JP6843320B1 - セラミックヒータ - Google Patents
セラミックヒータ Download PDFInfo
- Publication number
- JP6843320B1 JP6843320B1 JP2020570587A JP2020570587A JP6843320B1 JP 6843320 B1 JP6843320 B1 JP 6843320B1 JP 2020570587 A JP2020570587 A JP 2020570587A JP 2020570587 A JP2020570587 A JP 2020570587A JP 6843320 B1 JP6843320 B1 JP 6843320B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating element
- coefficient
- thermal expansion
- connecting via
- resistance heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Resistance Heating (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
アルミナ基板の上面にウエハ載置面が設けられ、前記ウエハ載置面側から、ゾーンごとに設けられた抵抗発熱体及び前記抵抗発熱体に給電する多段のジャンパ線がこの順に前記アルミナ基板に埋設され、前記抵抗発熱体と前記ジャンパ線とを上下方向に連結する発熱体連結ビア及び前記ジャンパ線へ給電するために外部へ取り出す給電ビアを備えたセラミックヒータであって、
前記発熱体連結ビアの比抵抗は、前記抵抗発熱体の比抵抗よりも小さく、
前記発熱体連結ビアの熱膨張係数と前記アルミナ基板の熱膨張係数との差の絶対値は、前記抵抗発熱体の熱膨張係数と前記アルミナ基板の熱膨張係数との差の絶対値よりも小さい、
ものである。
Claims (7)
- アルミナ基板の上面にウエハ載置面が設けられ、前記ウエハ載置面側から、ゾーンごとに設けられた抵抗発熱体及び前記抵抗発熱体に給電する多段のジャンパ線がこの順に前記アルミナ基板に埋設され、前記抵抗発熱体と前記ジャンパ線とを上下方向に連結する発熱体連結ビア及び前記ジャンパ線へ給電するために外部へ取り出す給電ビアを備えたセラミックヒータであって、
前記発熱体連結ビアの比抵抗は、前記抵抗発熱体の比抵抗よりも小さく、
前記発熱体連結ビアの熱膨張係数と前記アルミナ基板の熱膨張係数との差の絶対値は、前記抵抗発熱体の熱膨張係数と前記アルミナ基板の熱膨張係数との差の絶対値よりも小さい、
セラミックヒータ。 - 前記発熱体連結ビアの比抵抗は、前記抵抗発熱体の比抵抗の0.75倍よりも小さい、
請求項1に記載のセラミックヒータ。 - 前記抵抗発熱体の熱膨張係数は、前記アルミナ基板の熱膨張係数に対し±4ppm/K以内であり、
前記発熱体連結ビアの熱膨張係数は、前記アルミナ基板の熱膨張係数に対し±0.6ppm/K以内である、
請求項1又は2に記載のセラミックヒータ。 - 前記発熱体連結ビアは、金属ルテニウムを10重量%以上95重量%以下含む、
請求項1〜3のいずれか1項に記載のセラミックヒータ。 - 前記発熱体連結ビアから前記抵抗発熱体への拡散の方が、前記抵抗発熱体から前記発熱体連結ビアへの拡散よりも多い、
請求項1〜4のいずれか1項に記載のセラミックヒータ。 - 前記抵抗発熱体は、主成分が炭化タングステン又は金属ルテニウムであり、
前記発熱体連結ビアは、主成分が金属ルテニウムである、
請求項1〜5のいずれか1項に記載のセラミックヒータ。 - 前記給電ビア及び前記ジャンパ線は、前記発熱体連結ビアと同じ材料で作製されている、
請求項1〜6のいずれか1項に記載のセラミックヒータ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019169349 | 2019-09-18 | ||
JP2019169349 | 2019-09-18 | ||
PCT/JP2020/034910 WO2021054323A1 (ja) | 2019-09-18 | 2020-09-15 | セラミックヒータ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6843320B1 true JP6843320B1 (ja) | 2021-03-17 |
JPWO2021054323A1 JPWO2021054323A1 (ja) | 2021-09-30 |
Family
ID=74860858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020570587A Active JP6843320B1 (ja) | 2019-09-18 | 2020-09-15 | セラミックヒータ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6843320B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7392887B1 (ja) | 2023-03-27 | 2023-12-06 | Toto株式会社 | 静電チャック |
JP7392888B1 (ja) | 2023-03-27 | 2023-12-06 | Toto株式会社 | 静電チャック |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09190873A (ja) * | 1996-01-05 | 1997-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 面状発熱体の製造法 |
JP2003317907A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Kyocera Corp | セラミックヒータ |
JP2004253810A (ja) * | 2004-02-25 | 2004-09-09 | Ibiden Co Ltd | セラミック基板 |
WO2016042957A1 (ja) * | 2014-09-16 | 2016-03-24 | 日本碍子株式会社 | セラミック構造体、基板保持装置用部材及びセラミック構造体の製法 |
JP2017228360A (ja) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 加熱部材及び静電チャック |
-
2020
- 2020-09-15 JP JP2020570587A patent/JP6843320B1/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09190873A (ja) * | 1996-01-05 | 1997-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 面状発熱体の製造法 |
JP2003317907A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Kyocera Corp | セラミックヒータ |
JP2004253810A (ja) * | 2004-02-25 | 2004-09-09 | Ibiden Co Ltd | セラミック基板 |
WO2016042957A1 (ja) * | 2014-09-16 | 2016-03-24 | 日本碍子株式会社 | セラミック構造体、基板保持装置用部材及びセラミック構造体の製法 |
JP2017228360A (ja) * | 2016-06-20 | 2017-12-28 | 日本特殊陶業株式会社 | 加熱部材及び静電チャック |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7392887B1 (ja) | 2023-03-27 | 2023-12-06 | Toto株式会社 | 静電チャック |
JP7392888B1 (ja) | 2023-03-27 | 2023-12-06 | Toto株式会社 | 静電チャック |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2021054323A1 (ja) | 2021-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5018244B2 (ja) | 静電チャック | |
JP6843320B1 (ja) | セラミックヒータ | |
US6878907B2 (en) | Ceramic substrate and process for producing the same | |
US20040007773A1 (en) | Ceramic substrate for semiconductor fabricating device | |
US11574822B2 (en) | Wafer support table with ceramic substrate including core and surface layer | |
JP6867550B2 (ja) | 保持装置および保持装置の製造方法 | |
WO2021054322A1 (ja) | 静電チャックヒータ | |
WO2021054323A1 (ja) | セラミックヒータ | |
US11142484B2 (en) | Component for semiconductor production device, and production method of component for semiconductor production device | |
EP1383168A1 (en) | Method of producing electrostatic chucks and method of producing ceramic heaters | |
JP3642746B2 (ja) | セラミックスヒータ | |
JP2003077783A (ja) | 半導体製造・検査装置用セラミックヒータおよびその製造方法 | |
JP2008159900A (ja) | 静電チャック付きセラミックヒーター | |
JP6877301B2 (ja) | セラミックスヒータ | |
JP4744016B2 (ja) | セラミックヒータの製造方法 | |
JP2005243243A (ja) | 加熱方法 | |
JP5127378B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体およびそれを用いた基板載置装置 | |
US20080060576A1 (en) | Wafer Holder for Semiconductor Manufacturing Device and Semiconductor Manufacturing Device in Which It Is Installed | |
JP2005191581A (ja) | 半導体製造装置用ウェハ保持体およびその製造方法ならびに半導体製造装置 | |
JP6867907B2 (ja) | セラミックス接合体およびセラミックス接合体の製造方法 | |
JP2006210696A (ja) | セラミック製静電チャック | |
JP2021118324A (ja) | 静電チャック、静電チャック装置、静電チャックの製造方法 | |
JP2017147126A (ja) | セラミックスヒータの製造方法 | |
JP2004233051A (ja) | ウエハ加熱装置 | |
JP2020174137A (ja) | 保持装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201217 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20201217 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20210204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210222 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6843320 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |