JP6837419B2 - 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法 - Google Patents

半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6837419B2
JP6837419B2 JP2017233135A JP2017233135A JP6837419B2 JP 6837419 B2 JP6837419 B2 JP 6837419B2 JP 2017233135 A JP2017233135 A JP 2017233135A JP 2017233135 A JP2017233135 A JP 2017233135A JP 6837419 B2 JP6837419 B2 JP 6837419B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory block
data
memory
allocation information
storage device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017233135A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019102112A (ja
Inventor
誠二 澤田
誠二 澤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Electronics Corp
Original Assignee
Renesas Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Electronics Corp filed Critical Renesas Electronics Corp
Priority to JP2017233135A priority Critical patent/JP6837419B2/ja
Priority to EP18196337.2A priority patent/EP3496103A1/en
Priority to US16/152,148 priority patent/US10892018B2/en
Priority to CN201811379302.9A priority patent/CN109871184A/zh
Priority to KR1020180145974A priority patent/KR20190066549A/ko
Publication of JP2019102112A publication Critical patent/JP2019102112A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6837419B2 publication Critical patent/JP6837419B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • G11C16/16Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits for erasing blocks, e.g. arrays, words, groups
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F12/00Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
    • G06F12/02Addressing or allocation; Relocation
    • G06F12/06Addressing a physical block of locations, e.g. base addressing, module addressing, memory dedication
    • G06F12/0646Configuration or reconfiguration
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/08Address circuits; Decoders; Word-line control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/102External programming circuits, e.g. EPROM programmers; In-circuit programming or reprogramming; EPROM emulators
    • G11C16/105Circuits or methods for updating contents of nonvolatile memory, especially with 'security' features to ensure reliable replacement, i.e. preventing that old data is lost before new data is reliably written
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2212/00Indexing scheme relating to accessing, addressing or allocation within memory systems or architectures
    • G06F2212/10Providing a specific technical effect
    • G06F2212/1041Resource optimization

Description

本発明は半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法に関し、例えばリフレッシュ動作を実施可能な半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法に関する。
不揮発性の半導体記憶装置は、電源供給を止めてもデータが消えないという利点があるが、製品寿命までの間、データを保持できることが不可欠である。不揮発性の半導体記憶装置にとってデータ保持特性は重要な性能の一つであり、データ保持特性を満たすための手法の一つにリフレッシュ動作がある。
特許文献1には、フラッシュメモリのリフレッシュ動作に関する技術が開示されている。特許文献1に開示されている技術では、フラッシュメモリの所定のエリアに保持されているデータをRAM(Random Access Memory)にデータ転送して一時的に待避させた後、この所定のエリアのデータを消去し、その後、待避させたデータをフラッシュメモリの所定のエリアに転送して再度書き込むことでリフレッシュ動作を実施している。
特開平9−50698号公報
上述のように、特許文献1に開示されている技術では、リフレッシュ動作時に、フラッシュメモリの所定のエリアに保持されているデータを、フラッシュメモリの外部に設けられたRAMに一時的に待避させている。しかしながら、フラッシュメモリの外部に設けられたRAMにデータを一時的に待避させる場合は、フラッシュメモリの外部にデータを転送する必要があり、リフレッシュ動作が複雑になるという問題がある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
一実施の形態によれば、複数のメモリブロックのうちの1つを余剰メモリブロックに割り当て、リフレッシュ動作の際に、リフレッシュ対象のメモリブロックに格納されているデータを余剰メモリブロックに転送している。そして、余剰メモリブロックへのデータ転送が完了した後、データが転送された余剰メモリブロックにリフレッシュ対象であったメモリブロックのアドレス情報を割り付けている。また、リフレッシュ対象であったメモリブロックを新たに余剰メモリブロックに割り当てている。
前記一実施の形態によれば、リフレッシュ動作を簡素化することが可能な半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法を提供することができる。
関連技術にかかる半導体記憶装置を示すブロック図である。 実施の形態にかかる半導体記憶装置を示すブロック図である。 実施の形態にかかる半導体記憶装置が備えるデコーダの構成例を示す回路図である。 アドレス割付情報格納部に格納されているアドレス割付情報の一例を示す表である。 実施の形態にかかる半導体記憶装置が備えるアドレス割付情報格納部の構成例を示すブロック図である。 実施の形態にかかる半導体記憶装置が備えるブロック選択回路の構成例を示すブロック図である。 実施の形態にかかる半導体記憶装置の動作を示すタイミングチャートである。 実施の形態にかかる半導体記憶装置が備えるメモリアレイの詳細な構成を示すブロック図である。 実施の形態にかかる半導体記憶装置の動作を示すフローチャートである。 アドレス割付情報格納部に格納されているアドレス割付情報の他の例を示す表である。
<関連技術>
まず、関連技術について説明する。図1は、関連技術にかかる半導体記憶装置を示すブロック図である。図1に示すように、関連技術にかかる半導体記憶装置(フラッシュメモリ)101は、メモリアレイ110と、デコーダ111と、を備える。半導体記憶装置101の外部には、RAM(Random Access Memory)119が設けられている。
メモリアレイ110は、複数のメモリブロック115_0〜115_3を備える。デコーダ111は、半導体記憶装置101に入力された入力アドレス(外部アドレス)をデコードし、複数のメモリブロック115_0〜115_3の中から、入力アドレスに対応したメモリブロックを選択する。
メモリアレイ110が備える複数のメモリブロック115_0〜115_3はそれぞれ、フラッシュメモリの消去単位に対応している。例えば、メモリブロック115_0にデータを書き込む際は、まず消去単位であるメモリブロック115_0の全てのメモリセルを“1”にする。その後、メモリブロック115_0のメモリセルのうち、“0”を書き込みたいメモリセルに対して書き込みを行う。他のメモリブロック115_1〜115_3についても同様に書き込み処理が実施される。
ところで、図1に示す、関連技術にかかる半導体記憶装置(フラッシュメモリ)101は、電源供給を止めてもデータが消えないという利点があり、製品寿命までの間、データを保持することが不可欠である。このように、半導体記憶装置101にとってデータ保持特性は、重要な性能の一つである。このようなデータ保持特性を改善する手法の一つにリフレッシュ動作がある。
例えば、図1に示す半導体記憶装置101のメモリブロック115_0に対してリフレッシュ動作を実施する場合は、まず、メモリブロック115_0に格納されているデータを、半導体記憶装置101の外部に設けられているRAM119に転送して待避させる。その後、メモリブロック115_0に対して一括消去を実施した後、RAM119に待避させていたデータをメモリブロック115_0に転送して再度書き込む。
このように、関連技術にかかる半導体記憶装置101は、リフレッシュ動作時に、半導体記憶装置101のメモリブロック115_0〜115_3に保持されているデータを、半導体記憶装置101の外部に設けられたRAM119に一時的に待避させている。しかしながら、半導体記憶装置101の外部に設けられたRAM119にデータを一時的に待避させる場合は、半導体記憶装置101の外部にデータを転送する必要があり、リフレッシュ動作が複雑になるという問題がある。
以下で説明する実施の形態では、このような問題を解決することができる半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法について説明する。
<実施の形態>
次に、実施の形態にかかる半導体記憶装置について説明する。図2は、実施の形態にかかる半導体記憶装置を示すブロック図である。図2に示すように、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1は、メモリアレイ10、デコーダ11、アドレス割付情報格納部12、ブロック選択回路13、及びリフレッシュ制御回路17を備える。
メモリアレイ10は、複数のメモリブロックBLK_0〜BLK_4(15_0〜15_4)を備える。複数のメモリブロックBLK_0〜BLK_4はそれぞれ、フラッシュメモリのリフレッシュ単位に対応している。またその単位は、消去単位以上(n倍)のサイズでる。なお、図2では、5つのメモリブロックBLK_0〜BLK_4を備える構成を示しているが、メモリアレイ10が備えるメモリブロックの数は任意に決定することができる。
例えば、メモリブロックBLK_0にデータを書き込む際は、まず消去単位であるメモリブロックBLK_0の全てのメモリセルを“1”にする。その後、メモリブロックBLK_0のメモリセルのうち、“0”を書き込みたいメモリセルに対して書き込みを行う。他のメモリブロックBLK_1〜BLK_4についても同様に書き込み処理が実施される。
また、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1では、複数のメモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちの1つは、通常時にデータが格納されない余剰メモリブロックとして割り当てられている。例えば、メモリブロックBLK_4を余剰メモリブロックとして割り当てた場合は、通常時にメモリブロックBLK_0〜BLK_3にデータが格納されるが、メモリブロックBLK_4にはデータが格納されない。
後述するように、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1では、リフレッシュ動作時に余剰メモリブロックにデータを書き込んでおり、余剰メモリブロックはリフレッシュ動作を実施する度に入れ替わる。本実施の形態において、「通常時」とは半導体記憶装置1をフラッシュメモリとして用いている場合を示しており、「リフレッシュ動作時」以外を示している。
デコーダ11は、半導体記憶装置1に入力された入力アドレス(Add_0、Add_1)をデコードし、入力アドレス(Add_0、Add_1)に対応したメモリブロックにアクセスするためのアクセスアドレス信号BLK_<0:3>をブロック選択回路13に出力する。ここで、入力アドレス(Add_0、Add_1)は、メモリブロックを選択するためのアドレスである。後述するメモリセルを選択するためのアドレスは別途入力される。
なお、本実施の形態では、一例として入力アドレスが2ビットのアドレス情報である場合を示している。すなわち、入力アドレスAdd_0および入力アドレスAdd_1はそれぞれ、“L(ロウレベル)”または“H(ハイレベル)”の値を取ることができるので、入力アドレスAdd_0および入力アドレスAdd_1(つまり、2つの入力アドレス)を用いて、4つの値を表現することができる。
図3は、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1が備えるデコーダ11の構成例を示す回路図である。図3に示すように、デコーダ11は複数の論理回路21〜24を用いて構成されている。各々の論理回路21〜24の一方の入力端には、入力アドレスAdd_0が供給され、他方の入力端には入力アドレスAdd_1が供給される。各々の論理回路21〜24は、NOR論理NOR1〜NOR4とインバータINV1〜INV4とを組み合わせて構成されている。具体的には、論理回路21はNOR論理NOR1を用いて構成されている。論理回路22は、NOR論理NOR2と、NOR論理NOR2の一方の入力端に接続されたインバータINV1と、を用いて構成されている。論理回路23は、NOR論理NOR3と、NOR論理NOR3の他方の入力端に接続されたインバータINV2と、を用いて構成されている。論理回路24は、NOR論理NOR4と、NOR論理NOR4の両方の入力端に接続されたインバータIVN3、INV4と、を用いて構成されている。
入力アドレスAdd_0及び入力アドレスAdd_1が共にロウレベルの場合、論理回路21はアクセスアドレス信号BLK_<0>としてハイレベルの信号を出力し、論理回路22〜24はアクセスアドレス信号BLK_<1>〜BLK_<3>としてロウレベルの信号を出力する。この場合、デコーダ11はアクセスアドレス信号BLK_<0:3>として、BLK_<0:3>=(H、L、L、L)をブロック選択回路13に出力する。なお、アクセスアドレス信号BLK_<0:3>の表記は、4つのアクセスアドレス信号BLK_<0>、BLK_<1>、BLK_<2>、BLK_<3>を示しており、本明細書ではアクセスアドレス信号BLK_<0>〜BLK_<3>と記載する場合もある。また、“BLK_<0:3>=(H、L、L、L)”の表記は、BLK_<0>が“H”の信号を、BLK_<1>が“L”の信号を、BLK_<2>が“L”の信号を、BLK_<3>が“L”の信号を、それぞれ出力していることを示している。以下、同様である。
また、入力アドレスAdd_0がハイレベル、入力アドレスAdd_1がロウレベルの場合、論理回路22はアクセスアドレス信号BLK_<1>としてハイレベルの信号を出力し、論理回路21、23、24はアクセスアドレス信号BLK_<0>、BLK_<2>、BLK_<3>としてロウレベルの信号を出力するものとする。この場合、デコーダ11はアクセスアドレス信号BLK_<0:3>=(L、H、L、L)をブロック選択回路13に出力する。
また、入力アドレスAdd_0がロウレベル、入力アドレスAdd_1がハイレベルの場合、論理回路23はアクセスアドレス信号BLK_<2>としてハイレベルの信号を出力し、論理回路21、22、24はアクセスアドレス信号BLK_<0>、BLK_<1>、BLK_<3>としてロウレベルの信号を出力するものとする。この場合、デコーダ11はアクセスアドレス信号BLK_<0:3>=(L、L、H、L)をブロック選択回路13に出力する。
また、入力アドレスAdd_0及び入力アドレスAdd_1が共にハイレベルの場合、論理回路24はアクセスアドレス信号BLK_<3>としてハイレベルの信号を出力し、論理回路21〜23はアクセスアドレス信号BLK_<0>〜BLK_<2>としてロウレベルの信号を出力するものとする。この場合、デコーダ11はアクセスアドレス信号BLK_<0:3>=(L、L、L、H)をブロック選択回路13に出力する。
図2に示すアドレス割付情報格納部12には、アドレス割付情報が格納されている。ここで、アドレス割付情報とは、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4(15_0〜15_4)に割り付けられたアドレス情報である。換言すると、半導体記憶装置1に入力される入力アドレスと、アクセス先のメモリブロックBLK_0〜BLK_4と、を対応付けた情報である。
図4は、アドレス割付情報格納部12に格納されているアドレス割付情報の一例を示す表である。図4に示すように、各々のアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fには、メモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちの一つが割り付けられている。具体的には、アドレス割付情報BLK0Fには、メモリブロックBLK_0が割り付けられている(図4において、“H”(ハイレベル)で示している)。また、アドレス割付情報BLK1FにはメモリブロックBLK_1が、アドレス割付情報BLK2FにはメモリブロックBLK_2が、アドレス割付情報BLK3FにはメモリブロックBLK_3が、それぞれ割り付けられている。
なお、メモリブロックBLK_4は、アドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fのいずれにも割り付けられていない。これは、外部から入力アドレスを用いてメモリブロックBLK_4にアクセスすることができないことを意味している。つまり、メモリブロックBLK_4は、通常時にデータが格納されないメモリブロックに割り当てられている。本明細書においては、このメモリブロックのことを余剰メモリブロックと呼ぶ。
図5は、アドレス割付情報格納部12の構成例を示すブロック図である。図5に示すように、例えば、アドレス割付情報格納部12は、フラッシュメモリ41とラッチ回路42とを用いて構成することができる。フラッシュメモリ41には、図4に示したようなアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fが格納されている。また、ラッチ回路42は、フラッシュメモリ41からアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを読み出してラッチする。
ブロック選択回路13(図2参照)は、アドレス割付情報格納部12からアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを読み出す際、ラッチ回路42(図5参照)にラッチされているアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを読み出す。ここで、ラッチ回路42からのアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fの読み出しは、フラッシュメモリ41からの読み出しよりも速い。よって、ブロック選択回路13は、ラッチ回路42からアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを高速で読み出すことができる。
例えば、ラッチ回路42は、半導体記憶装置1に電源が投入された際に、フラッシュメモリ41からアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを読み出してラッチする。また、ラッチ回路42は、後述するリフレッシュ動作により、フラッシュメモリ41に格納されているアドレス割付情報が書き換えられた後にも、書き換えられた後のアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fをフラッシュメモリ41から読み出してラッチする。
なお、アドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを書き換える際は、新しいアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fをフラッシュメモリ41に直接書き込んでもよい。この場合は、フラッシュメモリ41に格納されているアドレス割付情報が書き換えられた後、ラッチ回路42は、書き換えられた後のアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fをフラッシュメモリ41から読み出してラッチする。
また、新しいアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを用いてラッチ回路42の情報を書き換える動作と、新しいアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fをフラッシュメモリ41に書き込む動作とを同時に並行して実施してもよい。この場合は、ラッチ回路42の情報を高速に書き換えることができる。
図2に示すブロック選択回路13は、入力された入力アドレスに対応したメモリブロックをアドレス割付情報に基づいて選択する。つまり、ブロック選択回路13は、デコーダ11から供給されたアクセスアドレス信号BLK_<0:3>と、アドレス割付情報格納部12から供給されたアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fと、に基づいて、アクセス先のメモリブロックを選択する。
図6は、ブロック選択回路13の構成例を示すブロック図である。図6に示すように、ブロック選択回路13は、セレクタSEL_0〜SEL_3(31_0〜31_3)を備える。各々のセレクタSEL_0〜SEL_3の入力には、各々のアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fが供給される。各々のセレクタSEL_0〜SEL_3に供給されるアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fは、図4の表に示したアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fに対応している。また、各々のセレクタSEL_0〜SEL_3には、各々のアクセスアドレス信号BLK_<0>〜BLK_<3>が供給される。
各々のセレクタSEL_0〜SEL_3は、ハイレベルのアクセスアドレス信号BLK_<0>〜BLK_<3>が供給されると、アドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fを出力するように構成されている。出力されたアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fは、選択アドレス情報BLKS_<0>〜BLKS_<4>として、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4に供給される。
本実施の形態では、アクセスアドレス信号BLK_<0>〜BLK_<3>のうちの1つがハイレベルになるように構成されている。よって、ハイレベルのアクセスアドレス信号BLK_<0>〜BLK_<3>がブロック選択回路13に供給されると、アドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fのうちの1つが、ブロック選択回路13から出力される。ここで、各々のアドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fには、メモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちの1つがハイレベルになるよう、それぞれ割り付けられている。したがって、メモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちの1つが選択される。
次に、半導体記憶装置1に入力アドレス(Add_0、Add_1)が入力されてから、メモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちの1つが選択されるまでの動作について、図7に示すタイミングチャートを用いて説明する。
図7のタイミングt1において、半導体記憶装置1に入力アドレス(Add_0=“L”、Add_1=“L”)が入力されると、デコーダ11は、入力アドレス(Add_0、Add_1)をデコードする。より詳細には、デコーダ11は、入力アドレス(Add_0、Add_1)をデコードして、入力アドレス(Add_0、Add_1)に対応したメモリブロックにアクセスするためのアクセスアドレス信号BLK_<0:3>を生成する。生成されたアクセスアドレス信号BLK_<0:3>は、ブロック選択回路13に出力される(タイミングt2)。
図7に示す場合は、入力アドレスAdd_0、Add_1が共にロウレベルであるので、デコーダ11は、アクセスアドレス信号BLK_<0:3>=(H、L、L、L)をブロック選択回路13に供給する。
デコーダ11からアクセスアドレス信号BLK_<0:3>=(H、L、L、L)が供給されると、ブロック選択回路13のセレクタSEL_0(図6参照)にはアクセスアドレス信号BLK_<0>としてハイレベルの信号が供給される。また、セレクタSEL_1〜SEL_3には、アクセスアドレス信号BLK_<1>〜BLK_<3>としてロウレベルの信号がそれぞれ供給される。この場合は、セレクタSEL_0にハイレベルのアクセスアドレス信号BLK_<0>が供給されるので、セレクタSEL_0は、アドレス割付情報BLK0Fを選択アドレス情報BLKS_<0:4>として出力する(タイミングt3)。
図4に示したように、アドレス割付情報BLK0Fには、メモリブロックBLK_0が割り付けられている。よって、選択アドレス情報BLKS_<0:4>は、BLKS_<0:4>=(H、L、L、L、L)となる。したがって、この場合は、ブロック選択回路13から出力された選択アドレス情報BLKS_<0>がハイレベルとなり、他の選択アドレス情報BLKS_<1>〜BLKS_<4>はロウレベルとなるので、メモリブロックBLK_0が選択される。
本実施の形態にかかる半導体記憶装置1では、アドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fに割り付けるメモリブロックBLK_0〜BLK_4を変更することで、選択されるメモリブロックを変更することができる。
例えば、アドレス割付情報BLK0FにメモリブロックBLK_1を割り付けた場合は、選択アドレス情報BLKS_<0:4>は、BLKS_<0:4>=(L、H、L、L、L)となる。この場合は、ブロック選択回路13から出力された選択アドレス情報BLKS_<1>がハイレベルとなり、他の選択アドレス情報BLKS_<0>、BLKS_<2>〜BLKS_<4>はロウレベルとなる。よって、メモリブロックBLK_1が選択される。
次に、メモリアレイ10の詳細な構成について、図8を用いて説明する。図8に示すように、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4には、それぞれ、m+1本のワード線WL_0〜WL_mが設けられている(mは0を含む正の整数)。各々のワード線WL_0〜WL_mは、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4が備えるメモリセル(不図示)に接続されている。各々のワード線WL_0〜WL_mは、ワード線ドライバ(不図示)に接続されており、ワード線ドライバ(不図示)は、メモリセルにデータを書き込む際、また、メモリセルからデータを読み出す際に、ワード線を活性状態(例えば、ハイレベル)にする。
また、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4には、n+1本のビット線BL_0〜BL_nが設けられている(nは0を含む正の整数)。各々のビット線BL_0〜BL_nは、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4が備えるメモリセル(不図示)に接続されている。また、各々のビット線BL_0〜BL_nは、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4に渡って設けられている。
各々のビット線BL_0〜BL_nは、各々の書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_n(51_0〜51_n)に接続されている。各々の書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nは、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4に書き込むデータを一時的にラッチするための回路である。また、各々のビット線BL_0〜BL_nは、センスアンプSA(52)に接続されている。センスアンプSA(52)は、各々のメモリブロックBLK_0〜BLK_4のメモリセルからデータを読み出す際に、ビット線BL_0〜BL_nの信号を増幅させる。
切替回路53は、外部からメモリアレイ10へのデータの入力、及びメモリアレイ10から外部へのデータの出力を切り替える。
例えば、切替回路53は、メモリブロックBLK_0〜BLK_4にデータを書き込む場合、外部から供給された書き込みデータをデータ入力線Dinを介して書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nに供給する。書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nは、供給された書き込みデータを一時的にラッチする。その後、書き込みパルスが供給されると、書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nにラッチされているデータが、ビット線BL_0〜BL_nを介して所定のメモリブロックのメモリセルに供給される。また、データを書き込むメモリセルに対応したワード線WL_0〜WL_mが活性状態となり、所定のメモリブロックのメモリセルにデータが書き込まれる。
メモリブロックBLK_0〜BLK_4からデータを読み出す場合は、データを読み出すメモリセルに対応したワード線WL_0〜WL_mを活性状態にすると共に、センスアンプ52を用いてビット線BL_0〜BL_nの信号を増幅させる。センスアンプ52を用いて読み出されたデータは、データ出力線Doutを介して切替回路53に供給される。そして、切替回路53は、読み出されたデータをメモリアレイ10の外部に出力する。
次に、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1のリフレッシュ動作について説明する。リフレッシュ動作は、図2に示すリフレッシュ制御回路17を用いて実施される。具体的には、リフレッシュ制御回路17は、リフレッシュコマンドが供給された際に、メモリアレイ10の所定のメモリブロックに対してリフレッシュ動作を実施する。
本実施の形態にかかる半導体記憶装置1では、複数のメモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちの1つを、通常時にデータが格納されない余剰メモリブロックに割り当てている。例えば、メモリブロックBLK_4を余剰メモリブロックに割り当てた場合は、通常時にメモリブロックBLK_0〜BLK_3にデータが格納されるが、メモリブロックBLK_4にはデータが格納されない。本実施の形態にかかる半導体記憶装置1では、リフレッシュ対象のメモリブロックから余剰メモリブロックにデータを転送することで、リフレッシュ動作を実施している。
以下、図9に示すフローチャートを用いて、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1におけるリフレッシュ動作について説明する。なお、以下では、一例としてメモリブロックBLK_0をリフレッシュ対象のメモリブロックとし、メモリブロックBLK_4を余剰メモリブロックとした場合について説明するが、リフレッシュ対象のメモリブロック、余剰メモリブロックの組み合わせは、これに限定されるものではない。
図9に示すように、まず、リフレッシュ制御回路17は、メモリブロックBLK_4のデータを一括消去する(ステップS1)。すなわち、リフレッシュ制御回路17は、余剰メモリブロックであるメモリブロックBLK_4にデータを転送する前に、メモリブロックBLK_4のデータを一括消去する。
次に、リフレッシュ制御回路17は、複数のメモリブロックBLK_0〜BLK_4のうちリフレッシュ対象のメモリブロックBLK_0に格納されているデータを余剰メモリブロックBLK_4に転送する。
このとき、リフレッシュ制御回路17は、リフレッシュ対象のメモリブロックBLK_0から読み出されたデータを、書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_n(図8参照)に一時的にラッチした後、当該ラッチされているデータを余剰メモリブロックBLK_4に書き込む。リフレッシュ対象のメモリブロックBLK_0から余剰メモリブロックBLK_4へのデータの転送は、ワード線WL_0〜WL_m単位で実施される。これは、通常動作の書き込み単位がワード線単位であり、またリフレッシュ単位が1ブロック(つまりWL_0〜WL_m単位)であるため、一例としてこのような単位でデータ転送を実施している場合を示している。
具体的には、図8に示すメモリブロックBLK_0のワード線WL_0を活性状態にして、メモリブロックBLK_0のワード線WL_0に対応するn+1個のデータをn+1本のビット線BL_0〜BL_nを介して読み出す。このときセンスアンプ52は、ビット線BL_0〜BL_nの信号を増幅させてデータを読み出す。センスアンプ52を用いて読み出されたデータは、データ出力線Doutを介して切替回路53に供給される。切替回路53は、読み出されたデータをデータ入力線Dinを介して書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nに供給する。このような動作により、メモリブロックBLK_0から読み出されたデータが、書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nにラッチされる(図9のステップS2)。
その後、図8に示す余剰メモリブロックBLK_4のワード線WL_0を活性状態にして、書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_nにラッチされているn+1個のデータを、n+1本のビット線BL_0〜BL_nを介して余剰メモリブロックBLK_4に書き込む(図9のステップS3)。
このような動作により、メモリブロックBLK_0のワード線WL_0に対応するメモリセルのデータを、余剰メモリブロックBLK_4のワード線WL_0に対応するメモリセルに転送することができる。
ここで、ワード線WL_aの初期値はa=0であるので、ワード線の本数が1本よりも多い場合は、a=m(mは「ワード線の本数−1」に対応)を満たさない(図9のステップS4:No)。この場合は、ステップS5においてaの値を1つ増加させて(つまり、a=1とする)、再度、ステップS2およびステップS3の動作を実施する。つまり、ワード線WL_aのaは、a=0〜mであり、ステップS2およびステップS3の動作は、ワード線WL_0〜WL_m毎に実施される。
以降、ステップS4において「a=m」の条件を満たすまで、ステップS2〜S5の動作を繰り返す。そして、全てのワード線WL_0〜WL_mにおいて、ステップS2、及びステップS3の動作が実施されると、メモリブロックBLK_0から余剰メモリブロックBLK_4へのデータの転送が完了する。
ステップS4において「a=m」の条件を満たすと(ステップS4:Yes)、リフレッシュ制御回路17は、アドレス割付情報格納部12に格納されているアドレス割付情報(図4参照)を書き換える(ステップS6)。具体的には、データが転送された余剰メモリブロックBLK_4にリフレッシュ対象であったメモリブロックのアドレス情報を割り付け、リフレッシュ対象であったメモリブロックBLK_0を新たに余剰メモリブロックに割り当てる。
図10は、書き換えた後のアドレス割付情報の一例を示す表である。図10に示すアドレス割付情報では、図4に示したアドレス割付情報と比べて、アドレス割付情報BLK0Fが書き換えられている。つまり、アドレス割付情報BLK0Fに割り付けるメモリブロックをメモリブロックBLK_0からメモリブロックBLK_4に変更している。これにより、入力された入力アドレス(外部アドレス)Add_0、Add_1が共にロウレベルである場合に選択されるメモリブロックが、メモリブロックBLK_0からメモリブロックBLK_4に変更される。
つまり、入力アドレス(外部アドレス)Add_0、Add_1が共にロウレベルである場合は、アクセスアドレス信号BLK_<0>がハイレベルであるので、図6に示したブロック選択回路13は、アドレス割付情報BLK0Fを選択アドレス情報BLKS_<0:4>として出力する。ここで、アドレス割付情報BLK0Fは、図10に示すように書き換えられているので、選択されるメモリブロックは、メモリブロックBLK_0からメモリブロックBLK_4に変更される。すなわち、同じ入力アドレス(外部アドレス)を用いて、変更後のメモリブロックBLK_4にアクセスすることができる。
また、図10に示すように、リフレッシュ対象であったメモリブロックBLK_0は、アドレス割付情報BLK0F〜BLK3Fのいずれにも割り付けられていない。これは、外部から入力アドレスを用いてメモリブロックBLK_0にアクセスすることができないことを意味している。つまり、メモリブロックBLK_0は、余剰メモリブロックに割り当てられている。
このように、本実施の形態にかかる半導体記憶装置1では、メモリアレイ10に余剰メモリブロックを設け、リフレッシュ対象のメモリブロックから余剰メモリブロックにデータを転送することで、リフレッシュ動作を実施している。余剰メモリブロックは、リフレッシュ動作を実施する度に変更される。例えば、余剰メモリブロックは、リフレッシュ動作の度に、メモリブロックBLK_4、BLK_0、BLK_1、BLK_2、BLK_3の順に変更してもよく、またはリフレッシュ動作の度にランダムに変更してもよい。つまり、リフレッシュするブロックの順番に制限はない。
また、図9に示したフローチャートでは、リフレッシュ動作の開始直後に、リフレッシュ制御回路17がメモリブロックBLK_4のデータを一括消去する場合(ステップS1)について示した。しかし本実施の形態では、リフレッシュ制御回路17は、リフレッシュ対象のメモリブロックのデータを余剰メモリブロックに転送した後に、リフレッシュ対象のメモリブロックのデータを一括消去するようにしてもよい。
つまり、図9のステップS6において新たに余剰メモリブロックに割り当てられるメモリブロックのデータを一括消去しておくことで、次のリフレッシュ動作の際に余剰メモリブロックの一括消去の動作(ステップS1)を省略することができる。
上述の通り、本実施の形態にかかる半導体記憶装置では、複数のメモリブロックのうちの1つを余剰メモリブロックに割り当て、リフレッシュ動作の際に、リフレッシュ対象のメモリブロックに格納されているデータを余剰メモリブロックに転送している。そして、余剰メモリブロックへのデータ転送が完了した後、データが転送された余剰メモリブロックにリフレッシュ対象であったメモリブロックのアドレス情報を割り付けることで、外部アドレスを用いてデータ転送後の余剰メモリブロックにアクセスできるようにしている。換言すると、余剰メモリブロックを通常のメモリブロックに変更している。また、リフレッシュ対象であったメモリブロックを新たに余剰メモリブロックに割り当てている。
このように、本実施の形態にかかる半導体記憶装置では、余剰メモリブロックを用いてリフレッシュ動作を実施しているので、関連技術のように半導体記憶装置の外部に設けられたRAMにデータを一時的に待避させる必要がない。換言すると、本実施の形態では、半導体記憶装置の内部でリフレッシュ動作を完結することができる。よって、リフレッシュ動作が複雑になることを抑制することができる。したがって、半導体記憶装置のリフレッシュ動作を簡素化することができる。
また、関連技術では、半導体記憶装置の外部にRAMを設ける必要があり、更にRAMにデータを転送するための制御回路等を設ける必要があるため、装置構成が煩雑になるという問題があった。これに対して本実施の形態にかかる半導体記憶装置では、半導体記憶装置の内部に余剰メモリブロックを1つ設けることでリフレッシュ動作を実現できるので、装置構成が煩雑になることを抑制することができる。
また、本実施の形態にかかる半導体記憶装置では、メモリブロックから余剰メモリブロックにデータを転送する際、メモリブロックBLK_0〜BLK_4の近傍に設けられている書き込みデータラッチ回路WD_0〜WD_n(51_0〜51_n)に一時的にデータをラッチし、メモリブロックから余剰メモリブロックにワード線単位でデータを転送している。よって、メモリブロックから余剰メモリブロックにデータを転送するための回路を簡素化することができる。すなわち、データラッチ回路は通常の書き込み動作に必要な回路であるため、回路の増加にはならない。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1 半導体記憶装置
10 メモリアレイ
11 デコーダ
12 アドレス割付情報格納部
13 ブロック選択回路
15_0〜15_4 メモリブロック
17 リフレッシュ制御回路
21〜24 論理回路
31_0〜31_3 セレクタ
41 フラッシュメモリ
42 ラッチ回路
51_0〜51_n 書き込みデータラッチ回路
52 センスアンプ
53 切替回路

Claims (11)

  1. 複数のメモリブロックを備えるメモリアレイと、
    前記複数のメモリブロックに割り付けられたアドレス情報であるアドレス割付情報を格納するアドレス割付情報格納部と、
    入力された入力アドレスに対応したメモリブロックを前記アドレス割付情報に基づいて選択するブロック選択回路と、
    前記メモリアレイのリフレッシュ動作を制御するリフレッシュ制御回路と、を備え、
    前記複数のメモリブロックのうちの1つは余剰メモリブロックに割り当てられており、
    前記リフレッシュ制御回路は、リフレッシュコマンドが供給された際に、
    前記複数のメモリブロックのうちリフレッシュ対象のメモリブロックに格納されているデータを前記余剰メモリブロックに転送し、
    前記余剰メモリブロックへのデータ転送が完了した後、前記データが転送された前記余剰メモリブロックに前記リフレッシュ対象であったメモリブロックのアドレス情報を割り付け、前記リフレッシュ対象であった前記メモリブロックを新たに余剰メモリブロックに割り当てる、
    半導体記憶装置。
  2. 前記リフレッシュ制御回路は、前記余剰メモリブロックに前記データを転送する前に、前記余剰メモリブロックのデータを一括消去する、請求項1に記載の半導体記憶装置。
  3. 前記リフレッシュ制御回路は、前記リフレッシュ対象のメモリブロックのデータを前記余剰メモリブロックに転送した後に、前記リフレッシュ対象のメモリブロックのデータを一括消去する、請求項1に記載の半導体記憶装置。
  4. 前記複数のメモリブロックに書き込むデータを一時的にラッチする書き込みデータラッチ回路を備え、
    前記リフレッシュ制御回路は、前記リフレッシュ対象のメモリブロックから読み出されたデータを前記書き込みデータラッチ回路に一時的にラッチした後、当該ラッチされているデータを前記余剰メモリブロックに書き込む、
    請求項1に記載の半導体記憶装置。
  5. 前記書き込みデータラッチ回路は、前記複数のメモリブロックに渡って設けられたビット線に接続されている、請求項4に記載の半導体記憶装置。
  6. 前記リフレッシュ対象のメモリブロックから前記余剰メモリブロックへのデータの転送は、ワード線単位で実施される、請求項5に記載の半導体記憶装置。
  7. 前記リフレッシュ制御回路は、
    前記リフレッシュ対象のメモリブロックのワード線WL_aを活性状態にして前記リフレッシュ対象のメモリブロックの前記ワード線WL_aに対応するn+1個(nは0を含む正の整数である)のデータをn+1本のビット線を介して読み出して前記書き込みデータラッチ回路にラッチした後、
    前記余剰メモリブロックのワード線WL_aを活性状態にして前記書き込みデータラッチ回路にラッチされている前記n+1個のデータを前記n+1本のビット線を介して前記余剰メモリブロックに書き込む動作を、前記ワード線WL_a毎に実施する(ここで、a=0〜mであり、a、mは0を含む正の整数である)、請求項6に記載の半導体記憶装置。
  8. 前記アドレス割付情報格納部は、
    前記アドレス割付情報を格納するフラッシュメモリと、
    前記フラッシュメモリから前記アドレス割付情報を読み出してラッチするラッチ回路と、を備え、
    前記ブロック選択回路は、前記ラッチ回路にラッチされている前記アドレス割付情報を読み出す、
    請求項1に記載の半導体記憶装置。
  9. 前記ラッチ回路は、前記半導体記憶装置に電源が投入された際に、前記フラッシュメモリから前記アドレス割付情報を読み出してラッチする、請求項8に記載の半導体記憶装置。
  10. 前記ラッチ回路は、前記フラッシュメモリに格納されている前記アドレス割付情報が書き換えられた際に、前記フラッシュメモリから前記書き換えられた後のアドレス割付情報を読み出してラッチする、請求項8に記載の半導体記憶装置。
  11. 半導体記憶装置のリフレッシュ方法であって、
    前記半導体記憶装置は、
    複数のメモリブロックを備えるメモリアレイと、
    前記複数のメモリブロックに割り付けられたアドレス情報であるアドレス割付情報を格納するアドレス割付情報格納部と、
    入力された入力アドレスに対応したメモリブロックを前記アドレス割付情報に基づいて選択するブロック選択回路と、を備え、
    前記複数のメモリブロックのうちの1つを余剰メモリブロックに割り当て、
    リフレッシュコマンドが供給された際に、
    前記複数のメモリブロックのうちリフレッシュ対象のメモリブロックに格納されているデータを前記余剰メモリブロックに転送し、
    前記余剰メモリブロックへのデータ転送が完了した後、前記データが転送された前記余剰メモリブロックに前記リフレッシュ対象であったメモリブロックのアドレス情報を割り付け、前記リフレッシュ対象であった前記メモリブロックを新たに余剰メモリブロックに割り当てる、
    半導体記憶装置のリフレッシュ方法。
JP2017233135A 2017-12-05 2017-12-05 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法 Active JP6837419B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017233135A JP6837419B2 (ja) 2017-12-05 2017-12-05 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法
EP18196337.2A EP3496103A1 (en) 2017-12-05 2018-09-24 Semiconductor memory device and refreshing method of semiconductor memory device
US16/152,148 US10892018B2 (en) 2017-12-05 2018-10-04 Semiconductor memory device and refreshing method of semiconductor memory device
CN201811379302.9A CN109871184A (zh) 2017-12-05 2018-11-19 半导体存储器设备以及半导体存储器设备的刷新方法
KR1020180145974A KR20190066549A (ko) 2017-12-05 2018-11-23 반도체 기억 장치, 및 반도체 기억 장치의 리프레시 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017233135A JP6837419B2 (ja) 2017-12-05 2017-12-05 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2019102112A JP2019102112A (ja) 2019-06-24
JP6837419B2 true JP6837419B2 (ja) 2021-03-03

Family

ID=63683095

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017233135A Active JP6837419B2 (ja) 2017-12-05 2017-12-05 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10892018B2 (ja)
EP (1) EP3496103A1 (ja)
JP (1) JP6837419B2 (ja)
KR (1) KR20190066549A (ja)
CN (1) CN109871184A (ja)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3641066B2 (ja) 1995-05-30 2005-04-20 株式会社東芝 フラッシュメモリを混載するマイクロコンピュータのデータ書換え方法
US5699297A (en) 1995-05-30 1997-12-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of rewriting data in a microprocessor additionally provided with a flash memory
FR2755287B1 (fr) * 1996-10-25 1998-12-31 Sgs Thomson Microelectronics Memoire non volatile multiniveau modifiable electriquement comportant des moyens de rafraichissement internes
JP4256198B2 (ja) * 2003-04-22 2009-04-22 株式会社東芝 データ記憶システム
CN1871663A (zh) * 2003-10-24 2006-11-29 国际商业机器公司 半导体存储器件及其刷新方法
JP5629391B2 (ja) * 2011-04-28 2014-11-19 株式会社日立製作所 半導体記憶装置及び半導体記憶装置の制御方法
JP5674630B2 (ja) * 2011-12-02 2015-02-25 株式会社東芝 暗号化演算装置を搭載する不揮発性半導体記憶装置
KR101975029B1 (ko) * 2012-05-17 2019-08-23 삼성전자주식회사 리프레쉬 주기를 조절하는 반도체 메모리 장치, 메모리 시스템 및 그 동작방법
KR102644275B1 (ko) * 2016-05-19 2024-03-06 삼성전자주식회사 리프레쉬 리드 동작을 수행하는 불휘발성 메모리 장치를 제어하는 메모리 콘트롤러의 동작 방법
JP2019008730A (ja) * 2017-06-28 2019-01-17 東芝メモリ株式会社 メモリシステム
US10896125B2 (en) * 2017-11-17 2021-01-19 SK Hynix Inc. Garbage collection methods and memory systems for hybrid address mapping

Also Published As

Publication number Publication date
US20190172541A1 (en) 2019-06-06
EP3496103A1 (en) 2019-06-12
CN109871184A (zh) 2019-06-11
US10892018B2 (en) 2021-01-12
KR20190066549A (ko) 2019-06-13
JP2019102112A (ja) 2019-06-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101360812B1 (ko) 반도체 장치 및 이를 포함하는 반도체 시스템
KR100885783B1 (ko) 플래시 메모리 장치 및 동작 방법
US8966163B2 (en) Non-volatile memory device and method for programming the same
KR101015731B1 (ko) 불휘발성 메모리 소자와 그 동작 방법 및 컨트롤러 장치
JP2007305210A (ja) 半導体記憶装置
US20040221092A1 (en) Flash memory device with partial copy-back mode
JP6814107B2 (ja) 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置の制御方法
US10185662B2 (en) Methods for reprogramming data and apparatuses using the same
US6930919B2 (en) NAND-type flash memory device having array of status cells for storing block erase/program information
JP2007004868A (ja) 半導体記憶装置および半導体記憶装置制御方法
TWI626658B (zh) 記憶體裝置及其操作方法
KR20120068192A (ko) 플래시 메모리 장치 및 그 동작 방법
US10614879B2 (en) Extended write modes for non-volatile static random access memory architectures having word level switches
JP2007141376A (ja) 半導体記憶装置及びその制御方法
KR100837273B1 (ko) 플래시 메모리 장치
JP6837419B2 (ja) 半導体記憶装置、及び半導体記憶装置のリフレッシュ方法
KR100618858B1 (ko) 리프레쉬 수행 시 리프레쉬 할 뱅크의 개수를 가변할 수있는 반도체 메모리 장치 및 그 리프레쉬 방법
JP6330150B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置とその書換方法
JP2012155788A (ja) Nand型フラッシュメモリ
KR20100059669A (ko) 불휘발성 반도체 기억장치
US9147479B2 (en) Memory system and method for operating the same
JP2011198409A (ja) 不揮発性メモリ
KR100960447B1 (ko) 불휘발성 메모리 소자의 동작 방법
KR20110001058A (ko) 불휘발성 메모리 소자의 동작 방법
JP2006331564A (ja) 不揮発性半導体メモリ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200313

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210107

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210119

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210209

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6837419

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150