JP6878247B2 - パターン検査方法およびパターン検査装置 - Google Patents
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Description
参照画像の生成工程は、描画パターン内においてフィルタ係数を算出するために選択される少なくとも1か所以上の第1領域に、正常に完了した過去の検査において選択されていた領域に対応する第1検査対象の少なくとも1か所以上の第2領域を、含める工程と、光学画像と描画パターンとが第1および第2領域のそれぞれにおいて略一致するようにフィルタ係数を算出する工程とを含む。
図1は、第1実施形態のパターン検査装置の一例を示す概略図である。パターン検査装置100は、例えば、半導体製造工程で用いられるマスクまたはテンプレートのパターンの欠陥を検査するために用いられる。以下の実施形態では、マスクのパターンの欠陥を検査する装置について説明する。
パターン検査装置100は、XYθテーブル2と、光源3と、偏光ビームスプリッタ4と、光学系5と、フォトダイオードアレイ7と、センサ回路8と、オートローダ9と、X軸モータ10A、Y軸モータ10Bおよびθ軸モータ10Cと、レーザ測長システム12とを備える。
参照系は、マスク1のパターン形成の基となる描画パターンデータに基づいて、マスク1の光学画像に対応する参照画像を生成する。制御系は、マスク1の光学画像と参照画像とを比較してマスク1の欠陥を検出する。
次に、マスク検査装置100を用いたマスク検査方法を説明する。
図2は、第1実施形態によるマスク検査方法の一例を示すフロー図である。本実施形態において、マスク検査装置100は、透過画像と参照画像との比較によってマスク1の欠陥を検査するD−DB(Die to DataBase)検査を行う。
他の基準ポイントが無い場合(S292のNO)、制御計算機30は、すでに相関が高いと判断されたマスク1のポイントを推定ポイントに付加して、フィルタ係数を算出する(S295)。相関が高いと判断されたポイントが無い場合には、制御計算機30は、推定ポイントを付加せずに、オペレータによって選択された推定ポイントを用いてフィルタ係数を算出する。
尚、相関が高いポイント数が上限値を超える場合、制御計算機30は、相関が高いポイントを、相関の高い順に上限値まで推定ポイントに付加すればよい。
Claims (5)
- 第1検査対象の光学画像を取得する光学系と、前記第1検査対象のパターン形成の基となる描画パターンデータに基づいて、前記光学画像に対応する参照画像を生成する参照系と、前記光学画像を用いて前記第1検査対象の欠陥を検出する制御系とを備えたパターン検査装置を用いたパターン検査方法であって、
前記第1検査対象の前記光学画像を取得する工程と、
前記第1検査対象のパターン形成の基となる描画パターンデータに、フィルタ係数を演算して前記光学画像に対応する参照画像を前記参照系において生成する工程と、
前記光学画像と前記参照画像とを比較して前記第1検査対象の欠陥を前記制御系において検出する工程とを具備し、
前記参照画像の生成工程は、
前記描画パターン内において前記フィルタ係数を算出するために選択される少なくとも1か所以上の第1領域に、正常に完了した過去の検査において選択されていた領域に対応する前記第1検査対象の少なくとも1か所以上の第2領域を、含める工程と、
前記光学画像と前記描画パターンとが前記第1および第2領域のそれぞれにおいて略一致するように前記フィルタ係数を算出する工程とを含む、パターン検査方法。 - 前記第1領域に前記第2領域を含める工程は、
前記第1検査対象のパターンと前記過去の検査における第2検査対象のパターンが最小線幅において略同一であるか否か、前記第1および第2検査対象の材質が略同一であるか否か、あるいは、前記第1および第2検査対象が同一半導体装置の製造に用いられるマスクであるか否かを判断する工程と、
前記第2検査対象の過去の検査が正常に完了した検査であるか否かを判断する工程と、
形状、寸法および位置の一部または全てにおいて前記第2検査対象の領域と相関の高い前記第2領域を前記第1領域に含める工程を含む、請求項1に記載のパターン検査方法。 - 前記形状において相関が高いとは、ラインパターン、スペースパターン、ホールパターンのような形状の種類において同一であることを示し、
前記寸法において相関が高いとは、パターンの寸法差が所定の閾値以内であることを示し、
前記位置において相関が高いとは、前記第2検査対象の領域の位置座標が前記第1検査対象の検査領域内にあることを示す、請求項2に記載のパターン検査方法。 - 前記第1領域の数と前記第2検査対象の領域に対して相関の高い前記第2領域の数との総数が所定値以上ある場合、前記第2領域は、前記総数が前記所定値未満となるように、相関の高い順に前記第1領域に含められる、請求項2または請求項3に記載のパターン検査方法。
- 第1検査対象の光学画像を取得する光学系と、
前記第1検査対象のパターン形成の基となる描画パターンデータに、フィルタ係数を演算して前記光学画像に対応する参照画像を生成する参照系と、
前記光学画像と前記参照画像とを比較して前記第1検査対象の欠陥を検出する制御系とを備え、
前記参照系は、前記描画パターン内において前記フィルタ係数を算出するために選択される少なくとも1か所以上の第1領域に、正常に完了した過去の検査において選択されていた領域に対応する前記第1検査対象の少なくとも1か所以上の第2領域を含め、前記光学画像と前記描画パターンとが前記第1および第2領域のそれぞれにおいて略一致するように前記フィルタ係数を算出する、パターン検査装置。
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