JPH06148697A - 光走査装置とその駆動方法及び製造方法 - Google Patents

光走査装置とその駆動方法及び製造方法

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JPH06148697A
JPH06148697A JP29484092A JP29484092A JPH06148697A JP H06148697 A JPH06148697 A JP H06148697A JP 29484092 A JP29484092 A JP 29484092A JP 29484092 A JP29484092 A JP 29484092A JP H06148697 A JPH06148697 A JP H06148697A
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JP
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light
electric field
optical scanning
scanning device
cell
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JP29484092A
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Yasunaga Yamamoto
泰永 山本
Katsuhiko Kumakawa
克彦 熊川
Keisuke Tsuda
圭介 津田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 機械的動作及び高精度な光学的調整が不要で
あり出力光強度が均一で、極めてコンパクトな光走査装
置を実現する。 【構成】 選択したセル電極の電界の有無または極性に
より任意のセル内の電気光学材料の光軸を光入射方向と
平行な状態から外すことにより、入射光のうち電極面と
平行な振動方向の光成分の一部が電気光学材料のセル壁
面において屈折率の違いにより反射され、これが光入射
方向と垂直な方向に出射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は1つの入射口から入射し
た光線を選択した出射口から出射する機能を有する光走
査装置とその駆動方法及び製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】光走査装置には従来例1としては例えば
レーザプリンタ等に用いられる、レーザを回転ポリゴン
ミラーで走査する光学系がある。この従来例1の原理的
な構成は、レーザ光源から出射した光をコリメータレン
ズを通って平行光線とした後、モータに回転駆動された
ポリゴンミラーで反射し更に結像用のf・θレンズを通
して感光体ドラム等の上に結像するとともに走査を行な
うものである。また従来例2としてLEDプリンタがあ
る。従来例2の原理的な構成は、走査回路からの出力パ
ルスにより、複数個配列されたLEDが順次オンするも
のである。このLED列と近接して感光体ドラム等を配
置して、位置的に対応したLEDの点滅という形で感光
体ドラム上の光走査が行なわれる。また従来例3として
液晶シャッタプリンタがある。従来例3の原理的な構成
は、蛍光灯等の光源と感光体ドラムとの間に液晶シャッ
タの列を配置し、走査回路からのパルスにより複数個配
列された液晶シャッタが順次開閉するものである。この
液晶シャッタ列と近接して感光体ドラム等を配置して、
位置的に対応した液晶シャッタの開閉による光源からの
光の透過という形で感光体ドラム上の光走査が行なわれ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来例1においては、
光学系の調整が容易ではない、光路長も大きく装置をコ
ンパクト化し難い、等の課題が存在する。
【0004】従来例2においては、LED毎に発光強度
がばらつくため、ばらつきを補正するための補正回路と
補正値の記憶回路とが必要になる、という課題が存在す
る。またLEDは点灯時間による発光強度の減少という
劣化特性をもつし、この劣化特性は各LED毎に異なる
ので上記補正値は適時更新する必要性も生じる。
【0005】従来例3においても、光源の上の場所毎の
輝度分布は異なるから、従来例2と同様な光強度補正が
必要である、という課題が存在する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、光入射方向に
対して傾斜面にて接する屈折率異方性を有する電気光学
材料からなるセルを多段に配するとともに、各セルに個
別に電圧印加するための電極を設けるものである。
【0007】
【作用】電界の有無または極性により任意のセル内の電
気光学材料の光軸を光入射方向と平行な状態から外すこ
とにより、入射光のうち電極面と平行な振動方向の光成
分の一部が電気光学材料のセル壁面において屈折率の違
いにより反射され、これが光入射方向と垂直な方向に出
射される。選択したセル電極に所定の電界を加えること
により任意のセルから出射光を得ることができ光走査装
置とするものである。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。図1は本発明の実施例1を示すもので
ある。1は誘電体導波路であり、内部にセル2a〜2c
を有しており、誘電体導波路1のうちセル2a〜2cの
内部と外部では誘電体の性質が異なる。セル内部には印
加電界により光軸方向が変化する誘電体としてネマチッ
ク液晶を封入してある。3a〜3cはセル2a〜2cの
各々を個別に選択して電界を印加するための電極であ
り、4は電極3a〜3cの対向電極となっている。本図
中のセルの数は簡単のため3個であるが、容易に多数段
に拡張できることはいうまでもない。
【0009】印加電界がない場合のネマチック液晶の配
向方向は、図1の2aまたは2cのセル中に長円で描い
たように、入射光の進行方向に平行に配向させておく。
ネマチック液晶材料としては、その常光屈折率が誘電対
導波路1のセル2a〜2cの外部における屈折率に等し
いものを選択する。ネマチック液晶の屈折率異方性は大
きい方が望ましい。印加電界がある場合のネマチック液
晶の光軸は2bのセル中に示したように電極3bの面に
垂直になる。
【0010】以下本実施例1の動作を図2(a)及び
(b)を用いて説明する。図2(a)、(b)ともに図
1を電界印加電極方向からみて、液晶が封入されたセル
のみを描いた簡略した図である。電界印加方向は紙面に
垂直となる。図2(a)はセル2aにのみ電界印加され
た場合を表し、このとき入射光のうち電界印加電極の法
線方向の振動電界をもつ光はセル2aに対して異常光と
なる。従ってセル2aの界面での屈折率変化に基づいて
反射光を得ることができる。セル2aを透過した光はセ
ル2b,2c以下に対しては常光であり、殆ど減衰なく
最終段セルに達する。次にセル2aの印加電界が取り除
かれ、セル2bに電界印加された場合を図2(b)に示
す。このときセル2aに対しては入射光は常光であり、
セル2aを殆ど減衰なく透過する。しかしセル2bに達
する透過光において電界印加電極の法線方向の振動電界
をもつ光はセル2bに対して異常光となる。従ってセル
2bの界面での屈折率変化に基づいて反射光を得ること
ができる。セル2bを透過した光はセル2c以下に対し
ては常光であり、殆ど減衰なく最終段セルに達する。
【0011】上記のように各セルに順次電界印加するこ
とによって、機械的手段を用いずに、順次各セルから本
来の光入射方向及び印加電界方向とは垂直方向に光を取
り出すことができ、コンパクトな光走査装置を実現する
ことができる。
【0012】次に、本発明の実施例2について図3を用
いて説明する。図3において、1は誘電体導波路であ
り、内部にセル2a〜2cを有しており、誘電体導波路
1のうちセル2a〜2cの内部と外部では誘電体の性質
が異なる。セル内部には印加電界により光軸方向が変化
する誘電体として強誘電性液晶を封入してある。3a〜
3cはセル2a〜2cの各々を個別に選択して極性の異
なる電界を印加するための電極であり、4は電極3a〜
3cの対向電極となっている。本図中のセルの数は簡単
のため3個であるが、容易に多数段に拡張できることは
いうまでもない。
【0013】図3の2aまたは2cのセル中に長円で描
いたように、電極3a〜3cに負の電界を印加した場合
の強誘電性液晶の光軸が入射光の進行方向に平行になる
ように強誘電性液晶を配向させておく。長円から出てい
る矢印は強誘電性液晶分子の自発分極ベクトルを示して
おり、これは印加電界のベクトル方向に一致する。強誘
電性液晶材料としては、その常光屈折率が誘電対導波路
1のセル2a〜2cの外部における屈折率に等しいもの
を選択する。強誘電性液晶の屈折率異方性は大きい方が
望ましい。印加電界が正の場合の強誘電性液晶の光軸は
2bのセル中に示したように電極3bの面には平行だが
入射光の進行方向に対しては平行ではなくなる。
【0014】以下本実施例2の動作を図4(a)及び
(b)を用いて説明する。図4(a)、(b)ともに図
3を電界印加電極方向からみて、液晶が封入されたセル
のみを描いた簡略した図である。図4中の強誘電性液晶
の光軸方向を示す長円の中の黒点及び丸十字は自発分極
ベクトルの向きが紙面に垂直に入る方向及び出る方向に
あることを示す。電界印加方向は紙面に垂直になる。図
4(a)はセル2aにのみ正の電界印加されるとともに
他のセルには負の電界印加された場合を表す。このとき
入射光のうち電界印加電極と平行方向の振動電界をもつ
光はセル2aに対して異常光となる。従ってセル2aの
界面での屈折率変化に基づいて反射光を得ることができ
る。またセル2aを透過した異常光はセル2b,2c以
下に対しては常光であり、セル2a内での常光と同様に
殆ど減衰なく最終段セルに達する。次にセル2aの印加
電界が負となり、セル2bの電界印加が正となった場合
を図4(b)に示す。このときセル2aに対しては入射
光は常光であり、セル2aを殆ど減衰なく透過する。し
かしセル2bに達する透過光において電界印加電極と平
行方向の振動電界をもつ光はセル2bに対して異常光と
なる。従ってセル2bの界面での屈折率変化に基づいて
反射光を得ることができる。セル2bを透過した光はセ
ル2c以下に対しては常光であり、殆ど減衰なく最終段
セルに達する。
【0015】上記のように各セルに順次極性の異なる電
界を印加することによって、機械的な手段を用いずに、
順次各セルから本来の入射光の進行方向及び印加電界方
向とは垂直方向に光を取り出すことができ、コンパクト
な光走査装置を実現することができる。また強誘電性液
晶の応答速度は早いので比較的高速な光走査が可能であ
る。
【0016】図5は実施例1及び実施例2における光走
査装置の、入射光進行方向と平行線を法線とする断面図
である。本図中3及び4は図1と図3におけると同様に
電界印加するための電極及び対向電極である。5及び6
は図1と図3におけるセル2a〜2cを包含する誘電体
導波路1であるコア部及びそのクラッド層である。クラ
ッド層はコア部から小角でクラッド層へ入射する光をコ
ア部へ戻すための層であり、その屈折率はコア部よりも
小さい。実施例2においてはセル内の異常光線が徐々に
導波路1の端部に接近するために、これの誘電体導波路
1の外への漏れを抑制するためにクラッド層6の役割は
大きい。7は、図1〜図4では図示しなかったが、本光
走査装置を安定に支持する基板であり、8は本光走査装
置からの反射出力光を結像面に等倍結像するためのロッ
ドレンズアレイである。結像面を光走査装置に近接させ
ればロッドレンズアレイは必ずしも必要ではない。
【0017】なお入射光のうち実施例1においては電界
印加電極面に平行方向の電界振動成分を有する光は、電
界印加状態及び電界無印加状態に関わらず殆ど減衰を受
けることなく最終段セルまで透過するので走査出力され
る反射光量に寄与しない。従って実施例1では、偏光子
や偏光プリズム等を用いることにより、入射光として電
界印加電極面の法線方向の振動電界を有する偏光を用い
てもよい。実施例2においては電界印加電極面の法線方
向の電界振動成分を有する光は、電界印加状態の正負の
方向に関わらず殆ど減衰を受ける事なく最終段セルまで
透過するので走査出力される反射光量に寄与しない。従
って実施例2では、偏光子や偏光プリズム等を用いるこ
とにより、入射光として電界印加電極面に平行方向の振
動電界を有する偏光を用いてもよい。また当然入射光は
コリメートされている方が望ましい。また実施例2にお
いて負電界印加時の強誘電性液晶の光軸が入射光の進行
方向に平行になるような液晶配向としたが、正電界印加
時の光軸が入射光の進行方向に平行になるような液晶配
向としてもよいことはいうまでもない。
【0018】実施例1及び実施例2において反射光強度
変調の方法について説明をする。反射光の有無のみが必
要な2値出力の場合は入射光及び各セル電極印加電界の
強度には変調をかける必要は基本的にはないが、各セル
からの反射光の均一性を保証するためにセル選択電界の
印加と同期させて入射光強度変調の形で補正を行なうの
が一般的である。またこの入射光強度変調を多段階に行
なうことで多階調の反射出力を得ることもできる。以上
のように各セルを1つづつ順次選択して走査する場合に
は実施例1の場合、電界印加に対するセル内材料の光軸
変化の応答速度が低いので反射出力光走査速度も低いも
のとなる。ところが、実施例1及び実施例2におけるセ
ル内に液晶等の屈折率異方性の大きい電気光学材料を用
いた場合でも、予め偏光波の形の入射光を用いた場合
で、選択セルでの反射率は1%程度以下である。従って
セル毎に印加する電界強度を変調すれば、ある程度の階
調性を保ちながら、同時に複数個のセルを選択してこれ
らのセルから反射出力を得ることも可能である。即ち反
射光として用いられる以外のロスがなければ、1つの選
択セルでの最大電界印加時反射率及びそのときの透過率
をR及びT(=1−R)とした場合、理想的には、同時
に選択された複数個のセルのうち1番目の選択セルへの
入射光強度に対するn番目の選択セルでの反射光強度比
はR・T(n-1)となり、このとき1/(T(n-1)−1)の
階調性は保たれる。例えばT=0.99であればn=1
0で少なくとも10.5(20dB)程度の階調性を得
ることができる。このように複数個のセルから同時に反
射光出力を得ることにより光走査速度を実効的に高める
ことが可能になる。またこのとき選択される複数個のセ
ルは互いに隣接し合っている必要性はない。
【0019】次に本発明の光走査装置の製造方法を図6
を用いて説明する。支持基板7(図6(a)の上に対向電
極4を形成図6(b)し、更にクラッド層6を形成する
(図6(c))。クラッド層6上部に所定方向への液晶配
向のために斜方蒸着またはラビング処理等を行った後、
樹脂でコア部としての誘電体導波路を形成し、更にフォ
トリソグラフィによってコア部に平行四辺形に類する形
状の凹部としてセルを形成する(図6(d))。次に別途
支持基板上にセル毎の個別電極3及びクラッド層を設け
るとともに、斜方蒸着やラビング処置等を施した部材9
を張り合わせ、注入溝より液晶を注入及び封止し反射光
が出力される面にクラッド材を付与し、光の入出力面を
研磨して本光走査装置を得る(図6(e))。部材9は引
出した個別電極3にパルスを与えるためのICを実装す
るために(図5参照)幅を広くしてある。図6では対向
電極を有する部材上にコア部を形成したが、逆に、個別
電極を有する部材上にコア部を形成してもよいことは言
うまでもない。
【0020】図7(a)〜(c)はコア部のセル形状を
詳しく描いたものであり、液晶を注入するための排気口
と注入口とを示している。図中破線で描いた平行四辺形
はセル個別の電界印加電極である。図7(a)は1つの
個別電極当りの傾斜した反射面が4面あり、各セル溝が
共通につながっている。このように1電極即ち1セル当
りの反射面を増加することは反射出力光強度を増加する
のに有用である。図7(c)は1つのセル当りの反射面
は2面であり、各セル溝は蛇行しながら図7(a)と同
様に共通につながっており、セル間を繋ぐ溝は光反射を
避けるべき箇所であるから個別電極が覆う事なく、電界
印加されない。図7(b)は各セル毎に液晶の注入口及
び排気口が独立しており、液晶の注入経路が図7(a)
及び(c)に比べて短いので粘性の大きい液晶材料の注
入に適している。
【0021】図8は1組の基板から複数個の光走査装置
を取り出す、多数個取りのための製造方法を示す。支持
基板7の上に対向電極4を形成し、更にクラッド層6を
形成する。クラッド層6上部に所定方向への液晶配向の
ために斜方蒸着またはラビング処理等を行った後、樹脂
でコア部としての誘電体導波路を形成し、更にフォトリ
ソグラフィによってコア部に平行四辺形に類する形状の
凹部としてセルを形成する(図8(a))。他方、別途支
持基板上にセル毎の個別電極3及びクラッド層を設ける
とともに、斜方蒸着やラビング処置等を施した部材9を
張り合わせ、複数個分の光走査装置に対して同時に注入
溝より液晶を注入及び封止した(図8(b))後、個別の
光走査装置として切り出す(図8(c))。更に個別電極
引出し部及び対向電極引出し部を露出するように各部材
の一部を切りとるとともに、反射光が出力される面にク
ラッド材を付与し、光の入出力面を研磨して本光走査装
置を得る(図8(d))。個別電極3にパルスを与えるた
めに個別電極引出し部に対しては直接に駆動用ICを実
装してもよいし、またさらなる引き出し線に接続しても
よい。なお図8において、対向電極を有する部材上にコ
ア部を形成する製造手順であったが、逆に、個別電極を
有する部材上にコア部を形成してもよいことは言うまで
もない。また図9(a)、(b)、(c)は各々図7
(a)、(b)、(c)に示したものと同様のセル形状
の光走査装置において多数個取りを行なう際のセルのパ
ターン例を示したもので、図中一点鎖線は最終的に個々
の光走査装置に分離されるときの切断線を意味する。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、機
械的動作及び高精度な光学的調整が不要であり、元来唯
一の光源を用いるので出力光強度が均一で、極めてコン
パクトな光走査装置を実現することができ、コンパクト
な光プリンタへの応用等、産業上の効果は極めて大であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光走査装置の実施例1の見取図
【図2】本発明の実施例1の動作説明図
【図3】本発明の光走査装置の実施例2の見取図
【図4】本発明の実施例2の動作説明図
【図5】本発明の光走査装置の断面図
【図6】本発明の光走査装置の製造方法
【図7】コア部のセル形状図
【図8】本発明の光走査装置の多数個取りの製造方法
【図9】多数個取りの際のパターン図
【符号の説明】
1 誘電体導波路 2、2a〜2c 電気光学材料を封入したセル 3、3a〜3c 電極 4 対向電極 7 支持基板

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】棒状の光学部材であり、内部に棒の軸に対
    して傾斜した面を有する複数個のセルを有し、前記セル
    の中に常光に対する屈折率がセル外の屈折率に等しい電
    気光学材料が充填され、前記セルは個々に電界印加され
    るための電極を備えるとともにこれによって選択され、
    上記光学部材の一端から入射した光が被選択セルの上記
    傾斜面より前記光学部材の軸とはほぼ垂直方向に反射さ
    れることを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】請求項1の光走査装置において、前記電気
    光学材料が液晶であることを特徴とする光走査装置。
  3. 【請求項3】請求項2の光走査装置において、前記液晶
    材料がネマチック型であることを特徴とする光走査装
    置。
  4. 【請求項4】請求項3の光走査装置において、電界印加
    電極に無印加の時に前記ネマチック型液晶の光軸が長手
    方向即ち入射光の進行方向に平行に配向させてなること
    を特徴とする光走査装置。
  5. 【請求項5】請求項2の光走査装置において、前記液晶
    材料が強誘電性液晶であることを特徴とする光走査装
    置。
  6. 【請求項6】請求項5の光走査装置において、電界印加
    電極に正または負の電界印加時に前記強誘電性液晶の光
    軸が長手方向即ち入射光の進行方向に平行に配向させて
    なることを特徴とする光走査装置。
  7. 【請求項7】請求項1〜6の光走査装置において、1つ
    の個別電極当りの反射面数が4面以上あることを特徴と
    する光走査装置。
  8. 【請求項8】請求項1〜7の光走査装置において、各セ
    ルが相互に溝でつながるとともに、光反射を避けるべき
    界面を有する上記溝については電界印加のための個別電
    極が覆っていないことを特徴とする光走査装置。
  9. 【請求項9】請求項1〜8の光走査装置において、光入
    射端に偏光子または偏光プリスムを備えることを特徴と
    する光走査装置。
  10. 【請求項10】請求項1〜9の光走査装置において、各
    セル選択と同期して入射光強度を変調することにより、
    階調性のある反射出力光を得ることを特徴とする光走査
    装置。
  11. 【請求項11】同時に複数個のセルを選択走査し、これ
    らの被選択セル毎の印加電界強度を変調することによっ
    て、ある程度の階調性を保ちつつ、同時に選択したセル
    の個数倍だけ走査速度を向上する、請求項1〜9の光走
    査装置の駆動方法。
  12. 【請求項12】請求項11の駆動方法において、被選択
    セルの印加電界強度が2種類のみであって、階調性が2
    値であることを特徴とする、請求項1〜9の光走査装置
    の駆動方法。
  13. 【請求項13】支持基板上に共通対向電極及びクラッド
    層を形成するとともに配向処理を行なった一方の部材
    と、IC実装するためにこれより幅の広い支持基板上に
    個別電極及びクラッド層を形成するとともに配向処理を
    行なった他方の部材を用いるものであり、前記2種類の
    部材のいづれかの上に樹脂でコア部としての誘電体導波
    路を形成し、フォトリソグラフィによってコア部に平行
    四辺形に類する形状の凹部としてセルを形成し、残りの
    部材をこれに張り合わせ、注入溝より液晶を注入及び封
    止し反射光が出力される面にクラッド材を付与し、光の
    入出力面を研磨することを特徴とする光走査装置の製造
    方法。
  14. 【請求項14】請求項13の製造方法において、支持基
    板上に共通対向電極及びクラッド層を形成するとともに
    配向処理を行なった一方の部材と、IC実装するために
    これより幅の広い支持基板上に個別電極及びクラッド層
    を形成するとともに配向処理を行なった他方の部材が、
    ともに多数個取りできるように複数個の光走査装置を形
    成するものであり、前記2種類の部材のいづれかの上に
    樹脂でコア部としての誘電体導波路を形成し、フォトリ
    ソグラフィによってコア部に平行四辺形に類する形状の
    凹部としてセルを形成し、残りの部材をこれに張り合わ
    せ、注入溝より液晶を複数個の光走査装置分をまとめて
    注入及び封止した後に、各光走査装置を切り出し、更に
    電界印加電極引出し線が露出するように上記各部材の一
    部を切りとり、反射光が出力される面にクラッド材を付
    与し、光の入出力面を研磨することを特徴とする光走査
    装置の製造方法。
  15. 【請求項15】請求項13及び14の製造方法におい
    て、コア部にセルとして形成される平行四辺形に類する
    形状の凹部が複数個のセル間で溝を介してつながってい
    るパターン用いることを特徴とする、光走査装置の製造
    方法。
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JP (1) JPH06148697A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018163214A (ja) * 2017-03-24 2018-10-18 スタンレー電気株式会社 光走査装置

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