JP2002254550A - 複合材料 - Google Patents

複合材料

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JP2002254550A JP2001386971A JP2001386971A JP2002254550A JP 2002254550 A JP2002254550 A JP 2002254550A JP 2001386971 A JP2001386971 A JP 2001386971A JP 2001386971 A JP2001386971 A JP 2001386971A JP 2002254550 A JP2002254550 A JP 2002254550A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 さまざまな波長領域で吸収率と反射率を
的確に選択的に調整可能であるような、発明の属する技
術分野で述べたタイプの改善された複合材料を提供する
こと。 【解決手段】 アルミニウムからなる支持体1とその一
方の側Aで支持体1の上にある中間層2とこれに設けら
れた光学機能多層構造体3とを備え、この光学機能多層
構造体3の最も上側の層4が誘電体層であり、中央の層
5はCrOxの化学組成式で表される酸化クロム層であ
り、光学機能多層構造体3の最も下側の層6は金、銀、
銅、クロム、アルミニウム、モリブデンのうちから選択
されたものある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウムから
なる支持体とこの支持体の一方の側で支持体の上にある
中間層とこの中間層に設けられた光学機能多層構造体と
を備え、この光学機能多層構造体は3つの層からなり、
その上側の2つの層は誘電体層または酸化物層あるいは
その両方であるとともに最も下側の層は中間層に設けら
れた金属層である複合材料に関する。
【0002】
【従来の技術】このような種類の複合材料は表面加工ア
ルミニウムテープとして、照明工学、自然光システム、
装飾用の用途などにMIRO(登録商標)の名称で広く
普及している。この場合の表面処理は、敏感なアルミニ
ウム表面をより良く保護し、光反射率を高める役目をし
ている。加工工程は2つの異なるプロセスからなってお
り、両者を連続的に進めることが可能である。すなわち
加工工程は、ひとまとめにして陽極処理と呼ばれる、電
解研磨と陽極酸化とを含んでいる湿式化学プロセスでの
中間層の形成と、光学機能多層構造体の真空中での形成
とで構成されている。その際両方の上側の層は一般に誘
電体層であり、たとえば酸化アルミニウムや酸化チタン
などの酸化物層を上側の層として使用して二酸化珪素を
中央の層として使用するのは、一つの好適な特殊例であ
る。公知のMIRO(登録商標)方式の詳細について
は、たとえば”elektrowaerme inte
rnational”53(1995)B4−11月、
S.B215−B223を参照されたい。
【0003】一般に、放射ビームが当たった物体では、
反射される部分と、吸収される部分と、透過される部分
とにビームが分かれ、これらはその物体の反射率(反射
能)、吸収率(吸収能)、透過率(透過能)として規定
される。反射能、吸収能、透過能は光学的な特性であ
り、入射ビームの波長(たとえば紫外線領域、可視光の
領域、赤外線領域、熱放射の領域)に応じて、同一の材
料でも異なる値をとることがある。その際吸収能に関し
てはキルヒホッフの法則が知られており、それによれば
特定の温度と波長のとき、吸収率は放射度と一定の比率
になる。したがって吸収能についてはウィーンの変位則
ないしプランクの法則、ならびにステファン・ボルツマ
ン法則も重要となり、これらの法則によって、いわゆる
「黒体」のビーム強度、スペクトル分散密度、波長、温
度の間の所定の関係により説明される。その際計算にあ
たって注意すべき点は、「黒体」はそれ自体としては存
在しておらず、現実の物質はそれぞれ特徴的な仕方で理
想分布とは異なっているという点である。
【0004】公知の複合材料では、特に、可視光の領域
における高い反射能が重要な役割を演じており、このよ
うな反射能は、たとえばDIN5036のパート3に規
定されている光全反射率では、最大95パーセントのピ
ーク値として表現されている。さらに、好ましくは半製
品として納品される公知の材料では、その優れた加工
性、特に変形性が強調される。
【0005】特定の応用例では、入射するビームの波長
領域ではできるだけ高い反射率が求められ、それ以外の
領域ではできるだけ低い反射率と、その代わりにいっそ
う高い吸収率とが求められるという事態が生じる可能性
がある。このことは、たとえばソーラーコレクタの分野
に当てはまり、この場合、太陽光の波長領域(約300
から約2500nm)では最大の吸収率が求められ、熱
放射の領域(約2500nm以上)では最大の反射率が
求められる。これらの要求を満たす複合材料が用いられ
た平型コレクタのための吸収体が、たとえばTinox
の名称で公知である。この材料は、銅テープからなる支
持体と、その上に形成された窒化酸化チタンの層と、二
酸化珪素の被覆層とでできている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記実状に鑑み、本発
明の課題は、さまざまな波長領域で吸収率と反射率を的
確に選択的に調整可能であるような、発明の属する技術
分野で述べたタイプの改善された複合材料を提供するこ
とである。さらにこの複合材料は、優れた加工性、特に
変形性と、高い熱伝導性、ならびに高い熱的、化学的な
長期間耐久性を備えることを特徴とするのが望ましい。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本発明によ
れば、光学機能多層構造体の最も上側の層が誘電体層で
あり、光学機能多層構造体の中央の層はCrOxの化学
組成式で表される酸化クロム層であり、光学機能多層構
造体の最も下側の層は金、銀、銅、クロム、アルミニウ
ム、モリブデンのうちから選択されたものでできている
ことによって解決される。なお、前記添字xは化学量論
的、または非化学量論的な組成比を表している。さらに
好適には、前記誘電体層を、MeOZの化学組成式で表
される酸化物層、MeFrの化学組成式で表されるフッ
化物層、MeNSの化学組成式で表される窒化物層のう
ちから選択されたもので、屈折率がn<1.8であると
することが提案され、特にそれぞれ、金属酸化物層、金
属フッ化物層、金属窒化物層が好ましい。その際、添字
z、r、sは酸化物、フッ化物、または窒化物における
化学量論的、または非化学量論的な組成比を表してい
る。
【0008】本発明による光学機能多層構造体は、まず
第一に有利なことに、製造時に、環境に害があり部分的
に有毒な塩溶液を使わずに形成可能である。たとえば光
学機能多層構造体の金属層は、スパッタ層、または蒸着
によって形成された層、特に電子衝撃によって形成され
た層もしくは熱源から形成された層であってよい。光学
機能多層構造体の両方の上側の層は、同じくスパッタ
層、特に反応スパッタリングによって形成された層、C
VD層もしくはPECVD層、または蒸着によって形成
された層、特に電子衝撃によって形成された層もしくは
熱源から形成された層であってよいので、光学機能多層
構造体全体が、真空プロセスで、特に連続的な方法で形
成される層で構成されている。
【0009】最も上側の層は、好ましくは、SiOy
化学組成式で表される酸化珪素層であってよく、その際
添字yは同じく酸化物の組成中における化学量論的また
は非化学量論的な組成比を表している。
【0010】上述した提案に加え、最も上側の層の化学
組成式MeOZ、MeFr、MeNSと、酸化クロム層の
化学組成式CrOxとにおいて、添字x、y、z、rお
よびsに関して特定の離散した値に設定するだけでな
く、例えば酸化物質と酸素の間で化学量論的または非化
学量論的な組成比を一定の範囲内で流動的に変えること
も可能にする。それにより、たとえば機械的な耐久性を
表す値(DIN58196、パート5)の増加ももたら
す、反射を減衰する最も上側の層の屈折率と、酸化クロ
ム層の吸収率とを的確に設定することができる。なおそ
の際、添字xの値が増えるにつれて吸収能は低下する。
【0011】本発明によれば、光学機能多層構造体が設
けられている側における、DIN5036のパート3に
基づいて規定される光全反射率を、5%よりも低い有利
な値に設定することができ、その際高い耐老化性に加え
て高い熱的な安定性も確保することができるが、光学機
能多層構造体の側では430℃/100時間の温度負荷
をかけたときに、本来の反射率の7%よりも低い変動、
好ましくは4%よりも低い変動しか生じない。しかも、
このような温度負荷をかけたとき有利なことにガスの発
生も起こらない。
【0012】本発明による複合材料は、相乗効果で作用
する次のような特性の組み合わせによって、ソーラーコ
レクタの吸収体のために、ならびに、たとえば原動機付
き車両のヘッドライトやその他の照明装置を製作すると
きの光吸収体といった他の用途のために、優れた利用性
を備えている。 ‐1)支持体層はたとえばその優れた変形性によって、
実行されるべき形成プロセスのとき、再加工の負荷に問
題なく耐えるとともに、たとえばその高い熱伝導性や、
太陽光の波長領域で追加的に吸収を促進するような表面
構成ができる能力を備えており、この場合には他の層も
起伏をこのような表面構成に追随させられる。さらにそ
の支持体層は熱放射の領域で光学的な三層構造体の金属
層の作用を増強する反射能を備えている。 ‐2)中間層は、一方では支持体のための機械的な保護
と腐食を防ぐ保護を保証するとともに、他方では、光学
機能多層構造体のための高い付着性を保証する。 ‐3)金属層は、その構成要素が熱放射の領域で高い反
射能とこれに伴う低いエミッションとを有していること
により、ランバート・ブーゲの法則に基づき、照射出力
は侵入深さが増加するにつれて指数特性で吸収されると
ともに、多くの無機物について、非常にわずかな深さ
(約1μm以下)ですでに蓄積可能な熱エネルギーとし
て利用できるという事実がある。 ‐4)酸化クロム層は、吸収率の高い選択性(太陽光の
領域では90%以上のピーク値、>約2500nmの波
長領域では15%以下の最低値)と、前述したような調
節能力(添字xに依存する)とを備えている。 ‐5)特に酸化珪素でできている最も上側の層の利点に
ついては、すでに部分的に指摘したとおりであり、反射
防止作用に加えて高い透過能を有しており、それによっ
て太陽光の領域で酸化クロム層で吸収可能なビーム量の
割合を高める。
【0013】たとえば本発明による複合材料を利用し
て、動作温度が100℃以下である低温コレクタばかり
でなく、高温コレクタも製造することができる。その際
250℃以上の停止温度が可能であり、この温度は、物
質が周囲との熱平衡の状態にある、理論的に可能なその
都度最高の使用温度である。
【0014】本発明のその他の実施形態は、従属請求項
および以下の詳細な説明に記載されている。
【0015】
【発明の実施の形態】添付の図面に図示されている実施
例を参照しながら、本発明について詳しく説明する。
【0016】ここで説明する実施例は、太陽光の波長領
域と熱放射の領域で、吸収率と反射率の高い選択性を備
える本発明の複合材料を対象とするものである。
【0017】この複合材料は、アルミニウムからなる、
特に変形性のあるテープ状の支持体1と、支持体1の側
Aに形成された中間層2と、中間層2の上に形成された
光学機能多層構造体とで構成されている。
【0018】DIN5036のパート3に基づいて規定
される光全反射率は、光学機能多層構造体3が設けられ
た側Aでは5%よりも低い。
【0019】この複合材料は、好ましくは、幅が160
0mm以下、好ましくは1250mm以下、厚さDが約
0.1から1.5mm、好ましくは約0.2から0.8mm
のコイルとして構成されている。その際支持体1は、好
ましくは約0.1から0.7mmの厚さD1を有していて
よい。
【0020】支持体1のアルミニウムは特に99.0%
を超える純度を有しており、それによって熱伝導性が促
進される。
【0021】中間層2は、支持体材料から構成された、
陽極酸化されたアルミニウム、または電解研磨されて陽
極酸化されたアルミニウムでできている。
【0022】多層構造体3はさらに3つの個別層4、
5、6からなっており、上側の2つの層4、5は酸化物
層であり、最も下側の層6は中間層2の上に設けられた
金属層である。光学機能多層構造体3の最も上側の層4
は、SiOyの化学組成式で表される酸化珪素層であ
る。中央の層5は、CrOxの化学組成式で表される酸
化クロム層であり、最も下側の層6は金、銀、銅、クロ
ム、アルミニウム、モリブデンから選択されたものでで
きている。
【0023】その際添字x、yは、酸化物における酸化
された物質と酸素との化学量論的または非化学量論的な
組成比を表している。化学量論的または非化学量論的な
組成比xは、好ましくは0<x<3の範囲内であってよ
く、それに対して化学量論的または非化学量論的な組成
比yは1≦y≦2の範囲内の値をとることができる。
【0024】光学機能多層構造体3の両方の上側の層
4、5がスパッタ層であってよく、特に反応スパッタリ
ングで形成された層、CVD層もしくはPECVD層、
または蒸着によって形成された層、特に電子衝撃で形成
された層もしくは熱源から作成された層であってよいこ
とにより、組成比x、yを無段階で(つまり添字の非化
学量論的な値に)設定することが可能であり、それによ
ってその都度の層特性を変えることができる。
【0025】その際光学機能多層構造体3の最も上側の
層4は、好ましくは3nmを超える厚さD4を有してい
る。このような厚さD4のとき、この層はすでに十分な
効率を備えているが、時間コスト、材料コスト、および
エネルギーコストはわずかな値しかとらない。層厚D4
の上側の限界値は、このような観点からして約500n
mである。光学機能多層構造体3の中央の層5について
前述した観点から最適な値は、10nmを超える最低厚
さD5であり、最大で約1μmである。最も下側の層6
についての値は最低3nmの厚さD6であり、最大で約
500nmである。
【0026】光学機能多層構造体3の最も下側の層6
は、高い効率という意味合いから、好ましくは99.5
%を超える純度を有しているのが望ましい。この層は、
すでに述べたようにスパッタ層または蒸着によって形成
された層、特に電子衝撃で形成された層もしくは熱源か
ら形成された層であってよいので、光学機能多層構造体
3の全体が、好ましくは真空プロセスで連続的な方法で
設けられた層4、5、6で構成される。
【0027】テープ状の支持体1の、光学機能多層構造
体3とは反対の側Bには、中間層2と同じく陽極酸化さ
れたアルミニウム、または電解研磨されて陽極酸化され
たアルミニウムからなる下層7が設けられている。中間
層2と下層7は、好ましくは湿式化学的な方法で同時に
生成することができ、その際酸化アルミニウム層の小孔
は、湿式化学のプロセス連鎖の最終段階で加熱圧縮によ
ってほぼ閉じることができるので、恒久的に耐久性のあ
る表面が生成される。したがって下層7は、中間層2と
同じく、支持体1に対して機械的な保護と腐食を防ぐ保
護とを提供する。
【0028】その際光学機能多層構造体3と反対を向い
ている側Bでの、DIN5036のパート3に基づいて
規定される光全反射率は、好ましくは少なくとも84%
であってよい。
【0029】本発明によれば、特に、光学機能多層構造
体3の側Aまたは光学機能多層構造体3と反対を向いて
いる側Bあるいはその両方の側における、DIN503
6のパート3に基づいて規定される光全反射率が、43
0℃/100時間の温度負荷を受けたときに7%よりも
低い変動、好ましくは4%よりも低い変動しか受けない
ような層構造を得ることが可能である。
【0030】本発明は図示した実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の意味で同じ作用をもつあらゆる手段
と方策を含んでいる。たとえば、光学機能多層構造体3
の最も下側の層6を、金、銀、銅、クロム、アルミニウ
ム、モリブデンから選択されたものが互いに重なり合っ
て配置された複数の部分層から構成することも可能であ
る。すでに述べたように、最も上側の層は、別案として
フッ化物または窒化物でできていてもよい。
【0031】さらに当業者であれば、本発明の範囲を逸
脱することなく、追加の有利な方策を本発明に補足する
ことができる。たとえば、同じく図面に示すように、光
学機能多層構造体3が設けられている方とは反対側Bに
は、特に下層7の上に追加的に装飾層8が設けられてい
てもよい。この装飾層8は、たとえば光沢に加えて一定
の色合いが失われることのない金属材料、または窒化チ
タンその他の適当な材料からなる鏡面層であってよい。
【0032】さらに、本発明は請求項1に定義された構
成要件の組合せに限定されるものではなく、全体として
開示されているすべての個別構成要件の特定の構成要件
の、あらゆる任意の異なる組合せによって定義されてい
てもよい。このことは、原則として請求項1の事実上ど
の個別構成要件でも省略することができ、ないしは、本
出願の別の個所に開示されている少なくとも1つの個別
構成要件で置き換えることができることを意味してい
る。その意味でことを特徴とする請求項1は本発明の最
初の文章化の試みにすぎないと解するべきである。
【0033】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構造に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による複合材料を示す原理的な構造を示
す断面図
【符号の説明】
1 支持体 2 中間層 3 光学機能多層構造体 4 光学機能多層構造体の上側の層 5 光学機能多層構造体の中央の層 6 光学機能多層構造体の下側の層 7 下層 8 装飾層 A 光学機能多層構造体が形成されている側の領域 B 光学機能多層構造体が形成されていない側の領域 D (全体の)厚さ D1 1の厚さ D4 4の厚さ D5 5の厚さ D6 6の厚さ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴェルナー・ライヒェルト ドイツ連邦共和国 デー‐42287 ヴッパ タール フッターシュトラーセ 21 (72)発明者 クラウス・ゲンツ ドイツ連邦共和国 デー‐42389 ヴッパ タール ルドルフ‐ホンベルク‐ヴェーク 5 Fターム(参考) 2H042 DA01 DA08 DA10 DA21 2K009 BB06 CC03 CC14 CC42 DD04 EE00 EE03 4F100 AA05A AA12A AA17A AA22B AB01C AB10C AB10D AB10E AB17C AB20C AB24C AB25C BA05 BA10A BA10E EH66A EH66B EH66C JG05A JN06 YY00

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミニウムからなる支持体(1)とこ
    の支持体(1)の一方の側(A)で支持体(1)の上に
    ある中間層(2)とこの中間層(2)に設けられた光学
    機能多層構造体(3)とを備え、この光学機能多層構造
    体(3)は3つの層(4,5,6)からなり、その上側
    の2つの層(4,5)は誘電体層または酸化物層あるい
    はその両方であるとともに最も下側の層(6)は中間層
    (2)に設けられた金属層である複合材料において、 光学機能多層構造体(3)の最も上側の層(4)が誘電
    体層であり、光学機能多層構造体(3)の中央の層
    (5)はCrOxの化学組成式で表される酸化クロム層
    であり、光学機能多層構造体(3)の最も下側の層
    (6)は金、銀、銅、クロム、アルミニウム、モリブデ
    ンのうちから選択されたものでできており、その際前記
    添字xは化学量論的、または非化学量論的な組成比を表
    していることを特徴とする複合材料。
  2. 【請求項2】 前記誘電体層(4)が屈折率がn<1.
    8であるそれぞれMeOZ、MeFr、MeNSの化学組
    成式で表される酸化物層、フッ化物層、窒化物層のうち
    から選択されたものであり、その際添字z、r、sはそ
    れぞれ酸化物、フッ化物、窒化物における化学量論的、
    または非化学量論的な組成比を表していることを特徴と
    する請求項1に記載の複合材料。
  3. 【請求項3】 光学機能多層構造体(3)の最も上側の
    層(4)が、SiO yの化学組成式で表される酸化珪素
    層であり、その際添字yは化学量論的、または非化学量
    論的な組成比を表していることを特徴とする請求項2記
    載の複合材料。
  4. 【請求項4】 中間層(2)が陽極酸化されたアルミニ
    ウム、または電解研磨されて陽極酸化されたアルミニウ
    ムでできていることを特徴とする請求項1〜3のいずれ
    かに記載の複合材料。
  5. 【請求項5】 光学機能多層構造体(3)と反対の側
    (B)で支持体(1)に設けられている下層(7)を備
    えており、この下層は陽極酸化されたアルミニウム、ま
    たは電解研磨されて陽極酸化されたアルミニウムででき
    ていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
    の複合材料。
  6. 【請求項6】 化学量論的、または非化学量論的な組成
    比xが0<x<3の範囲内にあることを特徴とする請求
    項1〜5のいずれかに記載の複合材料。
  7. 【請求項7】 化学量論的、または非化学量論的な組成
    比yが1≦y≦2の範囲内にあることを特徴とする請求
    項3に記載の複合材料。
  8. 【請求項8】 光学機能多層構造体(3)の最も下側の
    層(6)が、金、銀、銅、クロム、アルミニウム、モリ
    ブデンのうちから選択されたものが互いに重なり合って
    配置された複数の部分層から構成されていることを特徴
    とする請求項1〜7のいずれかに記載の複合材料。
  9. 【請求項9】 光学機能多層構造体(3)の上側の2つ
    の層(4,5)が、スパッタ層、特に反応スパッタリン
    グによって形成された層、CVD層もしくはPECVD
    層、または蒸着によって形成された層、特に電子衝撃に
    よって形成された層もしくは熱源から形成された層であ
    ることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の複
    合材料。
  10. 【請求項10】 光学機能多層構造体(3)の金属層
    が、スパッタ層、または蒸着によって形成された層、特
    に電子衝撃によって形成された層もしくは熱源から形成
    された層であることを特徴とする請求項1〜9のいずれ
    かに記載の複合材料。
  11. 【請求項11】 光学機能多層構造体(3)が、真空連
    続プロセスで形成される層で構成されていることを特徴
    とする請求項1〜10のいずれかに記載の複合材料。
  12. 【請求項12】 光学機能多層構造体(3)の最も上側
    の層(4)が、3nmを超えていて最大で約500nm
    の厚さ(D4)を有していることを特徴とする請求項1
    〜11のいずれかに記載の複合材料。
  13. 【請求項13】 光学機能多層構造体(3)の中央の層
    (5)が、10nmを超えていて最大で約1μmの厚さ
    (D5)を有していることを特徴とする請求項1〜12
    のいずれかに記載の複合材料。
  14. 【請求項14】 光学機能多層構造体(3)の最も下側
    の層(6)が、少なくとも3nm、最大で約500nm
    の厚さ(D6)を有していることを特徴とする請求項1
    〜13のいずれかに記載の複合材料。
  15. 【請求項15】 光学機能多層構造体(3)の側(A)
    における、DIN5036のパート3に基づいて規定さ
    れる光全反射率が5%よりも低いことを特徴とする請求
    項1〜14のいずれかに記載の複合材料。
  16. 【請求項16】 光学機能多層構造体(3)と反対の側
    (B)における、DIN5036のパート3に基づいて
    規定される光全反射率が少なくとも84%であることを
    特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載の複合材
    料。
  17. 【請求項17】 光学機能多層構造体(3)の側(A)
    または光学機能多層構造体(3)と反対の側(B)ある
    いはその両方の側における、DIN5036のパート3
    に基づいて規定される光全反射率が、430℃/100
    時間の温度負荷を受けたときに7%よりも低い変動、好
    ましくは4%よりも低い変動しか受けないことを特徴と
    する請求項1〜16のいずれかに記載の複合材料。
  18. 【請求項18】 支持体(1)のアルミニウムが99.
    0%よりも高い純度を有していることを特徴とする請求
    項1〜17のいずれかに記載の複合材料。
  19. 【請求項19】 光学機能多層構造体(3)の最も下側
    の層(6)が99.5%よりも高い純度を有しているこ
    とを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の複合材
    料。
  20. 【請求項20】 その幅が1600mm以下、好ましく
    は1250mm以下、そのトータル厚さ(D)が約0.
    1から1.5mm、好ましくは約0.2から0.8mmの
    コイルとして構成されていることを特徴とする請求項1
    〜19のいずれかに記載の複合材料。
  21. 【請求項21】 光学機能多層構造体(3)と反対の側
    (B)、特に下層(7)に、装飾層(8)、たとえば鏡
    面層が設けられていることを特徴とする請求項1〜20
    のいずれかに記載の複合材料。
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