JP6881218B2 - 試料解析方法 - Google Patents
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Description
前記表面に前記電子線を入射する工程と、
前記電子線装置の内部において、前記表面が水素含有雰囲気に曝された状態で、前記試料を陰極とし、前記電子線装置の内部に設けられた電極と前記表面との間でグロー放電を発生させる工程と、を備える、
試料解析方法。
上記(1)に記載の試料解析方法。
上記(1)または(2)に記載の試料解析方法。
上記(1)から(3)までのいずれかに記載の試料解析方法。
上記(1)から(4)までのいずれかに記載の試料解析方法。
上記(1)から(5)までのいずれかに記載の試料解析方法。
上記(1)から(6)までのいずれかに記載の試料解析方法。
11.試料
11a.表面
12.水素供給部
13.真空計
14.検出器
15.応力負荷部
16.電極
20.中間室
20a,20b.小孔
30.電子銃室
31.電子銃
40.真空排気部
100.電子線装置
Claims (7)
- 試料の表面に所定の加速電圧で電子線を入射し、前記表面から放出される電子およびX線から選択される1種以上を検出する電子線装置を用いた試料の解析方法であって、
前記表面に前記電子線を入射する工程と、
前記電子線装置の内部において、前記表面が水素含有雰囲気に曝された状態で、前記試料を陰極とし、前記電子線装置の内部に設けられた電極と前記表面との間でグロー放電を発生させる工程と、を備える、
試料解析方法。 - 前記グロー放電を発生させる工程において、前記試料に対する前記電極の電圧を、100V以上かつ前記所定の加速電圧未満とする、
請求項1に記載の試料解析方法。 - 前記水素含有雰囲気における水素分圧が1Pa以上である、
請求項1または請求項2に記載の試料解析方法。 - 前記試料が金属材料である、
請求項1から請求項3までのいずれかに記載の試料解析方法。 - 前記電子線のエネルギーが200eV以上である、
請求項1から請求項4までのいずれかに記載の試料解析方法。 - 前記電子線の照射電流が10pA以上である、
請求項1から請求項5までのいずれかに記載の試料解析方法。 - 前記試料に応力を負荷する工程をさらに備える、
請求項1から請求項6までのいずれかに記載の試料解析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2019074468A JP2019074468A (ja) | 2019-05-16 |
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JP (1) | JP6881218B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20230127466A1 (en) * | 2020-03-02 | 2023-04-27 | National Institute For Materials Science | Device for observing permeation and diffusion path of observation target gas, observation target gas measuring method, point-defect location detecting device, point-defect location detecting method, and observation samples |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08136481A (ja) * | 1994-11-15 | 1996-05-31 | Kobe Steel Ltd | 試料分析装置 |
JP2005243279A (ja) * | 2004-02-24 | 2005-09-08 | Kochi Univ Of Technology | マイクロプラズマ発生装置 |
JP5062405B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2012-10-31 | サンユー電子株式会社 | 電子顕微鏡用の引張装置 |
JP4901662B2 (ja) * | 2007-09-13 | 2012-03-21 | 新日本製鐵株式会社 | 薄鋼板水素脆化評価用試験片及び薄鋼板水素脆化評価方法 |
US9656862B2 (en) * | 2011-02-13 | 2017-05-23 | Indiana University Research And Technology Corporation | High surface area nano-structured graphene composites and capacitive devices incorporating the same |
JP6373568B2 (ja) * | 2013-10-07 | 2018-08-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US9799490B2 (en) * | 2015-03-31 | 2017-10-24 | Fei Company | Charged particle beam processing using process gas and cooled surface |
JP2019045409A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 新日鐵住金株式会社 | 試料解析方法 |
JP2019045411A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 新日鐵住金株式会社 | 試料解析方法 |
JP2019045410A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 新日鐵住金株式会社 | 試料解析方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP2019074468A (ja) | 2019-05-16 |
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