JP6855702B2 - 光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、及び液晶表示装置用バックライトユニット - Google Patents

Description

本発明は、光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、及び液晶表示装置用バックライトユニットに関する。

光反射フィルムは、液晶表示装置用バックライトユニットや照明器具の反射部材として用いられている。例えば、液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルムは、装置の省電力化の要求から、少しでも多くの光を液晶表示パネルに供給するために、高い反射率を有することが求められている。

銀層（金属反射層）を有する光反射フィルムの可視光領域の反射率を高めるために、銀層上に、低屈折率層と高屈折率層を積層した反射フィルム（例えば特許文献１参照）や、銀層上に、中屈折率層と高屈折率層を積層した反射フィルム（例えば特許文献２参照）が提案されている。

これらの反射フィルムにおける高屈折率層は、高屈折率粒子と、硬化性樹脂とを含む高屈折率層用塗布液の塗膜を、乾燥及び硬化させて形成される。

特開２００８−３９９６０号公報 特開２０１０−２３１１５５号公報

しかしながら、特許文献１及び２では、高屈折率層用塗布液の塗膜を乾燥させる際に、乾燥の進行に伴い、塗膜の厚みが徐々に薄くなるにつれ、高屈折率粒子同士が近接しやすく、凝集しやすい。それにより、凝集した高屈折率粒子が塗膜の表面から突出したり、凝集した高屈折率粒子が塗布液をはじいたりするという問題があった（図３参照）。特に、高屈折率層用塗布液の塗膜の厚みが薄い場合、高屈折率粒子の粒径が高屈折率層の厚みに対して相対的に大きくなることから、高屈折率粒子の突出やハジキを一層生じやすい。そのような高屈折率粒子の突出やハジキが多い高屈折率層は表面平滑性が低いため、光干渉効果が得られにくく、反射率を十分には高めることができない。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、高屈折率層用塗布液の塗膜の乾燥工程における高屈折率粒子の凝集を抑制し、高い反射率を有する光反射フィルムを提供することを目的とする。

［１］ 基材Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃと、波長５７０ｎｍの光の屈折率が前記低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率よりも高い高屈折率層Ｄとをこの順に含み、前記高屈折率層Ｄが、高屈折率粒子と、バインダ樹脂と、界面活性剤とを含む、光反射フィルム。
［２］ 前記高屈折率粒子の平均粒径をｄ（ｎｍ）、前記高屈折率層Ｄの厚みをｔ_Ｈ（ｎｍ）としたとき、ｔ_Ｈ／ｄが２以上１０以下である、［１］に記載の光反射フィルム。
［３］ 前記高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、［１］又は［２］に記載の光反射フィルム。
［４］ 前記界面活性剤は、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、又はフッ素−シリコーン系界面活性剤である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光反射フィルム。
［５］ 前記界面活性剤の含有量は、前記高屈折率層Ｄの全質量に対して０．１質量％以上５質量％以下である、［１］〜［４］のいずれかに記載の光反射フィルム。
［６］ 前記バインダ樹脂は、硬化性樹脂の硬化物である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光反射フィルム。
［７］ 基材Ａと、金属反射層Ｂの積層物を準備する工程と、前記積層物の前記金属反射層Ｂ上に、樹脂を含む塗布液をダイ法にて塗布した後、乾燥又は硬化させて低屈折率層Ｃを形成する工程と、前記低屈折率層Ｃ上に、高屈折率粒子と、バインダ樹脂と、界面活性剤とを含む塗布液をダイ法にて塗布した後、乾燥又は硬化させて、波長５７０ｎｍの光の屈折率が前記低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率よりも高い高屈折率層Ｄを形成する工程とを含む、光反射フィルムの製造方法。
［８］ 光源と、［１］〜［６］のいずれかに記載の光反射フィルムとを含む、液晶表示装置用バックライトユニット。

本発明によれば、高屈折率層用塗布液の塗膜の乾燥工程における高屈折率粒子の凝集を抑制し、高い反射率を有する光反射フィルムを提供することができる。

図１は、本発明の光反射フィルムの一例を示す模式図である。 図２は、本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。 図３は、従来の光反射フィルムにおける高屈折率層の近傍を示す断面図である。

本発明者らは、高屈折率層用塗布液に界面活性剤を含有させることで、高い表面平滑性を有する高屈折率層を得ることができ、可視光領域の反射率（又は輝度）を効果的に高め得ることを見出した。

この理由は明らかではないが、以下のように推測される。即ち、界面活性剤が高屈折率粒子の表面張力を低下させるので、高屈折率層用塗布液の塗膜の乾燥の進行に伴って高屈折率粒子が近接しても、粒子同士の凝集を高度に抑制することができる。その結果、高屈折率粒子の凝集に起因する高屈折率層表面への高屈折率粒子の突出や、高屈折率粒子が液をはじくことによるピンホールの発生を抑制しうる。それにより、高屈折率層の厚みを薄くしても、表面平滑性が高い高屈折率層を得ることができる。このような表面平滑性が高い高屈折率層は、不要な光散乱が少なく、光干渉効果を高めることができるので、高い反射率を得ることができる。本発明は、このような知見に基づきなされたものである。

１．光反射フィルム
本発明の光反射フィルムは、基材Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃと、高屈折率層Ｄとをこの順に含む。

１−１．基材Ａ
基材Ａは、例えば樹脂フィルムであり得る。樹脂フィルムの例には、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、フッ素樹脂フィルム、セルロースエステルフィルム、ポリシクロオレフィンフィルム等が含まれる。中でも、耐熱性や強度が良好である点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリプロピレンフィルムが好ましい。

樹脂フィルムは、透明であってもよいし、透明でなくてもよい。高い耐候性を得る観点では透明樹脂フィルムが好ましい。

基材Ａの厚みは、１０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。基材Ａの厚みが１０μｍ以上であると、基材Ａが十分な強度を有するので、取り扱いやすいだけでなく、表面平滑性も損なわれにくい。基材Ａの厚みは、２０μｍ以上２５０μｍ以下であることがより好ましい。

１−２．金属反射層Ｂ
金属反射層Ｂは、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕ及びそれらの合金からなる群より選ばれる一以上を主成分として含む。中でも、高い反射率を有する点では、金属反射層Ｂは、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ又はそれらの合金を主成分として含むことが好ましく、Ａｇ又はその合金を主成分として含むことがより好ましい。主成分として含むとは、金属反射層Ｂに対する含有量が９０原子％以上、好ましくは９９．９原子％以上であることをいう。

金属反射層ＢがＡｇ又はその合金を主成分として含む場合、金属反射層Ｂは、Ａｇ又はその合金以外の他の金属をさらに含んでもよい。他の金属の例には、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕ及びそれらの合金が含まれ、好ましくはＡｕ、Ｐｔ又はそれらの合金であり得る。

金属反射層Ｂの厚みは、反射率の点から、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。金属反射層Ｂの厚みが３０ｎｍ以上であると、透過光の割合が増大することによる反射率の低下を抑制できる。金属反射層Ｂの厚みが２００ｎｍ以下であると、製造コストの増大を抑制しうる。金属反射層Ｂの厚みは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、８０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

金属反射層Ｂの波長４００〜７００ｎｍでの表面反射率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。金属反射層Ｂの表面反射率は、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ−４１００により測定することができる。

１−３．低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄ
低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄは、金属反射層Ｂの、主に波長４３０〜４７０ｎｍ領域の光の反射率を高めることによって、可視光領域の反射率（又は輝度）を高めると共に反射光の色味をニュートラルに調整する機能を有する。なお、本明細書において、「低屈折率層」及び「高屈折率層」なる用語は、隣接した２層の波長５７０ｎｍの光の屈折率を比較した場合に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層とすることを意味する。また、高屈折率層を構成する成分（以下、高屈折率層成分）と低屈折率層を構成する成分（以下、低屈折率層成分）とが、二つの層の界面で混合され、高屈折率層成分と低屈折率層成分とを含む層（混合層）が形成される場合がある。この場合、混合層において、高屈折率層成分が５０質量％以上である部位の集合を高屈折率層とし、低屈折率層成分が５０質量％を超える部位の集合を低屈折率層とする。

即ち、高屈折率層Ｄの波長５７０ｎｍの光の屈折率は、低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率よりも高い。高屈折率層Ｄと低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率の差は、十分に色度を調整できる点では、０．３以上であることが好ましく、０．４以上であることがより好ましく、０．５以上１．１０以下であることがさらに好ましい。

低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄによる増反射機能を高めるためには、低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍでの屈折率をｎ_Ｌ、厚みをｔ_Ｌとし、高屈折率層Ｄの波長５７０ｎｍでの屈折率をｎ_Ｈ、厚みをｔ_Ｈとしたとき、下記式（１）と（２）を同時に満たすことが好ましい。
式（１）：３５０＜８ｔ_Ｌ・ｎ_Ｌ＜７３０（好ましくは４００＜８ｔ_Ｌ・ｎ_Ｌ＜６００）
式（２）：３５０＜４ｔ_Ｈ・ｎ_Ｈ＜７３０（好ましくは４００＜４ｔ_Ｈ・ｎ_Ｈ＜６００）

１−３−１．低屈折率層Ｃ
低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率ｎ_Ｌは、より低い屈折率であることが好ましいが、例えば１．８５以下であることが好ましく、１．３０以上１．７０以下であることがより好ましい。低屈折率層Ｃの屈折率ｎ_Ｌは、主に低屈折率層Ｃに含まれる材料の屈折率や、低屈折率層Ｃの密度で調整される。

低屈折率層Ｃの屈折率ｎ_Ｌは、光反射フィルムの波長５７０ｎｍの光の屈折率を、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬにて測定することによって求めることができる。特に、波長２００〜８００ｎｍの範囲で測定することで、精度良く測定することができる。

低屈折率層Ｃは、Ｓｉの酸化物（例えばＳｉＯ_２）、Ｓｉの窒化物（例えばＳｉ_３Ｎ_４）、及びＳｉの酸窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）等の無機材料を主成分とする無機物層であってもよいし、樹脂を主成分とする樹脂層であってもよい。中でも、生産効率やコストの観点から、低屈折率層Ｃは、樹脂を主成分とする樹脂層であることが好ましい。

低屈折率層Ｃに含まれる樹脂は、低屈折率層Ｃに適した屈折率を有する樹脂であればよく、熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物である。

熱可塑性樹脂の例には、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリエステル系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、及びセルロース系樹脂等が含まれる。中でも、アクリル系樹脂及びポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。

アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体又は（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な他の単量体との共重合体であり得る。

（メタ）アクリル酸エステルは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルであることが好ましく、メタクリル酸メチル又はアクリル酸エチルであることがより好ましい。

（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な他の単量体の例には、他の（メタ）アクリル酸アルキルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸；２−ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル；スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物；ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド等のアルコキシ基含有（メタ）アクリルアミドが含まれる。他の単量体は、一種類で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

共重合体における他の単量体由来の構成単位の含有割合は、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。

アクリル系樹脂の例には、ポリメチルメタクリレート、及びメタクリル酸メチル・スチレン・アクリルアミド・アクリル酸２−ヒドロキシエチルの共重合体が含まれる。

ポリビニルアルコール系樹脂の例には、Ｎｉｃｈｉｇｏ Ｇ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＯＫＳ−８０４９（日本合成化学製、ビニルアルコール系樹脂）が含まれる。

硬化性樹脂の硬化物は、硬化性樹脂を、後述する硬化剤により硬化（架橋）させたものである。硬化性樹脂は、電子線（熱、ＵＶ）により硬化する樹脂であればよく、２５℃で液状の硬化性樹脂であることが好ましい。

硬化性樹脂の例には、官能基含有アクリル系樹脂及びポリオール等が含まれる。

官能基含有アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルと官能基含有共重合モノマーとの共重合体であり得る。官能基含有共重合モノマーの例には、前述の（メタ）アクリル酸エステルと共重合可能な他の単量体との共重合体を構成する他の単量体のうち、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル、アルコキシ基含有アクリルアミド及びα，β−不飽和酸等が含まれる。

ポリオールは、ポリエステルポリオール又はポリエーテルポリオールである。ポリオールの例には、特許第５７６５５１０号公報に記載の樹脂（Ａ）と同様のものが含まれる。

中でも、耐湿性や耐熱性に優れることから、低屈折率層Ｃに含まれる樹脂は、硬化性樹脂の硬化物であることが好ましい。

熱可塑性樹脂や硬化性樹脂の重量平均分子量は、塗布可能な程度であればよく、例えば１０００〜５０万であり得る。重量平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーにより測定することができる。

低屈折率層Ｃの厚みｔ_Ｌは、増反射させる光の波長域によるが、例えば可視光領域の反射率を高める点では、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。厚みｔ_Ｌが１０ｎｍ以上であると、可視光領域の反射率（又は輝度）を高めやすく、１００ｎｍ以下であると、色度をニュートラル又は青みよりに調整しやすい。低屈折率層Ｃの厚みｔ_Ｌは、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

低屈折率層Ｃの厚みｔ_Ｌは、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定することができる。

１−３−２．高屈折率層Ｄ
高屈折率層Ｄの波長５７０ｎｍの光の屈折率ｎ_Ｈは、低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率ｎ_Ｌよりも高い範囲で、より高い屈折率であることが好ましく、例えば１．６以上であることが好ましく、１．７０超２．４以下であることがより好ましい。高屈折率層Ｄの屈折率ｎ_Ｈは、主に高屈折率層Ｄに含まれる材料の屈折率や高屈折率層Ｅの密度で調整される。

高屈折率層Ｄの屈折率ｎ_Ｈは、光反射フィルムの高屈折率層Ｄの波長５７０ｎｍの光の屈折率を、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定することによって求めることができる。

高屈折率層Ｄは、高屈折率粒子と、バインダ樹脂と、界面活性剤とを含む。

高屈折率粒子は、波長５７０ｎｍの光の屈折率が２．０以上２．７以下である微粒子であることが好ましい。そのような微粒子の例には、酸化チタン（２．３４）、硫化亜鉛、酸化ジルコニウム（２．０６）、酸化アルミニウム又は酸化銅等の金属化合物微粒子や、亜鉛、クロム、タングステン等の金属微粒子が含まれる。

高屈折率粒子の形状は、特に制限はないが、主に球状である。高屈折率粒子の平均粒子径ｄは、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径ｄが５ｎｍ以上であると、高屈折率層Ｄの屈折率を一定以上に調整しやすい。高屈折率粒子の平均粒子径ｄが２０ｎｍ以下であると、高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈに対して高屈折率粒子の平均粒径ｄが相対的に小さくなりやすいので、高屈折率層Ｄの表面への突出やハジキを抑制しやすい。その結果、得られる光反射フィルムの光干渉効果を高めやすいので、反射率を高めやすい。高屈折率粒子の平均粒子径ｄは、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることがより好ましい。

高屈折率粒子の平均粒子径ｄは、以下の手順で測定することができる。まず、光反射フィルムを、樹脂成分を溶解する有機溶剤に溶解させて、高屈折率層Ｄから高屈折率粒子を分離回収する。分離回収した高屈折率粒子の平均粒子径ｄを、ＳＥＭにより測定する。ＳＥＭ観察は、日立ハイテクノロジー社製ｓ−４８００を用いて、倍率５０万で行い；得られた画像データから２０個の粒子径の平均値を求めて、平均粒子径とする。

高屈折率粒子の含有量は、高屈折率層Ｄの屈折率が上記範囲となるように設定されればよく、例えば高屈折率層Ｄの全質量に対して３０質量％以上６０質量％以下とし得る。

バインダ樹脂は、高屈折率粒子を定着させる機能を有する、熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物である。高屈折率層Ｄに含まれる熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物は、低屈折率層Ｃに含まれる熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物と同様のものを用いることができる。中でも、バインダ樹脂は、高屈折率層Ｄの耐傷性や耐湿性を高める観点から、硬化性樹脂の硬化物であることが好ましい。

界面活性剤の例には、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、フッ素−シリコーン系界面活性剤、及びポリオキシエーテル系界面活性剤等が含まれる。

フッ素界面活性剤は、フルオロカーボン鎖（例えばパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロオキシフルオロアルキル基、及びパーフルオロオキシフルオロアルキレン基）を有する界面活性剤である。フルオロカーボン鎖（例えばパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロオキシフルオロアルキル基、及びパーフルオロオキシフルオロアルキレン基）の炭素原子数は、レベリング性を高める観点では大きい（長鎖である）ことが好ましく、４以上３０以下であることが好ましく、６以上２５以下であることがより好ましい。フルオロカーボン鎖は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。フッ素系界面活性剤は、重合性官能基をさらに有してもよい。重合性官能基は、エチレン性不飽和結合であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基であることがより好ましい。

フッ素系界面活性剤の例には、パーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリレートと他の共重合可能な単量体との共重合体、及びパーフルオロオキシフルオロアルキル基含有（メタ）アクリレートと他の共重合可能な単量体との共重合体が含まれる。フッ素系界面活性剤の市販品の例には、ＤＩＣ社製のメガファックＦ−１１４、Ｆ−４１０、Ｆ−４４４、Ｆ−４３０、Ｆ−４７７、Ｆ−５５２、Ｆ−５５３、Ｆ−５５４、Ｆ−５５５、Ｒ−９４、Ｆ−５５６、Ｆ−５５８、ＲＳ−７２−Ｋ、ＲＳ−７５、ＲＳ−７６−Ｅ、ＲＳ−７６−ＮＳ、ＲＳ−７７；信越化学工業社製のＫＹ−１２００、Ｘ−７１−１２０３Ｍ等が含まれる。

シリコーン系界面活性剤は、シロキサン結合を有する界面活性剤である。シリコーン系界面活性剤の例には、ポリエーテル変性シリコーン及びそのアルキル変性物が含まれる。シリコーン系界面活性剤の市販品の例には、信越化学工業社製のＫＦシリーズ；東レ・ダウコーニング・シリコーン社製のＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ９４ＰＡ；ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３３３等が含まれる。

フッ素−シリコーン系界面活性剤は、シロキサン結合とフルオロカーボン鎖とを有するフッ素−シロキサングラフト化合物であり得る。フッ素−シロキサングラフト化合物は、フッ素系樹脂に、ポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサン（シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含む）をグラフトして得られる共重合体をいう。フッ素−シリコーン系界面活性剤の市販品の例には、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等が含まれる。

ポリオキシエーテル系界面活性剤の例には、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、及びポリオキシエチレンジステアレート等が含まれる。

中でも、高屈折率粒子との親和性が良く、塗膜乾燥時の高屈折率粒子の凝集を高度に抑制できる点ではシリコーン系界面活性剤が好ましく；高屈折率層Ｄに耐水性を付与して、湿熱耐性を高めやすい観点では、フッ素系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤は、ブリードアウトを高度に抑制できる観点から、重合性官能基を有するフッ素系界面活性剤であることが好ましい。塗膜乾燥時の高屈折率粒子の凝集抑制と、高屈折率層Ｄの湿熱耐性の向上とをバランスよく両立し得る観点では、フッ素−シリコーン系界面活性剤が好ましい。

界面活性剤の含有量は、高屈折率層Ｄの全質量に対して０．００１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。界面活性剤の含有量が０．００１質量％以上であると、高屈折率粒子の凝集に起因するハジキやムラを十分に抑制し得る。従って、得られる光反射フィルムの干渉効果を高めやすく、反射率を高めやすい。界面活性剤の含有量が１０質量％以下であると、例えばバインダ樹脂の硬化不良や光学特性の低下を少なくし、低屈折率層Ｃとの密着性も損なわれにくくし得る。界面活性剤の含有量は、高屈折率層Ｄの全質量に対して０．０１質量％以上５質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることがさらに好ましい。界面活性剤は、一種類であってもよいし、二種類以上を併用してもよい。

高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈと高屈折率粒子の平均粒径ｄは、ｔ_Ｈ／ｄが２以上１０以下となるように設定されることが好ましい。ｔ_Ｈ／ｄが２以上であると、高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈに対して高屈折率粒子の平均粒径ｄが大きくなり過ぎないので、高屈折率層Ｄの表面への高屈折率粒子の突出やハジキを抑制しやすく、光干渉効果を高めやすい。一方、ｔ_Ｈ／ｄが１０以下であると、光干渉効果を損なうことなく、光反射フィルムを薄型化できる。ｔ_Ｈ／ｄは、３以上８以下であることがより好ましい。本発明は、ｔ_Ｈ／ｄが１０以下、好ましくは６以下となるような場合（高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈが高屈折率粒子の平均粒径ｄに対して相対的に薄い場合）であっても、塗膜の乾燥工程での高屈折率粒子の凝集を高度に抑制できる。

高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈは、例えば可視光領域の反射率を高める点では、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。厚みｔ_Ｈが１０ｎｍ以上であると、可視光領域の反射率（又は輝度）を高めやすく、１００ｎｍ以下であると、色度をニュートラル又は青みよりに調整しやすい。高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈは、１０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈは、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定することができる。

高屈折率層Ｄは、後述するように、高屈折率粒子、バインダ樹脂、及び界面活性剤を含む高屈折率層用塗布液の塗膜を乾燥及び必要に応じて硬化させて形成することができる。

１−４．その他の層
本発明の光反射フィルムは、本発明の効果を損なわない範囲で、他の層をさらに含んでいてもよい。他の層の例には、アンカー層Ｅが含まれる。

アンカー層Ｅは、基材Ａと金属反射層Ｂとの間に配置され、金属反射層Ｂを均一に形成しやすくし、且つ基材Ａと金属反射層Ｂとの密着性を高める機能を有する。

アンカー層Ｅは、樹脂を主成分として含む。アンカー層Ｅに含まれる樹脂は、熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物である。アンカー層Ｅに含まれる熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物は、低屈折率層Ｃに含まれる熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂の硬化物と同様のものを用いることができる。中でも、耐候性等に優れる点から、硬化性樹脂の硬化物が好ましく、官能基含有アクリル系樹脂の硬化物がより好ましい。

アンカー層Ｅの厚みは、０．０１μｍ以上３μｍ以下であることが好ましい。アンカー層Ｅの厚みが０．０１μｍ以上であると、金属反射層Ｂを均一に形成しやすく、且つ基材Ａと金属反射層Ｂとの密着性を十分に高めやすい。アンカー層Ｅの厚みが３μｍ以下であると、アンカー層Ｅの膜厚均一性や、色度及び輝度が損なわれにくい。アンカー層Ｅの厚みは、０．１μｍ以上１μｍ以下であることがより好ましい。

１−５．積層構造
本発明の光反射フィルムに含まれる低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄは、それぞれ１つであってもよいし、複数あってもよい。複数の低屈折率層Ｃは、互いに同じであっても異なってもよく、複数の高屈折率層Ｄは、互いに同じであっても異なってもよい。金属反射層Ｂ側から、低屈折率層Ｃと高屈折率層Ｄがこの順序で合計２ｍ層（ｍは１以上の整数）積層されていればよい。複数の高屈折率層Ｄのうち一部又は全部が、前述の界面活性剤を含むことが好ましい。

本発明の光反射フィルムの積層構造の例には、以下の態様が含まれる。以下の態様において、Ａは基材Ａ、Ｂは金属反射層、Ｃは低屈折率層、Ｄは高屈折率層、Ｅはアンカー層である。以下の態様において、右側が光入射側に相当する。
Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
Ａ／Ｅ／Ｂ／Ｃ／Ｄ
Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｄ

図１は、本発明の光反射フィルムの一例を示す模式図である。図１に示されるように、光反射フィルム１０は、基材Ａ１１と、アンカー層Ｅ１３と、金属反射層Ｂ１５と、低屈折率層Ｃ１７と、高屈折率層Ｄ１９とをこの順に含む。光反射フィルム１０は、高屈折率層Ｄ１９が光入射側となるように用いられる。

このような光反射フィルム１０では、高屈折率層Ｄ１９から光が入射し、低屈折率層Ｃ１７を通過し、金属反射層Ｂ１５の表面で反射される。金属反射層Ｂ１５の表面で反射された光は、低屈折率層Ｃ１７と高屈折率層Ｄ１９を通過して外部に放出される。本発明では、高屈折率層Ｄ１９の表面近傍の高屈折率粒子の突出やハジキが抑制されており、高屈折率層Ｄ１９は高い表面平滑性を有する。それにより、低屈折率層Ｃ１７通過した反射光の光干渉効果が十分に高められるので、色味をニュートラルに調整しつつ、可視光領域の光の反射率又は輝度を高めることができる。また、高屈折率層Ｄ１９の低屈折率層Ｃ１７との密着性も良好であるため、湿熱耐久後の高屈折率層Ｄ１９の剥がれを抑制でき、反射率の低下を抑制できる。

１−６．物性
（平均反射率）
本発明の光反射フィルムの、波長４００〜７５０ｎｍでの平均反射率は、例えば９５％以上でありうる。このような平均反射率を有する光反射フィルムは、例えば液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルムとして好適である。

光反射フィルムの平均反射率は、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、入射角５°の条件で測定することができる。

本発明の光反射フィルムの厚みは、例えば１０〜５００μｍとすることができ、１０〜３００μｍであることが好ましく、２０〜１５０μｍであることがより好ましい。

２．光反射フィルムの製造方法
本発明の光反射フィルムは、任意の方法で製造することができ、例えば１）基材Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃとをこの順に含む積層物を得る工程と、２）得られた積層物の低屈折率層Ｃ上に、高屈折率層用塗布液を塗布した後、乾燥及び必要に応じて硬化させて、高屈折率層Ｄを形成する工程とを経て製造することができる。

低屈折率層Ｃが樹脂層である場合、前述の１）の工程は、１−１）基材Ａと金属反射層Ｂの積層物を得る工程と；１−２）該積層物の金属反射層Ｂ上に、樹脂を含む塗布液を塗布した後、乾燥又は硬化させて、低屈折率層Ｃを形成する工程とを含むことが好ましい。

１−１）の工程について
基材Ａと、金属反射層Ｂと、低屈折率層Ｃとをこの順に含む積層物は、例えば、前述の基材Ａ上に金属反射層Ｂと低屈折率層Ｃを順次積層して得ることができる。

金属反射層Ｂを形成する前に、必要に応じて基材Ａの表面にアンカー層Ｅを予め形成してもよい。アンカー層Ｅは、アンカー層用塗布液を塗布した後、乾燥及び必要に応じて硬化させて形成することができる。

アンカー層用塗布液は、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を含み、必要に応じて溶媒をさらに含んでもよい。アンカー層用塗布液に含まれる硬化剤や溶媒は、後述する低屈折率層用塗布液に含まれる硬化剤や溶媒とそれぞれ同様のものを用いることができる。

金属反射層Ｂは、真空製膜法で形成することができる。真空製膜法の例には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法及びスパッタ法が含まれる。中でも、コスト面で有利である点から、真空蒸着法がより好ましい。

１−２）の工程について
低屈折率層Ｃは、低屈折率層用塗布液の塗膜を、乾燥及び必要に応じて硬化させて形成することができる。低屈折率層用塗布液は、前述の熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂と、必要に応じて硬化剤と溶媒とを含んでもよい。

硬化剤（架橋剤）の例には、メラミン化合物やイソシアネート化合物が含まれる。

メラミン化合物は、ブチル化メラミン樹脂であることが好ましい。ブチル化メラミン樹脂は、メラミンとアルデヒド成分（ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等）との付加反応生成物であるメチロール化メラミン樹脂中のメチロール基の一部又は全部を、ｎ−ブチルアルコール又はイソブチルアルコールでエーテル化したものである。そのようなメラミン化合物の例には、ユーバン２０−ＳＥ−６０（ｎ−ブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン２０２１（ｎ−ブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン２２０（ｎ−ブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン２２Ｒ（ｎ−ブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン１６５（イソブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン１１４（イソブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン６２（イソブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）、ユーバン６０Ｒ（イソブチル化変性メラミン樹脂、三井化学社製）等が含まれる。

イソシアネート化合物の例には、芳香族環を有する３価以上のポリイソシアネートと、芳香族環を有しないポリイソシアネートとの混合物が含まれる（例えば特許第５７６５５１０号参照）。イソシアネート化合物の市販品の例には、タケネートＤ１１０Ｎ（ＸＤＩ系ポリイソシアネート、三井化学社製）、タケネートＤ−１７８Ｎ（ヘキサメチレンジイソシアネートのアロファネート体、三井化学社製）、タケネート５００（メタキシリレンジイソシアネート、三井化学社製）、デュラネートＤ１０１（ＨＤＩ系２官能型ポリイソシアネート、旭化成ケミカルズ社製）、ＢａｓｏｎａｔＨＡ３００（ヘキサメチレンジイソシアネートのアロファネート体、ＢＡＳＦ社製）、デスモジュール Ｎ３２００（ヘキサメチレンジジイソシアネートのビウレット体、住化バイエルウレタン社製）が含まれる。

例えば、硬化性樹脂が官能基含有アクリル系樹脂である場合、硬化剤としてメラミン化合物を用いることができる。硬化性樹脂がポリオールである場合、硬化剤としてイソシアネート化合物を用いることができる。

硬化剤の含有量は、硬化性樹脂に対して０．１〜１５質量％程度としうる。

溶媒は、前述の樹脂を良好に分散させるものであればよく、その例には、非プロトン性溶媒が含まれる。非プロトン性溶媒の例には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の炭化水素溶媒；塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン炭化水素溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が含まれる。

低屈折率層用塗布液の塗布は、例えばグラビアコート法、スピンコート法、バーコート法及びダイ法等により行うことができる。低屈折率層用塗布液の塗膜の硬化は、光硬化であってもよいし、熱硬化であってもよい。中でも、グラビアコート法のように、ローラを金属反射層Ｂの表面に押し付けることによって、金属反射層Ｂの微小なクラックを生じたり、金属反射層Ｂの表面を傷つけたりするのを抑制でき、薄い厚みでも均一に塗布しやすい観点では、ダイ法が好ましい。

２）の工程について
高屈折率層Ｄは、高屈折率層用塗布液を塗布した後、乾燥及び必要に応じて硬化させて形成することができる。高屈折率層用塗布液の塗布方法は、前述の塗布方法と同様とし得る。中でも、グラビアコート法のように、ローラを低屈折率層Ｃの表面に押し付けることによって低屈折率層Ｃの表面を傷つけるのを抑制でき、薄い厚みでも均一に塗布しやすい観点では、ダイ法が好ましい。

高屈折率層用塗布液は、前述の高屈折率粒子と、バインダ樹脂と、界面活性剤と、必要に応じて硬化剤や溶媒を含み得る。高屈折率層用塗布液に含まれる硬化剤や溶媒は、低屈折率層用塗布液に含まれる硬化剤や溶媒と同様のものを用いることができる。

３．光反射フィルムの用途
本発明の光反射フィルムは、各種用途の反射部材、例えば液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルム、プロジェクションテレビの反射鏡及びランプリフレクター等として用いることができる。中でも、本発明の光反射フィルムは、良好な反射率と湿熱耐久性とを有する点から、液晶表示装置用バックライトユニットの光反射フィルムとして好ましく用いられる。

（液晶表示装置用バックライトユニット）
液晶表示装置用バックライトユニットは、光源と、本発明の光反射フィルムとを含む。本発明の光反射フィルムは、高屈折率層Ｄが、光源又は導光板の裏面（液晶表示パネルと対向しない面）と対向するように配置される。

光源の例には、冷陰極管（ＣＣＦＬ）、熱陰極管（ＨＣＦＬ）、外部電極蛍光管（ＥＥＦＬ）、平面蛍光管（ＦＦＬ）、発光ダイオード素子（ＬＥＤ）、及び有機エレクトロルミネッセンス素子（ＯＬＥＤ）等が含まれる。中でも、冷陰極管（ＣＣＦＬ）や発光ダイオード素子（ＬＥＤ）が好ましい。

液晶表示装置用バックライトユニットは、他の光学フィルムをさらに含んでもよい。他の光学フィルムの例には、光拡散フィルムやプリズムフィルムが含まれる。光拡散フィルムの例には、フィラーやビーズ含有のバインダを塗装した拡散フィルムが含まれる。

液晶表示装置用バックライトユニットは、直下型のバックライトユニットであってもよいし、サイドエッジ型のバックライトユニットであってもよい。中・小型の液晶表示装置に適することから、サイドエッジ型のバックライトユニットが好ましい。

サイドエッジ型のバックライトユニットは、光源と、それと隣接して配置される導光板と、導光板の裏面側に配置される光反射フィルムとを含み、必要に応じて他の光学フィルムをさらに含んでもよい。サイドエッジ型のバックライトユニットの態様の一例には、後述する図２に示されるバックライトユニット４０が含まれる。

（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、液晶表示パネルと、バックライトユニットとを含む。図２は、本発明の液晶表示装置の一例を示す断面図である。同図は、サイドエッジ型のバックライトユニットを用いた場合の一例である。図２に示されるように、液晶表示装置２０は、液晶表示パネル３０と、サイドエッジ型のバックライトユニット４０とを含む。

液晶表示パネル３０は、液晶セル３１と、それを挟持する一対の偏光板３３及び３５とを含む。液晶セル３１の表示方式は、特に制限されず、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）やＩＰＳ等の種々の表示モードでありうる。偏光板３３及び３５は、それぞれ偏光子と、その少なくとも一方の面に配置された保護フィルムとを含む。

サイドエッジ型のバックライトユニット４０は、棒状の光源４１と、側端部が光源４１と隣接するように配置された導光板４３と、導光板４３の裏面側に配置された光反射フィルム１０と、導光板４３の表面側に配置された複数の光学フィルム４５とを含む。光反射フィルム１０は、高屈折率層Ｄ１９が導光板４３と対向するように配置されている。

光源４１は、ランプリフレクター４２で覆われている。複数の光学フィルム４５は、図２の態様に限定されず、光学フィルム４５がなくてもよいし、光学フィルムの組み合わせや枚数を変更してもよい。

サイドエッジ型のバックライトユニット４０では、光源４１から発せられた光が導光板４３の内部を伝播する。導光板４３から出た光の一部は、光反射フィルム１０で反射され、導光板４３の表面側（液晶表示パネル３０側）に出射される。導光板４３の表面側に出射した光は、光拡散フィルム４７で拡散され、プリズムフィルム４９で屈折されて、液晶表示パネル３０の全面に入射される。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

１．光反射フィルムの作製
＜実施例１＞
（基材Ａ）
基材Ａとして、厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン社製、ＨＢ３）を準備した。

（アンカー層Ｅ）
メラミン樹脂（スーパーベッカミン（登録商標）Ｊ−８２０、ＤＩＣ株式会社製、ヘキサメトキシメチロールメラミンと、それと架橋反応するＯＨ基を含む樹脂の混合物、メラミン樹脂の重量平均分子量５０００）を、固形分濃度が５質量％となるようにブタノール（溶媒）で希釈し、アンカー層用塗布液を得た。
得られたアンカー層用塗布液を、上記ポリエチレンテレフタレートフィルム上にグラビアコート法にて塗布した後、乾燥させて、膜厚０．１μｍのアンカー層Ｅを形成した。

（金属反射層Ｂ）
上記で形成したアンカー層Ｅの表面に、真空蒸着法（抵抗加熱式真空蒸着法）にて銀を蒸着し、膜厚１００ｎｍの金属反射層Ｂを形成した。

（低屈折率層Ｃ）
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ、重量平均分子量３０万）と、メラミン樹脂（商品名スーパーベッカミンＪ−８２０ ＤＩＣ株式会社製）とを、ポリメチルアクリルレートとメラミン樹脂の質量比が２：１になるように混合し、固形分濃度が２．０質量％となるように２−ブタノン（溶剤）で希釈して、低屈折率層用塗布液を得た。
得られた低屈折率層用塗布液を、グラビアコート法にて金属反射層Ｂ上に塗布した後、１５０℃で乾燥及び硬化させて、膜厚５０ｎｍの低屈折率層Ｃを形成した。

（高屈折率層Ｄ）
酸化チタン粒子含有塗布液（リオデュラスＴＹＴ９０、東洋インキ社製、アクリル樹脂：酸化チタン＝１：１質量比、酸化チタン粒子の平均粒径ｄ＝１０ｎｍ、屈折率＝２．３４）を、固形分濃度が２．０質量％になるように２−ブタノンと１−メトキシ−２−プロパノールで希釈した後、該溶液の固形分に対して０．５質量％となるように、フッ素系界面活性剤（商品名メガファックＲＳ７６Ｅ、含フッ素基・親水性基・親油性基・ＵＶ反応性基含有オリゴマー ＤＩＣ株式会社製）をさらに添加及び混合し、高屈折率層用塗布液を得た。
得られた高屈折率層用塗布液を、上記形成した低屈折率層上にグラビアコート法にて塗布及び乾燥させた後、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ^２の条件でＵＶ照射して塗膜を硬化させて、膜厚４０ｎｍの高屈折率層Ｄを形成し、光反射フィルムを得た。

＜実施例２＞
フッ素系界面活性剤の含有量を、高屈折率層用塗布液の固形分に対して１．０質量％とした以外は実施例１と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例３＞
フッ素系界面活性剤の含有量を、高屈折率層用塗布液の固形分に対して５．０質量％とした以外は実施例１と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例４＞
フッ素系界面活性剤を、シリコーン系界面活性剤（商品名ＺＸ０４９ 富士化成社製）に変更した以外は実施例１と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例５＞
シリコーン系界面活性剤の含有量を、高屈折率層用塗布液の固形分に対して１．０質量％とした以外は実施例４と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例６＞
シリコーン系界面活性剤の含有量を、高屈折率層用塗布液の固形分に対して５．０質量％とした以外は実施例４と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例７＞
高屈折率層用塗布液を、酸化ジルコニア粒子含有塗布液（リオデュラスTYZ76、東洋インキ社製、アクリル樹脂：酸化ジルコニア粒子＝１：１質量比、酸化ジルコニア粒子の平均粒径ｄ＝１０ｎｍ、屈折率＝２．０６）に変更した以外は実施例１と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例８＞
フッ素系界面活性剤の含有量を、高屈折率層用塗布液の固形分に対して１．０質量％とした以外は実施例７と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例９＞
フッ素系界面活性剤の含有量を、高屈折率層用塗布液の固形分に対して５．０質量％とした以外は実施例７と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例１０＞
フッ素系界面活性剤をシリコーン系界面活性剤（富士化成社製、ＺＸ−０４９）に変更した以外は実施例８と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例１１＞
高屈折率層用塗布液をダイ法で塗布した以外は実施例２と同様にして光反射フィルムを得た。

＜実施例１２＞
高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈを３０ｎｍとして、ｔ_Ｈ／ｄを１．７とした以外は実施例２と同様にして光反射フィルムを得た。

＜比較例１＞
高屈折率層Ｄに界面活性剤を含有させなかった以外は実施例２と同様にして光反射フィルムを得た。

＜比較例２＞
高屈折率層Ｄの厚みを３０ｎｍとした以外は比較例１と同様にして光反射フィルムを得た。

＜比較例３＞
高屈折率層Ｄに界面活性剤を含有させなかった以外は実施例７と同様にして光反射フィルムを得た。

各実施例／比較例で用いた基材Ａ、低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄの屈折率を、以下の方法で測定した。

［屈折率］
（基材Ａの屈折率）
厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン社製、ＨＢ３）の波長５７０ｎｍの光の屈折率を、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いて測定した。

（低屈折率層Ｃ及び高屈折率層Ｄの屈折率）
厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン社製、ＨＢ３）上に、厚み５０ｎｍの低屈折率層Ｃを塗布した後、乾燥させて、測定用サンプル１を得た。同様にして、厚み２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン社製、ＨＢ３）上に、厚み５０ｎｍの高屈折率層Ｄを塗布形成して、測定用サンプル２を得た。これらの測定用サンプル１及び２の波長５７０ｎｍの光の屈折率を、堀場製分光エリプソメーターＵＶＩＳＥＬを用いてそれぞれ測定した。
基材Ａの屈折率は１．６、低屈折率層Ｃの屈折率は１．５４、実施例２の高屈折率層Ｄの屈折率は１．８６であった。

実施例１〜１２及び比較例１〜３の光反射フィルムの構成を表１に示す。

得られた光反射フィルムを用いたバックライトユニットの相対輝度・色度（初期、湿熱耐久後）、及び低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄの密着性を、それぞれ以下の方法で評価した。

［輝度・色度］
（初期）
一般的なスマートフォンからバックライトユニット（光源と、導光板と、光反射フィルムとを含むユニット）を取り出した。このバックライトユニットの光反射フィルムを、上記作製した光反射フィルムに取り換えた。光反射フィルムは、高屈折率層Ｄが光入射面となるように配置した。
得られたバックライトユニットの光反射フィルムが配置された面とは反対側で、且つ光反射フィルムからの高さが２００ｍｍの位置に、分光放射輝度計（コニカミノルタ社製、製品名「ＣＳ−２０００」）を設置した。そして、面光源装置の中央部を、平行に配列された光源の垂直方向に横断する形で、端から端まで０．６ｍｍ間隔で三刺激値Ｙ（輝度）[ｃｄ／ｍ^２]、及びＣＩＥ１９３１表色系における色度ｘとｙを測定した。測定は、２５℃で行った。
(輝度)
◎：５０００ｃｄ／ｍ^２以上
○：４９００ｃｄ／ｍ^２以上５０００ｃｄ／ｍ^２未満
△：４７００ｃｄ／ｍ^２以上４９００ｃｄ／ｍ^２未満
×：４７００ｃｄ／ｍ^２未満
（色度）
◎：０．３０未満
○：０．３０以上０．３２未満
△：０．３２以上０．３５未満
×：０．３５以上

（湿熱耐久後）
上記作製した光反射フィルムを、１５０ｍｍ角に裁断し、６０℃９０％ＲＨの環境下で５００時間静置した。その後、得られた光反射フィルムを用いた以外は前述と同様にしてバックライトユニットの三刺激値Ｙ（輝度）[ｃｄ／ｍ^２]を測定した。そして、初期の輝度からの低下率(％)を算出した。
◎：１％未満
○：１％以上３％未満
△：３％以上５％未満
×：５％以上

［密着性］
上記作製した光反射フィルムにおける低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄの界面の密着性を、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６：１９９９に準拠した碁盤目試験により評価した。具体的には、上記作製した光反射フィルムの表面（金属反射層Ｂが形成された面側）を、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上にセロハンテープ（登録商標）を貼り付け、９０度の角度で素早く剥がした。そして、剥がれずに残った碁盤目の数をカウントした。測定は、２５℃で行った。
◎：０個以上３個未満
○：３個以上１０個未満
△：１０個以上２０個未満
×：２０個以上１００個以下

実施例１〜１２及び比較例１〜３の評価結果を、表２に示す。

表２に示されるように、高屈折率層Ｄが界面活性剤を含む実施例１〜１１の光反射フィルムは、高屈折率層Ｄが界面活性剤を含まない比較例１〜３の光反射フィルムよりも、低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄの界面の密着性を大幅に損なうことなく、輝度Ｙを高めることができることがわかる。この理由の一つは、実施例１〜１１の光反射フィルムは、比較例１〜３の光反射フィルムよりも高屈折率層Ｄのハジキや高屈折率粒子の突出が低減されたためであると推測される。

特に、実施例１〜３と実施例４〜６との対比、又は実施例８と１０の対比から、フッ素系界面活性剤を用いた実施例１〜３及び８の光反射フィルムは、フッ素−シリコーン系界面活性剤を用いた実施例４〜６及び１０の光反射フィルムよりも湿熱耐久後の光学特性の低下が少ないことがわかる。これは、フッ素系界面活性剤を用いた光反射フィルムは防水性が高いため、金属反射層Ｂが水分と接触することに起因する劣化を高度に抑制できるからであると考えられる。

特に、実施例８と１１の対比から、高屈折率層Ｄをダイ法で塗布形成した実施例１１の光反射フィルムは、高屈折率層Ｄをグラビアコート法で塗布形成した実施例８の光反射フィルムよりも、初期及び湿熱耐久後の光学特性が高いことがわかる。この理由の一つは、ダイ法は、グラビアコート法よりも均一に塗布形成しやすいので、高屈折率層Ｄのハジキや突出がより低減されたこと、それにより光干渉効果がより得られやすくなったことによると考えられる。

特に、実施例１〜３の対比、実施例４〜６の対比等から、界面活性剤の含有量が多いほうが、輝度Ｙが高いことがわかる。この理由の一つは、界面活性剤の含有量が多いほど、塗膜の乾燥工程におけるハジキや高屈折率粒子の突出が低減されやすいからであると推測される。また、界面活性剤の含有量が少ないほうが、初期及び湿熱耐久後の光学特性の低下が少なく、低屈折率層Ｃ／高屈折率層Ｄの界面の密着性も損なわれ難いことがわかる。この理由の一つは、本来は余分な成分である界面活性剤が少ないほうが、密着性が維持されやすいからであると考えられる。

実施例２と１２の対比から、本発明の光反射フィルムは、ｔ_Ｈ／ｄが２以上であると、輝度Ｙがより高められることがわかる。尚、実施例１２の光反射フィルムの輝度Ｙは、高屈折率層Ｄが界面活性剤を含まない以外は実施例１２と同様の構成を有する光反射フィルムよりも高い輝度Ｙを有することは別途確認済みである。

１０ 光反射フィルム
１１ 基材Ａ
１３ アンカー層Ｅ
１５ 金属反射層Ｂ
１７ 低屈折率層Ｃ
１９ 高屈折率層Ｄ
２０ 液晶表示装置
３０ 液晶表示パネル
３１ 液晶セル
３３、３５ 偏光板
４０ バックライトユニット
４１ 光源
４２ ランプリフレクター
４３ 導光板
４５ 光学フィルム
４７ 光拡散フィルム
４９ プリズムフィルム

Claims (7)

1. 基材Ａと、厚みが８０〜１５０ｎｍの金属反射層Ｂと、厚みが１０〜６０ｎｍの低屈折率層Ｃと、波長５７０ｎｍの光の屈折率が前記低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率よりも高い、厚みが１０〜１００ｎｍ高屈折率層Ｄとをこの順に含み、
   前記低屈折率層Ｃは、樹脂を主成分とする樹脂層であり、
   前記高屈折率層Ｄが、高屈折率粒子と、バインダ樹脂と、界面活性剤とを含み、
   前記バインダ樹脂は、官能基含有アクリル系樹脂の硬化物であり、
   前記界面活性剤が、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、またはフッ素−シリコーン系界面活性剤であり、
   前記高屈折率粒子の含有量は、前記高屈折率層Ｄに対して３０〜６０質量％であり、
   前記高屈折率粒子の平均粒径をｄ（ｎｍ）、前記高屈折率層Ｄの厚みをｔ_Ｈ（ｎｍ）としたとき、ｔ_Ｈ／ｄが２以上８以下である、
   光反射フィルム。
2. 前記高屈折率粒子は、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化銅からなる群より選ばれる金属化合物の粒子である、
   請求項１に記載の光反射フィルム。
3. 前記高屈折率層Ｄの厚みｔ_Ｈが、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、
   請求項１または２に記載の光反射フィルム。
4. 前記界面活性剤の含有量は、前記高屈折率層Ｄの全質量に対して０．１質量％以上５質量％以下である、
   請求項１〜３のいずれか一項に記載の光反射フィルム。
5. 前記低屈折率層Ｃは、アクリル系樹脂または官能基含有アクリル系樹脂の硬化物を含む、
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の光反射フィルム。
6. 基材Ａと、厚みが８０〜１５０ｎｍの金属反射層Ｂの積層物を準備する工程と、
   前記積層物の前記金属反射層Ｂ上に、樹脂を含む塗布液をダイ法にて塗布した後、乾燥又は硬化させて、厚みが１０〜６０ｎｍの低屈折率層Ｃを形成する工程と、
   前記低屈折率層Ｃ上に、高屈折率粒子と、官能基含有アクリル系樹脂と、硬化剤と、界面活性剤とを含む塗布液をダイ法にて塗布した後、乾燥および硬化させて、波長５７０ｎｍの光の屈折率が前記低屈折率層Ｃの波長５７０ｎｍの光の屈折率よりも高い、厚みが１０〜１００ｎｍの高屈折率層Ｄを形成する工程とを含み、
   前記界面活性剤が、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、またはフッ素−シリコーン系界面活性剤であり、
   前記高屈折率粒子の含有量は、前記高屈折率層Ｄに対して３０〜６０質量％であり、
   前記高屈折率粒子の平均粒径をｄ（ｎｍ）、前記高屈折率層Ｄの厚みをｔ_Ｈ（ｎｍ）としたとき、ｔ_Ｈ／ｄが２以上８以下である、
   光反射フィルムの製造方法。
7. 光源と、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光反射フィルムとを含む、
   液晶表示装置用バックライトユニット。

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