JP6898304B2 - 減衰装置及び方法 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、2015年9月3日に出願されたEP15183681.4の優先権を主張し、参照により全体が本明細書に取り入れられる。
Claims (15)
- 放射の強度を調整するための減衰装置であって、
放射ビームを受け取り、前記放射ビームの少なくとも一部分を第1の反射放射ビームの形で第1の方向に誘導するための格子と、
前記第1の反射放射ビームの強度を変更するために前記放射ビームと前記格子の表面との間のグレージング角を調整するために前記格子を回転させるように動作可能である1つ以上の第1のアクチュエータと、
を含み、
前記1つ以上の第1のアクチュエータが、前記第1の反射放射ビームが前記減衰装置から固定した位置及び方向に誘導されるように前記格子を並進させるように動作可能であり、
前記1つ以上の第1のアクチュエータが、前記格子の1つ以上の溝と前記放射ビームの入射面との間の角度を変更するために前記格子の表面に対する垂線の周りで前記格子を回転させるように動作可能である、
減衰装置。 - 前記1つ以上の第1のアクチュエータが、1度未満の角度により前記格子を回転させるように動作可能である、請求項1に記載の減衰装置。
- 前記格子が、前記放射ビームの少なくとも一部分を回折放射ビームの形で前記第1の方向から離れて誘導するように動作可能である、請求項1又は2に記載の減衰装置。
- 前記第1の反射放射ビームを受け取り、前記第1の反射放射ビームの少なくとも一部分を第2の反射放射ビームの形で第2の方向に誘導するように動作可能な反射光学部品と、
前記第2の反射放射ビームの強度を変更するために前記反射光学部品の配向を調整するように配置された1つ以上の第2のアクチュエータと、
を更に含む、請求項1乃至3のいずれかに記載の減衰装置。 - 前記反射光学部品が第2の格子を含む、請求項4に記載の減衰装置。
- 前記1つ以上の第2のアクチュエータが、前記第2の反射放射ビームが前記減衰装置から固定した位置及び方向に誘導されるように前記反射光学部品を並進させるように動作可能である、請求項4乃至5のいずれかに記載の減衰装置。
- 前記第1の反射放射ビームが前記格子の所定の範囲の配向のすべてについて前記反射光学部品の反射面に入射するように、前記反射光学部品が前記第1の反射放射ビームの伝搬の方向に広がりを有する、請求項4乃至6に記載の減衰装置。
- 前記格子の前記配向を調整するために前記1つ以上の第1のアクチュエータを制御するように配置されたコントローラを更に含む、請求項7に記載の減衰装置。
- 前記コントローラが、センサから放射強度の指示を受け取り、前記指示の受け取りに応答して前記1つ以上の第1のアクチュエータを制御するように配置される、請求項8に記載の減衰装置。
- 前記放射がEUV放射を含む、請求項1乃至9のいずれかに記載の減衰装置。
- 放射ビームを生成するように動作可能な放射源と、
前記放射ビームを受け取るように配置された請求項1乃至10のいずれか1項に記載の減衰装置と、
前記減衰装置から減衰した放射ビームを受け取るように配置されている少なくとも1つのリソグラフィ装置と、
を含む、リソグラフィシステム。 - メイン放射ビームを受け取り、少なくとも1つの分岐放射ビームを出力するように配置された放射ビームスプリッティング装置を更に含み、
前記放射ビームが、前記少なくとも1つの分岐放射ビームの少なくとも一部分を含む、請求項11に記載のリソグラフィシステム。 - 前記放射ビームスプリッティング装置が複数の分岐放射ビームを出力するように配置され、
前記リソグラフィシステムが前記複数の分岐放射ビームのそれぞれについてそれぞれの減衰装置を含み、それぞれの減衰装置が前記複数の分岐放射ビームのそれぞれ1つを受け取るように配置される、請求項12に記載のリソグラフィシステム。 - 前記放射源が1つ以上の自由電子レーザを含む、請求項11乃至13のいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。
- 前記少なくとも1つのリソグラフィ装置が1つ以上のマスク点検装置を含む、請求項11乃至14のいずれか1項に記載のリソグラフィシステム。
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