JP6860032B2 - パーフルオロアルキン化合物の製造方法 - Google Patents
パーフルオロアルキン化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6860032B2 JP6860032B2 JP2019071725A JP2019071725A JP6860032B2 JP 6860032 B2 JP6860032 B2 JP 6860032B2 JP 2019071725 A JP2019071725 A JP 2019071725A JP 2019071725 A JP2019071725 A JP 2019071725A JP 6860032 B2 JP6860032 B2 JP 6860032B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- mol
- compound represented
- bond
- zinc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 71
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 44
- -1 perfluorocarbon compound Chemical class 0.000 claims description 77
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 64
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 33
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 32
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 20
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 18
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 11
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 9
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001511 metal iodide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N anhydrous quinoline Natural products N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 38
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 35
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 24
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- UNBDDZDKBWPHAX-UHFFFAOYSA-N n,n-di(propan-2-yl)formamide Chemical compound CC(C)N(C=O)C(C)C UNBDDZDKBWPHAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 9
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 9
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 9
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 9
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 238000006298 dechlorination reaction Methods 0.000 description 5
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L zinc fluoride Chemical compound F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L zinc iodide Chemical compound I[Zn]I UAYWVJHJZHQCIE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000005695 dehalogenation reaction Methods 0.000 description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 3
- XDIDQEGAKCWQQP-OWOJBTEDSA-N (e)-2,3-dichloro-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene Chemical compound FC(F)(F)C(\Cl)=C(/Cl)C(F)(F)F XDIDQEGAKCWQQP-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGZVUTYDEVUNMK-UHFFFAOYSA-N 5-carboxy-2',7'-dichlorofluorescein Chemical compound C12=CC(Cl)=C(O)C=C2OC2=CC(O)=C(Cl)C=C2C21OC(=O)C1=CC(C(=O)O)=CC=C21 JGZVUTYDEVUNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GFGAOQYLPGMLRJ-UHFFFAOYSA-N CBrC Chemical compound CBrC GFGAOQYLPGMLRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910021573 transition metal iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- HABIAKDIZVCTLU-UHFFFAOYSA-N 1,3-diazinan-4-one Chemical compound O=C1CCNCN1 HABIAKDIZVCTLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHLVEHXOBBYATA-UHFFFAOYSA-N 5,5-dimethyl-1,3-diazinan-2-one Chemical compound CC1(C)CNC(=O)NC1 YHLVEHXOBBYATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGRYCAMDZAHQMF-UHFFFAOYSA-N CClC Chemical compound CClC WGRYCAMDZAHQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L Calcium iodide Chemical compound [Ca+2].[I-].[I-] UNMYWSMUMWPJLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 101000965172 Glycine max Isocitrate lyase 1 Proteins 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910001640 calcium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940046413 calcium iodide Drugs 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- WBCLXFIDEDJGCC-UHFFFAOYSA-N hexafluoro-2-butyne Chemical compound FC(F)(F)C#CC(F)(F)F WBCLXFIDEDJGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N iodine monobromide Chemical compound IBr CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDJAZCSYYQODQF-UHFFFAOYSA-N iodine monofluoride Chemical compound IF PDJAZCSYYQODQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- CAAULPUQFIIOTL-UHFFFAOYSA-N methyl dihydrogen phosphate Chemical compound COP(O)(O)=O CAAULPUQFIIOTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- SMUQFGGVLNAIOZ-UHFFFAOYSA-N quinaldine Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C)=CC=C21 SMUQFGGVLNAIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/22—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon triple bonds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
項1.一般式(1):
で表されるパーフルオロカーボン化合物の製造方法であって、
有機溶媒中で、含ヨウ素無機材料、並びに亜鉛若しくは亜鉛合金の存在下に、
一般式(2):
で表されるハロゲン化炭化水素化合物を反応させて前記一般式(1)で表されるパーフルオロカーボン化合物を得る工程
を備える、製造方法。
項2.前記含ヨウ素無機材料の使用量が、前記亜鉛若しくは亜鉛合金1モルに対して0.0005モル以上である、項1に記載の製造方法。
項3.前記含ヨウ素無機材料がヨウ素、金属ヨウ化物、及びヨウ素を含むハロゲン間化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種である、項1又は2に記載の製造方法。
項4.一般式(1A):
R1C≡CR2 (1A)
[式中、R1及びR2は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。]
で表されるパーフルオロアルキン化合物の製造方法であって、
N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1.3‐ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アミン化合物、ピリジン化合物及びキノリン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の窒素含有極性有機溶媒中で、亜鉛若しくは亜鉛合金の存在下に、
一般式(2A):
X1R1C=CR2X2 (2A)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。X1及びX2は同一又は異なって、ハロゲン原子を示す。]
で表されるハロゲン化アルケン化合物を反応させて前記一般式(1A)で表されるパーフルオロアルキン化合物を得る工程
を備える、製造方法。
項5.反応温度が0〜250℃である、項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
項6.一般式(1A):
R1C≡CR2 (1A)
[式中、R1及びR2は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。]
で表されるパーフルオロアルキン化合物と、
一般式(3):
R1CH=CHR2 (3)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。]
で表される化合物と
を含有する、組成物。
項7.前記組成物の総量を100モル%として、前記一般式(1A)で表されるパーフルオロアルキン化合物の含有量が85〜99.9モル%である、項6に記載の組成物。
項8.クリーニングガス、エッチングガス又は有機合成用ビルディングブロックとして用いられる、項6又は7に記載の組成物。
本開示の第1の態様におけるパーフルオロアルキン化合物の製造方法は、一般式(1):
で表されるパーフルオロカーボン化合物の製造方法であって、
有機溶媒中で、含ヨウ素無機材料、並びに亜鉛若しくは亜鉛合金の存在下に、
一般式(2):
で表されるハロゲン化炭化水素化合物を反応させて前記一般式(1)で表されるパーフルオロカーボン化合物を得る工程を備える。
一般式(2A):
X1R1C=CR2X2 (2A)
[式中、R1、R2、X1及びX2は前記に同じである。]
で表されるパーフルオロアルケン化合物を基質として、一般式(1A):
R1C≡CR2 (1A)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。]
で表されるパーフルオロアルキン化合物を得る方法と、
一般式(2B):
(R1)2X1C-C(R2)2X2 (2B)
[式中、R1、R2、X1及びX2は前記に同じである。]
で表されるパーフルオロアルカン化合物を基質として、一般式(1B):
(R1)2C=C(R2)2 (1B)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。]
で表されるパーフルオロアルケン化合物を得る方法との双方を包含する。
で表されるハロゲン化炭化水素化合物である。
CF3CCl=CClCF3 → CF3C≡CCF3 + Cl2
CF3CClFCClFCF3 → CF3CF=CFCF3 + Cl2
に従い、脱ハロゲン反応(特に脱塩素反応)であることが好ましい。
で表されるパーフルオロカーボン化合物である。
本開示の第2の態様におけるパーフルオロアルキン化合物の製造方法は、一般式(1A):
R1C≡CR2 (1A)
[式中、R1及びR2は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。]
で表されるパーフルオロアルキン化合物の製造方法であって、
N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジイソプロピルホルムアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1.3‐ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アミン化合物、ピリジン化合物及びキノリン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の窒素含有極性有機溶媒中で、亜鉛若しくは亜鉛合金の存在下に、
一般式(2A):
X1R1C=CR2X2 (2A)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。X1及びX2は同一又は異なって、ハロゲン原子を示す。]
で表されるハロゲン化アルケン化合物を反応させて前記一般式(1A)で表されるパーフルオロアルキン化合物を得る工程を備える。
上記の第1の態様又は第2の態様にしたがって、パーフルオロアルキン化合物を得ることができるが、一般式(1A)で表されるパーフルオロアルキン化合物を含む組成物の形で得られることもある。例えば、一般式(1A)で表されるパーフルオロアルキン化合物と、一般式(3):
R1CH=CHR2 (3)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。]
で表される化合物とを含む組成物(パーフルオロアルキン組成物)として得られることもある。
R3C≡CR4 (4)
[式中、R3及びR4は水素原子を1個有するフルオロアルキル基を示す。]
で表される化合物、一般式(5):
X1R1C=CHR2 (5)
[式中、R1、R2及びX1は前記に同じである。]
で表される化合物を含むこともある。
CF3CCl=CClCF3 → CF3C≡CCF3 + Cl2
に従って、脱塩素反応により、パーフルオロアルキン化合物を得た。
CF3CClFCClFCF3 → CF3CF=CFCF3 + Cl2
に従って、脱塩素反応により、パーフルオロアルケン化合物を得た。
-78℃に冷却したトラップが連結されたコンデンサー付きナスフラスコに10g(0.04mol)のCF3CCl=CClCF3(基質)、45g(0.62mol)のN,N-ジメチルホルムアミド(溶媒)、3.65g(0.056mol)の亜鉛、0.14g(0.0006mol;亜鉛に対して1mol%)のI2を加え、撹拌下、内温が50℃になるまで加熱した。内温が一定になった後、攪拌しながら5時間反応させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は88.73モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が89.70モル%(収率79.6モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が9.27モル%、CF2HC≡CCF2Hが0.26モル%、CF3CF=CHCF3が0.00モル%、CF3CCl=CHCF3が0.57モル%、その他副生成物が合計0.19モル%であった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくN-メチル-2-ピロリドンを用いたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は99.1モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が92.11モル%(収率91.3モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が3.82モル%、CF2HC≡CCF2Hが1.58モル%、CF3CF=CHCF3が0.00モル%、CF3CCl=CHCF3が0.31モル%、その他副生成物が合計2.18モル%であった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくN-メチル-2-ピロリドンを用い、含ヨウ素無機材料としてI2ではなくZnI2を用いたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は99.2モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が91.10モル%(収率90.4モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が0.92モル%、CF2HC≡CCF2Hが1.33モル%、CF3CF=CHCF3が1.10モル%、CF3CCl=CHCF3が1.31モル%、その他副生成物が合計4.24モル%であった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくN-メチル-2-ピロリドンを用い、含ヨウ素無機材料としてI2ではなくNaIを用いたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は98.4モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が92.51モル%(収率91.0モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が1.12モル%、CF2HC≡CCF2Hが1.19モル%、CF3CF=CHCF3が0.41モル%、CF3CCl=CHCF3が0.31モル%、その他副生成物が合計4.46モル%であった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくN-メチル-2-ピロリドンを用い、I2を使用しなかったこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は99.6モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が48.9モル%(収率48.7モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が2.2モル%、CF2HC≡CCF2Hが2.2モル%、CF3CF=CHCF3が1.1モル%、CF3CCl=CHCF3が2.1モル%、その他副生成物が合計43.4モル%であった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくN-メチル-2-ピロリドンを用い、含ヨウ素無機材料としてI2ではなく一塩化ヨウ素(ICL)を用いたこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は99.5モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が93.11モル%(収率92.6モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が3.20モル%、CF2HC≡CCF2Hが0.22モル%、CF3CF=CHCF3が0.22モル%、CF3CCl=CHCF3が0.11モル%、その他副生成物が合計2.51モル%であった。
I2を使用しなかったこと以外は実施例1と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は98.06モル%であり、各成分の選択率は、CF3C≡CCF3が56.20モル%(収率55.1モル%)、1336mzz(CF3CH=CHCF3)が0.24モル%、CF2HC≡CCF2Hが1.03モル%、CF3CF=CHCF3が0.35モル%、CF3CCl=CHCF3が0.47モル%、その他副生成物が合計41.70モル%であった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくキシレンを用いたこと以外は実施例1と同様に処理を行った。しかしながら、反応が全く進行せず、CF3C≡CCF3は得られなかった。
溶媒としてN,N-ジメチルホルムアミドではなくジブチルエーテルを用いたこと以外は実施例1と同様に処理を行った。しかしながら、反応が全く進行せず、CF3C≡CCF3は得られなかった。
-78℃に冷却したトラップが連結されたコンデンサー付きナスフラスコに10g(0.037mol)のCF3CCLF-CCLFCF3(基質)、45g(0.45mol)のN-メチル-2-ピロリドン(溶媒)、2.90g(0.044mol)の亜鉛、0.11g(0.0004mol;亜鉛に対して1mol%)のI2を加え、撹拌下、内温が60℃になるまで加熱した。内温が一定になった後、攪拌しながら5時間反応させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は98.3モル%であり、各成分の選択率は、CF3CF=CFCF3が94.3モル%(収率92.7モル%)、CF3CFHCClFCF3が1.9モル%、CF3CFHCFHCF3が0.65モル%、CF3CH=CFCF3が0.01モル%、その他副生成物が合計3.14モル%であった。
I2を使用しなかったこと以外は実施例6と同様に反応を進行させた。反応終了後、捕集ボンベの気相、液相及び反応液をガスクロトマトグラフィーで分析し、それぞれを考慮して転化率及び選択率を算出したところ、転化率は87.3モル%であり、各成分の選択率は、CF3CF=CFCF3が52.4モル%(収率45.7モル%)、CF3CFHCClFCF3が5.3モル%、CF3CFHCFHCF3が3.1モル%、CF3CH=CFCF3が0.1モル%、その他副生成物が合計39.1モル%であった。
Claims (4)
- 一般式(1):
で表されるパーフルオロカーボン化合物の製造方法であって、
極性有機溶媒中で、金属ヨウ化物、並びに亜鉛若しくは亜鉛合金の存在下に、
一般式(2):
で表されるハロゲン化炭化水素化合物を反応させて前記一般式(1)で表されるパーフルオロカーボン化合物を得る工程
(ただし、一般式(1)におけるnが1である場合は一般式(2)におけるnも1であり、一般式(1)におけるnが2である場合は一般式(2)におけるnも2である)
を備える、製造方法。 - 前記金属ヨウ化物の使用量が、前記亜鉛若しくは亜鉛合金1モルに対して0.0005モル以上である、請求項1に記載の製造方法。
- 一般式(1A):
R1C≡CR2 (1A)
[式中、R1及びR2は同一又は異なって、フッ素原子又はパーフルオロアルキル基を示す。]
で表されるパーフルオロアルキン化合物の製造方法であって、
N-メチル-2-ピロリドン、1,3‐ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロピリミジノン、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリエチルアミン、1-メチルピロリジン、ピリジン化合物及びキノリン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも1種の窒素含有極性有機溶媒中で、亜鉛若しくは亜鉛合金の存在下に、
一般式(2A):
X1R1C=CR2X2 (2A)
[式中、R1及びR2は前記に同じである。X1及びX2は同一又は異なって、ハロゲン原子を示す。]
で表されるハロゲン化アルケン化合物を反応させて前記一般式(1A)で表されるパーフルオロアルキン化合物を得る工程
を備える、製造方法。 - 反応温度が0〜250℃である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019071725A JP6860032B2 (ja) | 2019-04-04 | 2019-04-04 | パーフルオロアルキン化合物の製造方法 |
SG11202111060VA SG11202111060VA (en) | 2019-04-04 | 2020-04-02 | Method for producing perfluoroalkyne compound |
PCT/JP2020/015239 WO2020204146A1 (ja) | 2019-04-04 | 2020-04-02 | パーフルオロアルキン化合物の製造方法 |
KR1020217035954A KR20210149785A (ko) | 2019-04-04 | 2020-04-02 | 퍼플루오로알킨 화합물의 제조 방법 |
CN202080026816.5A CN113661155A (zh) | 2019-04-04 | 2020-04-02 | 全氟炔烃化合物的制造方法 |
TW109111459A TWI808318B (zh) | 2019-04-04 | 2020-04-06 | 全氟炔烴化合物之製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019071725A JP6860032B2 (ja) | 2019-04-04 | 2019-04-04 | パーフルオロアルキン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020169140A JP2020169140A (ja) | 2020-10-15 |
JP6860032B2 true JP6860032B2 (ja) | 2021-04-14 |
Family
ID=72668561
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019071725A Active JP6860032B2 (ja) | 2019-04-04 | 2019-04-04 | パーフルオロアルキン化合物の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6860032B2 (ja) |
KR (1) | KR20210149785A (ja) |
CN (1) | CN113661155A (ja) |
SG (1) | SG11202111060VA (ja) |
TW (1) | TWI808318B (ja) |
WO (1) | WO2020204146A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024034583A1 (ja) * | 2022-08-08 | 2024-02-15 | ダイキン工業株式会社 | ハロゲン化アルケン化合物の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1224323B (it) * | 1988-06-30 | 1990-10-04 | Ausimont Spa | Procedimento per la preparazione di prodotti olefinici coniugati fluorurati e prodotti ottenuti |
JP4010160B2 (ja) * | 2002-03-04 | 2007-11-21 | 旭硝子株式会社 | レジスト組成物 |
JP4973653B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2012-07-11 | 日本ゼオン株式会社 | パーフルオロアルキン化合物の製造方法 |
US8399721B2 (en) * | 2008-12-22 | 2013-03-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method of hydrodechlorination to produce dihydrofluorinated olefins |
US8530709B2 (en) * | 2010-05-21 | 2013-09-10 | Honeywell International Inc. | Process for the production of fluorinated alkenes |
JP2012000842A (ja) * | 2010-06-16 | 2012-01-05 | Asahi Glass Co Ltd | 微細パターンを表面に有する成型体の製造方法 |
CN103420783B (zh) * | 2012-05-22 | 2015-07-15 | 中化蓝天集团有限公司 | 一种1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁炔的制备方法 |
CN106008147B (zh) * | 2016-05-23 | 2018-11-02 | 北京宇极科技发展有限公司 | Z-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的制备方法 |
-
2019
- 2019-04-04 JP JP2019071725A patent/JP6860032B2/ja active Active
-
2020
- 2020-04-02 CN CN202080026816.5A patent/CN113661155A/zh active Pending
- 2020-04-02 SG SG11202111060VA patent/SG11202111060VA/en unknown
- 2020-04-02 WO PCT/JP2020/015239 patent/WO2020204146A1/ja active Application Filing
- 2020-04-02 KR KR1020217035954A patent/KR20210149785A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-04-06 TW TW109111459A patent/TWI808318B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SG11202111060VA (en) | 2021-11-29 |
CN113661155A (zh) | 2021-11-16 |
TWI808318B (zh) | 2023-07-11 |
KR20210149785A (ko) | 2021-12-09 |
TW202104142A (zh) | 2021-02-01 |
WO2020204146A1 (ja) | 2020-10-08 |
JP2020169140A (ja) | 2020-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102556278B1 (ko) | 퍼플루오로알카디엔 화합물의 제조 방법 | |
JPH09500900A (ja) | ヨウ化パーフルオロアルキル類の製造方法 | |
TW202014396A (zh) | 全氟鏈烷二烯化合物的製造方法 | |
JP6860032B2 (ja) | パーフルオロアルキン化合物の製造方法 | |
JP4804762B2 (ja) | フルオロハロゲンエーテルの製造方法 | |
JP2022048291A (ja) | ヨウ化フルオロアルカン及びフルオロオレフィンの製造方法 | |
JP7337759B2 (ja) | パーフルオロアルカジエン化合物の製造方法 | |
EP0450584B1 (en) | Bromination method | |
JP2023021148A (ja) | パーフルオロアルカジエン化合物の製造方法 | |
JP2005213256A5 (ja) | ||
JP2005213256A (ja) | フルオロハロゲンエーテルの製造方法 | |
JP2008127318A (ja) | 含フッ素フルオロスルホニルアルキルビニルエーテルの製造方法 | |
JP2023021141A (ja) | パーフルオロアルカジエン化合物の製造方法 | |
JP3711388B2 (ja) | 含フッ素エーテルの製造方法 | |
CN107108421B (zh) | 制备卤代的部分氟化化合物的方法 | |
WO2001081287A1 (fr) | Procede de preparation de perfluoroalcanones | |
JP4228668B2 (ja) | パーフルオロ(3−メトキシプロペン)の製造法 | |
JP6349329B2 (ja) | 5−フルオロ−1−メチル−3−ジフルオロメチル−1h−ピラゾール−4−カルバルデヒドを調製する方法 | |
JP6435207B2 (ja) | (2,2,2−トリフルオロエチル)ケトンの製造方法 | |
JPH0977700A (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
JP3772263B2 (ja) | 5−メトキシインドリン誘導体の製造方法 | |
JP2018070601A (ja) | ハロゲン化合物の製造方法 | |
TW201806935A (zh) | 含氟吡唑羧酸鹵化物類之製造方法 | |
JP2017202992A (ja) | (トリフルオロメチル)マロン酸エステルの製造方法 | |
JPH07179373A (ja) | 1−ブロモ−2−フルオロエタンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200402 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200630 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200828 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20201013 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20210113 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20210121 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20210126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210309 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6860032 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |