JP6846053B2 - アルミニウムキャリアと銀反射層とを有する反射性複合材料 - Google Patents

Description

本発明は、アルミニウムからなるキャリアと、該キャリア上に配された、陽極酸化されたキャリア材料からなる中間層と、該中間層上に被着された、少なくとも三層、その際、第一及び第二の上側層は誘電体層及び／又は酸化物層であり、最下層は反射層を形成する、銀からなる金属層である、からなる光学的（効果を有する）多層系とを含んでなる反射性複合材料に関する。

この種の材料は、ＭＩＲＯ（登録商標）‐Ｓｉｌｖｅｒの商標名の、表面被覆されたアルミニウム板として、照明技術、種々のデイライトシステム及び装飾アプリケーションの分野に広い普及を見ている。この場合、該表面処理は、敏感なアルミニウム表面の保護を向上させるとともに光反射率を高めるのに有用である。該表面被覆処理プロセスは、連続的に実施可能な二つの異なったプロセスからなり、詳細に言えば、総じてアルマイト処理と称される、電解研磨ならびに陽極酸化を含む、湿式化学プロセスによる中間層の生成プロセスと、真空中における光学的効果を有する多層系の被着プロセスとからなっている。

高い全反射率を有する反射体のキャリア材料として、広く、最低純度９９．８％の圧延アルミニウム板が使用されるが、そのため‐未加工アルミニウムは敏感な表面を有するがゆえに‐使用性を保持すべく、機械的・化学的影響作用から保護するための中間層が被着されなければならない。この保護的中間層は湿式化学的アルマイト処理によって生じ、その際、該中間層の被着により、表面が十分に低い粗さと十分な硬度を有すると同時に全体として瑕疵なく形成されるようにすることが可能である。その際、純度及び／又は粗さを変化させることにより、全反射のレベルに影響を与えることが可能であり、他方、アルミニウムキャリアの圧延構造を適切に変化させることにより、拡散反射の程度に影響を与えることが可能である。該アルマイト層上に高反射性高純度銀層が蒸着される。これは光学的に密であり、可視光域において極度に高い全反射率を有する。

上記光学的多層系の、反射層（銀層）上に位置する少なくとも二つの層は、一般に、誘電体層であり、その際、高屈折率を有する第一の上側層（最上層）としての酸化物層たとえば酸化アルミニウム層又は酸化チタン層の使用及びその下に位置する低屈折率の、銀層上に蒸着された第二の上側層としての二酸化ケイ素層の使用は、好ましい特殊ケースを表している。これに関する詳細な記述は、たとえば、“ｅｌｅｋｔｒｏｗａｒｍｅ ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ”５３（１９９５）Ｂ４‐Ｎｏｖｅｍｂｅｒ，Ｓ．Ｂ２１５‐Ｂ２２３所収の、言うまでもなく金属質反射層としてアルミニウムが使用される公知のＭＩＲＯ（登録商標）法の説明からも看取することができる。

一般に、放射が当たる物体において、放射は、物体の反射率（反射能）、吸収率（吸収能）及び透過率（透過能）によって決定される、反射成分、吸収成分及び透過成分に区分される。反射能、吸収能及び透過能とは、入射する放射の（たとえば、紫外領域、可視光領域、赤外領域及び熱放射領域における）波長に応じて一個同一の材料につき種々異なった値を取り得る光学的性質である。その際、吸収能に関してはキルヒホッフの法則が既知であり、それによれば、吸収率はそれぞれ一定の温度及び波長にて放出率とコンスタントな関係にある。したがって、吸収能にとっては、いわゆる“黒体”の放射強度、スペクトル分布密度、波長及び温度の間の一定の関係がそれらによって記述される、ウィーンの変位則ないしプランクの法則ならびにシュテファン・ボルツマンの法則も重要である。その際、計算に際しては、その種の“黒体”は存在せず、実在の物体はそれぞれ固有な形で理想分布から偏移していることに注意しなければならない。

公知の複合材料では、特に、たとえばＤＩＮ５０３６、Ｔｅｉｌ３に準拠して測定された、９８パーセントを上回るまでに達するピーク値を有する光全反射率で表される、可視光領域における高い反射能が一定の役割を果たしている。さらに、好ましくは半製品とし供給される公知の材料の場合、そのすぐれた加工性、特にその成形性が際立っている。ただし、特に、長期使用される場合、高温環境たとえば高温気候中で使用される場合あるいは強力な熱放射を伴う発光手段とともに使用される場合の問題として、Ｍｉｒｏ（登録商標）‐Ｓｉｖｅｒ材料は、金属質反射層がアルミニウムからなる既に長年来にわたって公知のＭｉｒｏ（登録商標）材料よりも、急速に反射能の喪失に至ることがある旨判明した。前述した材料の相違に鑑み、拡散プロセスと結び付いた銀の腐食がこの現象の原因と見なされる。この場合、低級なアルミニウムキャリアと貴金属として電気化学系列において高い標準電位を有する銀からなる反射層との間の電気化学ポテンシャル差が拡散促進的に作用すると見なされることが出発点とされなければならない。

本発明の目的は、高い反射率と、したがって、反射系への特別な適性を有するとともに、長期にわたり、特に室温（２０℃）に比して高い温度時に、光全反射率の減損程度が僅かであり、高い機械荷重容量を有する、つまり、特に耐摩耗性を具えた表面を有する冒頭に述べたタイプの複合材料を創作することである。

上記目的は、本発明により、上記中間層上側かつ上記反射層下側に拡散防止バリア層が配置され、該反射層が接着促進層を介して上記バリア層に結合されることによって達成される。

上記バリア層により、有利には、銀粒子の移動‐特に、反射層（銀層）下側にある中間層（陽極酸化された層）になお細孔が存在していれば該細孔を通じた銀イオンの移動が想定される‐が妨げられあるいは少なくともほとんど阻止される。これにより、上記反射層（銀層）と上記アルミニウムキャリアとの間に腐食促進作用をもたらす局部電池はなんら生じ得ず、そのため、光全反射率は長期にわたり安定的に保たれることになる。

特に、上記バリア層は、好ましくは金属クロム又はニッケルを含む金属層又は窒化物層であってよく、その際、上記バリア層が金属、特にクロムからなる場合には、上記層系の反射効果をさらにいっそう高めることさえも可能である。また、パラジウムも上記バリア層の思量可能な層成分と見なされる。

上記バリア層は‐より一般的に言って‐有利には、化学組成Ｃｒ_ｗＮｉ_ｘＮ_ｙＯ_ｚの物質を含有し、その際、添え字ｗ、ｘ、ｙ及びｚは、好ましくは、以下、つまり‐０≦ｗ≦１及び０≦ｘ≦１（ここで、添え字ｗ又はｘの少なくとも一方はゼロより大である）及び０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦５‐の関係が当てはまる化学量論比又は非化学量論比を表している。この場合、上記化学式により、クロム（ｘ、ｙ、ｚ＝０）、ニッケル（ｗ、ｙ、ｚ＝０）、金属間クロム・ニッケル化合物（ｙ、ｚ＝０）ならびに窒化クロム化合物及び／又は窒化ニッケル化合物（ｚ＝０）、酸化クロム化合物及び／又は酸化ニッケル化合物（ｙ＝０）ないし酸窒化クロム化合物及び／又は酸窒化ニッケル化合物が含まれている。その際、添え字ｘ＝０の場合には、それは好ましくはニッケル無含有、つまり重金属無含有の層である。

本発明により、有利には、さらに加えて上記アルミニウムキャリア上への銀の拡散経路が塞がれた層構造が生成される。その際、上記バリア層は好ましくは‐特に金属クロム層であれば‐５０ｎｍから１５０ｎｍまでの範囲内の厚さを有していてよい。ただし、一般に、上記バリア層の厚さは５ｎｍから５００ｎｍまでの範囲内にあってよく、その際、１０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲が好ましく、１５ｎｍから７０ｎｍまでの範囲が特に好ましい。

拡散の場合、フィックの第一法則によれば、粒子流密度（流束）Ｊ（ｍｏｌ ｍ^−２ｓ^−１）は、拡散方向とは反対の濃度勾配（推力）∂ｃ／∂ｘ（ｍｏｌ・ｍ^−４）に比例している。比例定数は拡散係数Ｄ（ｍ^２ｓ^−１）である。

したがって、拡散係数は粒子の可動性の尺度であり、単位時間当たり移動距離の平均平方から算定することができる。固体中の拡散には、さまざまな格子サイト間のジャンプが必要である。その際、粒子はエネルギー障壁Ｅを越えなければならないが、これは高温時の方が低温時よりも容易に可能である。これは以下の関係式によって記述される。

Ｅ‐エネルギー障壁（単位：Ｊ・ｍｏｌ^−１）
Ｒ‐一般気体定数（単位：Ｊ・Ｋ^−１ｍｏｌ^−１）
Ｔ‐温度（単位：Ｋ）

上記バリア層によって、銀の拡散係数は低下させられる。この場合、拡散係数の低下は、銀粒子が上記バリア層においてさまざまな格子サイト間を移り変わるために越えなければならないエネルギー障壁Ｅが、中間層（陽極酸化されたアルマイト層）におけるエネルギー障壁よりも大であることに帰着することができる。したがって、反射層（銀層）の下に位置する上記中間層（陽極酸化層）の細孔によるか又は上記層自体の酸化アルミニウムによる、下方の‐上記キャリアへの‐粒子移動は、第一の拡散法則の趣旨からして阻止されている。特に、室温よりも高い温度時に上述した関係式にしたがって生ずる、光全反射率の低下として現れる老化現象は、これによって、極度に緩慢化される。

その際、上記中間層（陽極酸化層）は‐それが表面に位置していない場合でも‐上記バリア層、上記接着促進層及び上記光学的多層系とともに、本発明による複合材料の高い耐引っ掻き性ないし耐拭き取り性ならびに耐腐食性の設定に非常に重要である。

上記中間層（酸化アルミニウム層）の細孔は、一連の湿式化学処理工程の最終段階において、水蒸気によって行なわれる高温圧縮によって閉塞可能であり、これによって、上記キャリア上に耐久性ある表面が生ずる。これによってさらに拡散阻止作用がもたらされる。その際、上記アルミニウムキャリアによって‐その厚さが、好ましくは０．０１μｍから１０．０μｍまでの範囲内、好ましくは０．５μｍから２．０μｍまでの範囲内、特に好ましくは０．７μｍから１．５μｍまでの範囲内にあってよい中間層（アルマイト層）にとっても‐本発明による複合材料が以後の成形工程時に求められる再加工要件に問題なく耐えることのできる卓越した成形性を保証することが可能である。その際、上記キャリアが有する高い熱伝導率ならびに太陽光波長領域における反射促進性表面形成能ないし上記のその他の層がそれに続く、拡散及び指向性反射率の可変的な表面形成能も強調しておかなければならない。

本発明による複合材料は、特に、１４００ｍｍまでの幅、好ましくは１６００ｍｍまでの幅を有するコイルとして形成されていてよい。その際、アルミニウム板からなる本発明によるこの種の反射体材料は、光学的、機械的及び化学的材料特性を損なうことなく、成形可能である。

本複合材料の製造にあたり上記バリア層上に析出される反射層（銀層）の、上記バリア層材料‐特にクロムへの‐付着性を向上させるため、上記接着促進層が設けられている。その際、特に、酸化物系接着促進剤たとえば、銀に対して僅かな反応性しか有していない、好ましくはＡｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２又はＣｒＯ_ｓが使用される必要があるが、この場合、ｓはまたも化学量論比又は非化学量論比を表している。その際、上記接着促進層の層厚さは、１ｎｍから５０ｎｍまでの範囲内、好ましくは５ｎｍから２５ｎｍまでの範囲内、特に好ましくは１０ｎｍから２０ｎｍまでの範囲内にあってよい。

上記反射層の厚さは３０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲内にあってよい。これにより、冒頭に述べた物理的関係式の趣旨からして、電磁放射の僅かな透過率と高い反射率が保証される。その際、上記反射層（銀層）は‐記述したその他のすべての層も同様であるが‐部分層から形成されていてもよい。該反射層（銀層）の好ましい厚さと見なされるのは４０ｎｍから１５０ｎｍまでの範囲内の厚さであり、特に好ましい厚さと見なされるのは５０ｎｍから１００ｎｍまでの範囲内の厚さである。

上記バリア層、上記接着促進層ならびに上記光学的多層系をなす層は、スパッタ層、特に、反応性スパッタリングによって生じた層、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）又はＰＥ‐ＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）層又は蒸着、特に電子衝撃によるか又は熱源から生じた層であってよく、そのため、上記中間層上に位置する多層系の全体は、プロセス技術的に最適な方途にて、真空中で、特に、一つの連続的方法で被着された一連の層からなっている。その際、上記方法により、有利には、添え字ｗ、ｘ、ｙ及びｚに関する上記一連の層の化学組成を一定の、不連続な値に設定することが可能となるだけでなく、上記化学量論比又は非化学量論比をそれぞれ一定の限界内でスムーズに変化させることも可能となる。

このようにして、たとえば、ペアリングによって反射率の上昇をもたらす二つの上側層のそれぞれの屈折率も、第一の上側層（最上層）がその下にある第二の上側層よりも高い屈折率を有する場合に、的確に設定することが可能である。上記反射層（銀層）上方に位置する二つの層の材料は、化学的に、金属酸化物、金属フッ化物、金属窒化物又は金属硫化物又はそれらの混合物のグループに属していてよく、その際、これらの層は異なった屈折率を有している。かくて、上記屈折率の差は‐波長５５０ｎｍを基準として‐たとえば０．１０を上回り、好ましくは０．２０を超えていてよい。その際、上記第一の上側層（最上の、高屈折率を有する層）の材料としては、特に、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、ＴｉＯ_２及びＺｒＯ_２を使用することができ、その下に位置する、第二の上側層（低屈折率を有する層）の材料としては、Ａｌ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２を使用することができる。

その際、上記酸化物中の酸素の添え字、特に、ＴｉＯ_２の添え字“２”については、上記酸化物層はかならずしも完全に化学量論比を有している必要はなく、それらは、さらに化学量論的構造を有する酸化物とほぼ同じ高さの光透過率を有している限りで、その他の酸化物又は亜酸化物として存在していてもよいということができる。

上記光学的多層系の上記第一の上側層及び上記第二の上側層のそれぞれの光学的厚さは、好ましくは‐これらの層が反射率向上性干渉層として機能し得るように‐反射されるべき電磁放射のスペクトル領域の平均波長の約四分の一であるように設定される必要があろう。

上記第一の上側層（上側の高屈折率を有する誘電体層）は、特に、３０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲内、好ましくは４０ｎｍから１００ｎｍまでの範囲内、特に好ましくは４５ｎｍから６５ｎｍまでの範囲内の厚さを有していてよい。

その第二の上側層（下側に位置する低屈折率を有する上記誘電体層）は、特に、３０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲内、好ましくは４０ｎｍから１００ｎｍまでの範囲内、特に好ましくは５０ｎｍから７０ｎｍまでの範囲内の厚さを有していてよい。

上記反射層（銀層）への付着性を向上させるためあるいは上記反射層（銀層）からの上記第二の上側層（低屈折率層）の剥離を防止するために、同じく特に酸化物層であって、好ましくは、ＣｒＯ_ｓからなっていてよいさらに別の接着促進層が設けられていてよい。その際、この第二の接着促進層は、基本的に、上記第一の接着促進層と同じ範囲内にある厚さを有していてよい。ただし、一般に、該接着促進層は、該層によって十分な接着促進作用が達成されるとともに該層によってもたらされる吸光効果ができるだけ僅かであるように、可能な限り最小に選択された厚さを有している必要があろう。

上記光学的多層系の上記第一の上側層（上側の高屈折率を有する層）の上に、付加的な第四層としてさらに、高い透過能を有するとともに機械的耐性及び耐腐食性を向上させる、特に、酸化ケイ素層及び／又は窒化ケイ素層である被覆層が配置されていてもよい。該被覆層の直下に位置する誘電体層がＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法で被着されたＮｂ_２Ｏ_５層及びＴａ_２Ｏ_５層であれば、卓越した付着性が達成可能であり、その際、これはまた本発明による複合材料の高い硬度及び弾性をも促進する。別法として、二酸化チタン層も好適である。その際、上記光学的多層系の上記被覆層は、有利には、３ｎｍの最低厚さを有していてよい。

特に５ｎｍから２０ｎｍまでの厚さを上回ると、該層はその保護効果の点で早くも有意な効率を示し、その際、時間消費、材料消費及びエネルギー消費の増加は僅かでしかない。こうした観点からするこの層厚さの上限値は約５００ｎｍである。

本発明のさらにその他の好適な実施例は従属項及び以下に記載の詳細な説明に述べたとおりである。

添付図面によって具体的に示した実施例を参照して、本発明を詳細に説明する。各図は以下を示している。

本発明による複合材料の原理的な断面図であり、その際、同図に含まれている層の厚さは純粋に概略的に表されており、忠実な縮尺に基づいているものではない。 本発明によるものではない複合材料試料と本発明による複合材料試料との、当該テスト時間にわたる、反射率の比較グラフである。

記述した実施例は、特に太陽光波長領域に高い反射率を有する、本発明による複合材料Ｖに関する。該材料は、好ましくは、光学放射‐したがって、１００ｎｍから１ｍｍまでの波長領域の電磁放射‐の反射に使用可能である。

上記複合材料Ｖは、特に変形可能な、アルミニウムからなる板状キャリア１と、該キャリア１のＡ面側に位置する中間層２と、該中間層２に被着された光学的効果を有する多層系３とから成っている。

ＤＩＮ５０３６、Ｔｅｉｌ３に準拠して測定された光全反射率は、上記光学的多層系３のＡ面側において、９５％を上回り、好ましくは少なくとも９７％、特に好ましくは少なくとも９８％である。

上記複合材料Ｖは、好ましくは１６００ｍｍまでの幅、好ましくは１４００ｍｍの幅を有し、しかも‐場合により存在する裏面Ｂの層を含め‐約０．２ｍｍから１．７ｍｍまで、好ましくは約０．３ｍｍから０．８ｍｍまで、特に好ましくは０．４ｍｍから０．７ｍｍまでの厚さＤを有するコイルとして形成されていてよい。その際、上記キャリア１のみは、好ましくは、０．２ｍｍから０．６ｍｍまでの範囲内の厚さＤ１を有していてよい。

上記キャリア１のアルミニウムは、特に、９９．０％を上回る純度を有していてよく、これにより、該キャリアの熱伝導性が促進される。これにより、ヒートピークの発生を防止し、したがって、拡散係数を低く保つことが可能である。ただし、たとえば、上記キャリア１は、０．５ｍｍの厚さＤ１を有する帯状のアルミニウム板Ａｌ９８．３（純度９８．３パーセント）であってもよい。この種の板の最低厚さＤ１は１００μｍであってよく、他方、厚さＤ１の上限は約１．５ｍｍであってよい。また、陽極酸化によって上記中間層２を形成することが可能な限りで、キャリア１としてアルミニウム合金たとえばＡｌＭｇ合金を使用することも可能である。

上記中間層２は、上記キャリア材料から形成された陽極酸化アルミニウムからなり、１０ｎｍから１０．０μｍまでの範囲内、好ましくは５００ｎｍから２．０μｍまでの範囲内、特に好ましくは７００ｎｍから１．５μｍまでの範囲内の厚さＤ２を有していてよい。該中間層は湿式化学的方途で作製可能であり、その際、酸化アルミニウム層の細孔は一連の処理工程の最終段階で高温圧縮によって閉塞されることが可能である。

この場合、上記中間層２の表面は、０．０５μｍ未満、特に０．０１μｍ未満、特に好ましくは０．００５μｍ未満の範囲内の算術平均粗さを有しているのが好ましい。これは、上述した高い光全反射率が存在する場合に、ＤＩＮ５０３６に準拠して定められる最低拡散光反射率の設定に有用である。もっと高い拡散光反射率が求められる場合には、粗さを相応して引き上げることが可能である。

上記光学的多層系３は少なくとも三つの層４、５、６を含み、その際、第一の上側層４、第二の上側層５は誘電体層及び／又は酸化物層であり、最下層６は、反射層６を形成する、銀からなる金属層である。上記光学的多層系３の第一の上側層及び第二の上側層４、５のそれぞれの光学的厚さＤ４、Ｄ５は‐層４、５が反射率向上性干渉層として機能し得るように‐反射されるべき電磁放射のスペクトル領域の平均波長の約四分の一であるように設定される必要があろう。上記反射層６の厚さＤ６は、好ましくは、４０ｎｍから１５０ｎｍまでの範囲内にあってよい。

上記光学的多層系３の上記上側層４には、図示実施例において、オプショナルに設けられる、厚さＤ７を有する酸化ケイ素層である被覆層７が被着されている。また、上記光学的多層系３に窒化ケイ素層又はオキシ窒化ケイ素層である被覆層７が被着されているようになされていてもよい。上記光学的多層系３は‐上記被覆層７を含め‐連続真空コイル塗装法を使用して技術的に有利な方法で塗設可能である。

同じく、オプショナルに設けられる上記被覆層７は、化学組成Ｓｉ_ａＣ_ｂＯ_ｃＮ_ｄＨ_ｅを有する混合層であってよく、その際、添え字ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、化学量論比又は非化学量論比を表し、次のようにして、つまり、上記被覆層７が、選択された層厚さＤ７において、僅かな吸光率、特に、１０パーセント未満、好ましくは５パーセント未満、特に好ましくは１パーセント未満の吸光率しか有さず、その際、炭素含有量が‐上記被覆層７の総質量を基準として‐０原子百分率、特に、０．２原子百分率から１５．０原子百分率までの範囲内、好ましくは０．８原子百分率から４．０原子百分率までの範囲内にあるようにして設定されている。かくて、添え字ａ＝１に対して、他の添え字は以下の範囲内‐０≦ｂ≦２、０≦ｃ≦２、０≦ｄ≦４／３、０≦ｅ≦１‐にあってよい。その際、添え字ｂ、ｃ、ｄの少なくとも一つはゼロとは相違している必要があろう。

この種の層は、特にＣＶＤ層として、好ましくはＰＥ‐ＣＶＤ層として被着されてよく、その際、該層を使用する利点はそれが腐食性媒体に対してバリア層として機能し、その際、特に、炭素の割合によって、純セラミックＳｉＯ_２層よりも高度な柔軟性と靭性とを有する層を設定することが可能であるという点にある。

最後に、上記光学的多層系３に、被覆層７として、特に、０．５μｍから５μｍまでの範囲内の好ましい層厚さを有する、ゾル‐ゲル層ベースの有機ケイ素塗料層が被着されていてもよい。

本発明による複合材料の、長期使用時及び／又は高温時における、光全反射率の減損の僅少化を達成するため、したがって、老化プロセスを緩慢化するために、本発明によれば、上記中間層２の上方かつ上記反射層６の下方に拡散防止バリア層８が配置されている。
上記反射層６は、接着促進層９を介して上記バリア層８に結合されている。既に述べたように、上記バリア層８は金属層又は窒化物層であってよく、その際、特に金属クロムが好ましいと見なされる。

一般的に言って、上記バリア層８は、好適には、化学式Ｃｒ_ｗＮｉ_ｘＮ_ｙＯ_ｚを有する物質を含んでいてよく又は完全に該物質から構成されていてよい。添え字ｗ、ｘ、ｙ及びｚは化学量論比又は非化学量論比を表しており、該添え字には、好ましくは、以下すなわち‐０≦ｗ≦１及び０≦ｘ≦１、その際、添え字ｗ又はｘの少なくとも一方はゼロより大であり、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦５‐を当てはめることができる。上記バリア層８は、好ましくは、１０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲内の厚さＤ８を有していてよい。窒化クロム層の場合には、最低厚さＤ８は特に４０ｎｍであってよい。上記バリア層８において、拡散する銀の拡散係数は、酸化アルミニウムにおける拡散に比較して、大幅に低下している。

上記接着促進層９は、銀からなる反射層６の上記バリア層８への接着を向上させるために設けられている。この場合、適切な層材料と見なすことができるのは、特に、酸化物系接着促進剤たとえば好ましくはＡｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２又はＣｒＯ_ｓであり、その際、ｓはまたも化学量論比又は非化学量論比を表しており、０＜ｓ＜１．５の範囲内にある必要があろう。この場合、上記接着促進層の層厚さＤ９は、１ｎｍから５０ｎｍまでの範囲、好ましくは、５ｎｍから２５ｎｍまでの範囲内にあってよい。特に好ましいと見なされるのは１０ｎｍから２０ｎｍの範囲である。

接着向上と、反射層（銀層）６からの第二の上側層（低屈折率層）５の剥離を防止するために‐図示したように‐同じく特に酸化物層であって、好ましくはＣｒＯ_ｓからなっていてよいさらに別の接着促進層１０が設けられていてよい。その際、その位置からして光学的多層系３に属するこの第二の接着促進層１０は、０．１ｎｍから１０ｎｍまでの範囲内、好ましくは０．５ｎｍから５ｎｍまでの範囲内にある厚さＤ１０を有していてよい。酸化クロム化合物、特に、三価のクロムに比較して化学量論比を下回る量のＣｒＯ_ｓ化合物については吸光効果が知られている。ただし、この効果は、特に厚さＤ１０が上述した好ましい範囲内にあれば、高い光全反射率を僅かに低下させるにすぎない。

上記バリア層８と上記接着促進層９、１０は‐上記光学的多層系の層４、５、６と同様に‐スパッタ層、特に、反応性スパッタリングによって生じた層、ＣＶＤ層又はＰＥ‐ＣＶＤ層又は蒸着、特に電子衝撃によるか又は熱源から生じた層であってよく、そのため、上記中間層上に位置する上記多層系の全体は、真空中で、特に、一つの連続的方法で被着された一連の層からなっている。

本発明による複合材料Ｖのすべての層ならびにそれら層間の強度な付着は高い耐引っ掻き保護に貢献する。特に、比較的厚く硬い中間層（アルマイト層）２ならびにその上に位置する比較的薄くかつそれほど硬くない誘電体層のいずれもが相乗的作用によって該保護に貢献する。これは、先のＤＩＮ５８１９６に取って代わった目下有効な規格ＤＩＮ ＩＳＯ ９２１１‐４：２０１２に準拠した拭き取りテストで確認することができる、たとえば、高い耐拭き取り性のうちに表れる。該規格中の表１には、以下に挙げた重度レベルが記載されている。

上記の表とは異なって、本発明による複合材料Ｖ（オプショナルな被覆層７なし）は木綿布に代えてフェルト布でテストされた。その際、フェルト面で１００回の拭き取りストロークを実施した後、表面にはなんらの損傷も見出されなかった。

一般に、引用規格に日付が挙げられていない場合には、出願時点において有効な版が意義を有する。

本発明によって達成可能な特性改善は以下のうちに、つまり、本発明による複合材料が、規格ＤＩＮ ＩＳＯ ９２１１‐４：２００６に基づき、凝縮と組み合わされてＵＶ‐Ｂ線に曝露された後、高い温度（≧５０℃）にて少なくとも１６８ｈの負荷後に視覚的な表面変化はなんら発生せず、あるいは、（ＤＩＮ５０３６‐３によるＬＥＤアプリケーションにつき）１％未満の光全反射率低下ないし（ＡＳＴＭ Ｇ１７３‐０３の太陽光スペクトルＡＭ１．５によるソーラーアプリケーションにつき）１％未満の太陽光加重全反射率低下しか生じなかったという事態のうちに表れた。これは、本発明による複合材料が規格に規定された条件下で照射なしの純然たる凝縮に曝露された、目下有効な版の米国検査規定ＡＳＴＭ Ｄ４５８５“Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｍｏｉｓｔｕｒｅ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ
ｏｆ ｃｏａｔｉｎｇｓ ｗｉｔｈ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉｏｎ”に基づくテストについても同様である。冒頭に述べた本発明によるものではない公知の材料によっては、これらの値は達成されなかった。

以下に示した比較例及び本発明による実施例については、試料表面で測定されたＵＶ‐Ａ線及びＵＶ‐Ｂ線総強度が７０ｍＷ／ｃｍ^２から１５０ｍＷ／ｃｍ^２までの範囲にある、ＡＳＴＭ Ｅ‐９２７‐８５“Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｓｏｌａｒ Ｓｉｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｔｅｒｒｅｓｔｒｉａｌ Ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉｃ Ｔｅｓｔｉｎｇ”、“Ｔｙｐｅ Ｃｌａｓｓ Ａ”に準拠した太陽シミュレータが使用された。この場合、境界条件として、それぞれの試料は試料表面で測定された温度が≧１５０℃であるように温度調節されたとの旨が遵守された。それぞれ検査されたサンプルは、（ＤＩＮ５０３６‐３によるＬＥＤアプリケーションにつき）光全反射率Ｙ（Ｄ６５）の低下が１％未満又は、（ＡＳＴＭ Ｇ１７３‐０３の太陽光スペクトルＡＭ１．５によるソーラーアプリケーションにつき）太陽光加重全反射率Ｒ_{ｓｏｌａｒ}の低下が１％未満であった場合に、テストに合格していた。いずれの場合にあっても問題はパーセントで表された反射値であることから、それぞれの値の低下については統一的に符号ΔＲが使用される。この基準を超えない反射率変化ΔＲにつき、合格と判定されるべき負荷持続時間は、ＵＶ線総強度が１５０ｍＷ／ｃｍ^２の場合、少なくとも５００ｈであり、他方、ＵＶ線総強度が７０ｍＷ／ｃｍ^２の場合、それは少なくとも１０００ｈに達しなければならない。

以下に図２に関連して示した比較例ならびに本発明による実施例の各層の厚さは、それぞれ、上記に好ましいとして挙げた範囲内ないし‐もしそれが記載されていれば‐特に好ましいとして挙げた範囲内にあった。

比較例１（図２中の符号Ｖ１）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
中間層２と反射層６との間の接着促進層：ＴｉＯ_２
バリア層８：なし
反射層６：銀
第二の上側層（下側誘電体層）５：Ａｌ_２Ｏ_３
第一の上側層（上側誘電体層）４：Ｎｂ_２Ｏ_５
上記中間層２の上方に位置する第一及び第二の上側層（誘電体層）４、５は電子ビーム蒸着によって被着された。
７２時間後に反射率の低下ΔＲは４％を上回った。テストは不合格であった。

比較例２（Ｍｉｒｏ（登録商標）Ｓｉｌｖｅｒ、図２中の符号Ｖ２）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
中間層２と反射層６との間の接着促進層：ＴｉＯ_２
バリア層８：なし
反射層６：銀
第二の上側層（下側誘電体層）５：Ａｌ_２Ｏ_３
第一の上側層（上側誘電体層）４：ＴｉＯ_２
上記中間層２の上方に位置する第一及び第二の上側層（誘電体層）４、５は電子ビーム蒸着によって被着された。
３３６時間後に反射率の低下ΔＲは１％を超えた。テストは不合格であった。

比較例３（図２中の符号Ｖ３）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
中間層２と反射層６との間の接着促進層：ＴｉＯ_２
バリア層８：なし
反射層６：銀
第二の上側層（下側誘電体層）５：ＳｉＯ_２
第一の上側層（上側誘電体層）４：ＴｉＯ_２
上記中間層２の上方に位置する第一及び第二の上側層（誘電体層）４、５は電子ビーム蒸着によって被着された。
３３６時間後に反射率の低下ΔＲは１％を超えた。テストは不合格であった。

実施例１（本発明による、図２中の符号Ｂ１）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
バリア層８：金属クロム
バリア層８と反射層６との間の接着促進層９：ＴｉＯ_２
反射層６：銀
第二の上側層（下側誘電体層）５：Ａｌ_２Ｏ_３
第一の上側層（上側誘電体層）４：Ｎｂ_２Ｏ_５
上記中間層２の上方に位置する第二の上側層（下側誘電体Ａｌ_２Ｏ_３の層）５は電子ビーム蒸着によって被着され、他方、第一の上側層（上側誘電体Ｎｂ_２Ｏ_５の層）４はマグネトロンスパッタコーティングによって被着された。
１０００時間後に反射率の低下ΔＲは１％未満であった。テストは合格であった。

実施例２（本発明による、図２中の符号Ｂ２）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
バリア層８：金属クロム
バリア層８と反射層６との間の接着促進層９：ＴｉＯ_２
反射層６：銀
第二の上側層（下側誘電体層）５：Ａｌ_２Ｏ_３
第一の上側層（上側誘電体層）４：ＴｉＯ_２
上記中間層２の上方に位置する第二の上側層（下側誘電体Ａｌ_２Ｏ_３の層）５は電子ビーム蒸着によって被着され、他方、第一の上側層（上側誘電体ＴｉＯ_２の層）４はマグネトロンスパッタコーティングによって被着された。
１０００時間後に反射率の低下ΔＲは１％未満であった。テストは合格であった。

実施例３（本発明による、図２中の符号Ｂ３）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
バリア層８：金属クロム
バリア層８と反射層６との間の接着促進層９：ＴｉＯ_２
反射層６：銀
第二の上側層（下側誘電体層）５：ＳｉＯ_２
第一の上側層（上側誘電体層）４：Ｎｂ_２Ｏ_５
上記中間層２の上方に位置する第二の上側層（下側誘電体ＳｉＯ_２の層）５はプラズマ化学気相成長（ＰＥ‐ＣＶＤ）によって被着され、他方、第一の上側層（上側誘電体Ｎｂ_２Ｏ_５の層）４はマグネトロンスパッタコーティングによって被着された。
１０００時間後に反射率の低下ΔＲは１％未満であった。テストは合格であった。

実施例４（本発明による、図２中の符号Ｂ４）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
バリア層８：金属Ｎｉ_８０Ｃｒ_２０ （８０：２０ 質量パーセント）
バリア層８と反射層６との間の接着促進層９：ＴｉＯ_２
反射層６：銀
反射層６と第二の上側層（誘電体層）５との間の接着促進層１０：ＣｒＯ_ｓ
第二の上側層（下側誘電体層）５：Ａｌ_２Ｏ_３
第一の上側層（上側誘電体層）４：Ｎｂ_２Ｏ_５
上記中間層２の上方に位置する第二の上側層（下側誘電体Ａｌ_２Ｏ_３の層）５は電子ビーム蒸着によって被着され、他方、第一の上側層（上側誘電体Ｎｂ_２Ｏ_５の層）４はマグネトロンスパッタコーティングによって被着された。
１０００時間後に反射率の低下ΔＲは１％未満であった。テストは合格であった。

実施例５（本発明による、図２中の符号Ｂ５）
層システム（下から上へ）
キャリア１：アルミニウム
中間層２：アルマイト
バリア層８：金属Ｎｉ_８０Ｃｒ_２０ （８０：２０ 質量パーセント）
バリア層８と反射層６との間の接着促進層９：ＴｉＯ_２
反射層６：銀
反射層６と第二の上側層（誘電体層）５との間の接着促進層１０：ＣｒＯ_ｓ
第二の上側層（下側誘電体層）５：Ａｌ_２Ｏ_３
第一の上側層（上側誘電体層）４：ＴｉＯ_２
被覆層７：炭素含有量１％のＳｉＯ_２
上記光学的多層系３上に被着された上記被覆層７はＰＥ‐ＣＶＤ法によって被着された。
１０００時間後に反射率の低下ΔＲは１％未満であった。テストは合格であった。

当業者は、本発明の範囲を逸脱することなく、付加的な好適な対策によって本発明を補足することが可能である。たとえば‐同じく、図面に示したように‐特にキャリア１の光学的多層系３とは反対側の面Ｂ‐該キャリアはオプショナルにこの面にも陽極酸化層１１を有していてよい‐にさらに加えて装飾層１２が被着されていてよい。この装飾層１２は、金属質の、窒化チタン又は、光輝以外に一定の色合いも付与することのできるその他の適切な材料からなる鏡面層であってよい。これは、本発明による複合材料Ｖから灯火用リフレクタ本体が製造されるべき場合に特に好適である。

さらに別の好ましいアプリケーションケースは、本発明による複合材料Ｖの表面に、たとえば、チップの形のＬＥＤ光源を配することである。この点に関するさらにその他の思量可能な詳細については、一例として、独国特許出願公開第１０２０１２１０８７１９号明細書の全体を参照されたい。

最終的に、本発明による複合材料Ｖは、長期的耐性を有する高い光全反射によって、たとえば米国特許第８９１５２４４号明細書に開示されているような、温室に設置されて、熱発生のために太陽光を集める太陽熱プラントへの使用に極めて適している。ここでも、さらにその他の思量可能な詳細については、上記文献の全体を参照されたい。

上記光学的多層系３には、上記反射層６の上方に、ペアをなす第一及び第二の上側層（上側誘電体層及び／又は酸化物層）４、５のみならず、この種の複数のペアリング層が配置されていてもよく、これによって、本発明による複合材料Ｖの反射率をさらにいっそう増幅することが可能である。この場合、オプショナルに設けられる接着促進層１０は、好適には、この種のペアリング層の要素であってよく、その際、その種のペアリング層のうちにあって該接着促進層の上に位置する層は相応して高い屈折率を有している必要があろう。

本発明は、請求項１に画定された特徴コンビネーションに制限されるものではなく、全体として開示されたすべての個別特徴のうちの一定の特徴のその他のいかなる任意のコンビネーションによって画定されていてもよい。これが意味するところは、基本的に請求項１のいずれの個別特徴が実際に省かれてもあるいはそれが本出願のその他の箇所に開示された少なくとも一つの個別特徴に置き換えられてもよいということである。その限りで、請求項１は発明を画定しようとする第一の試みにすぎないと解されなければならない。

１ キャリア
２ 中間層、Ａ上の陽極酸化層
３ 光学的多層系
４ ３の第一の上側層（上側誘電体層）
５ ３の第二の上側層（下側誘電体層）
６ ３の反射層
７ 被覆層
８ バリア層
９ ６と８との間の（第一の）接着促進層
１０ ５と６との間の（第二の）接着促進層
１１ Ｂ上の陽極酸化層
１２ 装飾層
Ａ １の上側面
Ｂ １の下側面
Ｄ Ｖの（総）厚さ
Ｄ１ １の厚さ
Ｄ２ ２の厚さ
Ｄ４ ４の厚さ
Ｄ５ ５の厚さ
Ｄ６ ６の厚さ
Ｄ７ ７の厚さ
Ｄ８ ８の厚さ
Ｄ９ ９の厚さ
Ｄ１０ １０の厚さ
Ｖ 複合材料

Claims (28)

1. アルミニウムからなるキャリア（１）と、該キャリア（１）の面（Ａ）上に配された陽極酸化されたキャリア材料からなる中間層（２）と、該中間層（２）上に被着された光学的多層系（３）とから構成され、前記光学的多層系（３）は、第一の上側層（４）と第二の上側層（５）と最下層（６）との少なくとも三層からなり、前記第一の上側層（４）及び前記第二の上側層（５）は、誘電体層及び／又は酸化物層であり、前記最下層（６）は、銀からなる反射層である反射性複合材料（Ｖ）であって、
   前記中間層（２）上方かつ前記反射層（６）下方に拡散防止バリア層（８）が配置され、前記バリア層（８）は、前記反射層（６）から前記中間層（２）への銀の移動を防止する１０ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有し、前記反射層（６）は、前記反射層（６）と前記バリア層（８）との間に位置し且つ前記反射層（６）及び前記バリア層（８）と直接接触する接着促進層（９）を介して前記バリア層（８）と結合され、
   前記バリア層（８）は、クロム、ニッケル、クロム‐ニッケル合金及びパラジウムの群から選択された金属を含有するか又は完全に当該金属からなり、又は、化学組成Ｃｒ _ｗ Ｎｉ _ｘ Ｎ _ｙ Ｏ _ｚ の物質を含有するか又は完全に当該物質からなり、ここで、添え字ｗ、ｘ、ｙ、ｚには、化学量論比又は非化学量論比で０≦ｗ≦１、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、および０≦ｚ≦５の関係が当てはまり、但し、ｗ又はｘの少なくとも一方が＞０であり、ｗ＞０、ｘ＝０、ｙ＝０、ｚ＞０の場合、前記物質は非化学量論的酸化Ｃｒの組成物であり、ｗ＞０、ｘ＝０、ｙ＞０、ｚ＝０の場合、前記物質は非化学量論的窒化Ｃｒの組成物であることを特徴とする複合材料（Ｖ）。
2. 前記バリア層（８）は金属層又は窒化物層であることを特徴とする、請求項１に記載の複合材料（Ｖ）。
3. 前記バリア層（８）は、１５から７０ｎｍまでの範囲内の厚さ（Ｄ８）を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の複合材料（Ｖ）。
4. 前記光学的多層系（３）の前記第一の上側層（４）は前記光学的多層系（３）の前記第二の上側層（５）よりも高い屈折率を有する層であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
5. 前記第一の上側層（４）はＴａ _２ Ｏ _５ 、Ｎｂ _２ Ｏ _５ 、ＭｏＯ _３ 、ＴｉＯ _２ 及び／又はＺｒＯ _２ からなり、前記第二の上側層（５）はＡｌ _２ Ｏ _３ 及び／又はＳｉＯ _２ からなることを特徴とする、請求項４に記載の複合材料（Ｖ）。
6. 前記光学的多層系（３）の前記第二の上側層（５）と前記反射層（６）との間にさらに別の接着促進層（１０）が配置されていることを特徴とする、請求項１から５のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
7. 前記（単数／複数の）接着促進層（９、１０）は（単数／複数の）酸化物層であることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
8. 前記（単数／複数の）接着促進層（９、１０）はＡｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２又はＣｒＯ_ｓから形成され、その際、ｓは化学量論比又は非化学量論比を表し、０＜ｓ＜１．５の範囲内にあることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
9. 前記（単数／複数の）接着促進層（９、１０）はそれぞれ０．１ｎｍから５０ｎｍまでの範囲内の厚さ（Ｄ９、Ｄ１０）を有することを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
10. 前記バリア層（８）と前記反射層（６）との間に位置する前記接着促進層（９）の厚さ（Ｄ９）は５ｎｍから２５ｎｍまでの範囲内にあることを特徴とする、請求項９に記載の複合材料（Ｖ）。
11. 前記光学的多層系（３）の前記反射層（６）と前記第二の上側層（５）との間に位置する前記接着促進層（１０）の厚さ（Ｄ１０）は、０．１ｎｍから１０ｎｍまでの範囲内にあることを特徴とする、請求項６に直接的又は間接的に従属する請求項９又は１０に記載の複合材料（Ｖ）。
12. 前記反射層（６）の厚さ（Ｄ６）は、３０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲内にあることを特徴とする、請求項１から１１のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
13. 前記光学的多層系（３）上に酸化ケイ素層及び／又は窒化ケイ素層である被覆層（７）が被着されていることを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
14. 前記光学的多層系（３）上に被覆層（７）として、化学組成Ｓｉ_ａＣ_ｂＯ_ｃＮ_ｄＨ_ｅを有する混合層が被着され、その際、添え字ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、化学量論比又は非化学量論比を表し、次のようにして、つまり、前記被覆層（７）が、選択された層厚さ（Ｄ７）において、１０パーセント未満吸光率しか有さず、その際、炭素含有量が、前記被覆層（７）の総質量を基準として、０．２原子百分率から１５．０原子百分率までの範囲内にあるようにして設定されていることを特徴とする、請求項１から１３のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
15. 前記光学的多層系（３）上に被覆層（７）として、０．５μｍから５μｍまでの範囲内の層厚さを有する、ゾル‐ゲル層ベースの有機ケイ素塗料層が被着されていることを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
16. 前記光学的多層系（３）の前記第一の上側層及び第二の上側層（４、５）はそれぞれ、３０ｎｍから２００ｎｍまでの範囲内の厚さ（Ｄ_４、Ｄ_５）を有することを特徴とする、請求項１から１５のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
17. 前記光学的多層系（３）の前記第一の上側層及び第二の上側層（４、５）はそれぞれ、反射されるべき電磁放射のスペクトル領域の平均波長の四分の一の厚さ（Ｄ_４、Ｄ_５）を有することを特徴とする、請求項１から１６のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
18. 前記中間層（２）は、１０ｎｍから１０．０μｍまでの範囲内の厚さ（Ｄ_２）を有することを特徴とする、請求項１から１７のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
19. 前記中間層（２）の表面は、０．０５μｍ未満の範囲の算術平均粗さ（Ｒ_ａ）を有することを特徴とする、請求項１から１８のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
20. 前記中間層（２）内の細孔は、高温圧縮によって閉塞されていることを特徴とする、請求項１から１９のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
21. 前記中間層（２）の上方に配置された一又は複数の層（４、５、６、７、８、９、１０）はスパッタ層、ＣＶＤ層、ＰＥ‐ＣＶＤ層、又は電子衝撃によるか又は熱源から生じた蒸着層であることを特徴とする、請求項１から２０のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
22. 前記中間層（２）の上方に配置された少なくとも二つの層（４、５、６、７、８、９、１０）は、真空中で、一つの連続的方法で被着された層であることを特徴とする、請求項１から２１のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
23. 前記キャリア（１）のアルミニウムは９９．０％よりも高い純度を有することを特徴とする、請求項１から２２のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
24. １６００ｍｍまでの幅を有するとともに、約０．１ｍｍから１．５ｍｍまでの厚さ（Ｄ）を有するコイルとして形成されていることを特徴とする、請求項１から２３のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
25. ＤＩＮ５０３６、Ｔｅｉｌ３に準拠して測定された前記光学的多層系（３）の面（Ａ）における光全反射率は９７％を上回ることを特徴とする、請求項１から２４のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
26. 木綿布に代えてフェルト布が使用されるＤＩＮ ＩＳＯ ９２１１‐４：２０１２に準拠した拭き取りテストに際し、少なくとも１００回に達する拭き取りストローク運動後に表面の可視的損傷が認められないことを特徴とする、請求項１から２５のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
27. ＤＩＮ ＩＳＯ ９２１１‐４：２００６又はＡＳＴＭ Ｄ４５８５に準拠したテストに際し、高い温度（≧５０℃）にて少なくとも１６８ｈの負荷後に視覚的な表面変化がなんら発生せず、あるいは‐ＤＩＮ５０３６‐３によるＬＥＤアプリケーションにつき‐１％未満の光全反射率低下しか、あるいは‐ＡＳＴＭ Ｇ１７３‐０３の太陽光スペクトルＡＭ１．５によるソーラーアプリケーションにつき‐１％未満の太陽光加重全反射率低下しか生じないことを特徴とする、請求項１から２６のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。
28. ＡＳＴＭ Ｅ‐９２７‐８５“Ｔｙｐｅ Ｃｌａｓｓ Ａ”に準拠した太陽シミュレータによるテストに際し、少なくとも１５０℃の温度を有する試料表面で測定されたＵＶ‐Ａ線及びＵＶ‐Ｂ線総強度にて、光全反射率Ｙ（Ｄ６５）又は太陽光加重全反射率Ｒ_{ｓｏｌａｒ}の低下が１％未満であり、その際、この反射率変化を達成すべく合格と判定されるべき負荷持続時間は、ＵＶ線総強度が１５０ｍＷ／ｃｍ^２の場合、少なくとも５００ｈであり、ＵＶ線総強度が７０ｍＷ／ｃｍ^２の場合、少なくとも１０００ｈであることを特徴とする、請求項１から２７のいずれか一項に記載の複合材料（Ｖ）。

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