JP6848736B2 - R−t−b系希土類永久磁石 - Google Patents

R−t−b系希土類永久磁石 Download PDF

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Description

本発明は、R−T−B系希土類永久磁石に関する。
正方晶R14B化合物を主相とするR−T−B系希土類永久磁石(Rは希土類元素、TはFeまたはその一部がCoによって置換されたFe)は優れた磁気特性を有することが知られており、1982年の発明(特許文献1:特開昭59−46008号公報)以来、代表的な高性能永久磁石である。
希土類元素RがNd、Pr、Dy、Ho、TbからなるR−T−B系希土類永久磁石は異方性磁界Haが大きく永久磁石材料として好ましい。中でも希土類元素RをNdとしたNd−Fe−B系磁石は、飽和磁化Is、キュリー温度Tc、異方性磁界Haのバランスが良く、資源量、耐食性において他の希土類元素Rを用いたR−T−B系希土類永久磁石よりも優れているために広く用いられている。
民生、産業、輸送機器の動力装置として、永久磁石同期モータが用いられてきた。しかしながら、永久磁石による界磁が一定である永久磁石同期モータは、回転速度に比例して誘導電圧が高くなるため、駆動が困難となる。そのため、永久磁石同期モータは中・高速域および軽負荷時において、誘導電圧が電源電圧以上とならぬよう、電機子電流による減磁界にて永久磁石の磁束を相殺させ鎖交磁束を減少させる、弱め界磁制御という手法が適用されるようになった。しかし、減磁磁場を印可し続けるためにモータ出力に寄与しない電機子電流を常時流し続けるため、結果としてモータの効率を低下させてしまうという問題がある。
このような問題を解決するために、特許文献2のように、外部から磁界を作用させることにより、磁化が可逆的に変化する低保磁力のSm−Co系永久磁石(可変磁束磁石)を用いた可変磁力モータが開発されている。可変磁力モータでは、中・高速域および軽負荷時において、可変磁束磁石の磁化を小さくすることによって、従来のような弱め界磁によるモータの効率低下を抑制することができる。
しかしながら、特許文献2に記載されているSm−Co系永久磁石は、その主要な原料であるSmおよびCoの価格が高く、高コストであるという問題があった。そこで、可変磁束磁石用の永久磁石として、R−T−B系永久磁石を適用することが考えられる。
特許文献3には、組成が(R11−xR214B(R1はY、La、Ceを含まない希土類元素の少なくとも1種であり、R2はY、La、Ceの1種以上からなる希土類元素であり、TはFeまたはFeおよびCoを必須とする1種以上の遷移金属元素、0.1≦x≦0.5)である主相粒子を含み、更にM(MはAl、Cu、Zr、Hf、Tiの少なくとも1種)を2at%〜10at%含むことを特徴とするR−T−B系可変磁束磁石が開示されている。このR−T−B系可変磁束磁石は、従来の可変磁力モータ用Sm−Co系永久磁石よりも高い残留磁束密度を有しているので、可変磁力モータの高出力化および高効率化が期待される。
特開昭59−46008号公報 特開2010−34522号公報 特開2015−207662号公報
通常、R−T−B系希土類永久磁石を着磁する際には、高い磁束密度および高い保磁力を得るために、当該磁石の磁化が飽和する程度の大きな磁場を印加する。このときの着磁磁場は飽和着磁磁場と呼ばれる。
一方、可変磁力モータでは、可変磁束磁石が、モータに組み込まれた状態で、電機子等の磁場により磁化のマイナーループに従って可変磁束磁石の磁化状態が切り替えられることにより、トルク値にかかわらず広い範囲でモータを高効率で運転することができる。ここで、マイナーループとは、正方向磁場Hmagで着磁後、逆方向磁場Hrevを印可し、再び磁場Hmagまで磁場を掃引する場合の磁化変化挙動を表す。
磁化の切替は、外部(例えば、ステータ等)から磁場を印加することにより行うので、省エネおよび外部から印加可能な磁場の上限の観点から磁化切替に要する着磁磁場Hmagを飽和着磁磁場よりも極めて小さくする必要がある。そのためには、まず、可変磁束磁石の保磁力が低いことが求められる。
また、高効率運転範囲を広くするためには可変磁束磁石の着磁時−減磁時の磁化変化量を大きくする必要があり、そのためにはまず、上記マイナーループの角形比が高いことが求められる。また、マイナーループ中で逆磁場Hrevから磁場Hmagまで磁場を掃引する場合にできるだけHmagに近い磁場まで磁化が変化しないことが望ましい。この望ましい状態を、以降、マイナー曲線平坦性が高いと表現する。
上述したように、通常のR−T−B系希土類永久磁石においては、当該磁石を飽和着磁磁場で着磁した後、残留磁束密度、保磁力等の磁気特性が評価される。着磁磁場が飽和着磁磁場よりも小さい場合における磁気特性は評価されない。
そこで、本発明者らは、着磁磁場が飽和着磁磁場よりも小さい場合におけるR−T−B系希土類永久磁石の磁気特性を評価したところ、着磁磁場が小さくなると、マイナーループの角形比およびマイナー曲線平坦性が悪化することを見出した。すなわち、マイナーループの角形比およびマイナー曲線平坦性は、着磁磁場の大きさに影響されることを見出した。
例えば、特許文献3に係る試料について、着磁磁場を飽和着磁磁場から小さくしていくと、同じ試料であってもヒステリシスループの形状が図5に示すように変化することが判明した。図5Aは、着磁磁場が30kOeである場合のヒステリシスループを示し、図5Bは、着磁磁場が10kOeである場合のヒステリシスループを示す。図5AおよびBから明らかなように、着磁磁場が変わると、ヒステリシスループの形状が大きく変化している。
図5Aと図5Bとを比較すると、図5Bのヒステリシスループの角形比が図5Aに示すヒステリシスループの角形比よりも劣っていることに加えて、着磁磁場よりもかなり小さい磁場の印加により磁化が大きく変化している。また、図5Aに示すヒステリシスループの角形比は比較的良好であるが、図5Bと同様に、着磁磁場よりもかなり小さい磁場の印加により磁化が大きく変化している。すなわち、図5Aおよび図5Bに示すヒステリシスループのマイナー曲線平坦性は低い。以上より、着磁磁場が小さくなると、角形比およびマイナー曲線平坦性が低くなる傾向にある。
したがって、特許文献3の発明に係るR−T−B系希土類永久磁石は、保磁力は低いものの、飽和着磁状態(図5A)ですらマイナー曲線平坦性は低く、着磁磁場が低い状態着磁磁場が低い状態(図5B)においては更に低くなり、角形比も低くなってしまう。その結果、特許文献3の発明に係るR−T−B系希土類永久磁石を可変磁束磁石として用いた可変磁力モータでは、高効率運転範囲を広くすることはできないという問題がある。換言すれば、可変磁束磁石に好適な磁石に求められる特性としては、保磁力が低いだけでは不十分であり、着磁磁場が低くても、角形比およびマイナー曲線平坦性が良好であることが求められる。
本発明はこうした状況を認識してなされたものであり、低速回転域での高トルク出力および高速回転域での低トルク出力による幅広い回転速度域にて高い効率を維持できる可変磁力モータに適した、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態においても、高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つR−T−B系希土類永久磁石を提供することを目的とする。
R−T−B系希土類永久磁石は、ニュークリエーション型磁化反転機構を持っているため、外部から印加される磁場に応じて磁壁の移動が容易に生じて、磁化が大きく変化してしまう。そのため、着磁磁場が低くても、角形比およびマイナー曲線平坦性は低くなってしまう。一般的に、R−T−B系希土類永久磁石において、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性を高くするためには、高保磁力化することが有効である。そのため、R−T−B系希土類永久磁石において、低保磁力と着磁磁場が低い状態における特性の両立は困難である。
しかし、発明者らが鋭意検討した結果、低保磁力を実現する組成の検討を行ない、R−T−B系希土類永久磁石に含まれる粒子の逆磁区発生磁場の均一化と磁場印加時の単磁区構造の安定化とにつながる微細構造の検討を行なうことにより、低磁場着磁特性における特性向上を実現できることを見出した。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、
本発明は組成式が、
(R11−x(Y1−yーzCeLaで表され、
(但し、R1は、Y、Ce、Laを含まない1種以上の希土類元素、TはFeまたはFeおよびCoを必須とする1種以上の遷移金属、
MはGa、または、GaとSn、Bi、Siの1種以上とからなる元素であり、)
0.4≦x≦0.7、0.00≦y+z≦0.20、0.16≦a/b≦0.28、0.050≦c/b≦0.075、0.005≦d/b≦0.028
からなるR−T−B系希土類永久磁石であって、
前記R−T−B系希土類永久磁石は、R14B型正方晶構造を有する化合物からなる主相と粒界相を含み、
前記主相結晶粒子の平均結晶粒径は、D50≦4.00μm、
粒度分布が(D90−D10)/D50≦1.60の関係式を満たし、
(但し、D10、D50、D90は、任意の断面における主相結晶粒子の断面積の累積分布が10%、50%、90%となる面積円相当径)
さらに前記粒界相の被覆率が70.0%以上であるR−T−B系希土類永久磁石であることを特徴とする。
本発明に係るR−T−B系希土類永久磁石は、上記組成範囲を満たし、特にR14B型正方晶構造を有する主相(R14B相)に含まれる希土類元素R1が、Y等で置換することにより低保磁力を達成している。前記主相に含まれる希土類元素R1(Nd、Pr、Tb、Dy、Hoに代表される)を含むR114B化合物に比べ、Y14B化合物は、磁気異方性が劣るためである。また、Yの一部をCe、Laに置換してもよい。Ce14B化合物、La14B化合物も、Y14B化合物と同様に、主相に含まれるR114B化合物に比べ、異方性磁界が低いため低保磁力化に有効である。Y、Ce、Laの全量に占めるCe、Laの量は、0.00≦y+z≦0.20とすることで、十分に低保磁力化が可能となる。
遷移金属元素Tの原子組成比に対するBの原子組成比の割合、および遷移金属元素Tの原子組成比に対する元素M(Ga、または、GaとSn、Bi、Siの1種以上とからなる元素)の原子組成比の割合を、上記の組成範囲にすることにより、R14B型正方晶構造を有する化合物からなる主相結晶粒子と粒界相を含む構造が得られる。
本発明の主相結晶粒子の平均結晶粒径は、D50≦4.00μmであり、粒度分布は(D90−D10)/D50≦1.60(但し、D10、D50、D90は、任意の断面における主相結晶粒子の断面積の累積分布が10%、50%、90%となる面積円相当径)の関係を満たすものである。更に、主相結晶粒子を取り囲む粒界相の被覆率が70.0%以上である事で、保磁力を低く維持しつつ、着磁磁場が低い状態における角形比とマイナー曲線平坦性を高くする事ができる。
本発明者らは、ニュークリエーション型磁化反転機構を持つR−T−B系希土類永久磁石において、着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性を高くするための検証を行なった。その結果、正方向磁場Hmagによる着磁後、減磁過程での磁石磁化が負の保磁力付近まで一定に保持されることで、角形比は高くなることが確認された。また、逆方向磁場Hrevまで減磁した後、再び増磁する過程で正の保磁力付近まで磁石磁化が一定に保持されることで、マイナー曲線平坦性が高くなることを確認した。
正方向磁場Hmagでの着磁後の減磁過程、および逆方向磁場Hrevからの増磁過程で磁石磁化が一定に保持されるためには、R−T−B系希土類永久磁石に含まれる主相結晶粒子が、低い着磁磁場Hmagで単磁区状態となり、着磁後の単磁区状態が安定していること、さらに逆磁区発生磁場のばらつきを低減すること等が有効である。仮に、主相結晶粒子が多磁区状態である場合、主相結晶粒子内でピンニングサイトが存在しないため、減磁過程および増磁過程において磁壁は磁場の変化に応じて自由に動いてしまう。そのため、磁石磁化が一定に保持されない。
また、主相結晶粒子毎に逆磁区発生磁場のばらつきが大きいと、同じく減磁過程および増磁過程において、バラバラの磁場の値で各主相結晶粒子の磁化が反転するため、磁石全体の磁化が一定にならない。
低い着磁磁場Hmagで単磁区状態を実現するためには、局所的に反磁場の低減が必要となる。ところが、一般的なR−T−B系希土類永久磁石は、主相結晶粒子に局所的に大きな反磁場が作用するため、着磁磁場Hmagの大きさが保磁力の3倍程度にならないと、全ての主相結晶粒子を単磁区状態にすることができない。
また、局所的反磁場は、隣接する主相結晶粒子同士が直接接したり、主相結晶粒子が粒界相に被覆されず表面にエッジが生じたりすることで、増大する。
そのため、主相結晶粒子の粒界相被覆率を70.0%以上にすることで、局所的反磁場を低減し、低い着磁磁場Hmagで単磁区状態を実現することが可能となる。
また、着磁後の単磁区状態を安定化するためには、静磁エネルギーと磁壁エネルギーとのバランスから主相結晶粒子の粒径をコントロールする事が非常に重要である。本発明において、主相結晶粒子の平均結晶粒径がD50≦4.00μmとすることで着磁後の単磁区構造を安定化することができる。更に、本発明者らは逆磁区発生磁場が主相結晶粒子の粒径と関係性があることから、主相結晶粒子の粒度分布ばらつきを(D90−D10)/D50≦1.60とすることで逆磁区発生磁場のばらつきを低減できることを見出した。
更に、前記のように主相結晶粒子の平均粒径と粒度分布ばらつきをコントロールできていても、隣接する主相結晶粒子同士が磁気的に交換結合する箇所が多くなると、磁気的に、粒径の大きな主相結晶粒子が多数存在する粒度分布と等価になり、粒度分布のばらつきが大きい状態とみなすことができる。その結果、着磁後の単磁区状態が不安定化し、逆磁区発生磁場のばらつきも大きくなる。本発明者らは、本組成により、主相結晶粒子が磁気的交換結合の切れる3nmよりも十分に厚い厚みを持つ粒界相によって70.0%以上被覆された構造になることが可能となり、主相結晶粒子の単磁区状態を安定化し、逆磁区発生磁場のばらつきが低減できることを見出した。
以上の理由で、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率が上記の関係を満たすことで、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性を高くする事が可能となる。
本発明によれば、低速回転域での高トルク出力および高速回転域での低トルク出力により幅広い回転速度域にて高い効率を維持できる可変磁束モータに好適な、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態で格段に高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つR−T−B系希土類焼結磁石を提供できる。尚、本発明に係るR−T−B系希土類焼結磁石は、可変磁力モータの他に発電機等の回転機全般に適用可能である。
図1は、実験例3の試料について最大測定磁場を増加させながら測定したヒステリシスループ群を示す図である。 図2は、実験例3の試料のマイナーループ群を示す図である。 図3は、実験例3の試料の仕様断面のSEM反射電子像を示す図である。 図4は、図3の画像の画像解析により抽出した主相結晶粒子の輪郭を示す図である。 図5Aは、着磁磁場が30kOeである場合において、特許文献3に係る試料のヒステリシスループを示す図である。 図5Bは、着磁磁場が10kOeである場合において、特許文献3に係る試料のヒステリシスループを示す図である。
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。更に、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。
本発明のR−T−B系希土類永久磁石の組成式は、
(R11−x(Y1−yーzCeLaで表され、
(但し、R1は、Y、Ce、Laを含まない1種以上の希土類元素TはFeまたはFeおよびCoを必須とする1種以上の遷移金属、
MはGa、または、GaとSn、Bi、Siの1種以上とからなる元素であり、) 0.4≦x≦0.7、0.00≦y+z≦0.20、0.16≦a/b≦0.28、0.050≦c/b≦0.075、0.005≦d/b≦0.028
からなるR−T−B系希土類永久磁石であって、前記R−T−B系希土類永久磁石は、R14B型正方晶構造を有する化合物からなる主相と粒界相を含む。
本実施形態において、前記組成式の全希土類元素の合計原子組成比に占めるYとCeとLaの合計原子組成比の割合xは0.4≦x≦0.7である。xが0.4未満であると、即ち、焼結磁石全体の組成比に占めるY、Ce、Laの組成比の割合が小さくなり、主相結晶粒子内におけるYとCeとLaの組成比の割合も低い。そのため十分な低保磁力が得られない。また、xが0.7より大きいと、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性が著しく低下する。
これはR14B型正方晶構造を有する化合物からなる主相(R14B相)中で、例えば、R1であるNd等から成るNd14B化合物と比較し、磁気異方性が劣るY14B化合物、Ce14B化合物、La14B化合物の影響が大きく作用する。
可変磁力モータに用いるために、低保磁力を満足し、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性をより高くするためには、xが0.5以上であることが好ましい。一方、xが0.6以下であることが好ましい。
本実施形態において、YとCeとLaの合計の原子組成比に対する、CeとLaの合計原子組成比の割合(y+z)は、0.00≦y+z≦0.20である。y+zが0.20より大きいと、主相結晶粒子組成に占めるYの組成比率が小さいため、十分な低保磁力が得られない。これはR14B相中で、Y14B化合物より異方性が優れたCe14B化合物の影響が支配的になるためと考えられる。さらにy+zが0.09以下であることが好ましい。それにより、さらに低保磁力を満足し、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性をより高くすることが可能となる。
本実施形態において、希土類元素R1は高い異方性磁界を得るためには、Nd、Pr、Dy、Tb、Hoのいずれか一種であることが好ましい。特に耐食性の観点から、Ndが好ましい。尚、希土類元素は原料に由来する不純物を含んでもよい。
本実施形態に係るR−T−B系希土類永久磁石には、R14B相の基本組成における遷移金属元素Tとして、FeまたはFeに加えて更に他の遷移金属元素を含んでもよい。遷移金属元素としてはCoであることが好ましい。この場合、Coの含有量は1.0at%以下であることが好ましい。希土類磁石にCoを含有させることにより、キュリー温度が高くなるほか、耐食性も向上する。
本実施形態において、遷移金属元素Tの原子組成比に対する希土類元素Rの原子組成比の割合a/bは0.16≦a/b≦0.28である。a/bが0.16未満であると、R−T−B系希土類永久磁石に含まれるR14B相の生成が十分ではなく、軟磁性を示すTリッチ相が析出し、隣接する主相結晶粒子間に存在する粒界(2粒子粒界)を、磁気的交換結合が切れるのに十分な3nm以上の厚みで形成する事が出来ない。そのため、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性が低下してしまう。一方、a/bが0.28超の場合、保磁力が大きくなってしまう。可変磁力モータに用いるための低保磁力を満足し、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性をより高くするために、a/bが0.21以上であることが好ましい。
本実施形態に係るR−T−B系希土類焼結磁石において、遷移金属元素Tの原子組成比に対するBの原子組成比の割合c/bは0.050≦c/b≦0.075である。このようにBの含有比率を特定の範囲とすることにより、2粒子粒界を、磁気的交換結合が切れるのに十分な厚みで形成することができる。
これにより、主相結晶粒子同士が磁気的に分離され、着磁後の単磁区状態を安定化されて着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性を高くする効果がある。
c/bが0.050より小さいとR14B相の生成が十分ではなく、軟磁性を示すTリッチ相が析出するため、2粒子粒界を、磁気的交換結合が切れるのに十分な厚みを形成することができない。c/bが0.075より大きいと主相比率が増大して、上記と同様、十分な厚みのある2粒子粒界が形成されない。そのため、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性が低下する。可変磁力モータに用いるための低保磁力を満足し、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性をより高くするためには、c/bが0.058以上であることが好ましい。一方、c/bが0.064以下であることが好ましい。
本実施形態に係るR−T−B系希土類永久磁石は、元素Mを含有する。元素MはGa、または、GaとSn、Bi、Siの1種以上とからなる元素であり、遷移金属元素Tの原子組成比に対する元素Mの原子組成比の割合d/bは0.005≦d/b≦0.028である。d/bが0.005より小さい、またはd/bが0.028より大きいと、いずれも2粒子粒界を磁気的交換結合が切れるのに十分な厚みで形成することができない。そのため、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性が低下する。可変磁力モータに用いるための低保磁力を担保し、着磁磁場が低い状態の角形比とマイナー曲線平坦性をより高くするために、d/bが0.008以上であることが好ましい。一方、d/bが0.019以下であることが好ましい。
本実施形態に係るR−T−B系希土類永久磁石は、主相結晶粒子の粉末冶金工程中での反応を促進するAl、Cu、Zr、Nbの1種以上を含有してもよい。Al、Cu、Zrの1種以上を含有することがより好ましく、Al、CuおよびZrを含有することがさらに好ましい。これらの元素の含有量は合計で0.1〜2at%とすることが好ましい。希土類磁石にこれらの元素を添加することで、主相結晶粒子の表面層を反応させ、歪み、欠陥等を除去できる。
本実施形態において、前記主相結晶粒子の平均結晶粒径は、D50≦4.00μmである。着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性を高くするためには、着磁後の単磁区状態が安定であることが有効である。D50が4.00μmよりも大きいと、静磁エネルギーと磁壁エネルギーとのバランスから、着磁後の主相結晶粒子内で単磁区構造よりも多磁区構造が安定化し、減磁過程および増磁過程で磁壁は磁場の変化に応じて自由に動くため、着磁磁場が低い状態の角形比およびマイナー曲線平坦性が悪化してしまう。着磁後の主相結晶粒子の単磁区構造の安定化のために、D50が3.92μm以下であることが好ましく、2.98μm以下であることがより好ましく、2.05μm以下であることがさらに好ましい。また、過度の粒径の微細化を行うと、保磁力が高くなり、可変磁力モータに適さない。そのため、低保磁力を満足させるためにはD50は1.01μm以上であることが好ましく、1.49μm以上であることがより好ましい。
本実施形態において、主相結晶粒子の粒度分布を示す指標として、(D90−D10)/D50を用いる。本実施形態では、(D90−D10)/D50≦1.60である。なお、本実施形態において、D50は、主相結晶粒子の面積の累積分布が50%となる面積を有する円の直径(円相当径)であり、D90は、主相結晶粒子の面積の累積分布が90%となる面積の円相当径であり、D10は、主相結晶粒子の面積の累積分布が10%となる面積の円相当径である。したがって、(D90−D10)/D50が小さいほど、主相結晶粒子の粒度分布のばらつきが少ないことを示す。
着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性を高くするためには、逆磁区発生磁場のばらつきを低減することが有効である。逆磁区発生磁場は、主相結晶粒子の粒径に依存することから、主相結晶粒子の粒度分布のばらつきをコントロールすることが重要である。上記範囲であることが好ましい。(D90−D10)/D50が1.60より大きくなり、粒度分布のばらつきが大きくなってしまうと、逆磁区発生磁場のばらつきも増大するため、マイナー曲線平坦性が低下する。さらに、逆磁区発生磁場のばらつきをより低減するために、(D90−D10)/D50は、1.19以下であることが好ましく、0.99以下であることがさらに好ましい。
本実施形態において、粒界相は非磁性であり、粒界相の厚みとしては3nm以上1μm以下が好ましい。また、粒界相が主相結晶粒子の外周を覆う割合である粒界相の被覆率は70.0%以上である。前記のように主相結晶粒子の平均粒径と粒度分布ばらつきをコントロールできていても、粒界相被覆率が70.0%未満になると、隣接する主相結晶粒子同士が磁気的に交換結合する箇所が多くなることで、交換結合した粒子は、粒径が大きな1つの主相結晶粒子と磁気的に等価となる。このような粒径の大きな主相結晶粒子が多数存在すると、磁気的には、粒径の大きな粒子(交換結合した粒子)と粒径の小さい粒子(交換結合していない粒子)とが混在することになり、主相結晶粒子の粒度分布のばらつきが大きい状態と磁気的に等価となる。その結果、着磁後の単磁区状態が不安定化し、逆磁区発生磁場のばらつきも大きくなるため、着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性が低下する。
更に、粒界相被覆率が70.0%未満になると、隣接する主相結晶粒子と直接接したり、主相結晶粒子が粒界相に被覆されずに表面にエッジが生じたりする箇所が多くなることで、局所的反磁場が増大する。その結果、低い着磁磁場Hmagで単磁区状態を実現する事が出来なくなり、着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性が低下する。低磁場着磁状態着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性をより高くするために、粒界相被覆率は90.0%以上であることが好ましい。
なお、粒界相の被覆率は、R−T−B系永久磁石の断面において、主相結晶粒子の平均結晶粒径D50の値に応じて、主相結晶粒子の輪郭の長さの合計に対する所定の厚みの粒界相に覆われている主相結晶粒子の輪郭の長さの合計の割合として算出する。
本実施形態に係るR−T−B系希土類永久磁石は、その他の元素としてO(酸素)を含有していてもよい。O(酸素)の含有量は2000〜8000ppma(Parts of million atomic)である。O(酸素)の含有量がこの範囲よりも小さいと、焼結磁石の耐食性が不十分となり、この範囲よりも大きいと焼結中に液相が十分に形成されなくなり、主相結晶粒子が粒界相に十分に被覆されなくなって、着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性が低下する。耐食性及び着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性をより高くするために、2500〜7000ppmaであることが好ましい。
また、本実施形態に係るR−T−B系希土類永久磁石は、Nの含有量が8000ppma以下であると好ましい。Nの含有量がこの範囲よりも大きいと、着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性が低下する傾向にある。
以下、本件発明の製造方法の好適な例について説明する。
本実施形態のR−T−B系希土類永久磁石の製造においては、まず、本発明で用いる組成)を有するR−T−B系磁石が得られるような原料合金を準備する。原料合金は、真空又は不活性ガス、望ましくはAr雰囲気中でストリップキャスト法、その他公知の溶解法により作製することができる。
ストリップキャスト法は、原料金属をArガス雰囲気などの非酸化雰囲気中で溶解して得た溶湯を回転するロールの表面に噴出させて合金を得る方法である。ロールで急冷された溶湯は、薄板または薄片(鱗片)状に急冷凝固される。この急冷凝固された合金は、結晶粒径が1μm〜50μmの均質な組織を有している。
原料合金は、ストリップキャスト法に限らず、高周波誘導溶解等の溶解法によって得ることができる。尚、溶解後の偏析を防止するため、例えば水冷銅板に傾注して凝固させることができる。また、還元拡散法によって得られた合金を原料合金として用いることもできる。
本実施形態の原料金属は希土類金属あるいは希土類合金、純鉄、フェロボロン、更にはこれらの合金等を使用することができる。また、添加元素として、Al、Cu、Zr、Nbを含んでも良い。ただし、前記添加元素の含有量は20000ppm以下であることが好ましい。添加元素含有量がこの範囲よりも大きいと、着磁磁場が低い状態の角形比やマイナー曲線平坦性が低下してしまう。
本発明においてR−T−B系希土類永久磁石を得る場合、原料合金として、1種類の合金から磁石を作成するいわゆるシングル合金法の適用を基本とするが、主相結晶粒子であるR14B結晶を主体とする主相合金(低R合金)と、低R合金よりRを多く含み、粒界の形成に有効に寄与する合金(高R合金)とを用いる所謂混合法を適用することもできる。
原料合金は粉砕工程に供される。混合法による場合には、低R合金および高R合金は別々に又は一緒に粉砕される。
粉砕工程には、粗粉砕工程と微粉砕工程とがある。まず、原料合金を、粒径数百μm程度になるまで粗粉砕する。粗粉砕は、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等を用い、不活性ガス雰囲気中にて行なうことが望ましい。粗粉砕工程では、原料合金に水素吸蔵後に脱水素することにより粉砕を行なうことが効果的である。ストリップキャスト法で作製した原料合金は狙い粒径程度の幅の主相成分がデンドライト状のRリッチ相に分断された構造になっており、Rリッチ相が水素吸蔵処理されることで膨張してクラックが入り、粗粉砕工程後の微粉砕工程での粉砕効率が向上し、焼成後の主相結晶粒子の粒度分布ばらつきの抑制にもつながる。
水素吸蔵処理は大気圧の水素ガス中に原料合金を暴露して行う。水素吸蔵時の保持温度は通常は室温であるが、希土類元素中のYの含有比率が高い場合は、室温ではYの含有比率が高いRリッチ相への水素吸蔵が困難となるため、室温よりも高い温度、例えば500℃以下とすることが好ましい。保持時間は、保持温度との関係、原料合金の組成、重量等によって変わり、1kg当たり少なくとも30分以上、望ましくは1時間以上とする。水素吸蔵後の脱水素処理は、希土類焼結磁石として不純物となる水素を減少させることを目的として行われる。
脱水素処理は真空又は不活性ガス雰囲気中で原料合金を加熱して行う。加熱温度は、200〜400℃以上とし、望ましくは300℃とする。保持時間は、保持温度との関係、原料合金の組成、重量等によって変わり、1kg当たり少なくとも30分以上、望ましくは1時間以上とする。水素放出処理は、真空中又はArガスフローにて行う。尚、水素吸蔵処理、脱水素処理は必須の処理ではない。この水素粉砕を粗粉砕と位置付けて、機械的な粗粉砕を省略することもできる。
粗粉砕工程後、微粉砕工程に移る。微粉砕には主にジェットミルが用いられ、粒径数百μm程度の粗粉砕粉末を、平均粒径1.2μm〜4μm、望ましくは1.5μm〜3μmとする。ジェットミルは、高圧の不活性ガスを狭いノズルより開放して高速のガス流を発生させ、この高速のガス流により粗粉砕粉末を加速し、粗粉砕粉末同士の衝突やターゲットあるいは容器壁との衝突を発生させて粉砕する方法である。粉砕された粉末は粉砕機内蔵の分級ロータおよび粉砕機下流のサイクロンによって分級される。
微粉砕には湿式粉砕を用いてもよい。湿式粉砕にはボールミルや湿式アトライタなどが用いられ、粒径数百μm程度の粗粉砕粉末を、平均粒径1.5μm〜4μm、望ましくは2μm〜3μmとする。湿式粉砕では適切な分散媒の選択により、磁石粉が酸素に触れることなく粉砕が進行するため、酸素濃度が低い微粉末が得られる。
本実施形態において、主相に含まれる結晶粒子の粒度分布を(D90−D10)/D50≦1.60を満たすためには、微粉砕工程後、回収した微粉砕粉末を再びジェットミルに投入して更に精密に分級する工程を設ける事が好ましい。
この分級工程の追加により、粒度分布がよりシャープな微粉砕粉末が得ることができる。
微粉砕粉末は成形工程に供される。なお、成形時の潤滑および配向性の向上を目的とした脂肪酸又は脂肪酸の誘導体や炭化水素を添加することができる。例えばステアリン酸系、ラウリル酸系やオレイン酸系脂肪酸類であるステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸アミド、ラウリル酸アミド、オレイン酸アミド、エチレンビスイソステアリン酸アミド、炭化水素であるパラフィン、ナフタレン等を微粉砕時に0.01wt%〜0.3wt%程度添加することができる。
磁場中成形における成形圧力は0.3ton/cm 〜3ton/cm (30MPa〜300MPa)の範囲とすればよい。成形圧力は成形開始から終了まで一定であってもよく、漸増または漸減してもよく、あるいは不規則変化してもよい。成形圧力が低いほど配向性は良好となるが、成形圧力が低すぎると成形体の強度が不足してハンドリングに問題が生じるので、この点を考慮して上記範囲から成形圧力を選択する。磁場中成形で得られる成形体の最終的な相対密度は、通常、40%〜60%である。
印加する磁場は、960kA/m〜1600kA/m程度とすればよい。印加する磁場は静磁場に限定されず、パルス状の磁場とすることもできる。また、静磁場とパルス状磁場を併用することもできる。
成形体は焼結工程に供される。焼結は真空又は不活性ガス雰囲気中にて行われる。焼結保持温度および焼結保持時間は、組成、粉砕方法、平均粒径と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要があるが、凡そ1000℃〜1200℃で1分〜20時間であればよいが、4時間〜20時間であることが好ましい。
焼結後、得られた焼結体に時効処理を施すことができる。この時効処理工程を経た後、隣接するR14B主相結晶粒子間に形成される粒界相の構成が決定される。しかしながら、これらの微細構造はこの工程のみで制御されるのではなく、上記した焼結工程の諸条件及び原料微粉末の状況との兼ね合いで決まる。従って、熱処理条件と焼結体の微細構造との関係を勘案しながら、熱処理温度、時間及び冷却速度を設定すればよい。熱処理は400℃〜900℃の温度範囲で行えばよい。
以上の方法により、本実施形態に係る希土類磁石が得られるが、希土類磁石の製造方法は上記に限定されず、適宜変更してよい。
本実施形態に係る希土類磁石の着磁磁場Hmagと角形比とマイナー曲線平坦性の指標の定義と評価方法について説明する。
評価に必要な測定はBHトレーサーで行う。まず、本実施形態では、着磁磁場Hmagのうち、角形比とマイナー曲線平坦性が繰り返し測定に対して再現性を持つ必要最低限の磁場を、最低着磁磁場Hmagとして定義する。具体的な評価方法を図1に実験例3の試料の場合で示す。一定磁場間隔で最大測定磁場を増加させながらヒステリシスループを測定し、ヒステリシスループが閉じて、かつ対称な形状となる(正側と負側の保磁力の差が5%未満)場合に繰り返し測定に対する再現性が保証されるため、その必要最低限の最大測定磁場を最低着磁磁場Hmagとする。
次に最低着磁磁場における角形比は、前記最低着磁磁場Hmagで測定したマイナーループの角形比Hk_Hmag/HcJ_Hmagを用いる。ここで、Hk_Hmagは最低着磁磁場Hmagで測定したマイナーループの第2象限で残留磁束密度Br_Hmagの90%となる磁場の値、そしてHcJ_Hmagは最低着磁磁場Hmagで測定したマイナーループの保磁力である。
マイナー曲線平坦性の指標は下記のように定義し評価する。図2に実験例3の試料について、逆磁場Hrevを変化させながら測定したマイナーループ群を示す。複数の逆磁場Hrevからの磁化曲線のうち、マイナーループの第2、第3象限の保磁力に相当する動作点(−HcJ_Hmag,0)からの磁化曲線(図2の太線)について、最低着磁磁場Hmag印加時の磁気分極Jsの50%となる磁場をH_50%Jsとしたときのマイナーループの保磁力HcJ_Hmagとの比
_50%Js/HcJ_Hmag
をもってマイナー曲線平坦性の指標とする。
可変磁束磁石として使用するためには、本実施形態に係る希土類磁石の最低着磁磁場Hmagは8.0kOe以下であることが好ましく、6.0kOe以下であることがより好ましい。
また、最低着磁磁場における本実施形態に係る希土類磁石のHcJ_Hmagは7.0kOe以下であることが好ましく、4.0kOe以下であることがより好ましい。
また、最低着磁磁場における本実施形態に係る希土類磁石のHk/HcJ_Hmagは少なくとも0.80以上であることが好ましく、0.90以上であることがより好ましい。
最低着磁磁場における本実施形態に係る希土類磁石のH_50%Js/HcJ_Hmagは少なくとも0.50以上であることが好ましく、0.80以上であることがより好ましい。
本実施形態に係る希土類磁石の主相の平均結晶粒径、粒度分布、粒界相被覆率は、SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて評価することができる。上記した磁気特性を評価した試料の研磨断面を観察し、反射電子組成像(COMPO)により、主相結晶粒子、および粒界相などそれ以外の相の確認を行う。倍率は観測対象の研磨断面において、所定の厚みを有する2粒子粒界相を認識できる倍率、例えば5000倍以上で撮影する。研磨断面は配向軸に平行であっても、配向軸に直交していても、あるいは配向軸と任意の角度であってよい。
図3に実験例3(後述)の試料断面のSEM反射電子像を示すが、この画像を画像解析ソフトに取り込んで、各主相結晶粒子1の輪郭を抽出し、断面積を求めた。得られた主相結晶粒子断面積の累積分布が10%、50%、90%となる面積円相当径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、中央値D50を主相の平均結晶粒径として、(D90−D10)/D50を粒度分布として定義する。粒度分布(D90−D10)/D50が0である場合全くばらつきがないことを意味し、粒度分布(D90−D10)/D50が大きくなるほどばらつきが大きいことを示す。ここで、図4は、図3の画像の画像解析により抽出した主相結晶粒子の輪郭を示す図である。
図4において、同SEM反射電子像から抽出した各主相結晶粒子1の輪郭のうち、隣り合う別の主相結晶粒子1’に接触する部分3の長さと粒界相2に接触する部分4の長さとを区別して、粒子毎に個別に算出する。ここから、全主相結晶粒子1の輪郭の長さの合計に対する粒界相と接触する部分の長さの合計の比率を粒界相被覆率として算出する。
ここでは、粒界相のうち、交換結合が切れる3nmよりも十分に広い値(D50が1.0μm以上の場合は20nm、D50が1.0μm未満の場合は5nm)以上の幅で主相と異なる組成のコントラストを持つ領域を認識し、当該領域に接触する主相結晶粒子の輪郭部分が粒界相と接触する部分として検出されている。これらの一連の測定および算出を、その試料について5視野以上の磁石断面について行い、その平均値を各パラメータの代表値とする。
以下、本発明の内容を実施例および比較例を用いて詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
(実験例1〜6)
表1に示す組成のR−T−B系焼結磁石が得られるように原料を配合し、それらの原料を溶解したのち、ストリップキャスト法により鋳造して、フレーク状の原料合金を得た。
次いで、これらの原料合金に対して500℃で水素を吸蔵させた後、Ar雰囲気で300℃での1時間の熱処理の後、一旦室温まで冷却し、真空雰囲気で再び300℃での1時間の熱処理を行う水素粉砕処理を行った。その後、得られた粉砕物をAr雰囲気下で室温まで冷却した。
次に、水素粉砕処理を行った粗粉砕粉末に、粉砕助剤として、ラウリル酸アミド0.1質量%を添加した後、ジェットミルを用いて微粉砕を行った。微粉砕に際しては、微粉砕粉末の平均粒径が1.7μmとなるように、ジェットミルの分級ロータの回転速度を調節した。微粉砕工程後、回収した微粉砕粉末を再びジェットミルに投入して2回分級することで、分級精度を高め、粒度分布ばらつきを低減した。
得られた微粉砕粉末を、電磁石中に配置された金型内に充填し、1200kA/mの磁場を印加しながら120MPaの圧力を加える磁場中成形を行い、成形体を得た。
その後、得られた成形体を、焼結した。真空中1030℃で4時間保持して焼結を行った後、急冷して、焼結体(R−T−B系焼結磁石)を得た。そして、得られた焼結体をAr雰囲気下、590℃で1時間の時効処理を施し、実験例1〜6の各R−T−B系焼結磁石を得た。
尚、本実施例では、上記のこの水素粉砕処理から焼結までの各工程を、50ppm未満の酸素濃度の不活性ガス雰囲気下で行った。
実験例1〜6のR−T−B系焼結磁石について、組成分析を行った結果を表1に示す。表1に示した各元素の含有量はICP発光分析により測定した。
Figure 0006848736
実験例1〜6で得られたR−T−B系焼結磁石について、配向軸を含む平面に沿った研磨断面をSEMにより観察し、観察像を画像解析ソフトに取り込んで、主相結晶粒子の平均粒径D50と、粒度分布(D90−D10)/D50と、粒界相被覆率とを評価した結果を、表2に示す。
実験例1〜6で得られたR−T−B系焼結磁石の磁気特性をB−Hトレーサーを用いて測定した。磁気特性として、上記で規定した最低着磁磁場Hmag、同着磁磁場Hmagで測定したマイナーヒステリシスループの保磁力HcJ_Hmag、角形比Hk/HcJ_Hmag、マイナー曲線平坦性の指標H_50%Js/HcJ_Hmagを求めた。結果を表2に併せて示す。
Figure 0006848736
表2に示されるように、実験例2〜5のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つことから、0.4≦x≦0.7の範囲で、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。
更に、その中でも0.4≦x≦0.6を満たす実験例2〜4のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
(実験例3、7〜9)
表1に示す組成のR−T−B系焼結磁石が得られるように原料を配合し、実験例1と同様にして、それぞれの組成について、原料合金の鋳造、水素粉砕処理、ジェットミルによる微粉砕、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例7〜9のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例3、7、8のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つことから、0.00≦y+z≦0.20の範囲で、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。更に、その中でも0.00≦y+z≦0.10を満たす実験例3、7のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
(実験例3、10〜14)
表1に示す組成のR−T−B系焼結磁石が得られるように原料を配合し、実験例1と同様にして、それぞれの組成について、原料合金の鋳造、水素粉砕処理、ジェットミルによる微粉砕、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例10〜14のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例3、11〜13のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性よりも高くなっていることから、0.16≦a/b≦0.28の範囲で、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。更に、その中でも0.24≦a/b≦0.28を満たす実験例3、13のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
(実験例3、15〜21)
表1に示す組成のR−T−B系焼結磁石が得られるように原料を配合し、実験例1と同様にして、それぞれの組成について、原料合金の鋳造、水素粉砕処理、ジェットミルによる微粉砕、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例15〜21のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例3、16〜20のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つことから、0.050≦c/b≦0.075の範囲で低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。更に、その中でも0.058≦c/b≦0.064を満たす実験例3、17、18のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
(実験例3、22〜29)
表1に示す組成のR−T−B系焼結磁石が得られるように原料を配合し、実験例1と同様にして、それぞれの組成について、原料合金の鋳造、水素粉砕処理、ジェットミルによる微粉砕、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例22〜29のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例3、23〜28のR−T−B系焼結磁石の最低着磁磁場が、8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つことから、0.005≦d/b≦0.028の範囲で低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。更に、その中でも0.008≦d/b≦0.015を満たす実験例3、24〜26のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
実験例1〜29のR−T−B系焼結磁石のうち、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つ実験例2〜5、7、8、11〜13、16〜20、23〜28のR−T−B系焼結磁石は、粒界相被覆率70.0%以上を満たしていた。さらに、その中でも、より高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つ実験例2〜4、7、8、13、17、18、24〜26のR−T−B系焼結磁石は、粒界相被覆率90.0%以上を満たしていた。
(実験例3、30〜35)
表1の実験例3で水素粉砕処理まで行った粗粉砕粉末に、粉砕助剤として、ラウリル酸アミド0.1質量%を添加した後、ジェットミルを用いて微粉砕を行った。微粉砕に際しては、微粉砕粉末の平均粒径が、実験例30では1.0μm、実験例31では1.4μm、実験例32では1.9μm、実験例33では1.7μm、実験例34では2.7μm、実験例35では4.7μmとなるように、ジェットミルの分級条件を調節した。微粉砕工程後、回収した各微粉砕粉末を再びジェットミルに投入して更に精密に分級した。
得られたそれぞれの微粉砕粉末を、実験例1と同様にして、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例30〜35のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例3、30〜34のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つことから、D50≦4.00μmの範囲で、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。更に、その中でもD50≦3.00μmを満たす実験例3、30〜33のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
(実験例3、36〜38)
表1の実験例3で鋳造した原料合金に対して、実験例36、37では、室温で水素を吸蔵させた後、Ar雰囲気で300℃での1時間の熱処理の後、一旦室温まで冷却し、真空雰囲気で再び300℃での1時間の熱処理を行う水素粉砕処理を行った。実験例38では、水素粉砕処理を行わず、スタンプミルにて機械的粗粉砕を行った。
次に、それぞれの条件で粗粉砕を行った粉末に、粉砕助剤として、ラウリル酸アミド0.1質量%を添加した後、ジェットミルを用いて微粉砕を行った。微粉砕に際しては、微粉砕粉末の平均粒径が1.7μmとなるように、ジェットミルの分級条件を調節した。更に、実験例36では微粉砕工程後、回収した微粉砕粉末を再びジェットミルに投入して更に精密に分級した。
得られたそれぞれの微粉砕粉末を、実験例1と同様にして、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例36〜38のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例3、36、37のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性を持つことから、(D90−D10)/D50≦1.60の範囲で、低保磁力、かつ、着磁磁場が低い状態での高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることが確認された。更に、その中でも(D90−D10)/D50≦1.20を満たす実験例3、36のR−T−B系焼結磁石で、より高い角形比とマイナー曲線平坦性が得られていることも確認された。
(実験例2〜4、39〜41)
表1に示す組成のR−T−B系焼結磁石が得られるように原料を配合し、実験例2〜4と同様にして、それぞれの組成について、原料合金の鋳造、水素粉砕処理、ジェットミルによる微粉砕、成形、焼結、時効処理を行った。
実験例39〜41のR−T−B系焼結磁石について、実験例1と同様にして、組成分析した結果を表1に示す。また、主相結晶粒子の平均粒径、粒度分布、粒界相被覆率を評価した結果、および磁気特性を測定した結果を、表2に併せて示す。
実験例39〜41のR−T−B系焼結磁石が、最低着磁磁場が8.0kOe以下、最低着磁磁場における保磁力が7.0kOe以下を満たし、最低着磁磁場においても高い角形比とマイナー曲線平坦性よりも高くなっていることから、Feの一部がCoで置換されていない場合であっても、同様の効果が得られることが確認された。
以上、本発明を実施の形態をもとに説明した。実施の形態は例示であり、いろいろな変形および変更が本発明の特許請求範囲内で可能なこと、またそうした変形例および変更も本発明の特許請求の範囲にあることは当業者に理解されるところである。従って、本明細書での記述は限定的ではなく例証的に扱われるべきものである。
本発明によれば、幅広い回転速度域にて高い効率を維持できる可変磁力モータに好適なR−T−B系希土類永久磁石を提供できる。
1…主相結晶粒子、1’…主相結晶粒子、2…粒界相、3…主相結晶粒子断面の輪郭のうち粒界相に接触する部分、4…主相結晶粒子断面の輪郭のうち主相結晶粒子に接触する部分

Claims (2)

  1. 組成式が、
    (R11−x(Y1−yーzCeLaで表され、
    (但し、R1は、Y、Ce、Laを含まない1種以上の希土類元素、TはFeまたはFeおよびCoを必須とする1種以上の遷移金属、
    MはGa、または、GaとSn、Bi、Siの1種以上とからなる元素であり、)0.4≦x≦0.7、0.00≦y+z≦0.20、0.16≦a/b≦0.28、0.050≦c/b≦0.075、0.005≦d/b≦0.028
    からなるR−T−B系希土類永久磁石であって、
    前記R−T−B系希土類永久磁石は、R14B型正方晶構造を有する化合物からなる主相と粒界相を含み、
    前記主相結晶粒子の平均結晶粒径は、D50≦4.00μm、
    粒度分布が(D90−D10)/D50≦1.60の関係式を満たす、
    (但し、D10、D50、D90は、任意の断面における主相結晶粒子の断面積の累積分布が10%、50%、90%となる面積円相当径)
    さらに前記粒界相の被覆率が70.0%以上であることを特徴する、R−T−B系希土類永久磁石。
  2. 前記主相結晶粒子の平均結晶粒径がD50≦3.00μm、粒度分布が(D90−D10)/D50≦1.20の関係式を満たし、
    さらに前記粒界相の被覆率が90.0%以上であることを特徴とする、請求項1に記載のR−T−B系希土類永久磁石。
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