JP6858045B2 - 光走査装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 41
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 306
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 179
- 239000010408 film Substances 0.000 description 208
- 239000000463 material Substances 0.000 description 98
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 description 51
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 47
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 33
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 33
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 21
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 18
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 7
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- -1 gold Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Description
A1.光走査装置の全体構成
図1は、第1実施形態の光走査装置の全体構成を概略的に示す図である。詳細には、図1(A)は光走査装置の平面図、図1(B)は光走査装置の側面図である。第1実施形態の光走査装置は、第1液晶素子100、第2液晶素子200、並びにこれらの接続された駆動装置(図示省略)を含んで構成されている。図示のように、第1液晶素子100と第2液晶素子200とは、互いの主面が略直交するようにして配置されている。
図2は、第1液晶素子の原理的構成について説明するための模式的な平面図である。また、図3は、第1液晶素子の原理的構成について説明するための模式的な断面図である。
まず、一対のガラス基板を複数用意する。例えば、基板上に予めITO(インジウム錫酸化物)膜などの透明導電膜が形成されたものを用いる。透明導電膜の形成方法としてはスパッタ法や真空蒸着法などがある。
図14は、第2液晶素子の構成を示す模式的な平面図である。また、図15は、第2液晶素子の構成を示す模式的な断面図である。なお、図15に示す断面図は図14に示すb−b方向の断面に対応している。各図に示す第2液晶素子200は、基板51、基板52、2つの電極53a、53b、高抵抗膜54、共通電極56、配向膜55、57、液晶層58、シール材59を含んで構成されている。
まず、基板51の一面側に各電極53a、53b、配線部および各取り出し電極63a、63bを形成する(図17(A)参照)。例えば、一面側の全体にITO膜が形成されているガラス基板を用意し、ITO膜をパターニングすることによって各電極53a、53b等が形成される。各電極53a、53bは、相互間の幅Lが例えば100μm程度となるように形成される。
図21は、第2実施形態の光走査装置の構成を示す平面図である。第1実施形態の光走査装置では、第1液晶素子100(100a)が1つの光出射口を有していたところ、第2実施形態の光走査装置における第1液晶素子100bは3つの光出射口41、42、43を有している点と、各光出射口41、42、43のそれぞれに対応付けて3つの第2液晶素子200が配置されている点が主に異なっている。また、各光出射口41、42、43にはそれぞれレンズ40(図13参照)が設けられている。なお、第1実施形態と共通する構成については同一符号を用い、それらの説明については省略する。
図22は、第3実施形態の光走査装置の構成を示す平面図である。第3実施形態の光走査装置は、上記した第2実施形態の光走査装置における第1液晶素子100bに対して、さらに各光出射口41、42、43に対応付けて一対の電極を設けて第1液晶素子100cを構成している点が異なっている。なお、第1実施形態および第2実施形態と共通する構成については同一符号を用い、それらの説明については省略する。
3、19、58:液晶層
5、6、17、18、55、57:配向膜
7:光入射口
8:境界
9:光出射口
11、12、51、52:基板
13a、13b、14、53a、53b:電極
15、16:低屈折率膜
20、59:シール材
21:注入口
22:エンドシール材
23:光ファイバ
33a、33b:鋸波状電極
54:高抵抗膜
56:共通電極
100:第1液晶素子
200:第2液晶素子
300:光源
400:駆動装置
Claims (6)
- 第1液晶素子と、
少なくとも1つの第2液晶素子と、
前記第1液晶素子及び前記第2液晶素子を駆動する駆動装置と、
を含み、
前記第1液晶素子は、
対向配置される第1基板及び第2基板と、
前記第1基板の一面側に設けられる1つ以上の第1電極と、
前記第2基板の一面側に設けられており前記第1電極と対向配置される第2電極と、
前記第1基板と前記第2基板の間に配置される第1液晶層と、
前記第1基板及び前記第2基板の平面視における一端側に設けられており、前記第1液晶層に対して前記第1基板と前記第2基板の各基板面と略平行方向に光を入射させるための光入射口と、
前記第1基板及び前記第2基板の平面視における前記一端側と前記液晶層を挟んで対向する他端側に設けられており、前記液晶層から前記第1基板と前記第2基板の各基板面と略平行方向に光を出射させるための少なくとも1つの光出射口と、
を有し、前記第1電極は、前記光入射口から入射させる光の主進行方向に対して平面視において斜交する電極エッジを1つ以上有しており、
前記第2液晶素子は、
対向配置される第3基板及び第4基板と、
前記第3基板の一面側に設けられ、平面視において相互間に間隙を有して配置される一対の電極と、
前記第3基板の一面側に設けられ、平面視において前記一対の電極の間に配置されて当該一対の電極の各々と接続される高抵抗膜と、
前記第3基板の一面側と前記第4基板の一面側の間に設けられる第2液晶層と、
を含み、前記高抵抗膜のシート抵抗が前記一対の電極のシート抵抗よりも大きく設定されており、
前記第1液晶素子と前記第2液晶素子は、前記第1液晶素子の前記光出射口から出射する前記光が前記第3基板又は前記第4基板を通って前記一対の電極の相互間の前記間隙に入射するように相互に配置される、
光走査装置。 - 前記第1液晶素子は、前記光出射口を複数有しており、
前記第2液晶素子は、前記光出射口の各々に対応して複数設けられている、
請求項1に記載の光走査装置。 - 前記第1液晶素子における複数の前記光出射口のうち少なくとも1つは、前記光入射口から入射させる光の主進行方向に対して平面視において斜交するように配置されている、
請求項2に記載の光走査装置。 - 前記第1液晶素子は、
前記第1基板の一面側において前記第1電極の少なくとも一部を覆って設けられる第1低屈折率膜と、
前記第2基板の一面側において前記第2電極の少なくとも一部を覆って設けられる第2低屈折率膜と、
を更に含み、
前記第1低屈折率膜と前記第2低屈折率膜の各々の屈折率が前記第1液晶層の屈折率よりも相対的に小さい値である、
請求項1〜3の何れか1項に記載の液晶素子。 - 前記第2液晶素子は、
前記第4基板の一面側に設けられ、平面視において前記一対の電極と重なるように配置される共通電極を更に含む、
請求項1〜4の何れか1項に記載の液晶素子。 - 前記第1液晶素子の前記光入射口へ入射させる光を生成する光源を更に含む、
請求項1〜5の何れか1項に記載の光走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017059254A JP6858045B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017059254A JP6858045B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | 光走査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018163214A JP2018163214A (ja) | 2018-10-18 |
JP6858045B2 true JP6858045B2 (ja) | 2021-04-14 |
Family
ID=63860043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017059254A Active JP6858045B2 (ja) | 2017-03-24 | 2017-03-24 | 光走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6858045B2 (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5126869A (en) * | 1990-12-03 | 1992-06-30 | Raytheon Company | Two-dimensional, phased-array optical beam steerer |
JPH05289118A (ja) * | 1992-04-10 | 1993-11-05 | Olympus Optical Co Ltd | 集光点位置調整方法 |
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JPH06148697A (ja) * | 1992-11-04 | 1994-05-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光走査装置とその駆動方法及び製造方法 |
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JP5073150B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2012-11-14 | 旭硝子株式会社 | 光偏向器および光走査装置 |
US7720116B2 (en) * | 2004-01-22 | 2010-05-18 | Vescent Photonics, Inc. | Tunable laser having liquid crystal waveguide |
JP2006162686A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Ricoh Co Ltd | 光偏向素子、該素子を備えた光偏向装置及び画像表示装置 |
JP2013195995A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-30 | Stanley Electric Co Ltd | 光偏向液晶素子 |
CN103777432B (zh) * | 2014-03-04 | 2016-10-05 | 上海交通大学 | 空间光调制器及其光场三维显示系统 |
-
2017
- 2017-03-24 JP JP2017059254A patent/JP6858045B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018163214A (ja) | 2018-10-18 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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