JP6633488B2 - Method of manufacturing conductive paste and substrate with conductive film - Google Patents

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本発明は、スクリーンオフセット印刷などのスクリーン版を用いる転写印刷法によって電極や回路のパターンを形成するために有用な導電性ペースト及びこのペーストを用いた導電膜付基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive paste useful for forming an electrode or circuit pattern by a transfer printing method using a screen plate such as screen offset printing, and a method for manufacturing a substrate with a conductive film using the paste.

従来、電子部品の分野において、フィルムや基板の表面に配線や電極などの導電膜を形成する方法として厚膜法や薄膜法、メッキ法などがある。厚膜法は導電性ペーストをスクリーン印刷して配線電極パターンを形成した後に硬化や焼き付けを行って導電膜を形成する方法である。この厚膜法のメリットは工程が簡単であることやマスク費用が安価であることなどの理由で全体として低コストで導電膜が形成できることにある。また、他工法に比べると、例えば10μm以上の厚い導電膜も形成し易い。しかし、反面、形状の優れた導電膜を形成するのは困難であり、印刷されたペーストが垂れてしまうことで蒲鉾状の断面形状となったり、スクリーンメッシュの痕が残って表面が荒れてしまったりする。   2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of electronic components, there are a thick film method, a thin film method, a plating method, and the like as a method of forming a conductive film such as a wiring or an electrode on a surface of a film or a substrate. The thick film method is a method in which a conductive paste is formed by screen-printing a conductive paste to form a wiring electrode pattern, followed by curing or baking. The merit of this thick film method is that the conductive film can be formed at low cost as a whole because of the simplicity of the process and the low cost of the mask. Further, compared to other methods, a thick conductive film having a thickness of, for example, 10 μm or more can be easily formed. However, on the other hand, it is difficult to form a conductive film having an excellent shape, and the printed paste drips, resulting in a semi-cylindrical cross-sectional shape or a rough surface with traces of screen mesh remaining. Roll around.

このような厚膜法に対して、例えば1μm以下の薄い膜を形成できる薄膜法(スパッタリング法)がある。薄膜法であれば微細パターンを精密に形成することも可能であるが、真空工程が必要であるためコストが高い上に、厚膜形成には時間がかかりすぎるために向いていない。   For such a thick film method, for example, there is a thin film method (sputtering method) capable of forming a thin film of 1 μm or less. Although a fine pattern can be precisely formed by the thin film method, it is not suitable because a vacuum process is required, so that the cost is high and the formation of a thick film takes too much time.

微細パターンを精密に形成でき、且つ厚膜形成も可能な方法としてメッキ法がある。メッキ法であれば厚膜形成は比較的容易であるが、微細なパターニングのためにはフォトリソグラフィー工程とそれに続くエッチング工程が必要となる。このような工程を経るメッキ法には、基材にメッキ付けした導電膜表面に感光性のレジストを施し、必要部分のみを露光して硬化させ、硬化していない不要部分を現像液で除去した後、ウェットプロセスにて化学エッチングする方法、メッキシード層を設けた基材にレジストを付けた後に露光・現像を行い、開口部分にだけメッキを施した後、レジストを剥離してメッキのついていない部分のシード層をドライエッチングなどによって除去してパターン形成する方法の2種類の方法が存在する。しかし、いずれの方法でも、多くの工程を必要とし、経済性は低い。   There is a plating method as a method capable of precisely forming a fine pattern and forming a thick film. The formation of a thick film by plating is relatively easy, but a fine patterning requires a photolithography step and a subsequent etching step. In the plating method that goes through such a process, a photosensitive resist is applied to the surface of the conductive film plated on the base material, only necessary portions are exposed and cured, and unnecessary portions that are not cured are removed with a developer. After that, a method of chemical etching in a wet process, exposure and development after applying a resist to the substrate provided with a plating seed layer, plating only on the opening portion, the resist is peeled off and there is no plating There are two types of methods of forming a pattern by removing a portion of the seed layer by dry etching or the like. However, both methods require many steps and are low in economic efficiency.

このように、各方法とも一長一短の特徴を有するため、実際には必要な品質やコストのレベルにあわせて使い分けられているのが現状である。   As described above, each of the methods has advantages and disadvantages, and therefore, at present, they are used properly according to the required quality and cost levels.

ところで、電子部品市場は世界的に競争が激しいため低コストであることが常に求められている。また、電子機器の小型化の流れも依然として続いており、それに伴って配線電極パターンの微細化もますます進んでいく状況である。さらには、微細化によって導体回路の幅が狭くなる分、膜厚を厚くすることで電流経路の断面積を確保しようとするために導電膜が厚くなる傾向も進んでいる。それ以外にも、例えば、フリップチップ実装タイプのLED(発光ダイオード)素子では、アノード電極とカソード電極との距離が非常に狭くなっており、これに合わせて電極を実装する基板側の電極間距離も狭く(例えば50μmなど)微細パターンが必要となってきている上に、LEDの高出力化に伴い電極も厚くなる傾向がある。加えて、チップ実装には平坦な表面が必要であり、且つ前述のアノード・カソードの電極間距離はチップが実装される面、即ち電極の上面で達成されなければならない。電極下面、即ち基材との接触面における電極間距離も既に狭すぎるために余裕はなく、電極上面と電極下面のサイズはほぼ同じとなる必要があり、言い換えれば電極断面形状は矩形であることが要求される。   By the way, since the electronic component market is intensely competitive worldwide, low cost is always required. In addition, the trend of miniaturization of electronic devices is still continuing, and accordingly, the miniaturization of wiring electrode patterns is further progressing. Furthermore, as the width of the conductor circuit is reduced due to miniaturization, the thickness of the conductive film is also increasing in order to secure the cross-sectional area of the current path by increasing the film thickness. In addition, for example, in a flip-chip mounting type LED (light emitting diode) element, the distance between the anode electrode and the cathode electrode is extremely narrow, and the distance between the electrodes on the substrate side on which the electrodes are mounted is adjusted accordingly. In addition to the necessity of a fine pattern (for example, 50 μm) which is narrower, the electrode tends to be thicker as the output of the LED increases. In addition, chip mounting requires a flat surface, and the above-described anode-cathode electrode distance must be achieved on the surface on which the chip is mounted, that is, the upper surface of the electrode. Since the distance between the electrodes on the electrode lower surface, that is, the contact surface with the substrate, is already too small, there is no margin, and the size of the electrode upper surface and the electrode lower surface needs to be substantially the same. In other words, the electrode cross-sectional shape is rectangular. Is required.

このような低コスト、微細パターンで厚膜、且つ表面が平滑で矩形断面である導電膜の要求を満たしていくには、前述した既存のプロセスで対応を続けることが難しくなっており、新しいプロセスが望まれている。中でも、印刷法は低コストである点や、必要な部分に必要な分だけを印刷すればよいため、資源を有効活用できると点などの長所が期待され、前記のスクリーン印刷法の他に様々な印刷方法が検討されている。   In order to meet the demand for such a low-cost, fine-pattern, thick-film, smooth-surface, and rectangular-section conductive film, it is difficult to continue using the existing processes described above, and new processes are required. Is desired. Among them, the printing method is expected to have advantages such as the low cost and the advantage that resources can be effectively used because only the necessary portions need to be printed, and various advantages besides the screen printing method described above. Various printing methods are being studied.

例えば、インクジェット印刷法は、版や金型などが不要であり、データをそのまま描画できる利点があり、ノズルから吐出させるインク量を精密にコントロールすることにより細い配線の印刷も可能であるため、微細なパターンを容易に形成できる。しかし、細かいドットで描画を行う方式であるため厚膜や大面積の印刷となればたちまちコストが増大する。   For example, the inkjet printing method does not require a plate or a mold, and has the advantage that data can be drawn as it is.Since the precise control of the amount of ink ejected from the nozzles enables printing of fine wiring, fine printing is possible. A simple pattern can be easily formed. However, since it is a method of drawing with fine dots, if a thick film or a large area is printed, the cost increases immediately.

凹版を用いたグラビアオフセット印刷も微細パターン形成の目的で検討されることが多い。しかし、凹んだ版の中に充填したインクを転写させる方式であるため、インク転写量はそれほど多くできず転写膜厚としては2〜3μm程度であり、例えば10μmの厚膜を転写させることは困難である。また、凹版のインクを充填しない部分に付着したインクはドクターブレードで掻きとって不要な部分にインクが転写されないようにするが、インクを完全に掻き取るためにはインクの粘度を、ある程度低くする必要がある。そのため、グラビアオフセット印刷では、溶媒の量を多めにしてインク中の固形分を少なくしなければならず、このことも膜厚を厚くできない理由の一つになっている。また、インクを充填しない版凸部上面に付着したインクはドクターブレードで掻き取られるが、近年の導電性インクやペーストには導電性を向上させる目的で、ナノサイズなどの微細な金属粒子が用いられることがあり、このような微細粒子がドクターブレードで掻き取りきれずに転写されてしまい、印刷された回路が絶縁不良となるケースもある。   Gravure offset printing using intaglio printing is often studied for the purpose of forming fine patterns. However, since it is a method of transferring the ink filled in the concave plate, the ink transfer amount cannot be so large and the transfer film thickness is about 2 to 3 μm. For example, it is difficult to transfer a 10 μm thick film. It is. In addition, the ink adhering to the portion of the intaglio that is not filled with ink is scraped with a doctor blade so that the ink is not transferred to unnecessary portions.However, in order to completely scrape the ink, the viscosity of the ink is reduced to some extent. There is a need. Therefore, in the gravure offset printing, the amount of the solvent must be increased to reduce the solid content in the ink, which is one of the reasons why the film thickness cannot be increased. In addition, the ink adhering to the upper surface of the plate convex portion that is not filled with ink is scraped off by a doctor blade, but in recent years conductive metal inks and pastes used fine metal particles such as nano-sized metal for the purpose of improving conductivity. In some cases, such fine particles are transferred without being scraped off by a doctor blade, and the printed circuit may have poor insulation.

このような印刷法のデメリットを克服し、メリットを最大限に活かす方法としてスクリーンオフセット印刷法やスクリーンパッド印刷法などのスクリーン版を用いる転写印刷法(スクリーン版による所定のパターンを、シリコーンゴムで形成された転写部材によって転写する印刷方法)が提唱されている。   As a method of overcoming such disadvantages of the printing method and making the most of the advantages, a transfer printing method using a screen plate such as a screen offset printing method or a screen pad printing method (a predetermined pattern on the screen plate is formed of silicone rubber). (A printing method of transferring by a transferred transfer member).

スクリーンオフセット印刷法は、シリコーンブランケット(シリコーンゴムで形成されたブランケット)の表面にスクリーン印刷によって所定のパターンを印刷し、このパターンを本来印刷目的とする基板やフィルムに転写してパターン形成を行う方法である。この方法によると、まずスクリーン印刷をすることで厚膜形成ができる。このスクリーン印刷は、一旦シリコーンブランケット上に行われるために、シリコーンブランケットがペースト中の溶媒をある程度吸収する。そのため、スクリーン印刷において、ペーストが滲んだり垂れたりして隣接パターンと引っ付いたり、膜の断面形状が蒲鉾状となるのを抑制できる。なお、膜表面にはメッシュ痕が生じるかもしれないが、膜を対象物に転写した際に表面に位置するのはシリコーンブランケットと接触している側の面であり、シリコーンブランケットは平滑であるため、膜も平滑な面が表に現れる。従って、スクリーンオフセット印刷法では、表面が平滑であり、かつ断面形状が矩形である微細なパターンを印刷できる。また、コスト面においてもシリコーンブランケットに一旦印刷するだけなので大きなロスはなく、低コストに実行できる工法である。   The screen offset printing method is a method in which a predetermined pattern is printed on the surface of a silicone blanket (a blanket formed of silicone rubber) by screen printing, and this pattern is transferred to a substrate or film that is originally intended for printing to form a pattern. It is. According to this method, a thick film can be formed by first performing screen printing. Since this screen printing is performed once on the silicone blanket, the silicone blanket absorbs some of the solvent in the paste. For this reason, in screen printing, it is possible to prevent the paste from oozing or dripping and sticking to an adjacent pattern, or the cross-sectional shape of the film from becoming semi-cylindrical. Although mesh marks may be formed on the film surface, when the film is transferred to the object, the surface located on the surface is the side in contact with the silicone blanket, and the silicone blanket is smooth In addition, a smooth surface appears on the surface of the film. Therefore, in the screen offset printing method, a fine pattern having a smooth surface and a rectangular cross section can be printed. Also, in terms of cost, since printing is performed only once on the silicone blanket, there is no large loss, and the method can be implemented at low cost.

一方、スクリーンパッド印刷法は、シリコーンブランケットの表面にスクリーン印刷によって所定のパターンを印刷し、その印刷面にシリコーンパッドを押し当てることで一旦シリコーンパッドにパターンを転写した後、シリコーンパッドを本来印刷目的とする基板やフィルムに押し当てることでパターンを転写してパターン形成を行う方法である。この方法は、表面が平滑であり、かつ断面形状が矩形な厚膜パターンが得られるスクリーン印刷と転写印刷とを組み合わせた方式の利点を失うことなく、さらに印刷目的物に曲面があったり、凹凸があってもパターンを形成できる利点も有している。その理由は、この方法が柔らかいシリコーンパッドを押し当てて転写する方式であり、シリコーンパッドが曲面や凹凸に追随できるためである。スクリーンパッド印刷法のペーストに求められる特性としては、スクリーン印刷とそれに続くシリコーンブランケットを用いた転写方式とが共通していることから、前述のスクリーンオフセット印刷法と同様である。その意味でスクリーン印刷を用いないグラビアオフセット印刷用のペーストはスクリーンパッド印刷法にも適さないと言える。   On the other hand, in the screen pad printing method, a predetermined pattern is printed on the surface of a silicone blanket by screen printing, and the pattern is temporarily transferred to the silicone pad by pressing the silicone pad against the printed surface, and then the silicone pad is originally used for printing. This is a method of forming a pattern by transferring a pattern by pressing against a substrate or a film. This method has a smooth surface, and a cross-sectional shape can obtain a thick film pattern having a rectangular cross-sectional shape. There is also an advantage that a pattern can be formed even if there is a pattern. The reason is that this method is a method in which a soft silicone pad is pressed and transferred, and the silicone pad can follow a curved surface or unevenness. The characteristics required for the paste of the screen pad printing method are the same as those of the above-described screen offset printing method because the screen printing and the subsequent transfer method using a silicone blanket are common. In that sense, it can be said that a paste for gravure offset printing that does not use screen printing is not suitable for the screen pad printing method.

このようにスクリーン版を用いる転写印刷法を用いれば、他の印刷法に比べて、低コストで微細パターンを形成でき、厚膜であり、表面が平滑であり、かつ矩形断面である導電膜が得られる利点を有するものの、実際にスクリーン版を用いる転写印刷法で良好な印刷を行うために様々な課題があった。例えば、前述のように、スクリーンオフセット印刷法でも、ペーストはシリコーンブランケットに印刷された後に基材へと転写される仕組みであるが、この転写がされなかったり、一部が基材へと転写されてもブランケット側にもペーストが残ってしまう所謂「泣き別れ」の現象が生じ易い。また、たとえ完全に転写ができたとしてもパターン精度が低く、極端な場合には隣接パターンと引っ付いたり、糸引きが起こって隣接パターンにブリッジしたりする場合もあった。さらには、微細パターンが高い再現性で転写できた場合でも断面形状が矩形でなく蒲鉾状になる場合もあった。なお、前述のグラビアオフセット印刷法(凹版オフセット印刷の1種)も、シリコーンブランケットを用いる点では同一であるが、転写しようとする膜の厚みが異なっており、グラビアオフセットでは2〜3μm程度であるのに対して、スクリーンオフセットは少なくとも10μm程度の厚膜であるため、良好な転写を得ることが非常に困難である。   By using the transfer printing method using a screen plate, a fine pattern can be formed at a lower cost than other printing methods, and a conductive film having a thick film, a smooth surface, and a rectangular cross section can be obtained. Despite the advantages obtained, there have been various problems in performing good printing by the transfer printing method that actually uses a screen plate. For example, as described above, in the screen offset printing method, the paste is printed on the silicone blanket and then transferred to the base material.However, this transfer is not performed or a part of the paste is transferred to the base material. However, the so-called "crying parting" phenomenon in which the paste remains on the blanket side is likely to occur. Further, even if the transfer is completed completely, the pattern accuracy is low. In an extreme case, the pattern may be stuck to an adjacent pattern or stringing may occur to bridge the adjacent pattern. Furthermore, even when a fine pattern can be transferred with high reproducibility, the cross-sectional shape is not rectangular but may be in a semicircular shape. The gravure offset printing method (one type of intaglio offset printing) is the same in that a silicone blanket is used, but the thickness of the film to be transferred is different, and the gravure offset is about 2 to 3 μm. On the other hand, since the screen offset is a thick film of at least about 10 μm, it is very difficult to obtain good transfer.

そのためか、スクリーンオフセット印刷などのスクリーン版を用いる転写印刷法において、ペースト組成によって解決を試みた報告は見られない。他の印刷方式用のペーストとしては、例えば、凹版オフセット印刷用導電性ペーストとして、特開2007−250892号公報(特許文献1)には、導電性粉末と、ガラスフリットと、バインダ樹脂と、溶媒とを含有し、前記溶媒が、前記バインダ樹脂の良溶媒と貧溶媒との混合溶媒であり、前記貧溶媒の割合が、前記混合溶媒の全量に対して5〜40重量%である凹版オフセット印刷用導電性ペーストが開示されている。   For that reason, there has been no report that attempts have been made to solve the problem by a paste composition in a transfer printing method using a screen plate such as screen offset printing. As a paste for another printing method, for example, as a conductive paste for intaglio offset printing, JP-A-2007-250892 (Patent Document 1) discloses a conductive powder, a glass frit, a binder resin, and a solvent. Wherein the solvent is a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent of the binder resin, and the ratio of the poor solvent is 5 to 40% by weight based on the total amount of the mixed solvent. Conductive paste is disclosed.

また、特開2010−55807号公報(特許文献2)には、少なくとも表面がシリコーンゴムからなるシリコーンブランケットを用いた凹版オフセット印刷法に用いる導電性ペーストであって、バインダ樹脂、導電性粉末及び少なくとも二種の溶剤からなる混合溶剤を含み、前記混合溶剤を構成する少なくとも一種の溶剤が、前記シリコーンブランケットを2cm角に切り出したサンプルを23±1℃で溶剤中に5時間浸漬した前後の質量変化率V(質量%)が40質量%以上である高膨潤性溶剤、他の溶剤が、前記質量変化率V(質量%)が40質量%未満である低膨潤性溶剤であり、前記高膨潤性溶剤の質量変化率V(質量%)と、前記高膨潤性溶剤の総量の、混合溶剤の総量中に占める割合R(質量%)との積V×Rが0.05以上、0.70以下である導電性ペーストが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-55807 (Patent Document 2) discloses a conductive paste used in an intaglio offset printing method using a silicone blanket having at least a surface made of silicone rubber, and includes a binder resin, a conductive powder, and at least a conductive paste. A mass change before and after immersing a sample obtained by cutting the silicone blanket into a 2 cm square at 23 ± 1 ° C. in a solvent for 5 hours at a temperature of 23 ± 1 ° C., including a mixed solvent comprising two kinds of solvents. A high swelling solvent having a ratio V (% by mass) of 40% by mass or more, and the other solvent is a low swelling solvent having a mass change ratio V (% by mass) of less than 40% by mass; The product V × R of the mass change rate V (mass%) of the solvent and the ratio R (mass%) of the total amount of the high swelling solvent to the total amount of the mixed solvent is 0.05 or more; A conductive paste of 0.70 or less is disclosed.

しかし、これらのペーストも、いずれもグラビア(凹版)オフセット印刷用ペーストであり、スクリーンオフセット印刷については開示されていない。   However, these pastes are also gravure (intaglio) offset printing pastes, and do not disclose screen offset printing.

また、特許文献1の実施例で挙げられている貧溶媒としてのトルエンは揮発性が高く、乾きやすいためか、スクリーンオフセット印刷には使用できなかった。   Further, toluene as a poor solvent cited in Examples of Patent Document 1 has high volatility and is easy to dry, so it could not be used for screen offset printing.

さらに、特許文献2においてシリコーンブランケットを膨潤させる溶媒として実施例で用いられているグリコールエーテル系溶媒やターピネオールは、実際には、特許文献2に記載されているようには、シリコーンゴムを膨潤せしめる溶媒ではなく、むしろその化学的特性(極性)からみても前記の低膨潤性溶媒に分類されるべき溶媒である。実際に、本発明者はこれらの溶媒を高膨潤性溶媒として用いてスクリーンオフセット印刷を試みたがシリコーンブランケットへの吸収が十分でなく泣き別れ現象が生じてしまい、良好な転写は得られなかった。これは前記の理由によるか、または、グラビアオフセットとスクリーンオフセットとの違いに起因すると推定できる。   Further, glycol ether solvents and terpineols used in Examples as a solvent for swelling a silicone blanket in Patent Document 2 are actually solvents for swelling silicone rubber as described in Patent Document 2. Rather, it is a solvent that should be classified as the low swelling solvent in view of its chemical properties (polarity). Actually, the present inventor tried screen offset printing using these solvents as high swelling solvents, but the absorption to the silicone blanket was not sufficient, and a tearing-off phenomenon occurred, so that good transfer was not obtained. This can be presumed to be due to the reasons described above or to the difference between the gravure offset and the screen offset.

特開2007−250892号公報(請求項1)JP 2007-250892A (Claim 1) 特開2010−55807号公報(請求項1)JP 2010-55807 A (Claim 1)

従って、本発明の目的は、スクリーンオフセット印刷などのスクリーン版を用いる転写印刷によって高い精度でパターンを転写できる導電性ペースト及び導電膜付基板の製造方法を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a conductive paste and a method of manufacturing a substrate with a conductive film, which can transfer a pattern with high accuracy by transfer printing using a screen plate such as screen offset printing.

本発明の他の目的は、スクリーン版を用いる転写印刷によって、表面が平滑であり、断面矩形形状であり、かつ微細で厚肉なパターンを高い精度で転写できるとともに、転写の際に泣き別れや糸引き現象も抑制できる導電性ペースト及び導電膜付基板の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to transfer a fine and thick pattern having a smooth surface, a rectangular cross-section, and a fine and thick pattern by transfer printing using a screen plate with high accuracy, and tearing or yarn during transfer. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a conductive paste and a substrate with a conductive film that can also suppress a pulling phenomenon.

本発明者は、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、導電性粒子を含むペーストにおいて、アクリル系樹脂と、スクリーン版を用いる転写印刷のシリコーンブランケットに対する浸透力又は親和力が異なる2種類の有機溶媒を組み合わせることにより、スクリーン版を用いる転写印刷によって高い精度でパターンを転写できることを見出し、本発明を完成した。   The present inventor has conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, in a paste containing conductive particles, an acrylic resin and two types of organic solvents having different penetrating powers or affinities to a silicone blanket for transfer printing using a screen plate. It has been found that a pattern can be transferred with high precision by transfer printing using a screen plate, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の導電性ペーストは、少なくとも表面がシリコーンゴムで形成されたブランケットにスクリーン版によるパターンを転写するための導電性ペーストであって、導電性粒子と、ガラス転移温度10℃以上の固形アクリル系樹脂を含むバインダー樹脂と、第1有機溶媒及び第2有機溶媒を含む有機溶媒とを含み、前記第1有機溶媒が、120℃以上の沸点を有し、かつ前記シリコーンゴムを膨潤率60%以上で膨潤させる溶媒であり、前記第2有機溶媒が、前記シリコーンゴムを膨潤率30%以下で膨潤させる溶媒である。前記第2有機溶媒の沸点は120℃以上であってもよい。前記第1有機溶媒と前記第2有機溶媒との質量比は、第1有機溶媒/第2有機溶媒=20/80〜70/30程度である。本発明の導電性ペーストは、B型粘度計を用いて25℃及び10rpmで測定した粘度が5〜300Pa・sであってもよい。前記第1有機溶媒は脂肪族炭化水素又は脂環式炭化水素(特にC10−14アルカン、C10−14アルケン又はC8−12シクロアルカン)であってもよい。前記第2有機溶媒は、アルコール類、ケトン類、エステル類、セロソルブ類、カルビトール類及びピロリドン類からなる群より選択された少なくとも一種であってもよい。前記有機溶媒の割合は、導電性ペースト全体に対して20〜60体積%程度である。前記バインダー樹脂は、ガラス転移温度10℃未満の液状樹脂をさらに含んでいてもよい。前記液状樹脂は、液状アクリル系樹脂を含んでいてもよい。前記バインダー樹脂の割合は、導電性ペースト全体に対して5〜30体積%程度である。前記導電性粒子は、銅、銀及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一種又は二種以上を含む合金で形成されていてもよい。本発明の導電性ペーストは、ガラス粒子をさらに含んでいてもよい。前記導電性粒子は、活性金属粒子を含んでいてもよい。本発明の導電性ペーストは、スクリーンオフセット印刷用ペースト又はスクリーンパッド印刷用ペーストであってもよい。 That is, the conductive paste of the present invention is a conductive paste for transferring a pattern by a screen plate to a blanket at least a surface of which is formed of silicone rubber, and has conductive particles and a solid having a glass transition temperature of 10 ° C. or higher. A binder resin containing an acrylic resin, and an organic solvent containing a first organic solvent and a second organic solvent, wherein the first organic solvent has a boiling point of 120 ° C. or more, and swells the silicone rubber by 60%. % Or more, and the second organic solvent is a solvent that swells the silicone rubber at a swelling ratio of 30% or less. The boiling point of the second organic solvent may be 120 ° C. or higher. The mass ratio of the first organic solvent to the second organic solvent is about 1 / organic solvent / second organic solvent = 20/80 to 70/30. The conductive paste of the present invention may have a viscosity of 5 to 300 Pa · s measured at 25 ° C. and 10 rpm using a B-type viscometer. The first organic solvent may be an aliphatic hydrocarbon or an alicyclic hydrocarbon (particularly, a C10-14 alkane, a C10-14 alkene or a C8-12 cycloalkane). The second organic solvent may be at least one selected from the group consisting of alcohols, ketones, esters, cellosolves, carbitols, and pyrrolidones. The ratio of the organic solvent is about 20 to 60% by volume based on the whole conductive paste. The binder resin may further include a liquid resin having a glass transition temperature of less than 10 ° C. The liquid resin may include a liquid acrylic resin. The ratio of the binder resin is about 5 to 30% by volume based on the whole conductive paste. The conductive particles may be formed of an alloy containing at least one or two or more selected from the group consisting of copper, silver, and nickel. The conductive paste of the present invention may further contain glass particles. The conductive particles may include active metal particles. The conductive paste of the present invention may be a screen offset printing paste or a screen pad printing paste.

本発明には、前記導電性ペーストを少なくとも表面がシリコーンゴムで形成されたブランケットの表面にスクリーン版を通して印刷する印刷工程と、印刷されたペースト膜を絶縁性基板に転写する転写工程と、転写されたペースト膜を焼成して導電膜を絶縁性基板の表面に形成するための焼成工程とを含む導電膜付基板の製造方法も含まれる。   In the present invention, a printing step of printing the conductive paste through a screen plate on at least the surface of a blanket made of silicone rubber, a transfer step of transferring the printed paste film to an insulating substrate, And a baking step for baking the resulting paste film to form a conductive film on the surface of the insulating substrate.

本発明では、導電性粒子を含むペーストにおいて、アクリル系樹脂と、スクリーンオフセット印刷のシリコーンブランケットに対する浸透力又は膨潤力が異なる2種類の有機溶媒が組み合わされているため、スクリーンオフセット印刷やスクリーンパッド印刷などのスクリーン版を用いる転写印刷によって高い精度でパターンを転写できる。特に、表面が平滑であり、断面矩形形状であり、かつ微細で厚肉なパターンを高い精度で転写できるとともに、転写の際に泣き別れや糸引き現象も抑制できる。   In the present invention, in the paste containing the conductive particles, an acrylic resin and two types of organic solvents having different penetration or swelling power with respect to the silicone blanket of screen offset printing are combined, so that screen offset printing or screen pad printing is used. A pattern can be transferred with high accuracy by transfer printing using a screen plate such as the one described above. In particular, a fine and thick pattern having a smooth surface, a rectangular cross section, and a fine and thick pattern can be transferred with high accuracy, and tearing and stringing can be suppressed during transfer.

[有機溶媒]
本発明の導電性ペーストは、スクリーンオフセット印刷やスクリーンパッド印刷などのスクリーン版を用いる転写印刷で用いられるブランケット(少なくとも表面がシリコーンゴムで形成されたブランケット)を構成するシリコーンゴムに対する浸透力が異なる2種類の溶媒(第1及び第2有機溶媒)を含んでおり、第1有機溶媒としては前記シリコーンゴムを膨潤させ易い溶媒、すなわち前記シリコーンゴム中に吸収され易い溶媒を選択し、第2有機溶媒としては前記シリコーンゴムを膨潤させ難い溶媒、すなわち前記シリコーンゴムに吸収され難い溶媒を選択する。その結果、第1有機溶媒は、導電性ペーストの印刷膜からブランケットへと速やかに吸収されるため、印刷と同時に印刷膜の粘度が上昇し、垂れなどで形状が崩れ難くなるとともに、転写に必要な膜の強度が得られる。一方、第2有機溶媒は、ブランケットには吸収され難く、印刷膜に残存するため、転写される際に転写相手材である絶縁性基板に付着できる程度の粘着性を有するとともに、ブランケットと印刷膜との界面に微量な液層を形成するため、ブランケットに対しては容易に剥離できる。
[Organic solvent]
The conductive paste of the present invention has a different penetrating power to the silicone rubber constituting a blanket (a blanket having at least a surface formed of silicone rubber) used in transfer printing using a screen plate such as screen offset printing or screen pad printing. A solvent that easily swells the silicone rubber, that is, a solvent that is easily absorbed in the silicone rubber, as the first organic solvent. As the solvent, a solvent that hardly swells the silicone rubber, that is, a solvent that is hardly absorbed by the silicone rubber, is selected. As a result, the first organic solvent is quickly absorbed from the printed film of the conductive paste into the blanket, so that the viscosity of the printed film increases at the same time as printing, and the shape is less likely to collapse due to dripping and is necessary for transfer. High film strength. On the other hand, since the second organic solvent is hardly absorbed by the blanket and remains on the print film, the second organic solvent has such an adhesive property as to be able to adhere to the insulating substrate which is a transfer partner material when transferred, and also has the blanket and the print film. Since a small amount of liquid layer is formed at the interface with the blanket, it can be easily peeled off from the blanket.

具体的には、前記第1有機溶媒による前記シリコーンゴムの膨潤率は60%以上(例えば60〜150%)であり、好ましくは80%以上(例えば80〜130%)、さらに好ましくは100%以上(例えば100〜110%)程度である。第1有機溶媒による膨潤率が小さすぎると、第1有機溶媒のブランケットの浸透力が低下し、転写されるパターン形状の精度が低下する。   Specifically, the swelling ratio of the silicone rubber by the first organic solvent is 60% or more (for example, 60 to 150%), preferably 80% or more (for example, 80 to 130%), and more preferably 100% or more. (For example, 100 to 110%). If the swelling ratio of the first organic solvent is too small, the penetrating power of the blanket of the first organic solvent decreases, and the accuracy of the transferred pattern shape decreases.

一方、第2有機溶媒による前記シリコーンゴムの膨潤率は30%以下(例えば0〜30%)であり、好ましくは20%以下(例えば1〜20%)、さらに好ましくは10%以下(例えば5〜10%)程度である。第2有機溶媒による膨潤率が大きすぎると、第2有機溶媒のブランケットへの浸透力が上昇し、絶縁性基板への転写精度が低下する。   On the other hand, the swelling ratio of the silicone rubber by the second organic solvent is 30% or less (for example, 0 to 30%), preferably 20% or less (for example, 1 to 20%), more preferably 10% or less (for example, 5 to 5%). 10%). If the swelling ratio due to the second organic solvent is too large, the penetrating power of the second organic solvent into the blanket increases, and the transfer accuracy to the insulating substrate decreases.

本発明では、膨潤率は、有機溶媒中にシリコーンゴム試験片を25℃で72時間浸漬したときの浸漬前後の体積変化率により算出でき、詳細には、後述する実施例に記載の方法で測定できる。シリコーンゴム試験片は、スクリーンオフセット印刷で用いられるブランケットを構成するシリコーンゴムであり、例えば、メチルシリコーンゴムであってもよい。   In the present invention, the swelling ratio can be calculated from the volume change rate before and after immersion of a silicone rubber test piece in an organic solvent at 25 ° C. for 72 hours, and is measured in detail by the method described in Examples described later. it can. The silicone rubber test piece is a silicone rubber constituting a blanket used in screen offset printing, and may be, for example, methyl silicone rubber.

第1有機溶媒の沸点は、ブランケットへのスクリーン印刷性の点から、120℃以上(例えば120〜300℃)であり、好ましくは150℃以上(例えば150〜280℃)、さらに好ましくは180℃以上(例えば180〜250℃)である。第1有機溶媒の沸点が低く、揮発性が高すぎると、ブランケットへのスクリーン印刷の段階でペーストの乾きが速すぎてスクリーンメッシュを通過しにくく印刷物がかすれるなど、スクリーン印刷性が低下する。   The boiling point of the first organic solvent is 120 ° C. or higher (eg, 120 to 300 ° C.), preferably 150 ° C. or higher (eg, 150 to 280 ° C.), more preferably 180 ° C. or higher, from the viewpoint of screen printability on a blanket. (For example, 180 to 250 ° C.). If the boiling point of the first organic solvent is too low and the volatility is too high, the paste will dry too quickly at the stage of screen printing on the blanket, making it difficult for the paste to pass through the screen mesh, and the printed matter will be blurred.

第2有機溶媒の沸点は、絶縁性基板に対する転写性の点から、120℃以上(例えば120〜300℃)であってもよく、好ましくは150℃以上(例えば150〜280℃)、さらに好ましくは180℃以上(例えば180〜250℃)である。第2有機溶媒の沸点が低く、揮発性が高すぎると、転写前の段階においてペーストの印刷膜が直ちに乾燥して絶縁性基板に対する粘着性が失われ、転写が困難となる虞がある。   The boiling point of the second organic solvent may be 120 ° C. or higher (eg, 120 to 300 ° C.), preferably 150 ° C. or higher (eg, 150 to 280 ° C.), more preferably, from the viewpoint of transferability to the insulating substrate. It is 180 ° C or higher (for example, 180 to 250 ° C). If the boiling point of the second organic solvent is low and the volatility is too high, the printed film of the paste may be immediately dried at the stage before the transfer, and the adhesiveness to the insulating substrate may be lost, so that the transfer may be difficult.

第1有機溶媒は、120℃以上の沸点を有し、かつ前記膨潤性を充足すれば、特に限定されないが、具体的に、前記シリコーンゴムに対する浸透力又は膨潤力が高い第1有機溶媒として、炭化水素系溶媒などを好ましく利用できる。炭化水素系溶媒としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素のいずれも利用でき、例えば、脂肪族炭化水素[飽和脂肪族炭化水素(オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、オクタデカンなどのC8−18アルカンなど);不飽和脂肪族炭化水素(オクテン、デセン、ドデセンなどのC8−18アルケン;オクチンなどのC8−18アルキンなど)など]、脂環式炭化水素(シクロオクタン、シクロデカンなどC8−18シクロアルカンなど)、芳香族炭化水素(キシレン、エチルベンゼンなど)などが挙げられる。これらの炭化水素系溶媒は、異性体であってもよい。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。 The first organic solvent is not particularly limited as long as it has a boiling point of 120 ° C. or more and satisfies the swelling property. Specifically, as the first organic solvent having a high penetrating power or swelling power with respect to the silicone rubber, A hydrocarbon solvent or the like can be preferably used. As the hydrocarbon solvent, any of linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons can be used. For example, aliphatic hydrocarbons [saturated aliphatic hydrocarbons (octane, decane, dodecane, tetradecane, C 8-18 alkane, etc.), such as octadecane; unsaturated aliphatic hydrocarbons (octene, decene, C 8-18 alkene such as dodecene; and C 8-18 alkynes such as octyne), etc.], alicyclic hydrocarbons Examples thereof include hydrogen (eg, C 8-18 cycloalkane such as cyclooctane and cyclodecane), and aromatic hydrocarbon (eg, xylene, ethylbenzene). These hydrocarbon solvents may be isomers. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

これらの炭化水素系溶媒のうち、保管中や連続印刷時におけるスクリーン版上でのペーストの乾燥を抑制できる点から、分子量が大きく揮発し難い溶媒が好ましく、脂肪族炭化水素(例えば、ドデカンなどのC10−14アルカン、ドデセンなどのC10−14アルケンなど)、脂環式炭化水素(例えば、シクロデカンなどのC8−12シクロアルカンなど)が好ましく、ドデカンなどのC11−13アルカン、ドデセンなどのC11−13アルケン、シクロデカンなどのC9−11シクロアルカンが特に好ましい。 Among these hydrocarbon solvents, solvents that have a high molecular weight and are difficult to volatilize are preferable from the viewpoint that drying of the paste on the screen plate during storage or during continuous printing can be suppressed, and aliphatic hydrocarbons (e.g., dodecane and the like) C 10-14 alkanes, such as C 10-14 alkenes such as dodecene), alicyclic hydrocarbons (e.g., C 8-12, etc. cycloalkane) are preferred, such as cyclodecane, C 11-13 alkanes such as dodecane, dodecene, etc. Particularly preferred are C 9-11 cycloalkanes such as C 11-13 alkenes and cyclodecane.

第2有機溶媒も、前記膨潤性を充足すれば、特に限定されないが、具体的に、前記シリコーンゴムに対する浸透力又は膨潤力が低く、120℃以上の沸点を有する第2有機溶媒としては、例えば、アルコール類[脂肪族アルコール(オクタノール、デカノール、ジアセトンアルコールなど);脂肪族多価アルコール(エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、トリエチレングリコール、グリセリンなど);脂環式アルコール(シクロヘキサノールなどのシクロアルカノール;テルピネオール、ジヒドロテルピネオールなどのテルペンアルコール(モノテルペンアルコールなど));芳香族アルコール(ベンジルアルコールなど)など]、ケトン類(シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、イソホロンなどの脂環式ケトンなど)、エステル類(乳酸エチル、酢酸ブチルなどの脂肪族カルボン酸エステル;ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなどの芳香族カルボン酸エステル類など)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ;エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートなどセロソルブアセテートなど)、カルビトール類(カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトールなどのカルビトール;エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテートなどのカルビトールアセテートなど)、窒素含有複素環化合物(ジメチルイミダゾール、ジメチルイミダゾリジノンなどのイミダゾール類;2−ピロリドン、3−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドンなどのピロリドン類など)などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   The second organic solvent is not particularly limited as long as it satisfies the swelling property. Specifically, as the second organic solvent having a low osmotic power or swelling power with respect to the silicone rubber and having a boiling point of 120 ° C. or more, for example, , Alcohols [aliphatic alcohols (octanol, decanol, diacetone alcohol, etc.); aliphatic polyhydric alcohols (ethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, butanediol, triethylene glycol, glycerin, etc.); alicyclic alcohols (cyclo Cycloalkanols such as hexanol; terpene alcohols such as terpineol and dihydroterpineol (monoterpene alcohols); aromatic alcohols (benzyl alcohol and the like); ketones (cyclohexanone, cycloheptanone, iso- Alicyclic ketones such as Ron), esters (aliphatic carboxylic esters such as ethyl lactate and butyl acetate; aromatic carboxylic esters such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve) , Butyl cellosolve and the like; cellosolves such as ethyl cellosolve acetate and butyl cellosolve acetate; carbitols (carbitols such as carbitol, methyl carbitol and ethyl carbitol; carbitols such as ethyl carbitol acetate and butyl carbitol acetate) Acetates), nitrogen-containing heterocyclic compounds (imidazoles such as dimethylimidazole and dimethylimidazolidinone; 2-pyrrolidone, 3-pyrrolidone, N-methyl-2) Pyrrolidones such as pyrrolidone, etc.), and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

これらの溶媒のうち、アルコール類(デカノールなどのC8−12アルカノール、テルピネオールなどの脂環式アルコールなど)、ケトン類(イソホロンなどの脂環式ケトンなど)、エステル類(乳酸メチルなどの脂肪族カルボン酸エステルなど)、セロソルブ類(ブチルセロソルブなどのC2−6アルキルセロソルブなど)、カルビトール類(ブチルカルビトールアセテートなどのC2−6アルキルカルビトールアセテートなど)、ピロリドン類(N−メチル−2−ピロリドンなどのN−C1−3アルキルピロリドンなど)などが汎用され、ペーストの流動性などの点から、テルピネオールなどのテルペンアルコール、ブチルカルビトールアセテートなどのC2−6アルキルカルビトールアセテート、N−メチル−2−ピロリドンなどのN−C1−3アルキルピロリドンが好ましい。 Among these solvents, alcohols (C 8-12 alkanol such as decanol, alicyclic alcohols such as terpineol, etc.), ketones (alicyclic ketones such as isophorone, etc.), esters (aliphatic such as methyl lactate, etc.) such as carboxylic acid esters), C 2-6 alkyl cellosolve such as cellosolve (butyl cellosolve), C 2-6 alkyl carbitol acetate such as carbitol (butyl carbitol acetate), pyrrolidones (N- methyl-2 N-C 1-3 alkylpyrrolidone such as -pyrrolidone) is widely used, and terpene alcohols such as terpineol; C 2-6 alkyl carbitol acetates such as butyl carbitol acetate; -Methyl-2-pyrrolidone and the like N-C 1-3 alkylpyrrolidones are preferred.

第1有機溶媒と第2有機溶媒との質量比は、例えば、第1有機溶媒/第2有機溶媒=20/80〜70/30、好ましくは25/75〜65/35、さらに好ましくは30/70〜60/40程度である。第1有機溶媒が少なすぎると、ブランケット上の印刷膜中に多量の有機溶媒が残存するため、有機溶媒の表面張力の影響で印刷膜の断面形状が蒲鉾状となる虞がある。また、極端な場合にはブランケットと絶縁性基板との間で泣き別れの現象が生じる虞もある。反対に、第1有機溶媒が多すぎると、殆どの有機溶媒がブランケットに吸収されるため、印刷膜が乾燥し過ぎて粘着性を消失し、転写できない虞がある。   The mass ratio of the first organic solvent to the second organic solvent is, for example, (first organic solvent / second organic solvent) = 20/80 to 70/30, preferably 25/75 to 65/35, and more preferably 30/80. It is about 70 to 60/40. If the amount of the first organic solvent is too small, a large amount of the organic solvent remains in the print film on the blanket, so that the cross-sectional shape of the print film may become semicylindrical under the influence of the surface tension of the organic solvent. In an extreme case, a tearing phenomenon may occur between the blanket and the insulating substrate. Conversely, if the amount of the first organic solvent is too large, most of the organic solvent is absorbed by the blanket, so that the printed film may be too dry, lose its tackiness, and may not be transferred.

なお、有機溶媒は、本発明の効果を損なわない範囲であれば、第3の有機溶媒(前記膨潤率が30%を超えて60%未満である有機溶媒)を含んでいてもよい。有機溶媒全体に対して、第1有機溶媒及び第2有機溶媒の合計割合は50質量%以上であってもよく、好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上であり、100質量%(第1有機溶媒及び第2有機溶媒のみ)であってもよい。   The organic solvent may include a third organic solvent (the organic solvent having a swelling ratio of more than 30% and less than 60%) as long as the effects of the present invention are not impaired. The total ratio of the first organic solvent and the second organic solvent to the whole organic solvent may be 50% by mass or more, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and 100% by mass or more. (Only the first organic solvent and the second organic solvent).

有機溶媒の割合は、特に限定されないが、導電性ペースト全体に対して、例えば20〜60体積%、好ましくは25〜55体積%、さらに好ましくは30〜50体積%程度である。有機溶媒の割合が少なすぎると、ペーストが固くなるためにスクリーン印刷が困難となるだけでなく、ブランケット上に印刷されて吸収された際に印刷膜が乾き過ぎて粘着性を消失し、転写できなくなる虞がある。反対に有機溶媒の量が多すぎると、第1有機溶媒が吸収されても、第2有機溶媒が印刷膜中に多く残存し、粘度の上昇が抑制されて印刷膜が垂れて形状が正確に転写されない虞がある。また、極端な場合にはブランケットと絶縁性基板との間で泣き別れの現象が生じる虞もある。   The proportion of the organic solvent is not particularly limited, but is, for example, about 20 to 60% by volume, preferably about 25 to 55% by volume, and more preferably about 30 to 50% by volume, based on the whole conductive paste. If the proportion of the organic solvent is too small, not only does the screen printing become difficult because the paste becomes hard, but also when printed and absorbed on a blanket, the printed film becomes too dry and loses its tackiness and can be transferred. There is a risk of disappearing. On the other hand, if the amount of the organic solvent is too large, even if the first organic solvent is absorbed, a large amount of the second organic solvent remains in the printed film, the increase in viscosity is suppressed, and the printed film drips and the shape becomes accurate. There is a possibility that the image is not transferred. In an extreme case, a tearing phenomenon may occur between the blanket and the insulating substrate.

[バインダー樹脂]
バインダー樹脂はガラス転移温度10℃以上の固形アクリル系樹脂を含む。固形アクリル系樹脂を用いる理由は、固形アクリル系樹脂は可溶な有機溶媒の種類が多く、性質の大きく異なる二種類の溶媒を用い易いこともあるが、特に、ブランケットの材質であるシリコーンゴムと極性が相反する点が大きい。すなわち、シリコーンゴムは、無極性の有機溶媒を吸収し易く、極性の有機溶媒は吸収し難い性質を有しているが、これに対して固形アクリル系樹脂は可溶な溶媒が多いものの、相対的には、極性溶媒としての第2有機溶媒になじみ易く、無極性溶媒としての第1有機溶媒にはなじみ難い。そのため、シリコーンブランケットに第1有機溶媒と第2有機溶媒を含む固形アクリル系樹脂バインダーとが接触したときに、第1有機溶媒がシリコーンブランケットに移行し易い状態を調製できる。
[Binder resin]
The binder resin includes a solid acrylic resin having a glass transition temperature of 10 ° C. or higher. The reason for using solid acrylic resin is that solid acrylic resin has many types of soluble organic solvents, and it is easy to use two types of solvents with greatly different properties. The points where the polarities are opposite are large. In other words, silicone rubber has a property of easily absorbing a nonpolar organic solvent and a property of hardly absorbing a polar organic solvent, whereas a solid acrylic resin has many soluble solvents, Specifically, it is easily compatible with the second organic solvent as a polar solvent, and hardly compatible with the first organic solvent as a nonpolar solvent. Therefore, when the silicone blanket comes into contact with the solid acrylic resin binder containing the first organic solvent and the second organic solvent, a state in which the first organic solvent easily migrates to the silicone blanket can be prepared.

固形アクリル系樹脂としては、ガラス転移温度10℃以上の単独重合体を形成するアクリル系単量体、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸イソブチルなどのメタクリル酸C1−4アルキルエステルやアクリル酸t−ブチルなどのアクリル系単量体を構成単位として含む単独重合体及び共重合体などが挙げられる。固形アクリル系樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の共重合性単量体を構成単位として含んでいてもよい。 Examples of the solid acrylic resin include acrylic monomers forming a homopolymer having a glass transition temperature of 10 ° C. or higher, such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, and methacrylic acid. Homopolymers and copolymers containing, as constituent units, an acrylic monomer such as C1-4 alkyl methacrylate such as isobutyl and t-butyl acrylate are exemplified. The solid acrylic resin may contain another copolymerizable monomer as a constituent unit as long as the effects of the present invention are not impaired.

他の共重合性単量体としては、例えば、アクリル系単量体[アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチルなどのアクリル酸C1−4アルキルエステル;(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルなどの(メタ)アクリル酸C5−12アルキルエステルなど]、オレフィン系単量体、スチレン系単量体(スチレン、ビニルトルエンなど)、ビニルエステル系単量体、(無水)マレイン酸又はそのアルキルエステルなどが挙げられる。 Other copolymerizable monomers include, for example, acrylic monomers [C 1-4 alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, and isobutyl acrylate; (meth) C- 5-12 alkyl (meth) acrylates such as pentyl acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate], olefin-based monomers, and styrene-based Monomers (styrene, vinyl toluene, etc.), vinyl ester monomers, (anhydride) maleic acid or alkyl esters thereof, and the like.

これらの固形アクリル系樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの固形アクリル系樹脂のうち、第2有機溶媒に対する溶解性に優れ、第1有機溶媒に対しても、ある程度の溶解性を有することにより、ペーストのゲル化を抑制できる点から、ポリメタクリル酸ブチル(例えば、ポリメタクリル酸n−ブチルなど)などのポリメタクリル酸C1−4アルキルエステルが好ましい。 These solid acrylic resins can be used alone or in combination of two or more. Among these solid acrylic resins, polymethacrylic acid is excellent in solubility in the second organic solvent and having a certain degree of solubility in the first organic solvent, thereby suppressing gelation of the paste. Polyalkyl C1-4 alkyl esters such as butyl (e.g., poly n-butyl methacrylate) are preferred.

固形アクリル系樹脂のガラス転移温度は、例えば10〜120℃、好ましくは15〜110℃、さらに好ましくは20〜100℃程度である。本明細書及び特許請求の範囲では、ガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定できる。   The glass transition temperature of the solid acrylic resin is, for example, about 10 to 120 ° C, preferably about 15 to 110 ° C, and more preferably about 20 to 100 ° C. In the present description and claims, the glass transition temperature can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).

固形アクリル系樹脂の重量平均分子量は、特に制限されず、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにおいて、ポリスチレン換算で、例えば1000〜20000、好ましくは3000〜10000、さらに好ましくは5000〜8000程度である。   The weight average molecular weight of the solid acrylic resin is not particularly limited, and is, for example, about 1000 to 20,000, preferably about 3,000 to 10,000, and more preferably about 5,000 to 8,000 in terms of polystyrene by gel permeation chromatography.

バインダー樹脂は、固形アクリル系樹脂に加えて液状樹脂をさらに含んでいてもよい。固形アクリル系樹脂と液状樹脂とを組み合わせることにより、シリコーンブランケットを用いた転写印刷に共通する課題も大きく改善される。転写印刷に共通する課題とは、多枚数のワークへの印刷を繰り返す際に連続印刷性に欠ける点であり、この課題は、シリコーンゴムにペーストやインクに含まれる溶媒の一部が吸収されることで徐々にブランケットゴムが膨潤飽和して溶媒の吸収量が低下したり吸収できなくなったりすることにより生じる。詳しくは、ブランケットに溶媒が吸収されにくくなることで転写前の膜は適度な乾きを得られなくなり、最終的には泣き別れの現象を生じて転写不可となってしまう。そのため、実際の印刷作業では連続印刷の途中で定期的に作業を止めてブランケットを交換したりブランケット中の溶媒を除去したりしなければならず生産性が上がらないという欠点があった。このような欠点に対して、液状樹脂は、以下のような理由で有効である。   The binder resin may further include a liquid resin in addition to the solid acrylic resin. By combining the solid acrylic resin and the liquid resin, the problem common to transfer printing using a silicone blanket is also greatly improved. The problem common to transfer printing is the lack of continuous printability when repeating printing on a large number of works, and this problem is that silicone rubber absorbs a part of the solvent contained in the paste or ink. This causes the blanket rubber to gradually swell and saturate, resulting in a decrease in the amount of solvent absorbed or an inability to absorb the solvent. More specifically, since the solvent is less likely to be absorbed by the blanket, the film before transfer cannot obtain appropriate drying, and eventually a tearing-off phenomenon occurs and transfer becomes impossible. Therefore, in the actual printing operation, the operation must be stopped periodically during continuous printing to replace the blanket or the solvent in the blanket must be removed, so that there is a disadvantage that productivity is not improved. The liquid resin is effective against such disadvantages for the following reasons.

ペーストに液状樹脂を添加すれば前記課題を改善できる理由として、ブランケットに吸収されるべき溶媒(本発明で云うところの第1有機溶媒)の配合量を抑えることができる点が挙げられる。液状樹脂を用いず固形樹脂を有機溶媒に溶解させることで作製される有機ビヒクルだけを用いる場合、ペーストのスクリーン印刷に適する粘度を得るために有機溶媒を多く配合せねばならず、バインダー樹脂の量は自ずと少なくなりがちである。バインダー樹脂の量が少ないほど膜の粘りやコシが弱いものとなり膜の全体が完全転写し難く「泣き別れ」となりやすい性質を内在する。その場合でも適度な乾きと粘着性とのバランスが得られないわけではないが、連続印刷の過程において前記のようにその状態を保つことは難しい。これに対して、液状樹脂を用いればバインダー樹脂が多い構成でスクリーン印刷に適した粘度とすることができ、印刷後転写前の膜の粘りやコシを強くすることができて膜が分かれたり裂けたりし難くなる。加えて、液状樹脂自体が粘着性を有するため、転写の際に必要な乾きと粘着性のバランスを大きく粘着側にシフトすることができ、膜を乾かす(粘度を上げる)のに必要な第1有機溶媒(吸収溶媒)は液状樹脂を使わない場合に比べて少量で済む。さらには、転写のバランスが粘着側にシフトすることで第1溶媒の吸収が多少低下しても、粘着側にシフトしていない場合であれば泣き別れとなってしまうが、粘着側にシフトしているがために転写が行えて連続印刷性はさらに向上する。   The reason that the above problem can be improved by adding a liquid resin to the paste is that the amount of the solvent (the first organic solvent in the present invention) to be absorbed by the blanket can be reduced. When using only an organic vehicle produced by dissolving a solid resin in an organic solvent without using a liquid resin, a large amount of the organic solvent must be added to obtain a viscosity suitable for screen printing of the paste, and the amount of the binder resin is required. Tend to decrease naturally. The smaller the amount of the binder resin, the weaker the stickiness and stiffness of the film, the more difficult it is for the entire film to be completely transferred, and the more likely it is to “break apart”. Even in such a case, a proper balance between dryness and tackiness cannot be obtained, but it is difficult to maintain the state as described above in the process of continuous printing. On the other hand, if a liquid resin is used, a viscosity suitable for screen printing can be obtained with a configuration in which a large amount of binder resin is used. It becomes difficult to do. In addition, since the liquid resin itself has adhesiveness, the balance between dryness and adhesiveness required for transfer can be largely shifted to the adhesive side, and the first necessary for drying the film (to increase the viscosity). The amount of the organic solvent (absorbing solvent) required is smaller than when no liquid resin is used. Furthermore, even if the transfer balance shifts to the sticky side and the absorption of the first solvent is slightly reduced, if the shift is not shifted to the sticky side, it will break apart, but it shifts to the sticky side. Because of this, the transfer can be performed, and the continuous printability is further improved.

液状樹脂の種類は特に制限されないが、液状アクリル系樹脂、液状エポキシ樹脂、液状フェノール樹脂、液状シリコーン樹脂、液状テルペン樹脂などを用いることができる。これらの液状樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。中でも前記のアクリル系樹脂との相溶性や溶媒への溶解性を考慮すれば液状アクリル系樹脂が好ましい。   Although the type of the liquid resin is not particularly limited, a liquid acrylic resin, a liquid epoxy resin, a liquid phenol resin, a liquid silicone resin, a liquid terpene resin, or the like can be used. These liquid resins can be used alone or in combination of two or more. Above all, liquid acrylic resin is preferable in consideration of compatibility with the acrylic resin and solubility in a solvent.

液状アクリル樹脂としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチルなどのアクリル酸C1−4アルキルエステル;(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルなどの(メタ)アクリル酸C5−12アルキルエステルなどのアクリル系単量体を構成単位として含む単独重合体及び共重合体などが挙げられる。液状アクリル系樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の共重合性単量体を含んでいてもよい。 Examples of the liquid acrylic resin include C 1-4 alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, and isobutyl acrylate; pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, Homopolymers and copolymers containing, as constituent units, acrylic monomers such as (meth) acrylic acid C 5-12 alkyl esters such as octyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are exemplified. Can be The liquid acrylic resin may contain another copolymerizable monomer as long as the effects of the present invention are not impaired.

他の共重合性単量体としては、例えば、アクリル系単量体(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸イソブチルなどのメタクリル酸C1−4アルキルエステルやアクリル酸t−ブチルなど)、オレフィン系単量体、スチレン系単量体(スチレン、ビニルトルエンなど)、ビニルエステル系単量体、(無水)マレイン酸又はそのアルキルエステルなどが挙げられる。 Examples of other copolymerizable monomers include, for example, acrylic monomers (methyl methacrylate C 1-4 such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, and isobutyl methacrylate). Alkyl esters, t-butyl acrylate, etc.), olefin monomers, styrene monomers (styrene, vinyl toluene, etc.), vinyl ester monomers, (anhydride) maleic acid or its alkyl esters, and the like. .

液状アクリル系樹脂は、変性や官能基が側鎖に導入されていないストレートアクリル系樹脂であってもよく、シリコーン変性アクリルなどの変性アクリル系樹脂であってもよく、水酸基やカルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基などを側鎖に有するアクリル系樹脂であってもよい。これらの液状アクリル系樹脂はペースト中の他の構成材料との相溶性や相互作用の強さ、あるいは最終目的物の印刷膜の要求にしたがって適宜選択すればよい。これらの液状アクリル系樹脂は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   The liquid acrylic resin may be a straight acrylic resin in which a modification or a functional group is not introduced into a side chain, or a modified acrylic resin such as silicone-modified acrylic, and may have a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group. Resin having an alkyl group, an alkoxysilyl group, or the like in a side chain. These liquid acrylic resins may be appropriately selected according to the compatibility and the strength of interaction with other constituent materials in the paste, or the requirements of the printed film of the final target. These liquid acrylic resins can be used alone or in combination of two or more.

液状樹脂(特に液状アクリル系樹脂)のガラス転移温度は10℃未満であればよく、例えば−100℃以上10℃未満、好ましくは−90℃〜0℃、さらに好ましくは−80℃〜−10℃程度である。   The glass transition temperature of the liquid resin (particularly the liquid acrylic resin) may be less than 10 ° C, for example, -100 ° C or more and less than 10 ° C, preferably -90 ° C to 0 ° C, more preferably -80 ° C to -10 ° C. It is about.

液状樹脂(特に液状アクリル系樹脂)の重量平均分子量は、特に制限されず、例えば、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにおいて、ポリスチレン換算で、例えば1000〜20000、好ましくは3000〜10000、さらに好ましくは5000〜8000程度である。   The weight average molecular weight of the liquid resin (particularly the liquid acrylic resin) is not particularly limited. For example, in gel permeation chromatography, in terms of polystyrene, for example, about 1,000 to 20,000, preferably about 3,000 to 10,000, and more preferably about 5,000 to 8,000. It is.

液状樹脂の割合は特に限定されないが、固形アクリル系樹脂と液状樹脂(特に液状アクリル系樹脂)との質量比は、固形アクリル系樹脂/液状樹脂100/0〜1/99の範囲から選択でき、例えば95/5〜5/95、好ましくは90/10〜10/90、さらに好ましくは80/20〜20/80程度である。液状樹脂の割合が多すぎると、泣き別れや糸引きが発生したり、印刷膜の断面形状が蒲鉾状となる虞がある。   Although the ratio of the liquid resin is not particularly limited, the mass ratio between the solid acrylic resin and the liquid resin (particularly, the liquid acrylic resin) can be selected from the range of solid acrylic resin / liquid resin 100/0 to 1/99, For example, it is about 95/5 to 5/95, preferably about 90/10 to 10/90, and more preferably about 80/20 to 20/80. If the ratio of the liquid resin is too large, tearing or stringing may occur, or the cross-sectional shape of the printed film may be in a semi-cylindrical shape.

なお、バインダー樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲であれば、他のバインダー樹脂(例えば、オレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体などの熱可塑性樹脂;熱硬化性アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂などの熱硬化性樹脂など)を含んでいてもよい。バインダー樹脂全体に対して、固形アクリル系樹脂及び液状樹脂の合計割合は50質量%以上であってもよく、好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上であり、100質量%(固形アクリル系樹脂及び液状樹脂のみ)であってもよい。   As long as the binder resin does not impair the effects of the present invention, other binder resins (for example, olefin resin, vinyl resin, styrene resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, A thermoplastic resin such as a cellulose derivative; a thermosetting resin such as a thermosetting acrylic resin, an epoxy resin, a phenol resin, an unsaturated polyester resin, or a polyurethane resin). The total ratio of the solid acrylic resin and the liquid resin to the entire binder resin may be 50% by mass or more, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and 100% by mass (solid (Acrylic resin and liquid resin only).

バインダー樹脂の割合は、特に限定されないが、導電性ペースト全体に対して、例えば5〜30体積%、好ましくは7〜25体積%、さらに好ましくは10〜20体積%程度である。バインダー樹脂の割合が少なすぎると、転写の際に印刷膜の粘度が十分であっても、膜をつなぎとめるバインダーが少ないため、膜が破れて転写できない虞がある。反対にバインダー樹脂が多すぎると、粘着性が強くなり、ブランケット上に印刷されたペーストがスクリーン版に移行する際に糸引き現象が生じて、印刷パターンにヒゲが生えたようになったり、極端な場合にはそのヒゲが隣接パターンにブリッジする虞もある。   Although the ratio of the binder resin is not particularly limited, it is, for example, about 5 to 30% by volume, preferably about 7 to 25% by volume, and more preferably about 10 to 20% by volume, based on the whole conductive paste. If the proportion of the binder resin is too small, even if the viscosity of the printed film is sufficient at the time of transfer, there is little binder to keep the film, so that the film may be broken and transfer may not be possible. On the other hand, if the amount of the binder resin is too large, the adhesiveness becomes strong, a stringing phenomenon occurs when the paste printed on the blanket is transferred to the screen plate, and the printed pattern becomes mustache or extremely In such a case, the beard may be bridged to an adjacent pattern.

[導電性粒子]
導電性粒子は、良好な導電性の膜を形成できる粒子であれば、特に限定されず、通常、導電性金属粒子である。導電性金属としては、例えば、遷移金属[例えば、チタン、ジルコニウムなどの周期表第4A族金属;バナジウム、ニオブ、タンタルなどの周期表第5A族金属;モリブデン、タングステンなどの周期表第6A族金属;マンガンなどの周期表第7A族金属;鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、レニウム、イリジウム、白金などの周期表第8族金属;銅、銀、金などの周期表第1B族金属など]、周期表第2B族金属(例えば、亜鉛、カドミウムなど)、周期表第3B族金属(例えば、アルミニウム、ガリウム、インジウムなど)、周期表第4B族金属(例えば、ゲルマニウム、スズ、鉛など)、周期表第5B族金属(例えば、アンチモン、ビスマスなど)などが挙げられる。これらの導電性金属は、単独で又は二種以上組み合わせて使用でき、合金であってもよい。
[Conductive particles]
The conductive particles are not particularly limited as long as they can form a good conductive film, and are usually conductive metal particles. Examples of the conductive metal include transition metals [for example, metals of Group 4A of the periodic table such as titanium and zirconium; metals of Group 5A of the periodic table such as vanadium, niobium, and tantalum]; and metals of Group 6A of the periodic table such as molybdenum and tungsten. A periodic table group 7A metal such as manganese; a periodic table group 8 metal such as iron, cobalt, nickel, ruthenium, rhodium, palladium, rhenium, iridium and platinum; a periodic table group 1B metal such as copper, silver and gold Etc.], periodic table group 2B metals (eg, zinc, cadmium, etc.), periodic table group 3B metals (eg, aluminum, gallium, indium, etc.), periodic table group 4B metals (eg, germanium, tin, lead, etc.) ), And metals of Group 5B of the periodic table (for example, antimony, bismuth, and the like). These conductive metals can be used alone or in combination of two or more, and may be an alloy.

これらの導電性金属のうち、良導電性の導電膜が得られる点から、銅、銀、ニッケルが好ましい。銅、銀及びニッケルは、二種以上の組み合わせであってもよく、特に、二種以上を組み合わせた合金であってもよい。   Among these conductive metals, copper, silver, and nickel are preferable in that a conductive film having good conductivity can be obtained. Copper, silver and nickel may be a combination of two or more, and in particular, an alloy of two or more.

さらに、導電性粒子は、銅、銀及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一種又は二種以上を含む合金で形成された粒子(良導電性金属粒子)に加えて、絶縁性基板との密着性を向上できる点から、さらに活性金属粒子を含んでいてもよい。   Further, the conductive particles may be adhered to an insulating substrate in addition to particles formed of an alloy containing at least one or two or more selected from the group consisting of copper, silver and nickel (good conductive metal particles). The active metal particles may be further included from the viewpoint that the property can be improved.

活性金属は周期表4A族に属する金属であり、この金属を含む化合物であってもよい。前記金属としては、例えば、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどが挙げられる。これらの活性金属及び活性金属化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   The active metal is a metal belonging to Group 4A of the periodic table, and may be a compound containing this metal. Examples of the metal include titanium, zirconium, and hafnium. These active metals and active metal compounds can be used alone or in combination of two or more.

活性金属粒子の割合は、良導電性金属粒子100質量部に対して50質量部以下であってもよく、例えば0.1〜50質量部、好ましくは0.3〜30質量部、さらに好ましくは0.5〜10質量部(特に1〜5質量部)程度である。活性金属粒子の割合が多すぎると、導電膜の導電性が低下する虞がある。   The ratio of the active metal particles may be 50 parts by mass or less, for example, 0.1 to 50 parts by mass, preferably 0.3 to 30 parts by mass, and more preferably 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the good conductive metal particles. It is about 0.5 to 10 parts by mass (particularly 1 to 5 parts by mass). If the ratio of the active metal particles is too large, the conductivity of the conductive film may be reduced.

導電性粒子の形状は、特に限定されず、球状(真球状又は略球状)、楕円体(楕円球)状、多角体形状(多角錘状、立方体状や直方体状など多角方形状など)、板状(扁平、鱗片又は薄片状など)、ロッド状又は棒状、繊維状、不定形状などであってもよい。金属粒子の形状は、通常、球状、楕円体状、多角体状、不定形状などである。   The shape of the conductive particles is not particularly limited, and may be spherical (true spherical or substantially spherical), elliptical (elliptical spherical), polygonal (polygonal such as pyramidal, cubic or rectangular), plate Shape (flat, scale, flake, etc.), rod shape or rod shape, fibrous shape, irregular shape, etc. The shape of the metal particles is usually spherical, elliptical, polygonal, irregular, or the like.

導電性粒子の粒径は、特に制限されないが、ペーストの均一性に優れる点や目詰まり無くスクリーン印刷を行える点から、小粒径の導電性粒子を使用する方が有利である。導電性粒子の中心粒径(D50)は、例えば0.05〜10μm、好ましくは0.08〜8μm、さらに好ましくは0.1〜5μm(特に0.2〜3μm)程度である。導電性粒子の粒径が小さすぎると、経済性が低下するとともに、ペースト中での分散性も低下する虞があり、大きすぎると、ペーストの印刷性及び分散性が低下する虞がある。   Although the particle size of the conductive particles is not particularly limited, it is more advantageous to use conductive particles having a small particle size in view of excellent paste uniformity and screen printing without clogging. The center particle diameter (D50) of the conductive particles is, for example, about 0.05 to 10 μm, preferably about 0.08 to 8 μm, and more preferably about 0.1 to 5 μm (particularly about 0.2 to 3 μm). If the particle size of the conductive particles is too small, the economics may be reduced and the dispersibility in the paste may be reduced. If the particle size is too large, the printability and dispersibility of the paste may be reduced.

特に、導電性粒子は、導電膜の導電性の点から、粒径1μm未満(例えば1nm以上1μm未満)の小粒子と粒径1μm以上(例えば1〜50μm)の大粒子とを組み合わせてもよい。小粒子の中心粒径は0.01〜0.9μm(特に0.1〜0.8μm)程度の範囲から選択できる。大粒子の中心粒径は1.5〜30μm(特に2〜10μm)程度の範囲から選択できる。小粒子と大粒子との質量比は、小粒子/大粒子=1/99〜90/10程度の範囲から選択でき、例えば5/95〜80/20、好ましくは10/90〜70/30、さらに好ましくは15/85〜50/50(特に20/80〜30/70)程度である。   In particular, the conductive particles may be a combination of small particles having a particle size of less than 1 μm (for example, 1 nm or more and less than 1 μm) and large particles having a particle size of 1 μm or more (for example, 1 to 50 μm) from the viewpoint of the conductivity of the conductive film. . The central particle size of the small particles can be selected from a range of about 0.01 to 0.9 μm (particularly 0.1 to 0.8 μm). The central particle size of the large particles can be selected from a range of about 1.5 to 30 μm (particularly 2 to 10 μm). The mass ratio of small particles to large particles can be selected from the range of small particles / large particles = 1/99 to 90/10, for example, 5/95 to 80/20, preferably 10/90 to 70/30, More preferably, it is about 15/85 to 50/50 (particularly about 20/80 to 30/70).

[無機バインダー]
導電性ペーストは、さらに無機バインダー(又は焼結助剤)を含んでいてもよい。無機バインダーとしては、ガラス粒子(ガラスフリット)を好ましく利用できる。ガラス粒子は、焼成温度よりも低い軟化点を有する低融点ガラス粒子が好ましく、低融点ガラス粒子の軟化点は、400〜800℃、好ましくは420〜700℃、さらに好ましくは450〜600℃程度である。
[Inorganic binder]
The conductive paste may further include an inorganic binder (or a sintering aid). Glass particles (glass frit) can be preferably used as the inorganic binder. The glass particles are preferably low-melting glass particles having a softening point lower than the firing temperature, and the softening point of the low-melting glass particles is about 400 to 800 ° C, preferably about 420 to 700 ° C, and more preferably about 450 to 600 ° C. is there.

低融点ガラス粒子としては、慣用の低融点ガラス粒子、例えば、ホウケイ酸系ガラス粒子、ホウケイ酸亜鉛系ガラス粒子、亜鉛系ガラス粒子、ビスマス系ガラス粒子、鉛系ガラス粒子などが挙げられる。これらの低融点ガラス粒子は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの低融点ガラス粒子のうち、亜鉛系ガラス粒子、ビスマス系ガラス粒子などが汎用される。   Examples of the low-melting glass particles include conventional low-melting glass particles such as borosilicate glass particles, zinc borosilicate glass particles, zinc glass particles, bismuth glass particles, and lead glass particles. These low-melting glass particles can be used alone or in combination of two or more. Among these low-melting glass particles, zinc-based glass particles, bismuth-based glass particles, and the like are widely used.

ガラス粒子の形状は、特に限定されず、球状(真球状又は略球状)、楕円体(楕円球)状、多角体形状(多角錘状、正方体状や直方体状など多角方体状など)、板状(扁平、鱗片又は薄片状など)、ロッド状又は棒状、繊維状、不定形状などであってもよい。ガラス粒子の形状は、通常、球状、楕円体状、多角体状、不定形状などである。ガラス粒子の中心粒径(D50)は、特に限定されず、例えば0.1〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、さらに好ましくは1〜5μm(特に2〜4μm)程度である。   The shape of the glass particles is not particularly limited, and may be spherical (true spherical or substantially spherical), elliptical (elliptical spherical), polygonal (polygonal pyramid, tetragonal or rectangular parallelepiped, etc.), plate, or the like. Shape (flat, scale, flake, etc.), rod shape or rod shape, fibrous shape, irregular shape, etc. The shape of the glass particles is usually spherical, elliptical, polygonal, irregular, and the like. The center particle diameter (D50) of the glass particles is not particularly limited, and is, for example, about 0.1 to 20 μm, preferably about 0.5 to 10 μm, and more preferably about 1 to 5 μm (particularly about 2 to 4 μm).

無機バインダーの割合は、導電性粒子100質量部に対して50質量部以下であってもよく、例えば1〜50質量部、好ましくは2〜30質量部、さらに好ましくは3〜10質量部(特に3〜8質量部)程度である。無機バインダーの割合が多すぎると、導電膜の導電性が低下する虞がある。   The proportion of the inorganic binder may be 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the conductive particles, for example, 1 to 50 parts by mass, preferably 2 to 30 parts by mass, more preferably 3 to 10 parts by mass (particularly 3 to 10 parts by mass) 3 to 8 parts by mass). If the proportion of the inorganic binder is too large, the conductivity of the conductive film may be reduced.

[他の成分]
導電性ペーストは、アクリル系樹脂の硬化剤(例えば、メラミン樹脂や、過酸化ベンゾイルなどの有機過酸化物など)や慣用の添加剤をさらに含んでいてもよい。慣用の添加剤としては、例えば、着色剤(染顔料など)、色相改良剤、染料定着剤、光沢付与剤、金属腐食防止剤、安定剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、界面活性剤又は分散剤(アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤など)、分散安定化剤、粘度調整剤又はレオロジー調整剤、保湿剤、チクソトロピー性賦与剤、レベリング剤、消泡剤、殺菌剤、充填剤などが挙げられる。これらの他の成分は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。他の成分の割合は、成分の種類に応じて選択でき、通常ペースト全体に対して10質量%以下(例えば0.01〜10質量%)程度である。
[Other components]
The conductive paste may further include a curing agent for the acrylic resin (for example, a melamine resin or an organic peroxide such as benzoyl peroxide) or a conventional additive. Conventional additives include, for example, colorants (such as dyes and pigments), hue improvers, dye fixing agents, gloss imparting agents, metal corrosion inhibitors, stabilizers (such as antioxidants and ultraviolet absorbers), and surfactants. Or dispersants (anionic surfactants, cationic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, etc.), dispersion stabilizers, viscosity modifiers or rheology modifiers, humectants, thixotropic agents, Examples include leveling agents, defoamers, bactericides, and fillers. These other components can be used alone or in combination of two or more. The ratio of the other components can be selected according to the type of the components, and is usually about 10% by mass or less (for example, 0.01 to 10% by mass) based on the whole paste.

[導電性ペーストの粘度]
本発明の導電性ペーストは、攪拌などの慣用の方法によって、導電性粒子及びバインダー樹脂を有機溶媒中に分散させることによって調製でき、粘度特性はブランケット表面へ良好なパターンをスクリーン印刷できる程度であればよい。具体的には、B型粘度計(ブルックフィールド社製「HBDV−2 Pro」)を用いて25℃及び10rpmで測定した粘度が5〜300Pa・s程度であってもよく、好ましくは10〜250Pa・s、さらに好ましくは20〜200Pa・s(特に30〜150Pa・s)程度である。特に、高いパターン精度と転写性とを高度に両立できる点から、前記粘度は、例えば30〜250Pa・s、好ましくは50〜200Pa・s、さらに好ましくは80〜150Pa・s(特に100〜130Pa・s)程度であってもよい。粘度が低すぎると、印刷パターンの滲みや広がりが発生してパターン崩れが発生したり、パターン精度は保てたとしても溶媒の表面張力の影響で印刷膜の断面形状が蒲鉾状となる虞がある。反対に高すぎると、スクリーンメッシュを抜けてブランケットへと接触する過程においてペーストの流動性に欠けるため、パターンエッジの隅々まで完全にペーストが印刷されずにエッジラインが直線的ではなく波打ち易くなる虞がある。
[Viscosity of conductive paste]
The conductive paste of the present invention can be prepared by dispersing conductive particles and a binder resin in an organic solvent by a conventional method such as stirring, and the viscosity characteristics are such that a good pattern can be screen-printed on the blanket surface. I just need. Specifically, the viscosity measured at 25 ° C. and 10 rpm using a B-type viscometer (“HBDV-2 Pro” manufactured by Brookfield) may be about 5 to 300 Pa · s, preferably 10 to 250 Pa. S, more preferably about 20 to 200 Pa · s (particularly 30 to 150 Pa · s). In particular, the viscosity is, for example, 30 to 250 Pa · s, preferably 50 to 200 Pa · s, more preferably 80 to 150 Pa · s (particularly 100 to 130 Pa · s) from the viewpoint that high pattern accuracy and transferability can be highly compatible. s). If the viscosity is too low, bleeding or spreading of the printed pattern may occur and pattern collapse may occur, or even if the pattern accuracy is maintained, the cross-sectional shape of the printed film may become a semicylindrical shape due to the effect of the surface tension of the solvent. is there. On the other hand, if the height is too high, the paste lacks fluidity in the process of coming out of the screen mesh and contacting the blanket, so that the paste is not completely printed at every corner of the pattern edge and the edge line is not linear but easily wavy There is a fear.

[導電膜付基板の製造方法]
本発明の導電膜付基板の製造方法は、前記導電性ペーストをシリコーンブランケット表面にスクリーン版を通して印刷する印刷工程と、印刷されたペースト膜を絶縁性基板に転写する転写工程と、転写されたペースト膜を焼成して導電膜を絶縁性基板の表面に形成するための焼成工程とを含む。
[Method of manufacturing substrate with conductive film]
The method for manufacturing a substrate with a conductive film according to the present invention includes a printing step of printing the conductive paste on a silicone blanket surface through a screen plate, a transfer step of transferring the printed paste film to an insulating substrate, and a transferred paste. A baking step for baking the film to form a conductive film on the surface of the insulating substrate.

印刷工程において、スクリーン印刷の方法としては、慣用の方法、例えば、特開平4−364953号公報に記載の方法などを利用できる。塗布厚み(乾燥後の厚み)は3〜50μm、好ましくは5〜30μm、さらに好ましくは7〜20μm(特に8〜15μm)程度である。さらに、本発明では、細かいパターンでも印刷可能であり、例えば、パターンの幅(線径)は、例えば10〜500μm、好ましくは20〜300μm、さらに好ましくは30〜100μm程度であってもよい。スクリーン版は、例えば100〜1000メッシュ、好ましくは200〜800メッシュ、さらに好ましくは300〜600メッシュ程度であってもよい。   In the printing step, as a screen printing method, a conventional method, for example, a method described in JP-A-4-364953 can be used. The coating thickness (thickness after drying) is about 3 to 50 μm, preferably about 5 to 30 μm, and more preferably about 7 to 20 μm (particularly about 8 to 15 μm). Further, in the present invention, even a fine pattern can be printed. For example, the width (diameter) of the pattern may be, for example, about 10 to 500 μm, preferably about 20 to 300 μm, and more preferably about 30 to 100 μm. The screen plate may have, for example, about 100 to 1000 mesh, preferably about 200 to 800 mesh, and more preferably about 300 to 600 mesh.

ブランケットを構成するシリコーンゴムは、ポリオルガノシロキサン骨格を有していればよく、例えば、メチルシリコーンゴム、ビニルシリコーンゴム、フェニルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム、フェニルビニルシリコーンゴムなどが挙げられる。   The silicone rubber constituting the blanket may have a polyorganosiloxane skeleton, and examples thereof include methyl silicone rubber, vinyl silicone rubber, phenyl silicone rubber, methyl phenyl silicone rubber, and phenyl vinyl silicone rubber.

転写工程において、絶縁性基板としては、焼成可能な材料で形成されていれば特に限定されず、各種の材料、例えば、シリカやアルミナ、アルミナジルコニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などのセラミックス、ガラス、金属などの無機材料、エンジニアリングプラスチックなどの有機材料などで形成された基板などを利用できる。これらの基板のうち、耐熱性基板やセラミックスグリーンシートなどが汎用され、導電性ペーストとの密着性に優れる点から、アルミナ基板や窒化アルミニウム基板などのセラミックス基板が好ましい。   In the transfer step, the insulating substrate is not particularly limited as long as it is formed of a material that can be fired, and various materials such as ceramics such as silica, alumina, alumina zirconium, aluminum nitride, and silicon nitride, glass, and metal A substrate formed of an inorganic material such as an organic material such as an engineering plastic or the like can be used. Among these substrates, heat-resistant substrates and ceramic green sheets are widely used, and ceramic substrates such as an alumina substrate and an aluminum nitride substrate are preferable from the viewpoint of excellent adhesion to a conductive paste.

絶縁性基板の厚みは、用途に応じて適宜選択すればよく、例えば0.001〜10mm、好ましくは0.01〜5mm、さらに好ましくは0.05〜3mm(特に0.1〜1mm)程度であってもよい。   The thickness of the insulating substrate may be appropriately selected depending on the application, and is, for example, about 0.001 to 10 mm, preferably about 0.01 to 5 mm, and more preferably about 0.05 to 3 mm (particularly about 0.1 to 1 mm). There may be.

印刷されペースト膜の転写方法としては、慣用のオフセット印刷やパッド印刷における転写方法を利用できる。   As a method of transferring the printed paste film, a conventional transfer method in offset printing or pad printing can be used.

転写されたペースト膜は、焼成処理の前に、自然乾燥してもよいが、加熱して乾燥してもよい。加熱温度は、有機溶媒の種類に応じて選択でき、例えば50〜200℃、好ましくは80〜180℃、さらに好ましくは100〜150℃程度である。加熱時間は、例えば1分〜3時間、好ましくは5分〜2時間、さらに好ましくは10分〜1時間程度である。   The transferred paste film may be naturally dried before the baking treatment, or may be dried by heating. The heating temperature can be selected according to the type of the organic solvent, and is, for example, about 50 to 200 ° C, preferably about 80 to 180 ° C, and more preferably about 100 to 150 ° C. The heating time is, for example, about 1 minute to 3 hours, preferably 5 minutes to 2 hours, and more preferably about 10 minutes to 1 hour.

焼成工程において、焼成温度は、導電性粒子である金属を焼結できればよく、例えば500℃以上(例えば500〜2000℃)、好ましくは550〜1500℃、さらに好ましくは600〜1200℃(特に700〜1100℃)程度である。熱処理時間(加熱時間)は、熱処理温度などに応じて、例えば、1分〜48時間、好ましくは5分〜8時間、さらに好ましくは10〜120分程度であってもよい。   In the firing step, the firing temperature may be any temperature at which the metal as the conductive particles can be sintered, for example, 500 ° C. or higher (eg, 500 to 2000 ° C.), preferably 550 to 1500 ° C., more preferably 600 to 1200 ° C. (particularly 700 to 1200 ° C.). 1100 ° C.). The heat treatment time (heating time) may be, for example, about 1 minute to 48 hours, preferably about 5 minutes to 8 hours, and more preferably about 10 to 120 minutes, depending on the heat treatment temperature and the like.

焼成雰囲気は、ペーストに含まれる導電性粒子の種類などに応じて適宜選択すればよく、例えば、導電性粒子が銀粒子である場合、大気雰囲気中で焼成すればよく、銅粒子など酸化しやすい粒子である場合、不活性ガス(例えば、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスなど)や真空中で焼成してもよい。   The firing atmosphere may be appropriately selected according to the type of the conductive particles contained in the paste.For example, when the conductive particles are silver particles, the firing may be performed in an air atmosphere, and the copper particles are easily oxidized. When the particles are used, they may be fired in an inert gas (for example, nitrogen gas, argon gas, helium gas, or the like) or in a vacuum.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下の例において、実施例で使用した材料及び評価用基板のパターン、各物性の測定方法、スクリーンオフセット印刷における評価方法を以下に示す。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In the following examples, the materials used in the examples, the patterns of the evaluation substrates, the methods for measuring the properties, and the evaluation methods in screen offset printing are shown below.

[使用した材料]
(導電性粒子)
Cu粒子(5μm):中心粒径5μmの銅粒子
Cu粒子(0.5μm):中心粒径0.5μmの銅粒子
Ag粒子(3μm):中心粒径3μmの銀粒子
Ag粒子(0.1μm):中心粒径0.1μmの銀粒子
Ni粒子(0.7μm):中心粒径0.7μmのニッケル粒子
CuAg粒子(5μm):中心粒径5μmの銅と銀との合金粒子、Ag/Cu=72/28(質量比)
水素化チタン粒子(7μm):中心粒径7μmの水素化チタン粒子
(バインダー)
固形アクリル樹脂:ポリn−ブチルメタクリレート
液状アクリル樹脂:水酸基含有アクリル樹脂、ガラス転移温度−47℃、重量平均分子量6000
(焼結助剤)
ガラス粒子(3μm):中心粒径3μmのガラス粒子。
[Material used]
(Conductive particles)
Cu particles (5 μm): copper particles having a central particle diameter of 5 μm Cu particles (0.5 μm): copper particles having a central particle diameter of 0.5 μm Ag particles (3 μm): silver particles having a central particle diameter of 3 μm Ag particles (0.1 μm) : Silver particles having a central particle diameter of 0.1 μm Ni particles (0.7 μm): nickel particles having a central particle diameter of 0.7 μm CuAg particles (5 μm): alloy particles of copper and silver having a central particle diameter of 5 μm, Ag / Cu = 72/28 (mass ratio)
Titanium hydride particles (7 μm): Titanium hydride particles with a central particle diameter of 7 μm (binder)
Solid acrylic resin: poly n-butyl methacrylate Liquid acrylic resin: hydroxyl-containing acrylic resin, glass transition temperature -47 ° C., weight average molecular weight 6,000
(Sintering aid)
Glass particles (3 μm): glass particles having a central particle diameter of 3 μm.

[評価用基板のパターン]
50mm×50mm×0.4mmの窒化アルミニウム基板表面に、導電膜を1mm×2mmの長方形パターンを0.05mm(50μm)の間隔をあけて2つ並べたものを1対のパターンとし、この対を0.4mm間隔で18行×18列の計324対配置したものを評価用基板とした。
[Evaluation board pattern]
On a 50 mm × 50 mm × 0.4 mm aluminum nitride substrate surface, two 1 mm × 2 mm rectangular patterns of conductive film were arranged at 0.05 mm (50 μm) intervals to form a pair of patterns. A total of 324 pairs arranged in 18 rows × 18 columns at 0.4 mm intervals were used as evaluation substrates.

[有機溶媒に対するシリコーンブランケットの膨潤率]
表1に示す有機溶媒に、ポリオルガノシロキサン化合物からなるシリコーンブランケット((株)ミノグループ製「商品名:MB500」、材質:メチルシリコーンゴム)から約2mm×5mm×10mmの大きさに切り出した試験片を浸漬した。25℃の恒温槽中で72時間浸漬した。浸漬前後に各試験片の体積をアルキメデス法によって求め膨潤率の計算に用いた。すなわち、空中での重量(g)から水中での重量(g)を引いたものを試験片の体積(cm)とし、次式により膨潤率を求め、その結果を表1に示した。
[Swelling ratio of silicone blanket to organic solvent]
A test cut out from an organic solvent shown in Table 1 into a size of about 2 mm x 5 mm x 10 mm from a silicone blanket made of a polyorganosiloxane compound (trade name: MB500, manufactured by Mino Group Co., Ltd., material: methyl silicone rubber) The pieces were dipped. It was immersed in a thermostat at 25 ° C. for 72 hours. Before and after immersion, the volume of each test piece was determined by the Archimedes method and used for calculating the swelling ratio. That is, the value obtained by subtracting the weight in water (g) from the weight in air (g) was taken as the volume of the test piece (cm 3 ), and the swelling ratio was determined by the following equation. The results are shown in Table 1.

膨潤率(%)=(浸漬後の試験片体積−浸漬前の試験片体積)/(浸漬前の試験片体積)×100     Swelling ratio (%) = (volume of test piece after immersion−volume of test piece before immersion) / (volume of test piece before immersion) × 100

Figure 0006633488
Figure 0006633488

表1に示す有機溶媒のうち、第1有機溶媒としてシクロデカン、ドデカン、ドデセンを、第2有機溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン、ブチルカルビトールアセテート、テルピネオールを選択して、実施例及び比較例において、スクリーンオフセット印刷に供する導電性ペーストを調製した。   Among the organic solvents shown in Table 1, cyclodecane, dodecane, and dodecene were selected as the first organic solvent, and N-methyl-2-pyrrolidone, butyl carbitol acetate, and terpineol were selected as the second organic solvent. Examples and Comparative Examples , A conductive paste to be subjected to screen offset printing was prepared.

[導電性ペーストの粘度]
実施例及び比較例で調製した導電性ペーストについて、その粘度をB型粘度計(ブルックフィールド社製「HBDV−2 Pro、SC−14スピンドル」)を用いて、25℃、10rpmの条件で測定した。
[Viscosity of conductive paste]
About the conductive paste prepared by the Example and the comparative example, the viscosity was measured on 25 degreeC and 10 rpm conditions using the Brookfield viscometer ("HBDV-2 Pro, SC-14 spindle"). .

[導電膜の膜厚]
実施例及び比較例において、導電性ペーストを用いて作製した評価用基板について、基板表面から導電膜(幅1mm)を超えて反対側の基板裏面までの高さプロファイルを粗さ計((株)アルバック製「DEKTAK6M」)で測定した。基板の四隅と中央の5点を測定した。導電膜のスキャン方向の平均高さから基板の表面と裏面とを結んだ高さ(基板厚み)を差し引いた高さの5点の平均を導電膜の膜厚とした。
[Thickness of conductive film]
In the examples and comparative examples, the height profile from the substrate surface to the opposite substrate back surface beyond the conductive film (1 mm width) was measured with a roughness meter (Co., Ltd.) for the evaluation substrate manufactured using the conductive paste. It was measured by ULVAC “DEKTAK6M”). Four points and five points at the center of the substrate were measured. The average of five points of the height obtained by subtracting the height (substrate thickness) connecting the front surface and the back surface of the substrate from the average height of the conductive film in the scanning direction was defined as the thickness of the conductive film.

[印刷・転写の状態]
スクリーンオフセット工程において、窒化アルミニウム基板に対する印刷・転写の状態について観察し、不具合の状態を、以下の状態に分類した。
[Print / Transfer status]
In the screen offset process, the state of printing / transfer to the aluminum nitride substrate was observed, and the state of the defect was classified into the following states.

転写せず(非転写)…全く転写されない
膜裂け…一部は転写されたが膜が裂けて一部がブランケット側に残る
泣き別れ…全面的に基板側に移ろうとするが、膜の内部で分かれて基板とブランケットの両方にペースト膜が分かれる
糸引き…ブランケット側には全く残らず、転写が一見良好と見られるが、詳細に顕微鏡で観察するとパターンエッジにヒゲのようなペーストが糸を引いて伸びている。
Not transferred (non-transferred)… Not transferred at all Film tearing… Partially transferred, but the film is torn and partly left on the blanket side Weeping… Trying to move entirely to the substrate side, but split inside the film The paste film is separated on both the substrate and the blanket. Threading: There is no residue on the blanket side, and the transfer appears to be good at first glance. It is growing.

評価パターン324対に対して、これらの不具合が見られた数(割合)を測定し、各々の不具合について、以下の基準で評価した。   The number (ratio) at which these defects were observed was measured for the evaluation pattern 324 pair, and each defect was evaluated according to the following criteria.

◎:不具合数10個未満(約3%未満)
○:不具合数10個以上33個未満(約3〜10%)
△:不具合数33個以上100個未満(約10〜30%)
×:不具合数100個以上(約30%以上)。
:: Less than 10 defects (less than about 3%)
:: 10 or more defects and less than 33 defects (about 3 to 10%)
Δ: Number of defects is 33 or more and less than 100 (about 10 to 30%)
×: 100 or more defects (about 30% or more).

[パターン精度]
転写状態が良好であった実施例に対して、前記評価用基板において、1対の長方形パターン間の幅(設計値50μm)を測定し、以下の基準で評価した。なお、幅の測定は実態顕微鏡によって拡大した画像に基づいて測定し、基板の四隅と中央に位置する計5対を測定してその平均をパターン間の幅とした。なお、70μm以上の実施例は無かった。
[Pattern accuracy]
For the example in which the transfer state was good, the width between a pair of rectangular patterns (design value: 50 μm) was measured on the evaluation substrate, and evaluated according to the following criteria. The width was measured based on an image enlarged by a stereoscopic microscope, and a total of five pairs located at the four corners and the center of the substrate were measured, and the average was defined as the width between the patterns. In addition, there was no example of 70 μm or more.

◎:設計値50μmに対して40〜60μmの範囲にある
○:設計値50μmに対して30〜40μm又は60〜70μmの範囲にある
△:設計値50μmに対して20〜30μmの範囲にある
×:設計値50μmに対して20μmよりも狭い。
:: in the range of 40 to 60 μm for the design value of 50 μm :: in the range of 30 to 40 μm or 60 to 70 μm for the design value of 50 μm △: in the range of 20 to 30 μm for the design value of 50 μm : Narrower than 20 μm with respect to the designed value of 50 μm.

[断面形状]
転写状態が良好であった実施例に対して、前記膜厚測定における導電膜(幅1mm)のプロファイルの平坦領域の幅を、以下の基準で評価した。幅の測定も、前記膜厚の測定と同様に5点測定して、それらの平均をとった。なお、「平坦領域」は、プロファイル中の最大高さから3μm以上低くならない高さが続くプロファイル長さとした。
[Cross-sectional shape]
The width of the flat region of the profile of the conductive film (width 1 mm) in the film thickness measurement was evaluated based on the following criteria for the example in which the transfer state was good. The width was also measured at five points in the same manner as in the film thickness measurement, and the average was taken. Note that the “flat region” was a profile length in which a height not lower than 3 μm from the maximum height in the profile continued.

◎:平坦領域の幅が0.95mm以上
○:平坦領域の幅が0.9〜0.95mmの範囲にある
△:平坦領域の幅が0.8〜0.9mmの範囲にある
×:平坦領域の幅が0.8mmよりも短い。
◎: The width of the flat region is 0.95 mm or more :: The width of the flat region is in the range of 0.9 to 0.95 mm Δ: The width of the flat region is in the range of 0.8 to 0.9 mm ×: Flat The width of the region is shorter than 0.8 mm.

[連続印刷性]
連続印刷性は、印刷した基板を順次取り替えながら、印刷を繰り返すことで評価を行った。最終的に泣き別れモードが前述の判定基準で×となるまでの回数を記録した。100回以上となった場合は充分な連続印刷性があったと判定して評価を終えた。
[Continuous printability]
The continuous printability was evaluated by repeating printing while sequentially replacing the printed substrates. The number of times until the tearing-off mode finally becomes x based on the above-described determination criterion was recorded. When the number of printings was 100 or more, it was determined that sufficient continuous printability was obtained, and the evaluation was completed.

実施例1
(導電性ペーストの調製)
表2に示すように、第1有機溶媒と第2有機溶媒とを50:50の質量割合になるように秤量した混合溶媒を60℃の湯浴中でプロペラ撹拌しながら固形アクリル樹脂の粉末を徐々に添加した。アクリル樹脂の全量を加えた後、20分間撹拌を続けて混合溶媒中に完全に溶解させ、有機ビヒクルを得た。この有機ビヒクルに導電性粒子としてのCu粒子と焼結助剤としてのガラス粒子を加えてミキサーで混合した後、3本ロールで均一分散させ導電性ペーストを調整した。
Example 1
(Preparation of conductive paste)
As shown in Table 2, the mixed solvent obtained by weighing the first organic solvent and the second organic solvent so as to have a mass ratio of 50:50 was stirred with a propeller in a 60 ° C. water bath while the solid acrylic resin powder was mixed. It was added slowly. After the entire amount of the acrylic resin was added, stirring was continued for 20 minutes to completely dissolve the mixture in the mixed solvent to obtain an organic vehicle. Cu particles as conductive particles and glass particles as a sintering aid were added to this organic vehicle, mixed with a mixer, and then uniformly dispersed with three rolls to prepare a conductive paste.

(スクリーンオフセット印刷)
得られた導電性ペーストを400メッシュのステンレスメッシュスクリーンとウレタンスキージを用いて、スキージ速度50mm/secにて前述のパターンをシリコーンブランケット上にスクリーン印刷した。続けて、速やかにブランケット上の印刷膜を窒化アルミニウム基板に押し当てた後、ゆっくりと剥がし転写させたところ、きれいに転写された。印刷膜が転写された基板を120℃のオーブンで20分間乾燥させて溶媒を完全に除去した。
(Screen offset printing)
The above conductive paste was screen-printed on a silicone blanket at a squeegee speed of 50 mm / sec using a 400-mesh stainless mesh screen and a urethane squeegee. Subsequently, the printing film on the blanket was immediately pressed against the aluminum nitride substrate, and then slowly peeled off and transferred. The substrate to which the printed film was transferred was dried in an oven at 120 ° C. for 20 minutes to completely remove the solvent.

(焼成)
乾燥した基板を窒素ガス置換したベルト搬送式トンネル炉を用いてピーク温度900℃を10分間保持する条件で焼成し導電膜の付いた基板を得た。スクリーンオフセット印刷を経て作製された導電膜であっても導電性や基板との密着性においては、通常のスクリーン印刷で作製した導電膜と同等であった。膜厚も狙いどおりに10μm程度の厚膜で作製できた。導電膜のパターン精度と断面形状を前記の方法で評価したところパターン精度も良好で断面形状も矩形であった。
(Fired)
The dried substrate was fired in a belt-conveying tunnel furnace in which nitrogen gas was replaced, under the condition of maintaining the peak temperature at 900 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate with a conductive film. Even in the case of a conductive film produced through screen offset printing, the conductivity and adhesion to a substrate were equivalent to those of a conductive film produced by ordinary screen printing. A film having a thickness of about 10 μm was formed as intended. When the pattern accuracy and the cross-sectional shape of the conductive film were evaluated by the above method, the pattern accuracy was good and the cross-sectional shape was rectangular.

実施例2〜3
第1有機溶媒と第2有機溶媒との割合を変更した以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果も概ね良好であった。
Examples 2-3
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio between the first organic solvent and the second organic solvent was changed. The results were also generally good.

実施例4
第1有機溶媒及び第2有機溶媒の割合を多くする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果も概ね良好であった。
Example 4
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the proportions of the first organic solvent and the second organic solvent were increased. The results were also generally good.

実施例5〜6
導電性ペースト中に占める有機溶媒の割合を変更した以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果も概ね良好であった。
Examples 5 to 6
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the organic solvent in the conductive paste was changed. The results were also generally good.

実施例7〜8
導電性ペースト中に占めるバインダー樹脂の割合を変更した以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果も概ね良好であった。
Examples 7 and 8
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the binder resin in the conductive paste was changed. The results were also generally good.

実施例9〜12
表2に示すように第1有機溶媒および第2有機溶媒の種類を変更した以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果も全て良好であった。
Examples 9 to 12
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the types of the first organic solvent and the second organic solvent were changed as shown in Table 2. The results were all good.

実施例13〜14
導電性粒子をAg粒子やNi粒子に変更した以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。その結果、実施例13の結果は全て良好であり、実施例14の結果も概ね良好であった。
Examples 13 and 14
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the conductive particles were changed to Ag particles or Ni particles. As a result, the results of Example 13 were all good, and the results of Example 14 were also generally good.

実施例15
活性金属粒子としてのチタンの化合物を配合し、CuAg粒子をロウ剤としてCu粒子の一部を置き換えて導電性ペーストを調合した。スクリーンオフセット印刷は実施例1と同様にした。焼成は真空中(1×10−4Pa)で900℃にて1時間保持して(昇温降温ふくめ4時間)行った。結果は全て良好であった。
Example 15
A conductive paste was prepared by mixing a titanium compound as active metal particles, replacing a part of the Cu particles with CuAg particles as a brazing agent. Screen offset printing was the same as in Example 1. The firing was performed in vacuum (1 × 10 −4 Pa) at 900 ° C. for 1 hour (4 hours including heating and cooling). The results were all good.

比較例1
第1有機溶媒を用いない以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。その結果、スクリーンオフセット印刷での転写の際に泣き別れ現象になってしまって印刷物が得られなかった。
Comparative Example 1
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the first organic solvent was not used. As a result, a tearing phenomenon occurred during transfer in screen offset printing, and a printed matter was not obtained.

実施例16〜17
第1有機溶媒の量を少なくする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果は、比較例1に比べて良好であったが、実施例1〜3に比べて低下した。
Examples 16 to 17
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the amount of the first organic solvent was reduced. The results were better than Comparative Example 1, but lower than Examples 1 to 3.

実施例18
第2有機溶媒の量を少なくする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果は、後述の比較例2に比べて良好であったが、実施例1〜3に比べて低下した。
Example 18
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the amount of the second organic solvent was reduced. The results were better than Comparative Example 2 described below, but decreased as compared with Examples 1 to 3.

比較例2
第2有機溶媒を用いない以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。その結果、ブランケット上でペースト膜は乾き過ぎの状態になり転写がされなかった。
Comparative Example 2
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the second organic solvent was not used. As a result, the paste film was too dry on the blanket and was not transferred.

実施例19
ペースト中に占める有機溶媒の割合を大幅に少なくする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果は、比較例1及び2に比べて良好であったが、実施例1に比べて低下した。
Example 19
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the organic solvent in the paste was significantly reduced. The results were better than Comparative Examples 1 and 2, but were lower than Example 1.

実施例20〜21
ペースト中に占める有機溶媒の割合を大幅に多くする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果は、比較例1及び2に比べて良好であったが、実施例1に比べて低下した。
Examples 20 to 21
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the organic solvent in the paste was significantly increased. The results were better than Comparative Examples 1 and 2, but were lower than Example 1.

実施例22
導電性ペースト中のバインダー樹脂の割合を大幅に少なくする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果は、比較例1及び2に比べて良好であったが、実施例1に比べて低下した。
Example 22
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the ratio of the binder resin in the conductive paste was significantly reduced. The results were better than Comparative Examples 1 and 2, but were lower than Example 1.

実施例23
導電性ペースト中のバインダー樹脂の割合を大幅に多くする以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。結果は、比較例1及び2に比べて良好であったが、実施例1に比べて低下した。
Example 23
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio of the binder resin in the conductive paste was significantly increased. The results were better than Comparative Examples 1 and 2, but were lower than Example 1.

比較例3
第1有機溶媒として、ドデカンの代わりに特許文献1の実施例で使用されているトルエンを用い、第2有機溶媒との割合を変更する以外は実施例11と同様にして導電膜付基板を製造した。その結果、ブランケットへのスクリーン印刷の段階でペーストの乾きが顕著であってブランケット上への印刷物がかすれてしまった。
Comparative Example 3
A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 11 except that toluene used in the example of Patent Document 1 was used instead of dodecane as the first organic solvent, and the ratio with the second organic solvent was changed. did. As a result, drying of the paste was remarkable at the stage of screen printing on the blanket, and the printed matter on the blanket was blurred.

比較例4
第1有機溶媒であるドデカンの代わりに特許文献2の実施例で高膨潤性溶媒として使用されているテルピネオールを第1有機溶媒として用い、第2有機溶媒であるブチルカルビトールアセテートとの割合を変更する以外は実施例11と同様にして導電膜付基板を製造した。その結果、ほぼ全面的に泣き別れになってしまった。
Comparative Example 4
Terpineol, which is used as a highly swellable solvent in the examples of Patent Document 2 in place of dodecane, which is the first organic solvent, is used as the first organic solvent, and the ratio with butyl carbitol acetate, which is the second organic solvent, is changed. A substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 11 except for performing the above. As a result, she almost completely broke up.

実施例24〜26
表3に示すように、固形アクリル樹脂の一部を液状アクリル樹脂に変更し、第1有機溶媒の割合を変更した以外は実施例1と同様にして導電膜付基板を製造した。実施例24及び25の結果は全て良好であり、実施例26の結果も概ね良好であった。
Examples 24 to 26
As shown in Table 3, a substrate with a conductive film was manufactured in the same manner as in Example 1, except that part of the solid acrylic resin was changed to liquid acrylic resin and the ratio of the first organic solvent was changed. The results of Examples 24 and 25 were all good, and the result of Example 26 was also generally good.

実施例及び比較例の結果をまとめて表2及び3に示す。   Tables 2 and 3 summarize the results of the examples and comparative examples.

Figure 0006633488
Figure 0006633488

Figure 0006633488
Figure 0006633488

また、実施例1及び実施例24〜26について、連続印刷性を評価した結果、実施例1が55回であったのに対して、実施例24〜26は100回以上であった。   In addition, as a result of evaluating the continuous printability of Example 1 and Examples 24 to 26, the number of Examples 1 to 55 was 55, whereas the number of Examples 24 to 26 was 100 or more.

さらに、実施例1〜3について、スクリーンオフセット印刷の代わりに以下のスクリーンパッド印刷を行って評価した結果を表4に示す。実施例1の結果は全て良好であり、実施例2〜3の結果も概ね良好であった。   Table 4 shows the results of evaluation of Examples 1 to 3 by performing the following screen pad printing instead of the screen offset printing. The results of Example 1 were all good, and the results of Examples 2 and 3 were also generally good.

(スクリーンパッド印刷)
得られた導電性ペーストを400メッシュのステンレスメッシュスクリーンとウレタンスキージを用いて、スキージ速度50mm/secにて前述のパターンをシリコーンブランケット上にスクリーン印刷した。続けて、シリコーンパッドを印刷膜に押し付け、さらにそれを速やかに窒化アルミニウム基板に押し当てた後、ゆっくりと剥がし転写させたところ、きれいに転写された。印刷膜が転写された基板を120℃のオーブンで20分間乾燥させて溶媒を完全に除去した。
(Screen pad printing)
The above conductive paste was screen-printed on a silicone blanket at a squeegee speed of 50 mm / sec using a 400-mesh stainless mesh screen and a urethane squeegee. Subsequently, the silicone pad was pressed against the printed film, and then quickly pressed against the aluminum nitride substrate, and then slowly peeled off and transferred. The substrate to which the printed film was transferred was dried in an oven at 120 ° C. for 20 minutes to completely remove the solvent.

Figure 0006633488
Figure 0006633488

本発明の導電性ペーストは、チップ抵抗、抵抗内蔵モジュール、抵抗内蔵基板、セラミックスヒーターなどの厚膜抵抗体及びこの厚膜抵抗体を備えた抵抗器(例えば、抵抗体と銅電極とを備えた抵抗器など)又は電子部品などに利用できる。   The conductive paste of the present invention includes a chip resistor, a module with a built-in resistor, a substrate with a built-in resistor, a thick film resistor such as a ceramic heater, and a resistor provided with the thick film resistor (for example, a resistor and a copper electrode are provided. Resistors, etc.) or electronic components.

Claims (16)

少なくとも表面がシリコーンゴムで形成されたブランケットにスクリーン版によるパターンを転写するための導電性ペーストであって、導電性粒子と、ガラス転移温度10℃以上の固形アクリル系樹脂を含むバインダー樹脂と、第1有機溶媒及び第2有機溶媒を含む有機溶媒とを含み、前記第1有機溶媒が、120℃以上の沸点を有し、かつ前記シリコーンゴムを膨潤率60%以上で膨潤させる溶媒であり、前記第2有機溶媒が、前記シリコーンゴムを膨潤率30%以下で膨潤させる溶媒である導電性ペースト。   A conductive paste for transferring a pattern by a screen plate to a blanket at least a surface of which is formed of silicone rubber, a conductive resin, a binder resin containing a solid acrylic resin having a glass transition temperature of 10 ° C. or more, An organic solvent containing 1 organic solvent and a second organic solvent, wherein the first organic solvent has a boiling point of 120 ° C. or more, and swells the silicone rubber at a swelling rate of 60% or more; A conductive paste, wherein the second organic solvent is a solvent that swells the silicone rubber at a swelling ratio of 30% or less. 第2有機溶媒の沸点が120℃以上である請求項1記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein a boiling point of the second organic solvent is 120C or higher. 第1有機溶媒と第2有機溶媒との質量比が、第1有機溶媒/第2有機溶媒=20/80〜70/30である請求項1又は2記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the mass ratio of the first organic solvent to the second organic solvent is (first organic solvent / second organic solvent) = 20/80 to 70/30. B型粘度計を用いて25℃及び10rpmで測定した粘度が5〜300Pa・sである請求項1〜3のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 3, wherein the viscosity measured at 25 ° C and 10 rpm using a B-type viscometer is 5 to 300 Pa · s. 第1有機溶媒が脂肪族炭化水素又は脂環式炭化水素である請求項1〜4のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 4, wherein the first organic solvent is an aliphatic hydrocarbon or an alicyclic hydrocarbon. 第1有機溶媒がC10−14アルカン、C10−14アルケン又はC8−12シクロアルカンである請求項1〜5のいずれかに記載の導電性ペースト。 The conductive paste according to any one of claims 1 to 5, wherein the first organic solvent is a C10-14 alkane, a C10-14 alkene or a C8-12 cycloalkane. 第2有機溶媒が、アルコール類、ケトン類、エステル類、セロソルブ類、カルビトール類及びピロリドン類からなる群より選択された少なくとも一種である請求項1〜6のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 6, wherein the second organic solvent is at least one selected from the group consisting of alcohols, ketones, esters, cellosolves, carbitols, and pyrrolidones. 有機溶媒の割合が、導電性ペースト全体に対して20〜60体積%である請求項1〜7のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 7, wherein the proportion of the organic solvent is 20 to 60% by volume based on the entire conductive paste. バインダー樹脂が、ガラス転移温度10℃未満の液状樹脂をさらに含む請求項1〜8のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 8, wherein the binder resin further includes a liquid resin having a glass transition temperature of less than 10 ° C. 液状樹脂が、液状アクリル系樹脂を含む請求項9記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 9, wherein the liquid resin includes a liquid acrylic resin. バインダー樹脂の割合が、導電性ペースト全体に対して5〜30体積%である請求項1〜10のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 10, wherein a ratio of the binder resin is 5 to 30% by volume based on the whole conductive paste. 導電性粒子が、銅、銀及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一種又は二種以上を含む合金で形成されている請求項1〜11のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 11, wherein the conductive particles are formed of an alloy containing at least one or two or more selected from the group consisting of copper, silver, and nickel. ガラス粒子をさらに含む請求項1〜12のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, further comprising glass particles. 導電性粒子が、活性金属粒子を含む請求項1〜13のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to claim 1, wherein the conductive particles include active metal particles. スクリーンオフセット印刷用ペースト又はスクリーンパッド印刷用ペーストである請求項1〜14のいずれかに記載の導電性ペースト。   The conductive paste according to any one of claims 1 to 14, which is a screen offset printing paste or a screen pad printing paste. 請求項1〜15のいずれかに記載の導電性ペーストを少なくとも表面がシリコーンゴムで形成されたブランケットの表面にスクリーン版を通して印刷する印刷工程と、印刷されたペースト膜を絶縁性基板に転写する転写工程と、転写されたペースト膜を焼成して導電膜を絶縁性基板の表面に形成するための焼成工程とを含む導電膜付基板の製造方法。   A printing step of printing the conductive paste according to any one of claims 1 to 15 on a surface of a blanket having at least a surface formed of silicone rubber through a screen plate, and a transfer of transferring the printed paste film to an insulating substrate. A method of manufacturing a substrate with a conductive film, comprising: a step of baking the transferred paste film to form a conductive film on the surface of the insulating substrate.
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