JP6877346B2 - 表示基板を製造するための方法、表示基板及び表示装置 - Google Patents
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Description
図面1〜4において、従来技術において蒸着により有機発光層を形成するための概略図が示される。
図面1に示される通りに、マザーボードに複数の基板が含まれ、蒸着源(図面に示されなかった)は第2方向(例えば、y方向)に沿って延びているラインソースであり、且つ、第2方向と交差する第1方向(例えば、x方向)上において移動する。蒸着源における材料は蒸発された後、マスクプレートにより基板毎の所望領域に形成される。
図面2において、従来技術に用いられるマスクプレートの断面図が示される。図面2に示される通りに、マスクプレートにおいて、複数の遮蔽領域11及びそれらの間の透過領域12が含まれてもよい。遮蔽領域11の断面の上辺の長さは、底辺の長さより大きい。また、製造プロセスの制限により、遮蔽領域11の頂部に一定の厚さがあり、即ち、遮蔽領域11の断面には、その上辺に繋がって且つベースの下表面に基本的に垂直する側辺120がある。
蒸着装置において、蒸着源の両側に中間遮蔽板13が設けられ、且つ、中間遮蔽板13とサイド遮蔽板14との間にドーパント材料が設けられる。これにより、図面3に示される通りに蒸着源の蒸着領域15が形成されてもよい。蒸着装置において中間遮蔽板13及びサイド遮蔽板14が設けられた後、形成される蒸着領域15が確定なものである。また、中間遮蔽板13の高さ及び中間遮蔽板13とサイド遮蔽板14との間の距離を適切に調整することにより、形成された蒸着領域15の境界を調整することができる。
従来技術の蒸着過程において、図面4に示される通りに、蒸着源が第1方向(例えば、x方向)に沿って移動している場合に、遮蔽領域11の頂部に一定の厚さがある(即ち、側辺120が存在する)ので、蒸着領域15の第1境界(例えば、図面に示される蒸着領域15の右側境界)がマスクプレート透過領域12内に入ると、蒸着領域15の境界を遮蔽する。従って、蒸着領域15はベース16の下表面の遮蔽領域11に近い部分を蒸着することができない。また、蒸着領域15の第2境界(例えば、図面に示される蒸着領域15の左側境界)が透過領域12から離れる時にも、上記問題が存在する。従って、従来技術の蒸着方法に基づき、透過領域12に形成される有機発光層は、中間領域が比較的に厚く且つ両側領域が比較的に薄い断面形状を有し、これにより、有機発光層の厚さは不均一的なものとなる。形成された単一の画素に対して、それは、異なる領域における発光輝度が異なることを招く。複数の画素に対して、それは、混色(色かぶり)の問題が及ぼされる。
ベースの下表面上に画素定義層を形成することにより画素領域を限定するS1と、
画素定義層の下表面上にスペーサーを形成するS2と、
スペーサーの下にマスクプレートを設けるS3と、
ベースの下表面に平行する第1方向に沿って蒸着源を移動することにより、画素領域において有機発光層を形成するS4と、を含んでもよい。
Claims (8)
- ベースの下表面上に画素定義層を形成することにより画素領域を限定することと、
画素定義層の下表面上にスペーサーを形成することと、
スペーサーの下にマスクプレートを設けることと、
ベースの下表面に平行する第1方向に沿って蒸着源を移動することにより、画素領域において有機発光層を形成することと、
を含む表示基板を製造するための方法であって、
画素定義層の前記第1方向上に画素領域を限定するための側表面とベースの下表面との間の鋭角が第1角度であり、
蒸着源の蒸着領域の前記第1方向上における境界とベースの下表面との間の鋭角が、第2角度であり、前記第2角度が前記第1角度より大きく或いは前記第1角度に等しく、
第1方向上において蒸着源を移動して、画素領域に有機発光層を形成することが始めると、画素定義層の下のスペーサー及びそのスペーサーの下のマスクプレートが蒸着領域の第1境界を遮らなく、且つ、第1方向上において蒸着源を移動して、画素領域に有機発光層を形成することを終了すると、画素定義層の下のスペーサー及びそのスペーサーの下のマスクプレートが蒸着領域の第2境界を遮らないことを特徴とする、方法。 - 蒸着源が、ベースの下表面に平行して且つ前記第1方向に垂直する第2方向に沿って延びているラインソースであり、蒸着源の両側において遮蔽板が設けられることにより、前記蒸着領域の前記第1方向上における境界とベースの下表面との間の鋭角が、第2角度であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 画素定義層及びその下に形成されるスペーサーの前記第2方向上における側表面が、ベースの下表面に垂直することを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記第2角度が前記第1角度に等しいことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 有機発光層を形成する前に、ベースの下表面上に第1電極を形成することを更に含み、且つ、
有機発光層を形成した後に、有機発光層の下表面上に第2電極を形成することを更に含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - ベースと、
画素領域を限定するための、ベースの下表面上に形成する画素定義層と、
画素定義層の下表面上に形成されるスペーサーと、
画素領域の中に形成される有機発光層と、
を含む表示基板であって、
画素定義層のベースの下表面に平行する第1方向上に画素領域を限定するための側表面とベースの下表面との間の鋭角が第1角度であり、且つ、
有機発光層のベースの下表面に垂直して且つ前記第1方向に平行する断面が、台形を呈し、その断面のベースの下表面に近い辺の長さは、その断面のベースの下表面から離れる辺の長さより小さく、
画素定義層及びその下に形成されるスペーサーの、ベースの下表面に平行して且つ前記第1方向に垂直する第2方向上における側表面が、ベースの下表面に垂直することを特徴とする、表示基板。 - ベースの下表面と有機発光層との間に設けられる第1電極と、
有機発光層の下表面上に設けられる第2電極と、
を更に含むことを特徴とする、請求項6に記載の表示基板。 - 請求項6または7に記載の表示基板を含むことを特徴とする、表示装置。
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