JP6843273B2

JP6843273B2 - プラズマ発生装置および情報処理方法

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Inventors: 慎二瀧川
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Description

本発明は、プラズマ発生装置および情報処理方法に関するものである。

特許文献１には、チャンバ内のプラズマに加える電流および電圧をモニタし、加える電力を制御するプラズマ発生器を含むシステムが開示されている。

特開２００４−１５４５６２号公報

ところで、プラズマ発生装置において、例えばガスを供給するガス供給装置の故障などにより、例えばガスの流量が異常となり、プラズマ発生装置が異常停止する場合がある。異常停止の場合には、異常停止前の例えばガスの流量の推移の情報が、異常発生の原因の特定に有用となる。

本願は、上記の課題に鑑み提案されたものであって、装置の異常停止が発生した場合に、異常停止の原因特定を効率的に行うことができるプラズマ発生装置および情報処理方法を提供することを目的とする。

本明細書は、１対の電極間の放電によりプラズマを発生させるプラズマ発生装置であって、１対の電極と、１対の電極を覆うハウジングと、ハウジングに設けられた複数の開口部と、１対の電極に反応気体を供給するための反応気体供給経路と、複数の開口部と連通される複数の連通経路および加熱気体を供給する加熱気体供給経路を有し、複数の連通経路の流出口と加熱気体供給経路の流出口とが近接されていることで、複数の開口部および複数の連通経路を通過した１対の電極間の放電により反応気体がプラズマ化したプラズマ気体を加熱気体で保護することを可能とする連結ブロックと、加熱気体供給経路に配設されるヒータと、ヒータに配設される温度センサと、反応気体供給経路に配設された第１圧力センサと、反応気体供給経路に供給される反応気体の流量を測定する第１流量センサと、加熱気体供給経路に配設された第２圧力センサと、加熱気体供給経路に供給される加熱気体の流量を測定する第２流量センサと、１対の電極に給電する高周波電源と、高周波電源から１対の電極に給電される電流値を検知する電流センサと、温度センサ、第１圧力センサ、第１流量センサ、第２圧力センサ、第２流量センサ、および電流センサの何れかにより異常を検知する検知器と、記憶装置と、制御装置と、を備え、制御装置は、該プラズマ発生装置の状態を時刻に対応付けて記憶装置に記憶させ、検知器が異常を検出する所定時間前から異常を検知するまでのプラズマ発生装置の状態を記憶装置に記憶させる記憶処理を実行するプラズマ発生装置を開示する。

本開示によれば、装置の異常停止が発生した場合に、異常停止の原因特定を効率的に行うことができるプラズマ発生装置および情報処理方法を提供することができる。

大気圧プラズマ発生装置を示す斜視図である。大気圧プラズマ発生装置の下端部を示す斜視図である。大気圧プラズマ発生装置の要部を示す断面図である。大気圧プラズマ発生装置の制御系統を示すブロック図である。高周波電源、処理ガス供給装置、および加熱用ガス供給装置と電極および反応室との物理的な接続を示すブロック図である。データ記憶期間を説明する図である。

大気圧プラズマ発生装置の構成
大気圧プラズマ発生装置１０は、大気圧下でプラズマを発生させるための装置である。図１に示すように、大気圧プラズマ発生装置１０は、プラズマガス噴出装置１２と加熱ガス噴出装置１４と制御装置（図４参照）１６とを備えている。以下の説明において、大気圧プラズマ発生装置１０の幅方向をＸ方向と、大気圧プラズマ発生装置１０の奥行方向をＹ方向と、Ｘ方向とＹ方向とに直行する方向、つまり、上下方向をＺ方向と称する。

プラズマガス噴出装置１２は、ハウジング２０、カバー２２、１対の電極２４，２６（図３）によって構成されている。図３に示すように、ハウジング２０は、メインハウジング３０、放熱板３１、アース板３２、下部ハウジング３４、ノズルブロック３６を含む。メインハウジング３０は、概してブロック状をなし、メインハウジング３０の内部には、反応室３８が形成されている。また、メインハウジング３０には、上下方向に延びるように、複数の第１ガス流路（図３では１本の第１ガス流路のみが記されている）５０が形成されており、複数の第１ガス流路５０は、Ｘ方向に所定の間隔をおいて並んでいる。各第１ガス流路５０の上端部は、反応室３８に開口し、下端部は、メインハウジング３０の底面に開口している。

放熱板３１は、メインハウジング３０のＹ方向における一方側の側面に配設されている。放熱板３１は、複数のフィン（図示省略）を有しており、メインハウジング３０の熱を放熱する。また、アース板３２は、避雷針として機能するものであり、メインハウジング３０の下面に固定されている。アース板３２には、複数の第１ガス流路５０に対応して、上下方向に貫通する複数の貫通穴５６が形成されており、各貫通穴５６は、対応する第１ガス流路５０に連結されている。

下部ハウジング３４は、ブロック状をなし、アース板３２の下面に固定されている。下部ハウジング３４には、複数の貫通穴５６に対応して、複数の第２ガス流路６２が上下方向に延びるように形成されている。各第２ガス流路６２の上端部は、対応する貫通穴５６に連結され、下端部は、下部ハウジング３４の底面に開口している。

図２に示すように、ノズルブロック３６は、下部ハウジング３４の下面に固定されており、下部ハウジング３４の複数の第２ガス流路６２に対応して、複数の第３ガス流路６６が、上下方向に延びるように形成されている。各第３ガス流路６６の上端部は、対応する第２ガス流路６２に連結され、下端部は、ノズルブロック３６の底面に開口している。

図３に戻り、カバー２２は、概して枡形をなし、下部ハウジング３４およびノズルブロック３６を覆うように、アース板３２の下面に配設されている。カバー２２の下面には、貫通穴７０が形成されている。その貫通穴７０は、ノズルブロック３６の下面より大きく、ノズルブロック３６の下面が、貫通穴７０の内部に位置している。また、カバー２２の加熱ガス噴出装置１４側の側面にも、Ｙ方向に延びるように貫通穴７２が形成されている。

１対の電極２４，２６は、メインハウジング３０の反応室３８の内部において、対向するように配設されている。その反応室３８には、処理ガス供給装置（図４参照）７４が接続されている。処理ガス供給装置７４は、窒素等の不活性ガスと酸素等の活性ガスとの少なくとも一方を、処理ガスとして供給する装置である。これにより、反応室３８に、処理ガスが供給される。尚、処理ガスはドライエアでも良い。

また、加熱ガス噴出装置１４は、保護カバー８０、ガス管８２、ヒータ８３、連結ブロック８４を含む。保護カバー８０は、プラズマガス噴出装置１２の放熱板３１を覆うように配設されている。ガス管８２は、保護カバー８０の内部において、上下方向に延びるように配設されており、ガス管８２には、加熱用ガス供給装置（図４参照）８６が接続されている。加熱用ガス供給装置８６は、酸素等の活性ガス、若しくは、窒素等の不活性ガスを供給する装置である。また、ガス管８２には、概して円筒状のヒータ８３が配設されており、ガス管８２がヒータ８３によって加熱される。これにより、加熱用ガス供給装置８６からガス管８２に供給されたガスが加熱される。また、ヒータ８３には、概して円筒状の熱電対カバー９１に覆われた熱電対９２（図４）が配設されている。

連結ブロック８４は、ガス管８２の下端に連結されるとともに、カバー２２のＹ方向での加熱ガス噴出装置１４側の側面に固定されている。連結ブロック８４には、概してＬ字型に屈曲した連通路８８が形成されており、連通路８８の一端部は、連結ブロック８４の上面に開口するとともに、連通路８８の他端部は、Ｙ方向でのプラズマガス噴出装置１２側の側面に開口している。そして、連通路８８の一端部がガス管８２に連通し、連通路８８の他端部が、カバー２２の貫通穴７２に連通している。

図４に示すように、制御装置１６は、コントローラ１００、高周波電源１０２、駆動回路１０５、流量コントローラ１０３，１０４、制御回路１０６および通信部１０７などを備えている。コントローラ１００は、不図示のＣＰＵ，ＲＯＭ，ＲＡＭ等を備えるコンピュータなどにより実現される。コントローラ１００は、高周波電源１０２、駆動回路１０５、および流量コントローラ１０３，１０４を制御することにより、プラズマガス噴出装置１２および加熱ガス噴出装置１４を制御する。また、コントローラ１００は、制御回路１０６を介して、表示装置１１５に接続されている。これにより、コントローラ１００の指令に従って、表示装置１１５に画像が表示される。さらに、コントローラ１００は、入力装置１１６に接続されている。入力装置１１６は、操作ボタンなどにより構成されており、操作ボタンへの操作による操作情報を出力する。これにより、操作ボタンへの操作による操作情報が、コントローラ１００に入力される。通信部１０７は、不図示のネットワークに接続する通信機器と通信を行う。通信の形態は特に限定されず、例えば、ＬＡＮ、シリアル通信などである。また、コントローラ１００は機能部として記憶部１２０および異常検知部１２１を有する。記憶部１２０には、後述する記憶処理にて大気圧プラズマ発生装置１０の状態が記憶される。異常検知部１２１は、後述する電流センサ１１１、圧力センサ１１２，１１３、熱電対９２、温度センサ１１４からの出力値に基づいて、異常が発生したか否かを判断し、異常を検知する。

図５に示すように、高周波電源１０２は、商用電源から電極２４，２６へ給電する高周波の交流電力を生成し、生成した交流電力を電極２４，２６へ給電する。電流センサ１１１は、高周波電源１０２から電極２４，２６へ電力を供給するための給電線１３１に流れる電流を検出する。詳しくは、電流センサ１１１は例えばカレントトランスを備え、カレントトランスにより検出された給電線１３１に流れる電流値に応じた検出電圧をＡＤ変換し、電流値に応じたデジタル値をコントローラ１００へ出力する。以下、電流値に応じたデジタル値を単に電流値と記載する場合がある。

流量コントローラ１０３は、例えばマスフローコントローラなどにより実現される。流量コントローラ１０３は、処理ガス供給装置７４から反応室３８に供給される処理ガスの流量を制御する。また、供給される処理ガスの流量の値をコントローラ１００へ出力する。圧力センサ１１２は、処理ガス供給装置７４から反応室３８に供給される処理ガスの配管１３２に取り付けられており、処理ガスのガス圧を検出し、検出したガス圧値をコントローラ１００へ出力する。

流量コントローラ１０４は、流量コントローラ１０３と同様に、加熱用ガス供給装置８６からガス管８２に供給されるガスの流量を制御する。また、供給されるガスの流量値をコントローラ１００へ出力する。圧力センサ１１３は、加熱用ガス供給装置８６からガス管８２を介して連通路８８に供給されるガスの配管１３３に供給されるガスのガス圧を検出し、検出したガス圧値をコントローラ１００へ出力する。

駆動回路１０５にはヒータ８３付近に取り付けられた熱電対９２が電気的に接続されている。駆動回路１０５は、コントローラ１００に指示された目標温度となるように、熱電対９２の出力値に基づき、ヒータ８３を制御する。また、駆動回路１０５は、熱電対９２の出力値に応じた温度をコントローラ１００へ出力する。温度センサ１１４は、例えば熱電対を有し、プラズマガス（後述）の温度を検出し、検出した温度をコントローラ１００へ出力する。

大気圧プラズマ発生装置によるプラズマ処理
大気圧プラズマ発生装置１０において、プラズマガス噴出装置１２では、上述した構成により、反応室３８の内部で処理ガス（反応気体の一例）がプラズマ化され、ノズルブロック３６の第３ガス流路６６の下端からプラズマガス（プラズマ気体の一例）が噴出される。また、加熱ガス噴出装置１４により加熱されたガス（加熱気体の一例）がカバー２２の内部に供給される。そして、カバー２２の貫通穴７０から、プラズマガスが、加熱されたガスとともに噴出され、被処理体がプラズマ処理される。

詳しくは、プラズマガス噴出装置１２では、処理ガス供給装置７４によって処理ガスが反応室３８に供給される。その際、反応室３８では、１対の電極２４，２６に電力が供給されており、１対の電極２４，２６間に電流が流れる。これにより、１対の電極２４，２６間に放電が生じ、その放電により、処理ガスがプラズマ化される。反応室３８で発生したプラズマは、第１ガス流路５０内を下方に向かって流れ、貫通穴５６を介して、第２ガス流路６２に流れ込む。そして、プラズマガスは、第２ガス流路６２および、第３ガス流路６６内を下方に向かって流れる。これにより、第３ガス流路６６の下端から、プラズマガスが噴出される。

また、加熱ガス噴出装置１４では、加熱用ガス供給装置８６によってガスがガス管８２に供給され、そのガス管８２が、ヒータ８３により加熱される。これにより、ガス管８２に供給されているガスが６００℃〜８００℃に加熱される。その加熱されたガスは、連結ブロック８４の連通路８８を介して、カバー２２の貫通穴７２からカバー２２の内部に流入する。そして、カバー２２内に流入した加熱ガスは、カバー２２の貫通穴７０から噴出される。この際、ノズルブロック３６の第３ガス流路６６の下端から噴出されるプラズマガスが、加熱ガスによって保護される。これにより、適切にプラズマ処理を行うことが可能となる。

詳しくは、プラズマ処理時には、プラズマガスを噴出する噴出口から所定の距離、離れた位置に被処理体が載置され、その被処理体に噴出口からプラズマガスが噴出される。つまり、プラズマ処理時において、プラズマガスは空気中に噴出され、空気中に噴出されたプラズマガスが被処理体に照射される。

コントローラ１００は、入力装置１１６を介してプラズマ発生開始の指示を受け付けると、プラズマ発生制御を開始する。プラズマ発生制御において、コントローラ１００は、高周波電源１０２に所定の電力を電極２４，２６に給電する制御を開始させ、流量コントローラ１０３，１０４にそれぞれ、処理ガスおよびガスを、所定のガス流量およびガス圧での供給を開始させる。また、コントローラ１００は、駆動回路１０５に、所定の温度になるように、ヒータ８３の制御を開始させる。

また、コントローラ１００は、プラズマ発生制御を開始すると、所定時間毎に、電流センサ１１１から出力される電流値、流量コントローラ１０３，１０４から出力される流量値、圧力センサ１１２，１１３から出力されるガス圧値、駆動回路１０５および温度センサ１１４から出力される温度を時刻に対応付けて記憶部１２０に記憶させる記憶処理を開始する。以下の説明において、時刻に対応付けて記憶される電流値、流量値、ガス圧値、駆動回路１０５および温度センサ１１４から出力される温度を履歴と称する。また、以下の説明において、電流値、流量値、ガス圧値、温度を検出値と総称する。記憶部１２０において、履歴が記憶される領域は予め定められている。従って、コントローラ１００は、記憶処理において、記憶部１２０の予め定められた領域に履歴が記憶され、新たな履歴を記憶することができる空の領域がなくなると、記憶部１２０に記憶されている履歴のうち、最古の履歴に新たな履歴を上書きする。これにより、所定期間前の履歴が記憶部１２０に記憶されることができる。尚、所定期間とは例えば数分程度である。

コントローラ１００は、検出値の少なくとも１つが異常値となり異常が発生した異常検知部１２１がと判断すると、異常を検知したため、電極２４，２６への給電の停止、処理ガス、ガスの供給を停止させ、プラズマ発生制御を終了する。これにより、大気圧プラズマ発生装置１０のプラズマ発生は停止される。次に、コントローラ１００は、記憶処理を終了する。これにより、図６に示すように、記憶部１２０には、異常停止より前の一定期間の履歴が記憶されている状態となる。尚、図６における異常発生とは、上記のコントローラ１００が検出値の少なくとも１つが異常値となったと判断した時点を示す。また、図６における異常停止とは、上記の、コントローラ１００が異常値となったと判断して、電極２４，２６への給電の停止、処理ガス、ガスの供給を停止させた時点を示す。

コントローラ１００は、異常停止により、プラズマ発生制御を終了すると、表示装置１１５に履歴を表示させる。表示形式は、例えば時間軸に対して検出値をプロットしたグラフ形式などである。これにより、作業者は異常停止の原因の調査をすることができる。例えば、駆動回路１０５から出力されるヒータ８３に配設された熱電対９２により検出された温度が異常値となったと判断された場合について次に例示する。例えば、温度上昇が通常よりも遅く、所定時間経過しても異常判定の下限値よりも大きく、つまり温度が上がりきらなかったことが原因となる場合がある。また、熱電対９２により検出された温度が異常判定の下限値より大きく、つまり温度が所定温度よりも高かったものの、例えば、熱電対９２の断線、動力線の断線、あるいはヒータ８３の故障などを原因として、温度が急激に低下した場合である。このように、原因により検出値の変動の傾向は異なるため、原因を調査するのに履歴は有効となる。

ここで、異常が発生したと異常検知部１２１が判断する、上記した場合以外の場合について説明する。放電が行われると電極２４，２６間に電流が流れる。そこで、電流センサ１１１による電流値に基づき、異常検知部１２１は、所定時間における電流が流れなかった電流欠け回数が所定回数よりも多かった場合に異常が発生したと判断する。また、ガスの流量の値が異常値となる場合には、配管はずれ、配管つまりなどがある。また、ガス圧が異常となる場合には、配管はずれ、放電不安定などがある。

また、ガス圧が大きくなる場合、相関して、電流欠け回数が増える、あるいは、ヒータ８３の温度の値が上昇する、あるいは、ガス流量が増える傾向がある。ガス流量が増える場合、相関して、電流欠け回数が増える傾向がある。また、ヒータ８３の温度が下がると、放電能力に影響する。また、電極２４，２６の摩耗、および電極２４，２６へ供給される電圧の低下は、電流欠け回数が増える要因となる。履歴により、高周波電源１０２に異常があるかを容易に判断することができる。

ここで、大気圧プラズマ発生装置１０はプラズマ発生装置の一例であり、電極２４，２６は電極および一対の電極の一例であり、電流センサ１１１は電力検出器の一例であり、流量コントローラ１０３，１０４および圧力センサ１１２，１１３は気体検出器の一例である。コントローラ１００は制御装置の一例であり、異常検知部１２１、電流センサ１１１、流量コントローラ１０３，１０４および圧力センサ１１２，１１３は検知器の一例であり、記憶部１２０は記憶装置の一例である。また、表示装置１１５は表示部の一例である。また、電流センサ１１１から出力される電流値はプラズマ発生装置の状態および給電量の一例である。流量コントローラ１０３，１０４から出力される流量値、圧力センサ１１２，１１３から出力されるガス圧値、駆動回路１０５から出力される熱電対９２による温度および温度センサ１１４から出力される温度は、プラズマ発生装置の状態およびガスの状態の一例である。流量コントローラ１０３，１０４から出力される流量値、圧力センサ１１２，１１３から出力されるガス圧値、駆動回路１０５から出力される熱電対９２による温度および温度センサ１１４から出力される温度は、それぞれ、ガス流量、ガス圧、ガス温度の一例である。また、ハウジング２０はハウジングの一例であり、ヒータ８３はヒータの一例であり、高周波電源１０２は高周波電源の一例である。また、カバー２２、下部ハウジング３４、ノズルブロック３６、および連結ブロック８４からなる部分は連結ブロックの一例である。また、第１ガス流路５０は開口部の一例であり、第２ガス流路６２および第３ガス流路６６は連通経路の一例であり、配管１３２は反応気体供給経路の一例であり、配管１３３は加熱気体供給経路の一例である。圧力センサ１１２は第１圧力センサの一例であり、流量コントローラ１０３は第１流量センサの一例であり、圧力センサ１１３は第２圧力センサの一例であり、流量コントローラ１０４は第２流量センサの一例であり、熱電対９２は温度センサの一例である。

以上、説明した実施形態によれば、以下の効果を奏する。
コントローラ１００は、検出値の少なくとも１つが異常値となったと異常検知部１２１が判断すると、電極２４，２６への給電の停止、処理ガス、ガスの供給を停止させ、プラズマ発生制御を終了する。また、コントローラ１００は、プラズマ発生制御を開始することに応じて記憶処理を開始し、プラズマ発生制御を終了することに応じて記憶処理を終了する。これにより、記憶部１２０に記憶された検出値の履歴を提供することができるため、異常停止の原因特定を効率的に行う大気圧プラズマ発生装置１０を提供することができる。

また、コントローラ１００は、記憶処理において、記憶部１２０の予め定められた領域に履歴が記憶され、新たな履歴を記憶することができる空の領域がなくなると、記憶部１２０に記憶されている履歴のうち、最古の履歴に新たな履歴を上書きし、所定時間を残して順次更新して記憶する。これにより、記憶部１２０の限られた記憶領域にて、異常停止から所定時間前の履歴を効率的に記憶させることができる。

また、コントローラ１００は、プラズマ発生制御を開始することに応じて記憶処理を開始し、プラズマ発生制御を終了することに応じて記憶処理を終了する。つまり、コントローラ１００は、プラズマ発生制御を行っていない期間、検出器の記憶は行わない。プラズマ発生制御を行っていない期間の検出値は、異常停止の原因の調査には有益ではない。このため、大気圧プラズマ発生装置１０の電源が投入されている期間のうち、記憶処理を行われる期間が限定されることにより、省電力とすることができる。

また、大気圧プラズマ発生装置１０は、記憶部１２０に記憶されている検出値を表示する表示装置１１５を備える。これにより、作業者は、表示装置１１５に表示される検出値の履歴を見ることによって、効率的に異常停止の原因を調査することができる。

尚、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内での種々の改良、変更が可能であることは言うまでもない。
例えば、上記では、記憶処理において、電流センサ１１１から出力される電流値、流量コントローラ１０３，１０４から出力される流量値、圧力センサ１１２，１１３から出力されるガス圧値、駆動回路１０５から出力される温度、および温度センサ１１４から出力される温度のすべてが記憶されると説明したが、これに限定されない。電流センサ１１１から出力される電流値と、流量コントローラ１０３，１０４から出力される流量値、圧力センサ１１２，１１３から出力されるガス圧値、駆動回路１０５から出力される温度、および温度センサ１１４から出力される温度との、何れか一方が記憶される構成でも良い。さらに、流量コントローラ１０３，１０４から出力される流量値、圧力センサ１１２，１１３から出力されるガス圧値、駆動回路１０５から出力される温度、および温度センサ１１４から出力される温度の少なくとも何れか１つが記憶される構成としても良い。

また、上記では、コントローラ１００は、検出値の少なくとも１つが異常値となったと判断すると、電極２４，２６への給電の停止、処理ガス、ガスの供給を停止させ、プラズマ発生制御を終了し、その後、記憶処理を終了すると説明したが、これに限定されない。コントローラ１００は、検出値の少なくとも１つが異常値となったと判断したことに応じて、記憶処理を終了する構成としても良い。

また、上記では、コントローラ１００は、異常停止により、プラズマ発生制御を終了すると、表示装置１１５に履歴を表示させると説明したが、これに限定されない。大気圧プラズマ発生装置１０が起動している期間、コントローラ１００は、表示装置１１５に履歴表示の操作ボタンを含むメニュー画面を表示させる構成としておき、作業者により、履歴表示の操作ボタンが入力装置１１６を介して選択された場合に、履歴を表示する構成としても良い。また、記憶部１２０に記憶された履歴のデータが通信部１０７を介して、ネットワーク接続された通信機器へ送信可能とする構成としても良い。これにより、大気圧プラズマ発生装置１０の近くにいない技術者が、送信先の通信機器にて履歴を見て原因を調査することができる。

また、上記では、異常を検出する検出器の一例として異常検知部１２１の場合を例示したが、これに限定されない。例えば、コントローラ１００とは別に、圧力センサ１１２の出力値が予め設定された異常検出の範囲を超えた場合にコントローラ１００へ信号を出力する検出器を大気圧プラズマ発生装置１０が備える構成としても良い。

１０大気圧プラズマ発生装置
２４、２６電極
１００コントローラ
１１１電流センサ
１０３、１０４流量コントローラ
１０５駆動回路
１１２、１１３圧力センサ
１１４温度センサ
１１５表示装置
１２０記憶部

Claims

１対の電極間の放電によりプラズマを発生させるプラズマ発生装置であって、
前記１対の電極と、
前記１対の電極を覆うハウジングと、
前記ハウジングに設けられた複数の開口部と、
前記１対の電極に反応気体を供給するための反応気体供給経路と、
前記複数の開口部と連通される複数の連通経路および加熱気体を供給する加熱気体供給経路を有し、前記複数の連通経路の流出口と前記加熱気体供給経路の流出口とが近接されていることで、前記複数の開口部および前記複数の連通経路を通過した前記１対の電極間の放電により前記反応気体がプラズマ化したプラズマ気体を前記加熱気体で保護することを可能とする連結ブロックと、
前記加熱気体供給経路に配設されるヒータと、
前記ヒータに配設される温度センサと、
前記反応気体供給経路に配設された第１圧力センサと、
前記反応気体供給経路に供給される前記反応気体の流量を測定する第１流量センサと、
前記加熱気体供給経路に配設された第２圧力センサと、
前記加熱気体供給経路に供給される前記加熱気体の流量を測定する第２流量センサと、
前記１対の電極に給電する高周波電源と、
前記高周波電源から前記１対の電極に給電される電流値を検知する電流センサと、
前記温度センサ、前記第１圧力センサ、前記第１流量センサ、前記第２圧力センサ、前記第２流量センサ、および前記電流センサの何れかにより異常を検知する検知器と、
記憶装置と、
制御装置と、を備え、
前記制御装置は、
該プラズマ発生装置の状態を時刻に対応付けて前記記憶装置に記憶させ、前記検知器が前記異常を検出する所定時間前から前記異常を検知するまでの前記プラズマ発生装置の状態を前記記憶装置に記憶させる記憶処理を実行するプラズマ発生装置。