JP6846993B2 - 基板保持具及びこれを用いた基板処理装置 - Google Patents

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Description

本発明は、基板保持具及びこれを用いた基板処理装置に関する。
従来から、被処理基板を多段に搭載保持する保持具と、保持具を収容して所定の処理ガスを供給し、被処理基板に所定の熱処理を施す処理容器とを有し、保持具内には被処理基板ごとに隔壁板で仕切られた処理空間が形成された処理装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
かかる特許文献1に記載の処理装置においては、処理容器は、上端が共に閉塞されると共に一体化された内管部及び外管部からなる二重管構造である。また、内管部内に保持具が収容され、内管部の内面には処理ガスを導入するガス導入管を収容する収容溝部が形成されており、内管部の内周面と保持具との外周面との間の隙間をできるだけ小さくすることにより、各処理空間から隣接する他の処理空間へのガスの拡散を防止し、独立した処理空間の確保を図っている。これにより、多数枚の被処理基板の表面に均一な成膜を行うことができる。
特開2007−109711号公報
しかしながら、上述の特許文献1に記載の構成では、多段に保持された被処理基板ごとに隔壁板を設けるため、保持具の構造が複雑化するとともに、一度に搭載できる被処理基板の枚数が、隔壁板を設けない場合よりも少なくなり、スループットが低下するという問題があった。
そこで、本発明は、構造を複雑化することなく、ガスの拡散を防止し、効率的な基板処理を行うことができる基板保持具及びこれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る基板保持具は、天板と、底板と、該天板及び該底板の外縁部に端部が連結して設けられた複数本の支柱とを有し、基板を多段に保持可能な基板保持具であって、
前記天板及び前記天板に連結された前記支柱のうち最も外側に位置する部分は、前記天板の近傍の上端付近の前記支柱の外側が削られることにより、前記底板及び前記底板に連結された前記支柱のうち最も外側に位置する部分よりも小さく形成されている。
本発明によれば、供給したガスの拡散を防止し、効率的な基板処理を行うことができる。
本実施形態に係る基板処理装置の一例の概略構成図である。 本発明の第1の実施形態に係るウエハボートと従来技術に係るウエハボートとの相違点を説明するための図である。 従来のウエハボートを用いて処理容器のインナーチューブを縮径した場合を示した模式図である。 第1の実施形態に係るウエハボートを用いて処理容器のインナーチューブを縮径した場合を示した模式図である。 図3で説明した干渉発生状態を実際の製品に近い構成で説明するための図である。 図4で説明した干渉回避状態を実際の製品に近い構成で説明するための図である。 支柱の補強構造を説明するための図である。 第1の実施形態に係るウエハボートの薄肉部の削減量の一例を示した図である。 本発明の第2の実施形態に係るウエハボートの一例を示した図である。 第2の実施形態に係るウエハボートの基板保持用支柱の断面図である。 第2の実施形態において強度を低減させない基板保持用支柱の構成を示した図である。 第3の実施形態に係るウエハボートの一例の構成を示した図である。 本発明の第4の実施形態に係るウエハボートの一例の構成を示した図である。 本発明の第5の実施形態に係るウエハボートの一例の構成を示した図である。 本発明の第6の実施形態に係るウエハボートの一例の構成を示した図である。 本発明の第7の実施形態に係るウエハボートの一例の構成を示した図である。 第2の実施形態に係るウエハボートを用いた基板処理装置の上面図である。
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
[基板処理装置の全体構成]
先ず、本実施形態に係る基板処理装置100について、図1を参照しながら説明する。図1に、本実施形態に係る基板処理装置100の一例の概略構成図を示す。
本実施形態に係る基板処理装置100は、全体として縦長の鉛直方向に延びた形状を有する。基板処理装置100は、縦長で鉛直方向に延びた処理容器10を有する。処理容器10は、例えば、石英で形成される。処理容器10は、例えば、円筒体のインナーチューブ(内筒)11と、インナーチューブ11の外側に同心的に載置された有天井のアウターチューブ(外筒)12との2重管構造を有する。
処理容器10の下端部は、ステンレススチール等から形成されるマニホールド20によって、気密的に保持される。マニホールド20は、図示しないベースプレートに固定される構成であっても良い。
マニホールド20は、処理容器10内に処理ガスや、不活性ガス(例えばNガス)等のパージガスを導入するインジェクタ30と、処理容器10内を排気するガス排気部40とを有する。なお、図1では、インジェクタ30が1つ設置される構成を示したが、本実施形態はこの点において限定されない。使用するガス種の数等に依存して、複数のインジェクタ30を有する構成であっても良い。
処理ガスの種類としては、特に限定されず、成膜する膜の種類等に応じて、当業者が適宜選択することができる。例えば、半導体ウエハ等の基板に酸化シリコン(SiO)膜を形成する場合、処理ガスの一例として、ジクロロシラン(SiHCl)及び一酸化二窒素(NO)が挙げられる。
インジェクタ30には、前述の各種ガスを導入するための配管31が接続される。なお、配管31には、ガス流量を各々調整するための、図示しないマスフローコントローラ等の流量調整部や図示しないバルブ等が介設されている。
また、ガス排気部40には、処理容器10内を減圧制御可能な真空ポンプ43や、開度可変弁42等を有する真空排気路からなる配管41が接続されている。
マニホールド20の下端部には、炉口21が形成されており、この炉口21には、例えばステンレススチール等から形成される円盤状の蓋体50が設けられている。この蓋体50は、昇降機構51により、昇降可能に設けられており、炉口21を気密に封止可能に構成されている。
蓋体50の上には、例えば石英製の保温筒60が設置されている。また、保温筒60の上には、例えば25枚から175枚程度のウエハWを、水平状態で所定の間隔で多段に保持する、例えば石英製のウエハボート90が載置されている。即ち、ウエハボート90は、ウエハWを保持する基板保持具として機能する。
ウエハボート90は、昇降機構51を用いて、蓋体50を上昇させることで処理容器10内へと搬入され、処理後は、蓋体50を下降させることで処理容器10内から搬出される。
ウエハボート90は、長手方向に複数のスロット(支持溝)を有する溝構造を有し、ウエハWは、各々水平な状態で上下に間隔をおいてスロットに積載される。ウエハボート90に載置されるウエハ群は、1つのバッチを構成し、バッチ単位で各種の基板処理が施される。なお、ウエハボート90の構成の詳細については後述する。
処理容器10の外側には、処理容器10を所定の温度に加熱可能なヒータ70が設けられる。ヒータ70は、例えば円筒形状を有する。
また、本実施形態に係る基板処理装置100は、図1に示すように、制御部80を有する。制御部80は、基板処理装置100の全体を制御する。より詳細には、制御部80は、レシピに従い、レシピに示された種々の処理条件下で基板処理を行うべく、基板処理装置100内の種々の機器の動作を制御する。また、制御部80は、熱処理装置100内に設けられた種々のセンサからの信号を受信することにより、ウエハWの位置等を把握して、プロセスを進めるシーケンス制御を行う。更に、制御部80は、基板処理装置100内に設けられた種々の検出器で検出される物理的測定値等を受信することにより基板処理の状態を把握し、基板処理を適切に行うために必要なフィードバック制御等を行うようにしてもよい。
よって、制御部80は、CPU(Central Processing Unit、中央処理装置)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等の演算手段及び記憶手段を備え、プログラムが記憶された記憶媒体からレシピの処理を行うプログラムをインストールし、レシピの処理を実行するようなマイクロコンピュータとして構成されてもよいし、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)のような電子回路として構成されてもよい。
[第1の実施形態]
次に、本発明の第1の実施形態に係る基板保持具及び基板処理装置について説明する。図2は、本発明の第1の実施形態に係るウエハボートを示した図である。図2(a)は、第1の実施形態に係るウエハボート90の上面図であり、図2(b)は、第1の実施形態に係るウエハボート90の正面図である。また、図2(c)は、図2(b)のD−D断面で切って上から見た切断上面図である。
図2(a)〜(c)に示されるように、基板保持具90は、天板91と、底板92と、基板保持用支柱93と、補助支柱94とを有する。このうち、補助支柱94は必須ではなく、必要に応じて設けられる。
図2(b)に示されるように、最上部に天板91が配置され、最下部に底板92が配置される。また、天板91及び底板92に両端が連結固定された基板保持用支柱93及び補助支柱94が設けられる。図2(b)においては、基板保持用支柱93及び補助支柱94は、天板91と底板92との間に設けられ、天板91及び底板92を連結支持するように設けられている。
基板保持用支柱93は、ウエハW等の基板を多段に保持するための手段であり、鉛直方向に複数形成された爪93aを有する。隣接する爪93a同士の間には溝93bが形成され、溝93b内(又は爪93a上)にウエハWを水平に保持することが可能な構成となっている。このように、基板保持用支柱93は、溝93b内にウエハWを水平な状態で多段に保持可能な構成を有する。なお、ウエハWを保持するためには、少なくとも3点でウエハWを支持する必要があるため、少なくとも3本の基板保持用支柱93が必要である。
図2(a)、(b)において、3本の基板保持用支柱93と、2本の補助支柱94が示されている。基板保持用支柱93は、3本以上であればよく、必要に応じて、4本、5本と増加させてもよい。例えば、図2において、補助支柱94を総て基板保持用支柱93とし、5本の基板保持用支柱93を設けることも可能である。一方、補助支柱94は必要に応じて設ければよく、不要であれば無くすことも可能である。また逆に、補助支柱94を多く設けることも可能であり、例えば3本以上の補助支柱94を設けることも可能である。図2においては、3本の基板保持用支柱93を設けるとともに、隣り合う基板保持用支柱93同士の間に2本の補助支柱94を設けた例を挙げて説明する。なお、以下、基板保持用支柱93と補助支柱94の双方を合わせて、支柱93、94と呼んでもよいこととする。
天板91は、ウエハボート90の最上部に設けられ、天井面を形成する。図2(a)に示されるように、天板91は、円形部91aと、突出部91bとを有する。円形部91aは、C1を中心として円形をなす部分である。突出部91bは、円形部91aから径方向外側に突出した部分であり、この部分に基板保持用支柱93及び補助支柱94が設置される。よって、突出部91bは、支柱設置部として機能する。
図2(a)に示されるように、突出部91bが天板91の最も外側に位置する部分となる。基板処理装置100では、一般的にウエハボート90を回転させながら基板処理を行うため、破線で示されるように、突出部91bの最も外側の部分がウエハボート90の旋回半径Rを定めることになる。図2(a)に示されるように、5個の突出部91bの突出量は等しくなるように設定され、5個の突出部91bの各々がウエハボート90の天板91側の旋回半径Rを定める。
図2(b)に示されるように、本実施形態においては、天板91の突出部91bの最も外側の部分と、支柱93、94の最も外側の部分は、外形が一致するように形成される。よって、天板91の旋回半径Rと、天板91に接続された支柱93、94の旋回半径Rは同一となる。一方、天板91よりも外側に支柱93、94が設けられている場合、例えば、天板91及び底板92の外側面に接するように支柱93、94が設けられている場合には、支柱93、94の外周面がウエハボート90の最も外側の面となり、ウエハボート90の旋回半径Rを定めることになる。また逆に、天板91のやや内側に支柱93、94が設けられている場合には、天板91の突出部91bがウエハボート90の最も外側の部分となり、ウエハボート90の旋回半径Rを定めることになる。
本実施形態においては、以下、天板91の突出部91bと支柱93、94の最も外側の面が一致する場合について説明するが、支柱93、94が天板91からはみ出している構造のウエハボート90にも適用可能である。
図2(c)に示されるように、図2(b)のD−D断面で切って底板92を上面視すると、天板91と同様に、円形部92aと、円形部92から径方向外側に突出した突出部92bが設けられている。そして、突出部92bに支柱93、94を設置する構成となっている。なお、図2(b)にも示されるように、突出部92bの最も外側の外形と、底板92に連結固定される支柱93、94の外形は一致するように設けられる。また、底板92の中心領域には開口92cが形成されており、この点で天板91とは異なっている。開口92cは、ウエハボート90を保温筒60の上に載置する際に、載置台との係合を行うために設けられており、必須ではなく、必要に応じて設けられてよい。
ここで、図2(a)を再び参照し、突出部91bの拡大図を参照すると、突出部91bの外形の一部が削られて外形が小さくなるように構成されていることが分かる。これは、支柱93、94の外形を削って小さくし、ウエハボート90の旋回半径Rを小さくするための構成である。第1の実施形態に係るウエハボート90では、このような外側を削る加工を少なくとも天板11及び天板近傍の総ての支柱93、94に施し、天板91側におけるウエハボート90の旋回半径が、底板92側における旋回半径よりも小さくなるように構成している。
以下、このような加工を行う理由について説明する。
近年、ウエハWに形成されているパターンが複雑化し、NAND等、3次元構造とも呼べるパターンが形成されたウエハWに成膜等の基板処理を行う要請が増大している。このような複雑化したパターンは、表面積が大きくなっているため、より深い部分にまで処理ガスを到達させて基板処理を行う必要がある。図1で説明した基板処理装置100において、インナーチューブ11とウエハボート90との間の離間距離が大きいと、供給した処理ガスがインナーチューブ11とウエハボート90との間の間隔から上方に抜けてしまい、ウエハWに十分に届いていないかも知れないという懸念があり、インナーチューブ11とウエハボート90との間隔を狭くする要請がある。
しかしながら、現状でもインナーチューブ11とウエハボート90との間の間隔は相当に狭く設定しており、例えば、1cm程度又はそれよりも小さいレベルのクリアランスに設定されている場合が多い。インナーチューブ11の内径を現状よりも更に小さくすると、ウエハボート90の上端、つまり天板91付近で支柱93、94とインナーチューブ11とが接触するおそれがある。現在の基板処理装置においては、加工上及び組み上げ上必要と考えられる最小公差を積み上げ、公差の積み上げが最も大きくなる支柱93、94の外周の最上位置において算出している。かかる積み上げ公差は、円柱状で同径で直線的に延びた支柱93、94においては、限界に近い間隔に設定している。よって、そのままの構造では、インナーチューブ11を縮径すると、公差の限界を下回り、インナーチューブ11の内周面とウエハボート90の外周面とが接触してしまうおそれがある。
そこで、本実施形態に係るウエハボート90では、少なくとも天板91の近傍の上端付近の支柱93、94の外側を削り、インナーチューブ11をもう少し縮径させることが可能な構成としている。
図3は、従来のウエハボート1090を用いて処理容器10のインナーチューブ11を縮径した場合を示した模式図である。図3に示されるように、従来のウエハボート1090では、積み上げ公差が最も大きくなる支柱1093の上端の外周部において、インナーチューブ11と接触し、干渉してしまうおそれがある。
図4は、第1の実施形態に係るウエハボート90を用いて処理容器10のインナーチューブ11を縮径した場合を示した模式図である。図4に示されるように、ウエハボート90の支柱93、94の上端の外周面を削り、テーパー加工することにより、ウエハボート90とインナーチューブ11との接触を回避することができる。
図5は、図3で説明した従来のウエハボートにおける干渉発生状態を、より実際の製品に近い構成で説明するための図である。図5に示される通り、支柱1093の太さが一定で高さがHの従来のウエハボート1090を用いてインナーチューブ11を縮径すると、積み上げ公差により角度αだけウエハボート1090が傾斜すると、支柱1093の上端の外周面とインナーチューブ11の内周面とが接触し、干渉が発生してしまう。
図6は、図4で説明した第1の実施形態に係るウエハボートの干渉回避状態を、より実際の製品に近い構成で説明するための図である。図6(a)に示される通り、図5と同じようにインナーチューブ11を縮径した状態で、高さがHのままで、支柱93(又は94)の上端の外周面をテーパー加工した本実施形態に係るウエハボート90を用いると、ウエハボート90が角度α傾斜しても、ウエハボート90の支柱93(又は94)の上端の外周面とインナーチューブ11の内周面とがクリアランスを保つことができ、干渉を回避することができる。
図6(b)は、図6(a)のウエハボート90の上端の外周面の拡大図である。図6(b)に示されるように、支柱93(又は94)の最上部の外周面を、長さLに亘りテーパー加工し、テーパー面を形成することにより、インナーチューブ11との間でクリアランスdを確保することができ、ウエハボート90とインナーチューブ11との干渉を回避することができる。
なお、例えば、ウエハボート90の高さHを1m前後としたときに、その1/10程度の10cm程度の長さLに亘って支柱93、94の最上部の外周面をテーパー加工すれば、1mm程度のクリアランスdを確保することが可能となる。
ここで、ウエハボート90の支柱93、94の外周面を削り、テーパー加工を施した場合に、支柱93、94の肉厚が薄くなるので、支柱93、94の強度が低下する懸念が生ずる場合もある。
そこで、そのような支柱93、94の強度低下が懸念される場合には、外側を削って薄肉とした分を周方向に付加して、支柱93、94の断面積を変化させないようにし、支柱93、94の強度を低下させない対応が考えられる。
図7は、支柱93、94の補強構造を説明するための図である。図7(a)は、従来のウエハボート1090の基板支持用支柱1093の一例を示した断面図である。図7(b)は、第1の実施形態に係るウエハボート90の基板支持用支柱93の一例を示した断面図である。
図7(a)に示される通り、従来のウエハボート1090の基板支持用支柱1093は、円柱形状であるので、円形の断面形状を有する。
一方、図7(b)に示される通り、本実施形態に係るウエハボート90の基板支持用支柱93は、径方向における外側を削って肉厚を薄くし、薄肉部93cを形成するが、削った削除断面93dを周方向に付加し、付加断面93eを新たに形成すれば、断面積は変化しないので強度を維持することができる。このように、薄肉部93cを形成することにより、基板支持用支柱93の強度不足が懸念される場合には、削除断面93dの分を周方向に付加して付加断面93eを追加形成することにより、強度を維持することができる。
なお、図7においては、削除断面93dと付加断面93eの量を同一とし、断面積を一旦に維持する場合について説明したが、強度が十分であれば、削除断面93dの面積分を総て付加断面93eとせず、僅かに周方向に強度補強を行う構成としてもよく、用途に応じて種々の構成とすることができる。
なお、図7においては、基板支持用支柱1093、93を例に挙げて説明したが、補助支柱94にも同様に適用可能であることは言うまでも無い。
図8は、第1の実施形態に係るウエハボート90の薄肉部の削減量の一例を示した図である。図8(a)は、従来のウエハボート1090の基板保持用支柱1093の肉厚の一例を示した図であり、図8(b)は、第1の実施形態に係るウエハボート90の基板支持用支柱93の薄肉部93cの肉厚の一例を示した図である。
図8(a)、(b)に示される通り、従来、9mmの肉厚を有していた基板保持用支柱1093が、本実施形態においては、4mもの肉厚を削減し、5mmの肉厚とすることが可能である。これにより、ウエハボート90の最上部の外形を左右両側で8mmも縮小することができ、これによりインナーチューブ11の径も縮径することができる。
なお、第1の実施形態においては、ウエハボート90の最上部にのみテーパー加工を施し、薄肉部93cを形成する例を挙げて説明したが、テーパー形状を有し、最上部を含む限り、どの部分からテーパー加工を施してもよく、例えば、底板92の直上からテーパー加工を形成するようにしてもよい。ウエハボート90とインナーチューブ11との干渉のおそれがある最上部に十分なクリアランスを形成できる限り、薄肉部93cのテーパー形状は種々の構成とすることができる。
[第2の実施形態]
図9は、本発明の第2の実施形態に係るウエハボート190の一例を示した図である。図9(a)は、第2の実施形態に係るウエハボート190の上面図であり、図9(b)は、第2の実施形態に係るウエハボート90の側断面図である。また、図9(c)は、図9(b)のD−D断面で切って上から見た切断上面図である。
図9(a)〜(c)に示されるように、基板保持具190は、天板191と、底板192と、基板保持用支柱193とを有する。図9においては、補助支柱は設けられず、基板保持用支柱193が4本設けられた例が示されている。
図9(b)に示されるように、最上部に天板191が配置され、最下部に底板192が配置され、天板191及び底板192に両端が連結固定されて基板保持用支柱193が設けられる。第1の実施形態と同様に、図9(b)においても、基板保持用支柱193は天板191と底板192との間に設けられ、天板191及び底板192を支持するように設けられている。しかしながら、上述のように、基板保持用支柱193が天板191及び底板192の外側面に連結され、天板191及び底板192の外側にはみ出している形状であってもよい。
基板保持用支柱193は、ウエハW等の基板を多段に保持するための手段であり、鉛直方向に複数形成された爪193aを有する。隣接する爪193a同士の間は溝193bを形成し、溝93b内(又は爪93a上)にウエハWを水平に保持することが可能な構成となっている点は、第1の実施形態と同様である。
図9(a)、(b)において、4本の基板保持用支柱193のみが設けられており、補助支柱は設けられていない。補助支柱は必須ではないので、このような構成であってもよい。
図9(a)に示されるように、天板191は、円形部191aと、突出部191bとを有するが、拡大図に示されるように、突出部191bが台形に近似した形状を有する点で、第1の実施形態と異なっている。第1の実施形態と同様に、円形部191aは、C2を中心として円形をなす部分である。突出部191bは、円形部191aから径方向外側に突出した部分であり、この部分に基板保持用支柱193が設置される。即ち、突出部191bは、支柱設置部として機能する。
図9(a)に示されるように、突出部191bが天板191の最も外側に位置する部分となり、天板191の旋回半径Rを定めることになる。図9(a)に示されるように、4個の突出部191bの突出量は等しくなるように設定され、4個の突出部191bの各々がウエハボート190の天板191側の旋回半径Rを定める。
図9(b)に示されるように、本実施形態においては、天板191の突出部191bの最も外側の部分と、基板支持用支柱193の最も外側の部分は、外形が一致するように形成される。よって、天板191の旋回半径Rと、天板191に接続された基板保持用支柱193の旋回半径Rは同一となる。しかしながら、上述のように、基板保持用支柱193が天板191からはみ出している場合にも本実施形態は適用可能である。
また、図9(c)に示されるように、図9(b)のD−D断面で切って底板192を上面視すると、天板191と同様に、円形部192aと、円形部192から径方向外側に突出した突出部192bが設けられている。突出部192bは、台形に近似した形状を有する点で、半円形である第1の実施形態と異なっている。突出部192bに基板保持用支柱193を設置する構成となっている点は、第1の実施形態と同様である。突出部192bの最も外側の外形と、底板192に連結固定される基板保持用支柱193の外形は一致するように設けられる。また、底板192の中心領域には開口192cが形成されている。開口192cは、ウエハボート190を保温筒60の上に載置する際に、保温筒60の上面に形成された載置台との係合を行うために設けられており、必須ではなく、必要に応じて設けられてよい。爪193aの形状は、第1の実施形態が半円形であるのに対し、三角形に近似した形状となっている。このように、爪193aの形状も、突出部192bと同様に、用途に応じて種々の形状とすることができる。
ここで、図9(a)を再び参照し、突出部191bの拡大図を参照すると、突出部191bの外形の一部が削られて外形が小さくなるように構成されていることが分かる。これは、基板保持用支柱193の外形を削って小さくするためであり、ウエハボート190の旋回半径Rを小さくするための構成である。第2の実施形態に係るウエハボート190では、このような外側を削る加工を少なくとも天板11及び天板近傍の総ての基板保持用支柱193に施し、天板191側におけるウエハボート190の旋回半径Rが、底板192側における旋回半径よりも小さくなるように構成している。
図10は、第2の実施形態に係るウエハボート190の基板保持用支柱193の断面図である。図10に示される通り、台形の断面形状を有する支柱193においても、外側にテーパー形状を設けることにより、ウエハボート190の外形を縮小させ、それにより内干渉を発生させずにインナーチューブ11の縮径が可能となる。なお、図9(c)で説明した通り、爪193aは三角形状を有している。
図11は、第2の実施形態において、強度を低減させない基板保持用支柱193の構成を示した図である。図11(a)は、従来の台形形状の基板保持用支柱1193の断面形状を示した図である。図11(b)は、第2の実施形態に係る基板保持用支柱193の断面形状の一例を示した図である。
図11(a)においては、底辺b1、高さh1の台形の断面形状であったが、図11(b)においては、底辺b2、高さh2の断面形状となっている。ここで、h2<h1であり、径方向においては薄肉化されている。一方、周方向(幅方向)においては、b1<b2であり、幅を広げることにより、図11(a)における基板保持用支柱193の断面積と図11(b)における基板保持用支柱193の断面積を同一とし、強度を低下させないようにしている。このように、台形形状の基板保持用支柱193を用いた場合であっても、削った支柱を幅方向に増加させることにより、強度の低下を防止することができる。
また、増加の程度は、必ずしも削った量と同一とする必要は無く、必要なだけ幅を広げれば十分である。
このように、台形形状の断面を有する基板保持用支柱193を用いたウエハボート193においても、支柱の強度を低下させずに外形を縮小することができる。
なお、第2の実施形態においては、総てを基板保持用支柱193として構成した例を挙げて説明したが、必要に応じて補助支柱を設けてもよく、その場合も、上端部の外周面を削ってテーパー形状とすることにより、同様の効果を得ることができる。
[第3の実施形態]
図12は、第3の実施形態に係るウエハボート290の一例の構成を示した図である。第3の実施形態に係るウエハボート290は、支柱293の上端部の外周面が、テーパー加工ではなく段差加工され、段差形状を有している。この場合も、図12に示される通り、インナーチューブ11とのクリアランスを増加させることができ、干渉を防ぐことができる。このように、ウエハボート290の支柱293の最上部外側に段差加工を施し、段差形状によりインナーチューブ11との接触を回避する構成としてもよい。
第3の実施形態に係るウエハボート290は、第1及び第2の実施形態に係るウエハボート90、190の双方に適用することができ、支柱93、94、193の形状に関わらず適用可能である。
[第4の実施形態]
図13は、本発明の第4の実施形態に係るウエハボート390の一例の構成を示した図である。第4の実施形態に係るウエハボート390は、支柱393の周方向の形状が第1乃至第3の実施形態に係るウエハボート90、190、290と異なっている。第1及び第2の実施形態において、支柱93、94、193の径方向において削った分を、周方向に付加して幅広に構成して強度を保つ構成について説明したが、そのような幅を広くする形状は、周方向において徐々広くする構成としてもよい。図13において、ウエハボート390の支柱393の幅(周方向の大きさ)が、下方から天板391に向かって徐々に広がっている構成が示されている。例えば、このような構成を採用し、支柱93、94、190、290の強度を保つようにしてもよい。
図13の構成は、テーパー形状のように、徐々に肉厚が薄くなる構成に適用し易いと考えられ、第1及び第2の実施形態に適合し易い構成と考えられる。但し、径方向の構成と周方向の構成は独立して構成可能であるので、第3の実施形態にも同様に適用可能であることは言うまでも無い。
[第5の実施形態]
図14は、本発明の第5の実施形態に係るウエハボート490の一例の構成を示した図である。第5の実施形態に係るウエハボート490は、支柱493の周方向の形状が第1乃至第4の実施形態に係るウエハボート90、190、290、390と異なっている。第1及び第2の実施形態において、支柱93、94、193の径方向において削った分を、周方向に付加して幅広に構成して強度を保つ構成について説明したが、そのような幅を広くする形状は、周方向において段階的に、階段状に広くする構成としてもよい。図14において、ウエハボート490の支柱493の幅(周方向の大きさ)が、天板491に向かって段階的に広がっている構成が示されている。例えば、このような構成を採用し、支柱93、94、190、290の強度を保つようにしてもよい。
図14の構成は、段差形状のように、段階的に肉厚が薄くなる構成に適用し易いと考えられ、第3の実施形態に適合し易い構成と考えられる。但し、径方向の構成と周方向の構成は独立して構成可能であるので、第1及び第2の実施形態にも同様に適用可能であることは言うまでも無い。
[第6の実施形態]
図15は、本発明の第6の実施形態に係るウエハボート590の一例の構成を示した図である。第6の実施形態に係るウエハボート590は、基板保持用支柱593に加えて、補助支柱594を備える点で、第2乃至第5の実施形態に係るウエハボート190、290、390、490と異なっている。第1、第2、第4及び第5の実施形態において、支柱93、94、193、393、493の径方向において削った分を、周方向に付加して幅広に構成して強度を保つ構成について説明したが、そのような幅を広くして強度を確保する形状を採用せず、補助支柱を追加する構成としてもよい。例えば、第1乃至第3の実施形態において説明した薄肉部を有し、径方向の肉厚を薄くする構成の支柱93、94、193、293を採用するとともに、支柱93、94、193、293の支柱の強度の低下を補うために、補助支柱594を設ける構成としてもよい。
第1の実施形態に係るウエハボート90においては、補助支柱94が設けられていたが、第2乃至第5の実施形態に係るウエハボート190、290、390、490においては、補助支柱594は設けられず、支柱193、293、390、490の幅を増加させて強度を維持する方法を主に説明した。しかしながら、削った支柱はそのままの構成とし、補助支柱594を設けることにより、強度を維持する構成としてもよい。補助支柱594を設ける構成は既に確立しているため、容易にウエハボート590の支柱593、594の全体的な強度を高めることができる。
[第7の実施形態]
図16は、本発明の第7の実施形態に係るウエハボート690の一例の構成を示した図である。第7の実施形態に係るウエハボート690は、ブランチ695を備える点で、第1乃至第6の実施形態に係るウエハボート190、290、390、490、590と異なっている。第1、第2、第4及び第5の実施形態において、支柱93、94、193、393、493の径方向において削った分を、周方向に付加して幅広に構成して強度を保つ構成について説明したが、そのような幅を広くして強度を確保する形状を採用せず、薄肉化した支柱693と天板691とを連結するブランチ695を追加する構成としてもよい。例えば、第1乃至第3の実施形態において説明した薄肉部を有し、径方向の肉厚を薄くする構成の支柱93、94、193、293を採用するとともに、支柱93、94、193、293の支柱の強度の低下を補うために、ブランチ695を設ける構成としてもよい。ブランチ695を設けることにより、支柱693の薄肉部を天板691に連結させることができ、支柱693の強度を簡素な構成で維持することができる。
[基板処理装置]
図17は、第2の実施形態に係るウエハボート190を用いた基板処理装置の上面図である。第1乃至第7の実施形態で説明した通り、基板保持用支柱193の外周面を削り、ボート旋回径を縮小することにより、インナーチューブ11の内径を絞ることが可能となる。このような構成を採用することにより、インナーチューブ11の内径を2〜8mm程度縮小することができ、ウエハボート190とインナーチューブ11との間のクリアランスdを縮小し、処理ガスを逃がさずにウエハWに供給することができ、処理効率を高めることができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
10 処理容器
11 インナーチューブ
12 アウターチューブ
20 マニホールド
30 インジェクタ
50 蓋体
60 保温筒
70 ヒータ
80 制御部
90、190、290、390、490、590、690 ウエハボート
91、191 天板
91a、92a、191a、192a 円形部
91b、92b、191b、192b 突出部
92、192 底板
93、94、193、293、393、493、593、693 支柱
695 ブランチ

Claims (19)

  1. 天板と、底板と、該天板及び該底板の外縁部に端部が連結して設けられた複数本の支柱とを有し、基板を多段に保持可能な基板保持具であって、
    前記天板及び前記天板に連結された前記支柱のうち最も外側に位置する部分は、前記天板の近傍の上端付近の前記支柱の外側が削られることにより、前記底板及び前記底板に連結された前記支柱のうち最も外側に位置する部分よりも小さく形成されている基板保持具。
  2. 前記支柱は、外形が前記天板及び前記底板の外形と一致するように、前記天板及び前記底板の主面の外周端に連結された請求項1に記載の基板保持具。
  3. 天板と、底板と、該天板及び該底板の外縁部に端部が連結して設けられた複数本の支柱とを有し、基板を多段に保持可能な基板保持具であって、
    前記天板及び前記天板に連結された前記支柱のうち最も外側に位置する部分は、前記底板及び前記底板に連結された前記支柱のうち最も外側に位置する部分よりも小さく形成され、
    前記支柱は、外形が前記天板及び前記底板の外形と一致するように、前記天板及び前記底板の主面の外周端に連結され、
    前記天板及び前記底板は、円形部分と、
    該円形部分から径方向外側に突出して張り出した支柱設置部を有する基板保持具。
  4. 前記天板に接続された前記支柱の頂部は、前記底板に接続された前記支柱の基部よりも前記径方向における肉厚が薄くなっており、肉厚が薄い分、前記天板の外形が前記底板の外形よりも小さく形成されている請求項3に記載の基板保持具。
  5. 前記支柱は、前記頂部付近の所定上部領域において、前記径方向において肉厚が薄くなった薄肉部を有する請求項4に記載の基板保持具。
  6. 前記薄肉部は、前記頂部に接近する程前記径方向における肉厚が薄くなる形状を有する請求項5に記載の基板保持具。
  7. 前記薄肉部は、前記頂部に接近する程前記径方向における肉厚が徐々に薄くなるテーパー形状を有する請求項6に記載の基板保持具。
  8. 前記薄肉部は、前記頂部に接近する程前記径方向における肉厚が段階的に薄くなる階段形状を有する請求項6に記載の基板保持具。
  9. 前記所定上部領域は、前記基板保持具の全長の1/10以下の領域に形成されている請求項5乃至8のいずれか一項に記載の基板保持具。
  10. 前記薄肉部は、前記薄肉部以外の部分の前記支柱よりも周方向に沿った幅が広く形成されている請求項5乃至9のいずれか一項に記載の基板保持具。
  11. 前記薄肉部は、前記薄肉部以外の部分の前記支柱と断面積が等しくなるように幅広に形成されている請求項10に記載の基板保持具。
  12. 前記薄肉部以外の部分の前記支柱の断面形状は円形であり、前記薄肉部は円の外側を削った形状となっている請求項5乃至11のいずれか一項に記載の基板保持具。
  13. 前記薄肉部以外の部分の前記支柱の断面形状は所定の下底と所定の高さを有する台形であり、前記薄肉部は前記所定の下底よりも幅が広く前記所定の高さよりも低い高さを有する台形である請求項5乃至11のいずれか一項に記載の基板保持具。
  14. 前記複数本の支柱は、基板を水平に載置可能な溝が鉛直方向に沿って複数形成され、複数の基板を多段に保持可能な溝構造を有する基板保持用支柱を少なくとも3本有する請求項1乃至13のいずれか一項に記載の基板保持具。
  15. 前記複数の支柱は、前記溝構造を有しない補強用支柱を更に有する請求項14に記載の基板保持具。
  16. 前記天板と前記基板保持用支柱とを連結する補強用ブランチを更に有する請求項14又は15に記載の基板保持具。
  17. 前記天板、前記底板及び前記支柱は石英からなる請求項1乃至16のいずれか一項に記載の基板保持具。
  18. 請求項1乃至17のいずれか一項に記載の基板保持具と、
    該基板保持具を収容可能な縦長の処理容器と、
    該処理容器内に設けられ、前記基板保持具の周囲を囲む円筒形の側面を含むインナーチューブと、
    該インナーチューブ内で前記基板保持具に処理ガスを供給可能なインジェクタと、
    前記処理容器の外側に設けられ、前記処理容器を加熱可能なヒータと、を有する基板処理装置。
  19. 前記インナーチューブの前記側面と前記基板保持具の外形との間隔は、互いに接触しない範囲で最小に設定されている請求項18に記載の基板処理装置。
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