JP6825777B1 - 切削工具 - Google Patents
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Abstract
Description
基材と、上記基材上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
上記被覆層は、第一単位層と第二単位層とからなる多層構造層と、単独層とを含み、
上記第一単位層及び上記第二単位層は、それぞれが交互に積層されており、
上記多層構造層及び上記単独層は、それぞれが交互に2層以上積層されており、
上記第一単位層は、立方晶型のAlxTi1−xNの結晶粒を含み、
上記第二単位層は、立方晶型のAlyTi1−yNの結晶粒を含み、
上記単独層は、立方晶型のTizAl1−zNの結晶粒を含み、
上記AlxTi1−xNにおけるAlの原子比xは、0.8以上0.95以下であり、
上記AlyTi1−yNにおけるAlの原子比yは、0.7以上0.8未満であり、
上記TizAl1−zNにおけるTiの原子比zは、0.4以上0.55未満であり、
上記第一単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
上記第二単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
上記多層構造層の厚みの平均値は、40nm以上95nm以下であり、
上記単独層の厚みの平均値は、2.5nm以上10nm以下であり、
1層の上記多層構造層と1層の上記単独層とからなる繰り返し単位において、上記繰り返し単位の厚みの平均値が50nm以上100nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最大値が90nm以上110nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最小値が40nm以上60nm以下である。
特許文献1〜特許文献4では、被膜を構成するAlTiNからなる層が超多層構造を形成することで、当該被膜が設けられている切削工具における切削性能の向上が図られている。しかしながら、近年はより高効率な(送り速度が大きい)切削加工が求められており、特にステンレス鋼(例えば、SUS304)に対する高速加工に用いられる切削工具の更なる耐衝撃性の向上及び耐酸化性の向上が期待されている。
本開示によれば、優れた耐衝撃性及び優れた耐酸化性を有する切削工具を提供することが可能になる。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
[1]本開示に係る表面被覆切削工具は、
基材と、上記基材上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
上記被覆層は、第一単位層と第二単位層とからなる多層構造層と、単独層とを含み、
上記第一単位層及び上記第二単位層は、それぞれが交互に積層されており、
上記多層構造層及び上記単独層は、それぞれが交互に2層以上積層されており、
上記第一単位層は、立方晶型のAlxTi1−xNの結晶粒を含み、
上記第二単位層は、立方晶型のAlyTi1−yNの結晶粒を含み、
上記単独層は、立方晶型のTizAl1−zNの結晶粒を含み、
上記AlxTi1−xNにおけるAlの原子比xは、0.8以上0.95以下であり、
上記AlyTi1−yNにおけるAlの原子比yは、0.7以上0.8未満であり、
上記TizAl1−zNにおけるTiの原子比zは、0.4以上0.55未満であり、
上記第一単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
上記第二単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
上記多層構造層の厚みの平均値は、40nm以上95nm以下であり、
上記単独層の厚みの平均値は、2.5nm以上10nm以下であり、
1層の上記多層構造層と1層の上記単独層とからなる繰り返し単位において、上記繰り返し単位の厚みの平均値が50nm以上100nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最大値が90nm以上110nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最小値が40nm以上60nm以下である。
上記下地層は、周期表4族元素、5族元素、6族元素及びアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素、酸素及びホウ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物からなり、
上記下地層は、上記第一単位層、上記第二単位層及び上記単独層とは組成が異なることが好ましい。このように規定することで、耐衝撃性、耐酸化性に加えて、上記被覆層の耐剥離性に優れた切削工具を提供することが可能になる。
上記表面層は、周期表4族元素、5族元素、6族元素及びアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素、酸素及びホウ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物からなり、
上記表面層は、上記第一単位層、上記第二単位層及び上記単独層とは組成が異なることが好ましい。このように規定することで、耐衝撃性、耐酸化性に加えて、耐摩耗性に更に優れた切削工具を提供することが可能になる。
以下、本開示の一実施形態(以下「本実施形態」と記す。)について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「A〜Z」という形式の表記は、範囲の上限下限(すなわちA以上Z以下)を意味し、Aにおいて単位の記載がなく、Zにおいてのみ単位が記載されている場合、Aの単位とZの単位とは同じである。さらに、本明細書において、例えば「TiN」等のように、構成元素の組成比が限定されていない化学式によって化合物が表された場合には、その化学式は従来公知のあらゆる組成比(元素比)を含むものとする。このとき上記化学式は、化学量論組成のみならず、非化学量論組成も含むものとする。例えば「TiN」の化学式には、化学量論組成「Ti1N1」のみならず、例えば「Ti1N0.8」のような非化学量論組成も含まれる。このことは、「TiN」以外の化合物の記載についても同様である。
本開示に係る切削工具は、
基材と、上記基材上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
上記被覆層は、第一単位層と第二単位層とからなる多層構造層と、単独層とを含み、
上記第一単位層及び上記第二単位層は、それぞれが交互に積層されており、
上記多層構造層及び上記単独層は、それぞれが交互に2層以上積層されており、
上記第一単位層は、立方晶型のAlxTi1−xNの結晶粒を含み、
上記第二単位層は、立方晶型のAlyTi1−yNの結晶粒を含み、
上記単独層は、立方晶型のTizAl1−zNの結晶粒を含み、
上記AlxTi1−xNにおけるAlの原子比xは、0.8以上0.95以下であり、
上記AlyTi1−yNにおけるAlの原子比yは、0.7以上0.8未満であり、
上記TizAl1−zNにおけるTiの原子比zは、0.4以上0.55未満であり、
上記第一単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
上記第二単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
上記多層構造層の厚みの平均値は、40nm以上95nm以下であり、
上記単独層の厚みの平均値は、2.5nm以上10nm以下であり、
1層の上記多層構造層と1層の上記単独層とからなる繰り返し単位において、上記繰り返し単位の厚みの平均値が50nm以上100nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最大値が90nm以上110nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最小値が40nm以上60nm以下である。
なお、上記基材10上に設けられている上述の各層をまとめて「被膜」と呼ぶ場合がある。すなわち、上記切削工具100は上記基材10上に設けられている被膜30を備え、上記被膜30は上記被覆層20を含む。また、上記被膜30は、上記下地層13又は上記表面層14を更に含んでいてもよい。
本実施形態の基材は、この種の基材として従来公知のものであればいずれの基材も使用することができる。例えば、上記基材は、超硬合金(例えば、炭化タングステン(WC)基超硬合金、WCの他にCoを含む超硬合金、WCの他にCr、Ti、Ta、Nb等の炭窒化物を添加した超硬合金等)、サーメット(TiC、TiN、TiCN等を主成分とするもの)、高速度鋼、セラミックス(炭化チタン、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム等)、立方晶型窒化ホウ素焼結体(cBN焼結体)及びダイヤモンド焼結体からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。
本実施形態に係る被膜は、上記基材上に設けられた被覆層を含む。「被膜」は、上記基材の少なくとも一部(例えば、切削加工時に切り屑と接するすくい面、被削材と接する逃げ面等)を被覆することで、切削工具における耐欠損性、耐摩耗性、耐衝撃性、耐酸化性等の諸特性を向上させる作用を有するものである。上記被膜は、上記基材の一部に限らず上記基材の全面を被覆することが好ましい。しかしながら、上記基材の一部が上記被膜で被覆されていなかったり、被膜の構成が部分的に異なっていたりしていたとしても本実施形態の範囲を逸脱するものではない。
本実施形態における被覆層は、上記基材上に設けられている。ここで「基材上に設けられている」とは、基材の直上に設けられている態様に限られず、他の層を介して基材の上に設けられている態様も含まれる。すなわち、上記被覆層は、本開示の効果が奏する限りにおいて、上記基材の直上に設けられていてもよいし、後述する下地層等の他の層を介して上記基材の上に設けられていてもよい。上記被覆層は、その上に表面層等の他の層が設けられていてもよい。また、上記被覆層は、上記被膜の最表面であってもよい。
上記多層構造層は、第一単位層と第二単位層とからなる。上記第一単位層及び上記第二単位層は、それぞれが交互に積層されている。本実施形態の一側面において、上記多層構造層は最下層が上記第一単位層であってもよいし、上記第二単位層であってもよい。本実施形態の他の側面において、上記多層構造層は最上層が上記第一単位層であってもよいし、上記第二単位層であってもよい。ここで「最下層」とは、上記多層構造層を構成する層のうち、上記基材から最も近い層を意味する。「最上層」とは、上記多層構造層を構成する層のうち、上記基材から最も離れた層を意味する。
上記第一単位層は、立方晶型のAlxTi1−xNの結晶粒を含む。すなわち、上記第一単位層は、組成がAlxTi1−xNである多結晶を含む層である。ここで、化学式「AlxTi1−xN」における「AlxTi1−x」と「N」との組成比(元素比)は、化学量論組成(例えば、(AlxTi1−x)1N1)のみならず、非化学量論組成(例えば、(AlxTi1−x)1N0.8)も含まれる。後述する「AlyTi1−yN」及び「TizAl1−zN」についても同様である。上記AlxTi1−xNにおけるAl(アルミニウム)の原子比xは、0.8以上0.95以下であり、0.8以上0.9以下であることが好ましい。上記原子比xは、上述の断面サンプルにあらわれた第一単位層における結晶粒に対して透過型電子顕微鏡(TEM)に付帯のエネルギー分散型X線分析(EDX:Energy Dispersive X−ray spectroscopy)装置を用いて分析することにより、求めることが可能である。このときに求められるAlの原子比xは、AlxTi1−xNの結晶粒全体の平均として求められる値である。具体的には、上記断面サンプルの第一単位層における任意に選択された10点それぞれを測定してAlの原子比の値を求め、求められた10点の値の平均値を上記AlxTi1−xNにおけるAlの原子比とする。このとき、一見して異常値と思われる数値は採用しないものとする。ここで当該「任意に選択された10点」は、上記第一単位層の互いに異なる結晶粒から選択するものとする。
特性X線: Cu−Kα(波長1.54Å)
管電圧: 45kV
管電流: 40mA
フィルター: 多層ミラー
光学系: 集中法
X線回折法: θ−2θ法。
上記六方晶型のAlxTi1−xNの含有割合(体積%)=100×{Ih/(Ih+Ic)}
上記第二単位層は、立方晶型のAlyTi1−yNの結晶粒を含む。すなわち、上記第二単位層は、組成がAlyTi1−yNである多結晶を含む層である。上記AlyTi1−yNにおけるAlの原子比yは、0.7以上0.8未満であり、0.75以上0.8未満であることが好ましい。上記原子比yは、上述したのと同様の方法で、断面サンプルにあらわれた第二単位層における結晶粒に対してTEMに付帯のEDX装置を用いて分析することにより、求めることが可能である。
上記単独層は、立方晶型のTizAl1−zNの結晶粒を含む。すなわち、上記単独層は、組成がTizAl1−zNである多結晶を含む層である。上記TizAl1−zNにおけるTiの原子比zは、0.4以上0.55未満であり、0.4以上0.5以下であることが好ましい。上記単独層は、上記原子比zを上述の範囲とすることによって、多層構造層よりもチタンの原子比が高い構成をとっている。TizAl1−zNの結晶粒において、チタンの原子比が高くなると当該結晶粒の硬度が高くなる。そのため、上記単独層が上記被覆層中に所定の間隔で存在することで、上記被覆層の硬度が向上し、ひいては耐衝撃性の向上が図られると本発明者らは考えている。上記原子比zは、上述したのと同様の方法で、断面サンプルにあらわれた単独層における結晶粒に対してTEMに付帯のEDX装置を用いて分析することにより、求めることが可能である。
1層の上記多層構造層と1層の上記単独層とからなる繰り返し単位において、上記繰り返し単位の厚みの平均値が50nm以上100nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最大値が90nm以上110nm以下であり、上記繰り返し単位の厚みの最小値が40nm以上60nm以下である。本実施形態に係る被覆層は、多層構造層と単独層とが交互に積層されることで形成されるが、隣り合っている1層の多層構造層と1層の単独層とを合わせて「1層の多層構造層と1層の単独層とからなる繰り返し単位」又は単に「繰り返し単位」と呼ぶこととする。このとき繰り返し単位中における積層の順序は、基材側から単独層、多層構造層の順とする。「繰り返し単位の厚み」とは、繰り返し単位を構成している多層構造層の厚みと単独層の厚みとの合計を意味する。なお、上記被覆層の最下層が多層構造層である場合、後述する繰り返し単位の厚みの平均値、最大値及び最小値を求めるときは、当該最下層の多層構造層は考慮しないものとする。
本実施形態に係る切削工具は、上記繰り返し単位が上述のような構成を備えることによって、優れた耐衝撃性と優れた耐酸化性とを備えることが可能になる。上記切削工具は、特にステンレス鋼(例えば、SUS304)に対する高速加工に用いられる切削工具として好適である。
上記被膜は、上記基材と上記被覆層との間に設けられている下地層を更に含み、上記下地層は、周期表4族元素、5族元素、6族元素及びアルミニウム(Al)からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素、酸素及びホウ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物からなることが好ましい。また、上記下地層は、上記第一単位層、上記第二単位層及び上記単独層とは組成が異なる。周期表4族元素としては、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)等が挙げられる。周期表5族元素としては、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)、タンタル(Ta)等が挙げられる。周期表6族元素としては、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、タングステン(W)等が挙げられる。上記下地層は、TiN又はTiCNで示される化合物からなることが好ましい。このような下地層は、上記被覆層と基材の両者に対して強い密着力を発揮する。その結果、被膜の耐剥離性が向上する。
上記被膜は、上記被覆層上に設けられている表面層を更に含み、上記表面層は、周期表4族元素、5族元素、6族元素及びアルミニウム(Al)からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素、酸素及びホウ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物からなることが好ましい。また、上記表面層は、上記第一単位層、上記第二単位層及び上記単独層とは組成が異なる。上記表面層に含まれる化合物としては、例えば、TiN、Al2O3及びAlN等が挙げられる。
本実施形態に係る切削工具が上述の効果を奏する限りにおいて、上記被膜は、他の層を更に含んでいてもよい。上記他の層は、上記被覆層、上記下地層、又は上記表面層とは組成が異なっていてもよいし、同じであってもよい。他の層に含まれる化合物としては、例えば、TiN、TiCN、TiBN及びAl2O3等を挙げることができる。なお、上記他の層は、その積層の順も特に限定されない。例えば、上記他の層は、上記下地層と上記被覆層との間に設けられていてもよい。上記他の層の厚みは、本実施形態の効果を奏する限りにおいて、特に制限はないが例えば、0.1μm以上20μm以下が挙げられる。
本実施形態に係る切削工具の製造方法は、
上記基材を準備する工程(以下、単に「第1工程」という場合がある。)と、
化学気相蒸着法を用いて、上記基材上に上記被覆層を形成する工程(以下、単に「第2工程」という場合がある。)と、を含み、
上記基材上に上記被覆層を形成する工程は、アルミニウムのハロゲン化物ガス及びチタンのハロゲン化物ガスを含む第一ガスと、アルミニウムのハロゲン化物ガス、チタンのハロゲン化物ガス及びアンモニアガスを含む第二ガスと、アンモニアガスを含む第三ガスとのそれぞれを、650℃以上900℃以下且つ0.5kPa以上30kPa以下の雰囲気において上記基材上に噴出することを含む。
第1工程では基材を準備する。例えば、基材として超硬合金基材が準備される。超硬合金基材は、市販品を用いてもよく、一般的な粉末冶金法で製造してもよい。一般的な粉末冶金法で製造する場合、例えば、ボールミル等によってWC粉末とCo粉末等とを混合して混合粉末を得る。該混合粉末を乾燥した後、所定の形状(例えば、SEET13T3AGSN−G等)に成形して成形体を得る。さらに該成形体を焼結することにより、WC−Co系超硬合金(焼結体)を得る。次いで該焼結体に対して、ホーニング処理等の所定の刃先加工を施すことにより、WC−Co系超硬合金からなる基材を製造することができる。第1工程では、上記以外の基材であっても、この種の基材として従来公知の基材であればいずれも準備可能である。
第2工程では、化学気相蒸着法を用いて、上記基材上に上記被覆層を形成する。すなわち、第2工程では、アルミニウムのハロゲン化物ガス及びチタンのハロゲン化物ガスを含む第一ガスと、アルミニウムのハロゲン化物ガス、チタンのハロゲン化物ガス及びアンモニアガスを含む第二ガスと、アンモニアガスを含む第三ガスとのそれぞれを、650℃以上900℃以下且つ0.5kPa以上30kPa以下の雰囲気において上記基材に噴出する。この工程は、例えば以下に説明するCVD装置を用いて行うことができる。
図4に、本実施形態の切削工具の製造に用いられるCVD装置の一例の模式断面図を示す。図4に示すように、CVD装置50は、基材10を設置するための基材セット治具52の複数と、基材セット治具52を内包する耐熱合金鋼製の反応容器53とを備えている。また、反応容器53の周囲には、反応容器53内の温度を制御するための調温装置54が設けられている。本実施形態において、基材10は、基材セット治具52に備えられているプレート上に設置することが好ましい。
上記第一ガスは、アルミニウムのハロゲン化物ガス及びチタンのハロゲン化物ガスを含む。
上記第二ガスは、アルミニウムのハロゲン化物ガス、チタンのハロゲン化物ガス及びアンモニアガスを含む。アルミニウムのハロゲン化物ガス及びチタンのハロゲン化物ガスは、上記(第一ガス)の欄において例示されたガスを用いることができる。このとき、上記第一ガスに用いられたアルミニウムのハロゲン化物ガス及びチタンのハロゲン化物ガスそれぞれと、第二ガスに用いられたアルミニウムのハロゲン化物ガス及びチタンのハロゲン化物ガスそれぞれとは、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
上記第三ガスは、アンモニアガスを含む。また上記第三ガスは、水素ガスを含んでもよいし、アルゴンガス等の不活性ガスを含んでもよい。
本実施形態に係る製造方法では、上述した工程の他にも、本実施形態の効果を奏する限りにおいて追加工程を適宜行ってもよい。上記追加工程としては例えば、上記基材と上記被覆層との間に下地層を形成する工程、及び上記被覆層上に表面層を形成する工程、被膜にブラスト処理を行う工程等が挙げられる。下地層及び表面層を形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、CVD法等によって形成する方法が挙げられる。
<基材の準備>
まず、被膜を形成させる対象となる基材として、以下の表1に示す超硬合金からなる基材(以下、単に「基材」という場合がある。)を準備した(第1工程)。具体的には、まず、表1に記載の配合組成(質量%)からなる原料粉末を均一に混合した。表1中の「残り」とは、WCが配合組成(質量%)の残部を占めることを示している。
上記基材の表面上に、表8に示される下地層、被覆層及び表面層を形成することによって、上記基材の表面上に被膜を作製した。被膜の作製には、主にCVD法を用いた。以下、被膜を構成する各層の作製方法について説明する。
表2に記載の成膜条件のもとで、表3〜5に記載の組成をそれぞれ有する第一ガス、第二ガス及び第三ガスをこの順で繰り返して上記基材の表面上に噴出して被覆層を作製した(第2工程)。このとき、上記基材は、基材セット治具に備えられているプレート上に設置した。また、上述のガスを噴出させるための貫通孔の数は、1つの基材セット治具に対して、1つとなるように設定した。なお、上記基材の表面に下地層を設けた場合は、当該下地層の表面上に被覆層を作製した。
表7に記載の成膜条件のもとで、表7に記載の組成を有する反応ガスを基材の表面上に噴出して下地層を作製した。表7に記載の成膜条件のもとで、表7に記載の組成を有する反応ガスを被覆層の表面上に噴出して表面層を作製した。
上述のようにして作製した試料の切削工具を用いて、以下のように、切削工具の各特性を評価した。ここで、試料番号1−1〜1−3及び試料番号2〜9の切削工具は、実施例に相当する。試料番号10〜20の切削工具は、比較例に相当する。
被膜、及び当該被膜を構成する下地層、被覆層及び表面層の厚みは、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(日本電子株式会社製、商品名:JEM−2100F)を用いて、基材の表面の法線方向に平行な断面サンプルにおける任意に選択された10点を各層ごとに測定し、測定された10点の厚みの平均値をとることで求めた。結果を表8に示す。「表面層」の欄における「−」との表記は、当該表面層が被膜中に存在しないことを示す。また、「被覆層」の欄における「[1](3.6)」等の表記は、被覆層が表6−1の識別記号[1]で示される構成を有し、厚みが3.6μmであることを示す。表8中、「TiCN(0.5)」等の表記は、該当する層が厚み0.5μmのTiCNの層であることを示す。また、1つの欄内に2つの化合物が記載されている場合(例えば、「Al2O3(0.2)−TiN(0.1)」等の場合)は、左側の化合物(Al2O3(0.2))が基材の表面に近い側に位置する層であることを意味し、右側の化合物(TiN(0.1))が基材の表面から遠い側に位置する層であることを意味している。さらに「[Al2O3(0.2)−TiN(0.1)]x3」等の表記は、「Al2O3(0.2)−TiN(0.1)」で示される層が3回繰り返して積層されていることを意味している。
多層構造層(第一単位層、第二単位層)及び単独層の組成は、上述した方法で、上記断面サンプルに現れた各層における結晶粒に対してTEMに付帯のEDX装置(日本電子株式会社製、商品名:JED−2300)を用いて分析することによって求めた。結果を表6−1及び表6−2に示す。
多層構造層(第一単位層、第二単位層)及び単独層の結晶型は、上述した方法で、X線回折により得られる回折ピークのパターンを解析することによって求めた。X線回折装置は、Rigaku社製「MiniFlex600」(商品名)を用いた。X線回折装置の条件は下記の通りとした。各層において求めた、立方晶型の結晶粒(c)と六方晶型の結晶粒(h)との総量を基準としたときの上記六方晶型の結晶粒の含有割合(h/(c+h))を表6−1及び表6−2に示す。
特性X線: Cu−Kα(波長1.54Å)
管電圧: 45kV
管電流: 40mA
フィルター: 多層ミラー
光学系: 集中法
X線回折法: θ−2θ法。
多層構造層(第一単位層、第二単位層)及び単独層の厚みは、以下の手順で求めた。まず、走査透過型電子顕微鏡(STEM)(日本電子株式会社製、商品名:JEM−2100F)を用いて、基材の表面の法線方向に平行な断面サンプルにおける任意に選択された10点を各層ごとに測定し、測定された10点の厚みの平均値をとることで各層の厚みを求めた。
1層の多層構造層と1層の単独層とからなる繰り返し単位(以下、「繰り返し単位」という。)について、その厚みの平均値、最大値及び最小値を以下の方法で求めた。このとき、繰り返し単位中における積層の順序は基材側から単独層、多層構造層の順として、各繰り返し単位を特定した。
(切削評価:連続加工試験)
上述のようにして作製した試料(試料番号1−1〜1−3及び2〜20)の切削工具を用いて、以下の切削条件により、逃げ面の摩耗量が0.25mmに達したとき又は刃先部に欠損が生じたときの切削距離(m)を測定した。また、切削後の損傷形態(最終損傷形態)を観察した。その結果を表10に示す。切削距離が長い程、耐衝撃性及び耐酸化性に優れる切削工具として評価することができる。下記切削条件は刃先部が高温になりやすいと考えられる。そのため、切削後の損傷形態で欠損が観察されなければ、耐酸化性に優れる切削工具として評価することができる。
連続加工の試験条件
被削材 :SUS304(ブロック材、W300×L50)
カッタ径:φ100
切削速度:300m/min
送り :0.4mm/t
切込み量 :2mm
切り込み幅:80mm
切削油 :乾式
Claims (6)
- 基材と、前記基材上に設けられている被覆層とを含む切削工具であって、
前記被覆層は、第一単位層と第二単位層とからなる多層構造層と、単独層とを含み、
前記第一単位層及び前記第二単位層は、それぞれが交互に積層されており、
前記多層構造層及び前記単独層は、それぞれが交互に2層以上積層されており、
前記第一単位層は、立方晶型のAlxTi1−xNの結晶粒を含み、
前記第二単位層は、立方晶型のAlyTi1−yNの結晶粒を含み、
前記単独層は、立方晶型のTizAl1−zNの結晶粒を含み、
前記AlxTi1−xNにおけるAlの原子比xは、0.8以上0.95以下であり、
前記AlyTi1−yNにおけるAlの原子比yは、0.7以上0.8未満であり、
前記TizAl1−zNにおけるTiの原子比zは、0.4以上0.55未満であり、
前記第一単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
前記第二単位層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下であり、
前記多層構造層の厚みの平均値は、40nm以上95nm以下であり、
前記単独層の厚みの平均値は、2.5nm以上10nm以下であり、
1層の前記多層構造層と1層の前記単独層とからなる繰り返し単位において、前記繰り返し単位の厚みの平均値が50nm以上100nm以下であり、前記繰り返し単位の厚みの最大値が90nm以上110nm以下であり、前記繰り返し単位の厚みの最小値が40nm以上60nm以下である、切削工具。 - 前記単独層の厚みの平均値は、2.5nm以上5nm以下である、請求項1に記載の切削工具。
- 前記繰り返し単位の厚みの平均値は55nm以上95nm以下であり、前記繰り返し単位の厚みの最大値は90nm以上100nm以下であり、前記繰り返し単位の厚みの最小値は50nm以上60nm以下である、請求項1又は請求項2に記載の切削工具。
- 前記被覆層の厚みの平均値は、0.1μm以上10μm以下である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の切削工具。
- 前記基材と前記被覆層との間に設けられている下地層を更に含み、
前記下地層は、周期表4族元素、5族元素、6族元素及びアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素、酸素及びホウ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物からなり、
前記下地層は、前記第一単位層、前記第二単位層及び前記単独層とは組成が異なる、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の切削工具。 - 前記被覆層上に設けられている表面層を更に含み、
前記表面層は、周期表4族元素、5族元素、6族元素及びアルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素、酸素及びホウ素からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素とからなる化合物からなり、
前記表面層は、前記第一単位層、前記第二単位層及び前記単独層とは組成が異なる、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の切削工具。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000308916A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-11-07 | Sandvik Ab | 切削インサート及びその製造方法 |
JP2003211304A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-29 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2003326403A (ja) * | 2002-05-09 | 2003-11-18 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2012035379A (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | Mitsubishi Materials Corp | 表面被覆切削工具 |
JP2013518734A (ja) * | 2010-02-11 | 2013-05-23 | デグテック エルティーディー | 切削工具 |
JP2016026893A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-02-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐異常損傷性と耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3743984B2 (ja) * | 1994-08-01 | 2006-02-08 | 住友電気工業株式会社 | 工具用複合高硬度材料 |
JP3695396B2 (ja) * | 2002-01-11 | 2005-09-14 | 三菱マテリアル神戸ツールズ株式会社 | 難削材の高速切削ですぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
ATE502710T1 (de) | 2002-01-21 | 2011-04-15 | Mitsubishi Materials Corp | ßOBERFLÄCHENBESCHICHTETES SCHNEIDWERKZEUGGLIED MIT HARTER BESCHICHTUNGSSCHICHT, DIE EINEN HERVORRAGENDEN REIBWIDERSTAND BEIM HOCHGESCHWINDIGKEITSSCHNEIDEN AUFWEIST, UND VERFAHREN ZUR BILDUNG DER HARTEN BESCHICHTUNGSSCHICHT AUF DER FLÄCHE DES SCHNEIDWERKZEUGSß |
JP5074772B2 (ja) * | 2007-01-09 | 2012-11-14 | 住友電気工業株式会社 | 表面被覆切削工具 |
EP2098611B1 (en) | 2008-03-07 | 2013-02-13 | Seco Tools AB | Layered coated cutting tool |
JP5574277B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-08-20 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐剥離性に優れる表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具 |
JP5838769B2 (ja) * | 2011-12-01 | 2016-01-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 表面被覆切削工具 |
US9103036B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-08-11 | Kennametal Inc. | Hard coatings comprising cubic phase forming compositions |
CN106132603B (zh) | 2014-03-27 | 2018-01-26 | 株式会社泰珂洛 | 包覆工具 |
JP6120229B2 (ja) * | 2015-01-14 | 2017-04-26 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 硬質被膜、切削工具および硬質被膜の製造方法 |
JP6478100B2 (ja) | 2015-01-28 | 2019-03-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 |
JP6789986B2 (ja) | 2015-05-21 | 2020-11-25 | ヴァルター アーゲー | 多層アークpvdコーティングを有する工具 |
JP6037255B1 (ja) | 2016-04-08 | 2016-12-07 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具およびその製造方法 |
JP6037256B1 (ja) | 2016-04-14 | 2016-12-07 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 表面被覆切削工具およびその製造方法 |
JP6931458B2 (ja) * | 2017-07-18 | 2021-09-08 | 三菱マテリアル株式会社 | 硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性と耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000308916A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-11-07 | Sandvik Ab | 切削インサート及びその製造方法 |
JP2003211304A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-29 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2003326403A (ja) * | 2002-05-09 | 2003-11-18 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 高速重切削条件で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2013518734A (ja) * | 2010-02-11 | 2013-05-23 | デグテック エルティーディー | 切削工具 |
JP2012035379A (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | Mitsubishi Materials Corp | 表面被覆切削工具 |
JP2016026893A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-02-18 | 三菱マテリアル株式会社 | 耐異常損傷性と耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具 |
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