sub-scanning direction y of the dried resistor paste 4A in the thickness direction z. The projection material is an appropriately selected granular material, and in the present embodiment, a material having a hardness that does not damage the electrode layer 3 and the glaze layer 12 while appropriately removing the dried resistor paste 4A is selected. Is preferable. Then, the mask 91 is moved with respect to the support 1 in the main scanning direction x while spraying the projection material from the pair of penetrating portions 92. As a result, both side portions in the sub-scanning direction y of the resistor paste 4A are continuously removed. The side surface formed by removing the resistor paste 4A becomes the pair of resistor side surfaces 41 described above. Further, a part of the surface of the resistor paste 4A becomes the above-mentioned top surface 42. The remaining resistor paste 4A has substantially the same shape and dimensions as the resistor layer 4 to be formed in the z-view in the thickness direction.

なお、粒状体である投射材は、所定の平均粒径を有するものである。このため、除去工程を経て残存した抵抗体ペースト4Aの副走査方向y両端には、投射材の平均粒径に相当するような平均半径の凹曲面が形成されうる。この凹曲面が、上述した抵抗体傾斜面44となる。また、抵抗体ペースト4Aのうち共通電極帯状部34および個別電極帯状部38に対して主走査方向xに隣接している部分は、ショットブラストによって概ね除去されるものの、投射材の平均粒径に相当するような平均半径の凹曲面を有する抵抗体ペースト4Aが、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38に隣接して残存しうる。この残存した抵抗体ペースト4Aが、上述した被覆体傾斜面49を有する被覆体48となる。 The projection material, which is a granular material, has a predetermined average particle size. Therefore, concave curved surfaces having an average radius corresponding to the average particle size of the projecting material can be formed at both ends of the sub-scanning direction y of the resistor paste 4A remaining after the removal step. This concave curved surface becomes the above-mentioned resistor inclined surface 44. Further, in the resistor paste 4A, the portion adjacent to the common electrode strip-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 in the main scanning direction x is largely removed by shot blasting, but the average particle size of the projecting material is increased. A resistor paste 4A having a concave curved surface having a corresponding average radius may remain adjacent to the common electrode strip 34 and the individual electrode strip 38. The remaining resistor paste 4A becomes the covering body 48 having the covering body inclined surface 49 described above.

次いで、抵抗体層形成工程を行う。この工程においては、乾燥した抵抗体ペースト4Aを所定の温度によって焼成する。この結果、上述した構成の抵抗体層4が得られる。また、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38に隣接して抵抗体ペースト4Aが残存していると、この抵抗体ペースト4Aが上述した被覆体48となる。 Next, a resistor layer forming step is performed. In this step, the dried resistor paste 4A is fired at a predetermined temperature. As a result, the resistor layer 4 having the above-described configuration is obtained. Further, when the resistor paste 4A remains adjacent to the common electrode band-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38, the resistor paste 4A becomes the covering body 48 described above.

この後は、たとえばガラスペーストを厚膜印刷し、これを焼成することにより、保護層5を形成する。そして、駆動IC71の実装およびワイヤ61のボンディング、基板11および配線基板74の放熱部材75への取り付けなどを行うことにより、サーマルプリントヘッドA1が得られる。 After that, for example, a glass paste is printed in a thick film and fired to form the protective layer 5. Then, the thermal print head A1 can be obtained by mounting the drive IC 71, bonding the wires 61, attaching the substrate 11 and the wiring board 74 to the heat radiating member 75, and the like.

次に、サーマルプリントヘッドA1およびサーマルプリントヘッドA1の製造方法の作用について説明する。 Next, the operation of the thermal print head A1 and the method of manufacturing the thermal print head A1 will be described.

本実施形態によれば、抵抗体層4が一対の抵抗体側面41を有している。抵抗体層4は、通電により発熱する層であり、所定の抵抗値を有することが望まれる。この所定値を達成するためには、抵抗体層4の主走査方向xに直角である断面積を所定面積以上確保する必要がある。厚膜印刷を用いて抵抗体層4を形成する場合、印刷された抵抗体ペーストは、表面が緩やかに膨出した曲面を呈する形状となる。このため、抵抗体層4の副走査方向y中央部分が副走査方向y両端部分と比べて顕著に厚い部位となる。このような形状の抵抗体層4の場合、所定面積を確保して所定の抵抗値を達成しても、通電時の電流が相対的に厚い副走査方向y中央部分に選択的に流れる。このため、抵抗体層4の副走査方向y中央部分が集中的に発熱し、副走査方向y両側部分が発熱にほとんど寄与しない状態に陥る。この点、本実施形態の抵抗体層4は、一対の抵抗体側面41を有するため、断面積を所定の面積とした場合に、副走査方向y中央部分と副走査方向y両側部分との厚さ方向z寸法の差を縮小することが可能である。これにより、抵抗体層4の副走査方向y両側部分をより効率よく発熱させることが可能である。したがって、抵抗体層4をより均一に発熱させることができる。 According to this embodiment, the resistor layer 4 has a pair of resistor side surfaces 41. The resistor layer 4 is a layer that generates heat when energized, and is desired to have a predetermined resistance value. In order to achieve this predetermined value, it is necessary to secure a cross-sectional area of the resistor layer 4 perpendicular to the main scanning direction x in a predetermined area or more. When the resistor layer 4 is formed by thick film printing, the printed resistor paste has a shape having a curved surface in which the surface is gently bulged. Therefore, the central portion of the resistor layer 4 in the sub-scanning direction y is significantly thicker than the portions at both ends in the sub-scanning direction y. In the case of the resistor layer 4 having such a shape, even if a predetermined area is secured and a predetermined resistance value is achieved, the current at the time of energization selectively flows in the relatively thick sub-scanning direction y central portion. Therefore, the central portion of the resistor layer 4 in the sub-scanning direction y generates heat intensively, and the portions on both sides of the sub-scanning direction y hardly contribute to heat generation. In this respect, since the resistor layer 4 of the present embodiment has a pair of resistor side surfaces 41, the thickness of the sub-scanning direction y central portion and the sub-scanning direction y both side portions is thick when the cross-sectional area is a predetermined area. It is possible to reduce the difference in the z dimension in the longitudinal direction. As a result, it is possible to generate heat more efficiently on both sides of the resistor layer 4 in the sub-scanning direction y. Therefore, the resistor layer 4 can be generated more uniformly.

また、抵抗体層4の副走査方向y中央部分と副走査方向y両側部分との厚さ方向z寸法の差を縮小することが可能であることにより、所定の断面積を確保した場合に、副走査方向y中央部分の厚さを薄くすることが可能である。 Further, when the predetermined cross-sectional area is secured by reducing the difference in the thickness direction z dimension between the sub-scanning direction y central portion and the sub-scanning direction y both side portions of the resistor layer 4. It is possible to reduce the thickness of the central portion in the sub-scanning direction y.

天面42がなだらかな凸曲面であることにより、天面42を覆う保護層5の表面をなだらかな凸曲面とし易い。これは、サーマルプリントヘッドA1と印刷用紙とをスムーズに摺動させるのに好ましい。 Since the top surface 42 has a gentle convex curved surface, the surface of the protective layer 5 covering the top surface 42 can easily be a gentle convex curved surface. This is preferable for smoothly sliding the thermal print head A1 and the printing paper.

サーマルプリントヘッドA1の製造においては、図13および図14に示すように、抵抗体ペースト印刷工程によって印刷された抵抗体ペースト4Aを、乾燥工程において乾燥させる。そして、乾燥工程を経て脆い性質となった抵抗体ペースト4Aを、除去工程によって部分的に除去する。このため、除去工程においては、抵抗体ペースト4Aの所望の除去対象部分を容易に除去可能である。また、抵抗体ペースト4Aを除去するために、ことさらに強力な除去機能を発揮する除去手法を採用する必要がない。このため、除去工程において、電極層3やグレーズ層12を不当に傷つけるおそれが少ないという利点がある。 In the production of the thermal print head A1, as shown in FIGS. 13 and 14, the resistor paste 4A printed by the resistor paste printing step is dried in the drying step. Then, the resistor paste 4A, which has become brittle after the drying step, is partially removed by the removing step. Therefore, in the removing step, the desired portion to be removed of the resistor paste 4A can be easily removed. Further, in order to remove the resistor paste 4A, it is not necessary to adopt a removal method that exerts a particularly powerful removing function. Therefore, there is an advantage that the electrode layer 3 and the glaze layer 12 are less likely to be unduly damaged in the removing step.

除去工程においてショットブラストを用いれば、抵抗体ペースト4Aの所望箇所を確実に除去することができる。また、図15および図16に示すように、一対の貫通部92を抵抗体ペースト4Aに対して主走査方向xに相対的に移動させながらショットブラストを行うことにより、除去された後の抵抗体ペースト4Aの副走査方向y側面は、マスク91を移動させる精度と同等の平坦度を有するものとなる。この側面は、抵抗体層4において抵抗体側面41となる部位であり、抵抗体側面41の平坦度をより高め、主走査方向xに沿った形状とするのに適している。 If shot blasting is used in the removing step, the desired portion of the resistor paste 4A can be reliably removed. Further, as shown in FIGS. 15 and 16, the resistor after being removed by performing shot blasting while moving the pair of penetrating portions 92 relative to the resistor paste 4A in the main scanning direction x. The side surface y in the sub-scanning direction of the paste 4A has a flatness equivalent to the accuracy of moving the mask 91. This side surface is a portion of the resistor layer 4 that becomes the resistor side surface 41, and is suitable for further increasing the flatness of the resistor side surface 41 and forming the shape along the main scanning direction x.

また、抵抗体層4は、抵抗体傾斜面44を有している。抵抗体傾斜面44は、抵抗体層4と電極層3やグレーズ層12との接合部分において、接合面積を拡大する。このため、抵抗体層4の接合強度の向上に好ましい。また、サーマルプリントヘッドA1の使用における抵抗体層4の発熱部40の発熱等に起因して、抵抗体層4と電極層3やグレーズ層12との接合箇所に応力が生じた場合に、この応力を緩和することが期待できる。 Further, the resistor layer 4 has a resistor inclined surface 44. The resistor inclined surface 44 expands the joining area at the joining portion between the resistor layer 4 and the electrode layer 3 and the glaze layer 12. Therefore, it is preferable to improve the bonding strength of the resistor layer 4. Further, when stress is generated at the joint between the resistor layer 4 and the electrode layer 3 or the glaze layer 12 due to heat generation of the heat generating portion 40 of the resistor layer 4 in the use of the thermal print head A1, this It can be expected to relieve stress.

被覆体48は、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38に対して主走査方向xに隣接している。このため、被覆体48は、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38とグレーズ層12との接合箇所を覆う格好となる。このような被覆体48によって、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38とグレーズ層12との接合強度を高めることができる。また、被覆体48は、図13〜図16に示すように抵抗体ペースト4Aのうち除去工程によってショットブラスト等が施された領域が部分的に残存したものである。このため、被覆体48は、厚さ方向z視において抵抗体層4と繋がる。抵抗体層4に対して副走査方向yに繋がる共通電極帯状部34および個別電極帯状部38は、発熱部40の発熱により温度サイクルが付与される。このような位置にある共通電極帯状部34および個別電極帯状部38に隣接する被覆体48が設けられていることにより、共通電極帯状部34および個別電極帯状部38の意図しない剥離等を回避することができる。ショットブラストを用いた除去工程によれば、抵抗体層4の抵抗体傾斜面44や被覆体48を合理的に形成することができる。なお、抵抗体傾斜面44および被覆体48は、たとえばショットブラストを用いた除去工程において形成されうるものであり、ショットブラストに用いられる投射材の性状等の条件によっては、抵抗体傾斜面44および被覆体48のいずれか一方および双方を備えない構成であってもよい。 The covering body 48 is adjacent to the common electrode strip-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 in the main scanning direction x. Therefore, the covering body 48 is shaped to cover the joint portion between the common electrode band-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 and the glaze layer 12. With such a covering body 48, the joint strength between the common electrode strip-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 and the glaze layer 12 can be increased. Further, as shown in FIGS. 13 to 16, the covering body 48 is a portion of the resistor paste 4A in which a region that has been shot blasted or the like by the removing step remains partially. Therefore, the covering body 48 is connected to the resistor layer 4 in the z-view in the thickness direction. The common electrode band-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 connected to the resistor layer 4 in the sub-scanning direction y are subjected to a temperature cycle by the heat generated by the heat generating portion 40. By providing the covering body 48 adjacent to the common electrode band-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 at such positions, unintentional peeling or the like of the common electrode band-shaped portion 34 and the individual electrode strip-shaped portion 38 can be avoided. be able to. According to the removal step using shot blasting, the resistor inclined surface 44 and the covering body 48 of the resistor layer 4 can be rationally formed. The resistor inclined surface 44 and the covering body 48 can be formed, for example, in a removal step using shot blasting, and the resistor inclined surface 44 and the covering body 48 may be formed depending on conditions such as the properties of the projection material used for shot blasting. The configuration may not include either one or both of the coverings 48.

図17〜図24は、本発明の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。 17 to 24 show other embodiments of the present invention. In these figures, the same or similar elements as those in the above embodiment are designated by the same reference numerals as those in the above embodiment.

図17は、本発明の第2実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示している。本実施形態のサーマルプリントヘッドA2は、抵抗体層4の天面42の構成が上述した実施形態と異なっている。 FIG. 17 shows a thermal printhead based on the second embodiment of the present invention. In the thermal print head A2 of the present embodiment, the configuration of the top surface 42 of the resistor layer 4 is different from that of the above-described embodiment.

本実施形態においては、天面42は、凹部43を有している。凹部43は、天面42の副走査方向y中央に位置しており、基板11側に凹んだ部位である。このような凹部43を有する抵抗体層4は、たとえば、図15および図16に示す除去工程におけるショットブラストの後に、図18に示すように、貫通部93を有するマスク91を用いてショットブラストを行うことによって形成可能である。貫通部93は、副走査方向yにおいて除去工程を経た抵抗体ペースト4Aの中央に位置している。この貫通部93から投射材を吹き付けながら、マスク91を主走査方向xに移動させる。貫通部93から吹き付けられる投射材は、抵抗体ペースト4Aの厚さ方向z寸法を若干減じさせる程度の強度である。 In the present embodiment, the top surface 42 has a recess 43. The recess 43 is located at the center of the top surface 42 in the sub-scanning direction y, and is a recessed portion on the substrate 11 side. The resistor layer 4 having such a recess 43 is, for example, shot blasted using a mask 91 having a penetrating portion 93 as shown in FIG. 18 after shot blasting in the removal step shown in FIGS. 15 and 16. It can be formed by doing. The penetrating portion 93 is located at the center of the resistor paste 4A that has undergone the removal step in the sub-scanning direction y. The mask 91 is moved in the main scanning direction x while spraying the projection material from the penetrating portion 93. The projecting material sprayed from the penetrating portion 93 has a strength that slightly reduces the z dimension in the thickness direction of the resistor paste 4A.

このような実施形態によっても、抵抗体層4をより均一に発熱させることができる。また、凹部43を有することにより、抵抗体層4に通電した場合に、抵抗体層4の副走査方向y両側部分により多くの電流を流すことができる。抵抗体層4の副走査方向y中央部分は、抵抗体層4の副走査方向y両側部分に挟まれた部分であるため、相対的に放熱の度合いが小である。言い換えると、抵抗体層4の副走査方向y両側部分は、相対的に放熱の度合いが大である。このような副走査方向y両側部分により多くの電流を流すことにより、印刷用紙により均一に熱を伝えることが可能であり、より鮮明な印刷に有利である。 Even in such an embodiment, the resistor layer 4 can be heated more uniformly. Further, by having the recess 43, when the resistor layer 4 is energized, a larger current can be passed through the sub-scanning direction y both sides of the resistor layer 4. Since the central portion of the resistor layer 4 in the sub-scanning direction y is a portion sandwiched between the sub-scanning directions y and both side portions of the resistor layer 4, the degree of heat dissipation is relatively small. In other words, the degree of heat dissipation is relatively large in the sub-scanning direction y both side portions of the resistor layer 4. By passing a larger amount of current to both sides of the sub-scanning direction y, heat can be uniformly transferred to the printing paper, which is advantageous for clearer printing.

図19は、本発明の第3実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示している。本実施形態のサーマルプリントヘッドA3は、抵抗体層4の天面42の構成が上述した実施形態と異なっている。 FIG. 19 shows a thermal printhead based on the third embodiment of the present invention. In the thermal print head A3 of the present embodiment, the configuration of the top surface 42 of the resistor layer 4 is different from that of the above-described embodiment.

本実施形態においては、天面42は、平坦な面であり主走査方向xおよび副走査方向yに沿っている。角度αは、上述した実施形態と同様の範囲にあるが、サーマルプリントヘッドA1およびサーマルプリントヘッドA2における角度αよりも大であってもよい。 In the present embodiment, the top surface 42 is a flat surface and is along the main scanning direction x and the sub scanning direction y. The angle α is in the same range as that of the above-described embodiment, but may be larger than the angle α in the thermal print head A1 and the thermal print head A2.

また、本実施形態においては、抵抗体層4は、抵抗体傾斜面44を有していない。また、サーマルプリントヘッドA3においては、被覆体48は形成されていない。 Further, in the present embodiment, the resistor layer 4 does not have the resistor inclined surface 44. Further, in the thermal print head A3, the covering body 48 is not formed.

図20は、サーマルプリントヘッドA3の製造方法の一例を示している。本実施形態の製造方法においては、図20および図21に示す抵抗体印刷工程を行う。図示された例においては、スクリーン95およびスキージ96を用いて抵抗体ペースト4Aを中間支持体97にスクリーン印刷の手法によって印刷する。中間支持体97は、円柱形状の部材であり、周面に抵抗体ペースト4Aの溶媒を吸収する材質が設けられている。このような材質としては、たとえばシリコーンが挙げられる。図21において中間支持体97に印刷された複数の抵抗体ペースト4Aは、各々が抵抗体層4となるものであり、紙面奥行方向が主走査方向xとなる。 FIG. 20 shows an example of a method for manufacturing the thermal print head A3. In the manufacturing method of the present embodiment, the resistor printing steps shown in FIGS. 20 and 21 are performed. In the illustrated example, the resistor paste 4A is printed on the intermediate support 97 by a screen printing technique using a screen 95 and a squeegee 96. The intermediate support 97 is a cylindrical member, and a material that absorbs the solvent of the resistor paste 4A is provided on the peripheral surface thereof. Examples of such a material include silicone. Each of the plurality of resistor pastes 4A printed on the intermediate support 97 in FIG. 21 serves as the resistor layer 4, and the paper surface depth direction is the main scanning direction x.

抵抗体印刷工程によって中間支持体97に印刷された抵抗体ペースト4Aは、中間支持体97によって溶媒が吸収される。これが、溶媒吸収工程である。溶媒吸収工程によって溶媒が吸収されると、抵抗体ペースト4Aは、それ以降の形状変化が抑制される。 The solvent of the resistor paste 4A printed on the intermediate support 97 by the resistor printing step is absorbed by the intermediate support 97. This is the solvent absorption step. When the solvent is absorbed by the solvent absorption step, the shape change of the resistor paste 4A thereafter is suppressed.

次いで、図22および図23に示す転写工程を行う。図22に示すように、支持体材料1Aを用意する。支持体材料1Aは、複数の支持体1を形成しうる材料である。支持体材料1Aは、基板材料11Aとグレーズ層12とを有する。基板材料11Aは、複数の基板11を形成しうる材料である。基板材料11Aには、複数の支持体1の膨出部121に対応する膨出部121(グレーズ層12)が形成されている。また、支持体材料1Aには、図示しない複数の電極層3が形成されている。 Next, the transfer steps shown in FIGS. 22 and 23 are performed. As shown in FIG. 22, the support material 1A is prepared. The support material 1A is a material capable of forming a plurality of supports 1. The support material 1A has a substrate material 11A and a glaze layer 12. The substrate material 11A is a material capable of forming a plurality of substrates 11. The substrate material 11A is formed with bulging portions 121 (glaze layer 12) corresponding to bulging portions 121 of the plurality of supports 1. Further, a plurality of electrode layers 3 (not shown) are formed on the support material 1A.

複数の抵抗体ペースト4Aが印刷された中間支持体97を支持体材料1Aに対向させ、支持体材料1Aに対して相対移動させながら回転させる。この際、複数の抵抗体ペースト4Aが複数の膨出部121に各別に転写されるように移動および回転させる。これにより、溶媒が吸収された抵抗体ペースト4Aが支持体材料1Aの膨出部121に転写される。 The intermediate support 97 on which the plurality of resistor pastes 4A are printed is made to face the support material 1A, and is rotated while being relatively moved with respect to the support material 1A. At this time, the plurality of resistor pastes 4A are moved and rotated so as to be transferred to the plurality of bulging portions 121 separately. As a result, the resistor paste 4A in which the solvent has been absorbed is transferred to the bulging portion 121 of the support material 1A.

この後は、支持体材料1Aに転写された抵抗体ペースト4Aを焼成することにより、抵抗体層形成工程を行い、抵抗体層4を形成する。そして、支持体材料1Aを分割して複数の支持体1を得る。そして、上述したサーマルプリントヘッドA1と同様の工程を経る事により、サーマルプリントヘッドA3が得られる。 After that, the resistor paste 4A transferred to the support material 1A is fired to perform a resistor layer forming step to form the resistor layer 4. Then, the support material 1A is divided to obtain a plurality of supports 1. Then, the thermal print head A3 can be obtained by going through the same steps as the thermal print head A1 described above.

本実施形態によっても、抵抗体層4をより均一に発熱させることができる。抵抗体層4の天面42が平坦であることにより、抵抗体層4の厚さ方向z寸法をより均一化することが可能である。また、抵抗体層4を覆う保護層5の表面を平坦に近づけるのに好ましい。 Also in this embodiment, the resistor layer 4 can be generated more uniformly. Since the top surface 42 of the resistor layer 4 is flat, it is possible to make the z dimension of the resistor layer 4 in the thickness direction more uniform. Further, it is preferable to make the surface of the protective layer 5 covering the resistor layer 4 close to flat.

印刷工程において中間支持体97に印刷された抵抗体ペースト4Aは、溶媒吸収工程において溶媒が吸収される。これにより、抵抗体ペースト4Aは、印刷工程において形成された形状がほぼそのまま維持される。これにより、支持体材料1Aに転写された抵抗体ペースト4Aは、なだらかな曲面を有する形状等にだれてしまうおそれが少ない。したがって、平坦な天面42を有する抵抗体層4を適切に形成することができる。 The resistor paste 4A printed on the intermediate support 97 in the printing step absorbs the solvent in the solvent absorbing step. As a result, the shape of the resistor paste 4A formed in the printing process is maintained almost as it is. As a result, the resistor paste 4A transferred to the support material 1A is less likely to drip into a shape having a gentle curved surface or the like. Therefore, the resistor layer 4 having a flat top surface 42 can be appropriately formed.

図24は、本発明の第4実施形態に基づくサーマルプリントヘッドを示している。本実施形態のサーマルプリントヘッドA4は、グレーズ層12の構成が上述した実施形態と異なっている。 FIG. 24 shows a thermal printhead based on the fourth embodiment of the present invention. The structure of the glaze layer 12 of the thermal print head A4 of the present embodiment is different from that of the above-described embodiment.

本実施形態においては、グレーズ層12は、上述した膨出部121を有しておらず、基板11の全面を覆うほぼ均一な厚さのものとされている。このように上述したサーマルプリントヘッドA1〜A3においても、膨出部121を有さないグレーズ層12を採用してもよい。 In the present embodiment, the glaze layer 12 does not have the above-mentioned bulging portion 121, and has a substantially uniform thickness covering the entire surface of the substrate 11. As described above, also in the thermal print heads A1 to A3 described above, the glaze layer 12 having no bulging portion 121 may be adopted.

本発明に係るサーマルプリントヘッドおよびサーマルプリントヘッドの製造方法は、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係るサーマルプリントヘッドおよびサーマルプリントヘッドの製造方法の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。 The thermal print head and the method for manufacturing the thermal print head according to the present invention are not limited to the above-described embodiments. The specific configuration of the thermal print head and the method for manufacturing the thermal print head according to the present invention can be freely redesigned in various ways.

A1〜A4:サーマルプリントヘッド
1 :支持体
1A :支持体材料
3 :電極層
4 :抵抗体層
4A :抵抗体ペースト
5 :保護層
11 :基板
11A :基板材料
12 :グレーズ層
33 :共通電極
34 :共通電極帯状部
35 :共通電極連結部
36 :個別電極
37 :個別電極連結部
38 :個別電極帯状部
39 :ボンディング部
40 :発熱部
41 :抵抗体側面
42 :天面
43 :凹部
44 :抵抗体傾斜面
48 :被覆体
49 :被覆体傾斜面
61 :ワイヤ
71 :駆動IC
72 :封止樹脂
73 :コネクタ
74 :配線基板
75 :放熱部材
81 :プラテンローラ
82 :感熱紙
91 :マスク
92 :貫通部
93 :貫通部
95 :スクリーン
96 :スキージ
97 :中間支持体
121 :膨出部
122 :補助部
351 :Ag層
x :主走査方向
y :副走査方向
z :厚さ方向
α :角度
A1 to A4: Thermal print head 1: Support 1A: Support material 3: Electrode layer 4: Resistor layer 4A: Resistor paste 5: Protective layer 11: Substrate 11A: Substrate material 12: Glaze layer 33: Common electrode 34 : Common electrode strip-shaped portion 35: Common electrode connecting portion 36: Individual electrode 37: Individual electrode connecting portion 38: Individual electrode strip-shaped portion 39: Bonding portion 40: Heat generating portion 41: Resistor side surface 42: Top surface 43: Recessed portion 44: Resistance Body inclined surface 48: Cover 49: Cover inclined surface 61: Wire 71: Drive IC
72: Encapsulating resin 73: Connector 74: Wiring board 75: Heat dissipation member 81: Platen roller 82: Thermal paper 91: Mask 92: Penetration part 93: Penetration part 95: Screen 96: Squeegee 97: Intermediate support 121: Swelling Part 122: Auxiliary part 351: Ag layer x: Main scanning direction y: Sub-scanning direction z: Thickness direction α: Angle

Claims (12)

基板を含む支持体と、
電極層と、
主走査方向に配列された複数の発熱部を含み、前記電極層の少なくとも一部を覆う抵抗体層と、を備えるサーマルプリントヘッドであって、
前記抵抗体層は、主走査方向に延びる帯状であり、副走査方向両側に前記基板が広がる方向に対して起立した一対の抵抗体側面を有し、
前記電極層は、各々が副走査方向に延びており且つ主走査方向に互いに離間配置された複数の共通電極帯状部と、各々が副走査方向に延びており且つ隣り合う前記共通電極帯状部の間に各別に配置された複数の個別電極帯状部と、を有し、
前記抵抗体層は、前記複数の共通電極帯状部および前記複数の個別電極帯状部を主走査方向に横断するように覆っており、
前記抵抗体層は、前記一対の抵抗体側面に対して前記基板側に繋がり且つ前記基板に近づくほど副走査方向外方に位置する形状である一対の抵抗体傾斜面を有し、
前記共通電極帯状部および前記個別電極帯状部の少なくともいずれかの主走査方向両側に隣接し且つ前記抵抗体層と同じ材質からなるとともに前記基板に近づくほど主走査方向外方に位置する形状である被覆体傾斜面を有する被覆体をさらに備えることを特徴とする、サーマルプリントヘッド。
A support including a substrate and
With the electrode layer
A thermal printhead comprising a plurality of heat generating portions arranged in the main scanning direction and a resistor layer covering at least a part of the electrode layer.
The resistor layer is a strip extending in the main scanning direction, have a pair of resistors sides standing upright with respect to the spreading direction is the substrate in the sub-scanning direction on both sides,
The electrode layer includes a plurality of common electrode strips each extending in the sub-scanning direction and spaced apart from each other in the main scanning direction, and the common electrode strips each extending in the sub-scanning direction and adjacent to each other. It has a plurality of individual electrode strips arranged separately between them, and has a plurality of individual electrode strips.
The resistor layer covers the plurality of common electrode strips and the plurality of individual electrode strips so as to traverse the main scanning direction.
The resistor layer has a pair of resistor inclined surfaces that are connected to the substrate side with respect to the pair of resistor side surfaces and are positioned outward in the sub-scanning direction as they approach the substrate.
The shape is adjacent to at least one of the common electrode band-shaped portion and the individual electrode strip-shaped portion on both sides in the main scanning direction, is made of the same material as the resistor layer, and is located outside the main scanning direction as it approaches the substrate. further comprising wherein the Rukoto a coating having a coating body inclined surface, the thermal print head.
前記抵抗体層は、副走査方向において前記一対の抵抗体側面の間に位置する天面を有する、請求項に記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to claim 1 , wherein the resistor layer has a top surface located between the pair of resistor side surfaces in the sub-scanning direction. 前記天面は、前記基板から離間する側に膨出する曲面状である、請求項に記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to claim 2 , wherein the top surface has a curved surface shape that bulges toward a side away from the substrate. 前記天面は、前記基板側に凹む凹部を有する、請求項に記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to claim 2 , wherein the top surface has a recess recessed on the substrate side. 前記天面は、平坦な面である、請求項に記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to claim 2 , wherein the top surface is a flat surface. 前記抵抗体傾斜面の前記基板の厚さ方向における寸法は、前記抵抗体側面の前記厚さ方向における寸法よりも小である、請求項1ないし5のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to any one of claims 1 to 5, wherein the dimension of the inclined surface of the resistor in the thickness direction of the substrate is smaller than the dimension of the side surface of the resistor in the thickness direction. 前記被覆体は、前記基板の厚さ方向視において前記抵抗体層に繋がる、請求項1ないし6のいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to any one of claims 1 to 6, wherein the covering body is connected to the resistor layer in the thickness direction of the substrate. 前記支持体は、前記基板と前記電極層および前記抵抗体層との間に介在するグレーズ層をさらに備える、請求項1ないしのいずれかに記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal printhead according to any one of claims 1 to 7 , wherein the support further includes a glaze layer interposed between the substrate, the electrode layer, and the resistor layer. 前記グレーズ層は、前記抵抗体層と前記基板との間に位置し且つ前記基板から離間する側に膨出する膨出部を含む、請求項に記載のサーマルプリントヘッド。 The thermal print head according to claim 8 , wherein the glaze layer includes a bulging portion located between the resistor layer and the substrate and bulging toward a side away from the substrate. 基板を含む支持体に、導電性ペーストを印刷する導電性ペースト印刷工程と、
前記導電性ペーストを焼成することにより電極層を形成する電極層形成工程と、
前記電極層の少なくとも一部を覆うように抵抗体ペーストを印刷する抵抗体ペースト印刷工程と、
前記抵抗体ペーストを乾燥させる乾燥工程と、
乾燥した前記抵抗体ペーストの副走査方向両側部分を除去する除去工程と、
前記抵抗体ペーストを焼成することにより抵抗体層を形成する抵抗体層形成工程と、を備え
前記除去工程においては、ショットブラストを用い、
前記乾燥工程の後、前記抵抗体層形成工程の前に、ショットブラストにより前記抵抗体ペーストの一部を凹ませる凹部形成工程をさらに備えることを特徴とする、サーマルプリントヘッドの製造方法。
A conductive paste printing process that prints a conductive paste on a support including a substrate,
An electrode layer forming step of forming an electrode layer by firing the conductive paste, and
A resistor paste printing step of printing a resistor paste so as to cover at least a part of the electrode layer.
A drying step of drying the resistor paste and
A removal step of removing both side portions of the dried resistor paste in the sub-scanning direction, and
A resistor layer forming step of forming a resistor layer by firing the resistor paste is provided .
In the removal step, shot blasting is used.
After it said drying step, prior to the resistor layer formation step further comprises characterized Rukoto a recess forming step of recessing the portion of the resistor paste by shot blasting method for producing a thermal printing head.
前記除去工程においては、副走査方向に離間した一対の貫通部を有するマスクを用いて、当該一対の貫通部を前記抵抗体ペーストに対して主走査方向に移動させながら、当該一対の貫通部から投射材を吹き付ける、請求項10に記載のサーマルプリントヘッドの製造方法。 In the removal step, using a mask having a pair of penetrating portions separated in the sub-scanning direction, the pair of penetrating portions are moved from the pair of penetrating portions with respect to the resistor paste in the main scanning direction. The method for manufacturing a thermal print head according to claim 10 , wherein a projection material is sprayed. 基板を含む支持体に、導電性ペーストを印刷する導電性ペースト印刷工程と、
前記導電性ペーストを焼成することにより電極層を形成する電極層形成工程と、
前記電極層の少なくとも一部を覆うように抵抗体ペーストを印刷する抵抗体ペースト印刷工程と、
前記抵抗体ペーストを乾燥させる乾燥工程と、
乾燥した前記抵抗体ペーストの副走査方向両側部分を除去する除去工程と、
前記抵抗体ペーストを焼成することにより抵抗体層を形成する抵抗体層形成工程と、を備え、
前記電極層形成工程においては、前記電極層に、各々が副走査方向に延びており且つ主走査方向に互いに離間配置された複数の共通電極帯状部と、各々が副走査方向に延びており且つ隣り合う前記共通電極帯状部の間に各別に配置された複数の個別電極帯状部と、を形成し、
前記抵抗体ペースト印刷工程では、前記複数の共通電極帯状部と前記複数の個別電極帯状部を主走査方向に横断するように前記抵抗体ペーストを印刷し、
前記除去工程においては、ショットブラストを用いて、
前記抵抗体層の副走査方向両側に、前記基板が広がる方向に対して起立した一対の抵抗体側面と、前記一対の抵抗体側面に対して前記基板側に繋がり且つ前記基板に近づくほど副走査方向外方に位置する形状である一対の抵抗体傾斜面と、を形成し、且つ
前記共通電極帯状部および前記個別電極帯状部の少なくともいずれかの主走査方向両側に隣接し且つ前記抵抗体層と同じ材質からなるとともに前記基板に近づくほど主走査方向外方に位置する形状である被覆体傾斜面を有する被覆体を形成することを特徴とする、サーマルプリントヘッドの製造方法。
A conductive paste printing process that prints a conductive paste on a support including a substrate,
An electrode layer forming step of forming an electrode layer by firing the conductive paste, and
A resistor paste printing step of printing a resistor paste so as to cover at least a part of the electrode layer.
A drying step of drying the resistor paste and
A removal step of removing both side portions of the dried resistor paste in the sub-scanning direction, and
A resistor layer forming step of forming a resistor layer by firing the resistor paste is provided.
In the electrode layer forming step, a plurality of common electrode strips extending in the sub-scanning direction and spaced apart from each other in the main scanning direction, and each extending in the sub-scanning direction, are formed in the electrode layer. A plurality of individual electrode strips arranged separately between the adjacent common electrode strips are formed.
In the resistor paste printing step, the resistor paste is printed so as to cross the plurality of common electrode strips and the plurality of individual electrode strips in the main scanning direction.
In the removal step, shot blasting is used.
A pair of resistor side surfaces that stand up in the direction in which the substrate spreads on both sides of the resistor layer in the sub-scanning direction, and sub-scanning that is connected to the substrate side with respect to the pair of resistor side surfaces and approaches the substrate. A pair of resistor inclined surfaces having a shape located outside the direction are formed, and
The shape is adjacent to at least one of the common electrode band-shaped portion and the individual electrode strip-shaped portion on both sides in the main scanning direction, is made of the same material as the resistor layer, and is located outside the main scanning direction as it approaches the substrate. A method of manufacturing a thermal print head, which comprises forming a covering having an inclined surface of the covering.
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