JP6897902B2 - 有機発光ダイオード表示パネル及びそれを備えた表示装置、並びに該有機発光ダイオード表示パネルの製造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 401
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 53
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 45
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 11
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 9
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 3
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/82—Cathodes
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
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- H10K50/82—Cathodes
- H10K50/824—Cathodes combined with auxiliary electrodes
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
- H10K59/8052—Cathodes
- H10K59/80522—Cathodes combined with auxiliary electrodes
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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Description
Claims (15)
- 複数の画素を有し、各画素が副画素領域と副画素間領域を備えた有機発光ダイオード表示パネルであって、
ベース基板と、
前記ベース基板上に位置する第1電極層と、
前記副画素領域において、前記第1電極層の前記ベース基板から遠位側に位置する発光層と、
前記発光層の前記第1電極層から遠位側に位置する第2電極層と、
前記副画素間領域において、前記第2電極層と同じ層に位置し、前記第2電極層と互いに接触する補助電極層と、
を備え、
前記第2電極層は、概ね前記副画素領域内に位置する第1部分と、概ね前記副画素間領域内に位置する第2部分と、を備え、
前記第1部分は、前記第2部分を介して前記補助電極層と電気的に接続され、
前記第2電極層の第1部分の厚みは、5nm〜20nmであり、
前記補助電極層の厚みと第2電極層の厚みの比は、10〜100であり、
前記補助電極層の断面は、略逆台形形状であり、
前記逆台形形状の短い方の底辺は、前記補助電極層の前記第1電極層から近位側に位置する、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記副画素間領域において、前記補助電極層の前記ベース基板から遠位側に位置する画素定義層をさらに備える、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記副画素領域において、前記第1電極層の前記ベース基板から遠位側に位置する、前記発光層を含む有機層と、
前記副画素間領域において、前記補助電極層の前記ベース基板から近位側に位置する絶縁層と、
を備え、
前記有機層の厚みは、前記絶縁層の厚み以下である、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項3に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記有機層は、1つまたは複数の有機機能層をさらに備える、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記第2電極層は、透明金属材料で製造された透明電極層である、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項5に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記補助電極層は、非透明金属材料で製造された非透明電極層である、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記補助電極層の厚みは、50nm〜500nmである、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項1に記載の有機発光ダイオード表示パネルにおいて、
前記有機発光ダイオード表示パネルは、トップ・エミッション型の表示パネルであり、 前記第1電極層は、陽極層であり、
前記第2電極層は、陰極層であり、
前記補助電極層は、補助陰極層である、
有機発光ダイオード表示パネル。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード表示パネルを備えた、表示装置。
- 複数の画素を有し、各画素が副画素領域と副画素間領域を備えた有機発光ダイオード表示パネルの製造方法であって、
ベース基板上に、第1電極層を形成することと、
前記副画素間領域において、第2電極層と同じ層に、前記第2電極層と互いに接触し、補助電極層を形成することと、
前記副画素領域において、前記第1電極層の前記ベース基板から遠位側に、発光層を形成することと、
前記発光層の前記第1電極層から遠位側に、前記第2電極層を形成すること、
を含み、
発光層形成工程の後に、第2電極層形成工程を実施し、
前記第2電極層形成工程は、
前記発光層の前記第1電極層から遠位側に金属材料を気相堆積することによって、前記第2電極層の、概ね前記副画素領域内に位置する第1部分と、概ね前記副画素間領域内に位置する第2部分とを形成することを含み、
前記第1部分は、前記第2部分を介して前記補助電極層と電気的に接続され、
前記第2電極層の第1部分は、5nm〜20nmの厚みを有するように形成されており、
前記補助電極層の厚みと第2電極層の厚みの比は、10〜100であり、
前記補助電極層は、略逆台形形状を呈する断面を有するように形成されており、
前記逆台形形状の短い方の底辺は、前記補助電極層の前記第1電極層から近位側に位置する、有機発光ダイオード表示パネルの製造方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記副画素間領域において、前記補助電極層の前記ベース基板から遠位側に、画素定義層を形成することをさらに含む、有機発光ダイオード表示パネルの製造方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記補助電極層は、50nm〜500nmの厚みを有するように形成されている、有機発光ダイオード表示パネルの製造方法。 - 請求項10に記載の方法において、
前記副画素領域において、前記第1電極層の前記ベース基板から遠位側に、前記発光層を含む有機層を形成することと、
前記副画素間領域において、前記補助電極層の前記ベース基板から近位側に、および、前記第1電極層の前記ベース基板から遠位側に、絶縁層を形成することと、
を含み、
前記有機層は、厚みが前記絶縁層の厚み以下となるように形成されている、有機発光ダイオード表示パネルの製造方法。 - 請求項13記載の方法において、
前記有機層は、インクジェット印刷プロセスにより形成されている、有機発光ダイオード表示パネルの製造方法。 - 請求項10記載の方法において、
前記第2電極層は、透明金属材料により形成されている、有機発光ダイオード表示パネルの製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/CN2016/101561 WO2018064830A1 (en) | 2016-10-09 | 2016-10-09 | Organic light emitting diode display panel, display apparatus having the same, and fabricating method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019531571A JP2019531571A (ja) | 2019-10-31 |
JP6897902B2 true JP6897902B2 (ja) | 2021-07-07 |
Family
ID=61830732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017550717A Active JP6897902B2 (ja) | 2016-10-09 | 2016-10-09 | 有機発光ダイオード表示パネル及びそれを備えた表示装置、並びに該有機発光ダイオード表示パネルの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180254430A1 (ja) |
EP (1) | EP3523827B1 (ja) |
JP (1) | JP6897902B2 (ja) |
CN (1) | CN108780805B (ja) |
WO (1) | WO2018064830A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019041128A1 (en) * | 2017-08-29 | 2019-03-07 | Boe Technology Group Co., Ltd. | ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE DISPLAY SUBSTRATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE DISPLAY APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DIODE DISPLAY SUBSTRATE |
CN109004093B (zh) * | 2018-07-13 | 2020-07-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled面板及其制造方法、电子设备 |
CN109065764B (zh) * | 2018-08-14 | 2023-04-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板的制造方法及显示面板 |
US20200243791A1 (en) * | 2019-01-24 | 2020-07-30 | Avalon Holographics Inc. | Capping layer process with low temperature photoresist patterning |
CN111490071A (zh) * | 2019-05-08 | 2020-08-04 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 显示基板及其制备方法和显示面板 |
CN110416262B (zh) * | 2019-05-09 | 2021-09-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled显示屏、显示面板及其制造方法 |
CN110767728B (zh) * | 2019-10-31 | 2022-07-15 | Oppo广东移动通信有限公司 | 显示装置及电子设备 |
CN110783364B (zh) * | 2019-10-31 | 2022-09-13 | Oppo广东移动通信有限公司 | 显示装置及电子设备 |
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Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN103024960A (zh) * | 2012-11-30 | 2013-04-03 | 昆山维信诺显示技术有限公司 | Oled照明面板及制备方法以及一种oled照明器件 |
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KR102263261B1 (ko) * | 2014-08-05 | 2021-06-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법 |
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CN104393188A (zh) * | 2014-11-28 | 2015-03-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机发光二极管显示基板及其制作方法、显示装置 |
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CN104576705B (zh) * | 2015-01-27 | 2018-03-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及制作方法、显示装置 |
CN104952905A (zh) * | 2015-05-06 | 2015-09-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 有机发光显示面板及其制备方法、显示装置 |
CN105590954A (zh) | 2015-12-22 | 2016-05-18 | 昆山国显光电有限公司 | Oled显示面板及其制作方法 |
-
2016
- 2016-10-09 EP EP16894807.3A patent/EP3523827B1/en active Active
- 2016-10-09 US US15/560,762 patent/US20180254430A1/en not_active Abandoned
- 2016-10-09 WO PCT/CN2016/101561 patent/WO2018064830A1/en active Application Filing
- 2016-10-09 CN CN201680000991.0A patent/CN108780805B/zh active Active
- 2016-10-09 JP JP2017550717A patent/JP6897902B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3523827A1 (en) | 2019-08-14 |
JP2019531571A (ja) | 2019-10-31 |
EP3523827A4 (en) | 2020-05-20 |
US20180254430A1 (en) | 2018-09-06 |
CN108780805A (zh) | 2018-11-09 |
EP3523827B1 (en) | 2023-05-10 |
WO2018064830A1 (en) | 2018-04-12 |
CN108780805B (zh) | 2022-06-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190619 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |