JP6824563B2 - 摺動機構 - Google Patents

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Description

本発明は、摺動機構に関する。
摺動面の機械加工や表面処理を行う場合、最終仕上げの要求条件は、通常、算術平均粗さRaにより指定される(例えば、特許文献1)。ところが、算術平均粗さRaは、粗さ曲線の振幅の平均であるため、摩擦摩耗特性に特に影響を与える凸部の形状を適切に表現しているとはいえない。そのため、要求条件として算術平均粗さRaのみの指定では、加工業者によって、摩擦摩耗特性に特に影響を与える表面形状に違いが生じる。
ブラスト処理により、摺動面のなじみに必要な適度な凸部と、潤滑性を高める凹部を付与することができる。
特開2013−204807号公報
摺動面の表面処理にブラスト処理を適用すると、摺動面の加工直後の表面粗さにばらつきが生じやすい。このばらつきは、なじみの再現性に影響を与える。なじみの再現性の低下を防止するために、ブラスト処理によって形成された摺動面の表面形状を定量的に評価する方法が望まれる。ところが、算術平均粗さRaによる評価は、上述のように、摩擦摩耗特性に特に影響を与える凸部の形状を適切に表現しているとはいえない。
本発明の目的は、摩擦摩耗特性に大きな影響を与える評価指標によって摺動面の表面粗さを規定することにより、摩擦摩耗特性に優れた摺動機構を提供することである
本発明の一観点によると、
摺動面同士を対向させて一方が他方に対して摺動する第1の部材及び第2の部材を有し、前記第1の部材及び前記第2の部材が共にクロムモリブデン鋼であり、前記第1の部材と前記第2の部材との硬さが同一であり、前記第2の部材の摺動面の突出山部高さRpkが0.09μm未満であり、
前記第1の部材がブッシュであり、前記第2の部材が前記ブッシュに挿入されて回転する滑り軸受用ピンである摺動機構が提供される。
第2の部材の前記摺動面の突出山部高さRpkが0.09μm未満にすることにより、良好な摩擦摩耗特性が得られる。
図1Aは、実施例による摺動機構の断面図であり、図1Bは、図1Aの一点鎖線1B−1Bにおける断面図である。 図2Aは、ブッシュのビッカース硬度Hvが730の場合の滑り軸受用ピンの摺動面の突出山部高さRpkと摩擦係数との関係を示すグラフであり、図2Bは、ブッシュのビッカース硬度Hvが730の場合の滑り軸受用ピンの摺動面の突出山部高さRpkと、相手材(ブッシュ)の比摩耗量との関係を示すグラフである。 図3Aは、ブッシュのビッカース硬度Hvが730の場合の突出山部高さRpkと、複合二乗平均平方根粗さの初期値に対する変化率Δσとの関係を示すグラフであり、図3Bは、突出山部高さRpkと、評価実験後の複合二乗平均平方根粗さσとの関係を示すグラフである。 図4Aは、ブッシュのビッカース硬度Hvが330の場合の滑り軸受用ピンの摺動面の突出山部高さRpkと摩擦係数との関係を示すグラフであり、図4Bは、ブッシュのビッカース硬度Hvが330の場合の滑り軸受用ピンの摺動面の突出山部高さRpkと、相手材(ブッシュ)の比摩耗量との関係を示すグラフである。 図5は、他の実施例によるショベルの側面図である。 図6は、さらに他の実施例による成形機の型締装置の概略図である。 図7は、さらに他の実施例による射出成形機の概略図である。 図8は、さらに他の実施例による鍛造プレス機の概略図である。
図1A〜図4Bを参照して、実施例による摺動機構について説明する。
図1Aに実施例による摺動機構の断面図を示す。本実施例による摺動機構は、ブッシュ(第1の部材)11及び滑り軸受用ピン(第2の部材)12を含む滑り軸受に適用される。図1Bに、図1Aの一点鎖線1B−1Bにおける断面図を示す。図1Bの一点鎖線1A−1Aにおける断面図が図1Aに相当する。図1Aに示した断面図は、回転中心を含み、図1Bに示した断面図は回転中心に対して垂直である。
滑り軸受用ピン12が一対のブッシュ11に挿入されており、ブッシュ11に対して回転可能に支持されている。滑り軸受用ピン12は、ブッシュ11の内面(摺動面、相手面)に対して摺動する摺動面(側面)を含む。ブッシュ11は可動部材10に固定されている。図1Aでは、2個の同一形状のブッシュ11が可動部材10に取り付けられている例を示しているが、ブッシュ11の個数は1個でもよいし、3個以上でもよい。滑り軸受用ピン12は、その両端において支持部材13に支持されている。また、滑り軸受用ピン12は、その一方の端部14において支持部材13に対して回転不能に固定されている。支持部材13に対して可動部材10が回転すると、滑り軸受用ピン12の摺動面に対してブッシュ11の摺動面が摺動する。
なお、ブッシュ11に対して滑り軸受用ピン12が回転する機構としてもよい。本実施例による摺動機構においては、滑り軸受用ピン12とブッシュ11とが、摺動面同士を対向させて、一方が他方に対して摺動する。
摺動面の表面粗さが異なる複数の滑り軸受用ピン12を作製し、摩擦摩耗特性の評価を行なった。以下、この評価実験の結果について説明する。
評価実験では、滑り軸受用ピン12及びブッシュ11の材料として、クロムモリブデン鋼(SCM)を用いた。より具体的には、滑り軸受用ピン12としてSCM415を用い、ブッシュ11としてSCM415及びSCM440を用いた。SCM415のビッカース硬度は730であり、SCM440のビッカース硬度は330である。
次に、評価実験で用いた滑り軸受用ピン12の製造方法について説明する。まず摺動面(側面)を、算術平均粗さRaが約0.01μm〜0.1μmになるまで研削した。その後、エアブラスト処理を行うことにより、摺動面の突出山部高さRpkが約0.03μm〜0.33μmの範囲の複数の滑り軸受用ピン12を作製した。表面処理としてブラスト処理を用いる場合には、突出山部高さRpkと、表面粗さ曲線の周波数との間には相関がある。このため、評価実験に用いた滑り軸受用ピン12の摺動面の表面粗さ曲線の周波数については特に規定していない。表面粗さを規定する指数の算出に際し、短波長閾値2.5μm、長波長閾値0.8mmのガウシアンフィルタを適用した。
評価実験で用いたブッシュ11は、摺動面の算術平均粗さRaが0.1μmになるように研削したものである。
評価実験においては、荷重を5kNとし、速度を0.9cm/sとし、ヘルツの最大接触応力を187MPaとし、軸受幅を10mmとし、ピン/ブッシュ径を60mm/64mmとし、潤滑剤として極圧剤入りグリスを用いた。
図2Aに、ブッシュ11としてビッカース硬度Hvが730のSCM415を用いた場合の滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkと摩擦係数との関係を示す。横軸は、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを単位「μm」で表し、縦軸は摩擦係数を表す。
突出山部高さRpkの値が0.09μmを境として、その上下で、摩擦係数に大きな違いがあることがわかる。突出山部高さRpkが0.09μmより大きい範囲では、摩擦係数が0.07よりも大きく、突出山部高さRpkが0.09未満の範囲では、摩擦係数が0.03よりも小さい。突出山部高さRpkが0.09μmの極近傍では、摩擦係数が0.04〜0.06の範囲に分布する。
滑り軸受用ピン12と、ブッシュ11との硬さが同一である場合、摩擦係数を小さくするために、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを0.09μm未満にすることが好ましい。突出山部高さRpkの好ましい範囲の下限値は、例えば0.02μmである。
図2Bに、ブッシュ11のビッカース硬度Hvが730の場合の滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkと、相手材(ブッシュ11)の比摩耗量との関係を示す。横軸は、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを単位「μm」で表し、縦軸は相手材の比摩耗量を単位「mm/N」で表す。
相手材の比摩耗量と、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkとの間には、明確な相関関係は見出されない。
図3Aに、ブッシュ11のビッカース硬度Hvが730の場合の突出山部高さRpkと、複合二乗平均平方根粗さの初期値に対する変化率Δσとの関係を示す。横軸は、突出山部高さRpkを単位「μm」で表し、縦軸は変化率Δσを単位「%」で表す。複合二乗平均平方根粗さσは、滑り軸受用ピン12の摺動面の二乗平均平方根粗さと、ブッシュの摺動面の二乗平均平方根粗さとを二乗平均して平方根を取ったものである。
突出山部高さRpkが0.09μm未満の試料においては、突出山部高さRpkが0.09μm以上の試料に比べて、評価実験により、複合二乗平均平方根粗さσが大きく低下していることがわかる。これは、ブッシュ11と滑り軸受用ピン12との摺動面同士がよくなじんでいることを示している。摺動面のなじみ性が向上することにより、低摩擦係数が得られる。
図3Bに、突出山部高さRpkと、評価実験後の複合二乗平均平方根粗さσとの関係を示す。横軸は、突出山部高さRpkを単位「μm」で表し、縦軸は複合二乗平均平方根粗さσを単位「μm」で表す。
突出山部高さRpkが0.09μm未満の試料においては、突出山部高さRpkが0.09μm以上の試料に比べて、評価実験後の複合二乗平均平方根粗さσが小さいことがわかる。油膜厚は実験条件で決まるため、いずれの試料においても同一である。従って、複合二乗平均平方根粗さσが小さいことは、複合二乗平均平方根粗さσに対する油膜厚の比が大きいことを意味する。この膜厚比が大きいため、低摩擦係数が得られる。
図2A、図2B、図3A及び図3Bに示した実験結果から、滑り軸受用ピン12とブッシュ11との硬さが同一である場合、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを0.09μm未満にすることにより、摩擦係数が小さく、摺動面のなじみ性の高い摺動機構が得られることがわかる。言い換えると、摩擦係数が小さく、摺動面のなじみ性の高い摺動機構を実現するために、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを0.09μm未満にすることが好ましい。
図2A及び図2Bでは、滑り軸受用ピン12とブッシュ11との硬さが同一であったが、両者の硬さが厳密に同一である必要はない。例えば、ブッシュ11のビッカース硬度が滑り軸受用ピン12のビッカース硬度の0.9倍以上1.1倍以下であれば、実質的に、両者の硬さが同一であると言える。
図4Aに、ブッシュ11のビッカース硬度Hvが330の場合の滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkと摩擦係数との関係を示す。すなわち、ブッシュ11が滑り軸受用ピン12よりも柔らかい。横軸は、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを単位「μm」で表し、縦軸は摩擦係数を表す。
突出山部高さRpkが0.03μmから0.33μmまでの範囲で大きくなるに従って、摩擦係数も大きくなる傾向を示す。ただし、図2Aに示した場合のように、摩擦係数が急峻に変化するような明確な境界を特定することはできない。
図4Bに、ブッシュ11のビッカース硬度Hvが330の場合の滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkと、相手材(ブッシュ11)の比摩耗量との関係を示す。横軸は、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを単位「μm」で表し、縦軸は相手材の比摩耗量を単位「mm/N」で表す。
突出山部高さRpkの値が0.08μmを境界として、その上下で、相手材の比摩耗量に大きな違いがあることが分かる。突出山部高さRpkが0.08μmより大きい範囲では、相手材の比摩耗量が6×10−10mm/Nより大きく、突出山部高さRpkが0.08μm未満の範囲では、相手材の比摩耗量が1×10−10mm/Nよりも小さい。突出山部高さRpkが0.08μmの極近傍では、相手材の比摩耗量が2×10−10mm/N〜5×10−10mm/Nの範囲に分布する。
ブッシュ11が滑り軸受用ピン12よりも柔らかい場合、ブッシュ11の摩耗量を小さくするために、滑り軸受用ピン12の摺動面の突出山部高さRpkを0.08μm未満にすることが好ましい。突出山部高さRpkの好ましい範囲の下限値は、例えば0.02μmである。
図4A及び図4Bに示した評価実験では、滑り軸受用ピン12のビッカース硬度が730であり、ブッシュ11のビッカース硬度が330であった。上述の効果を得るためには、一般的には、ブッシュ11のビッカース硬度が滑り軸受用ピン12のビッカース硬度の1/2倍以下であることが一つの基準となる。
上記評価実験では、滑り軸受用ピン12の摺動面の仕上げ処理にエアブラスト処理を用いたが、ウェットブラスト処理を用いてもよい。摺動面の突出山部高さRpkを0.09μm未満、または0.08μm未満にするためには、投射材として粒径50μm以下のものを用いることが好ましい。さらに、投射材として、角を丸めた粒子を用いることが好ましい。
また、投射材が硬すぎると、摺動面の突出山部高さRpkを0.09μm未満、または0.08μm未満にすることが困難である。投射材の材質として、ブラスト処理対象の摺動面と同一か、摺動面より柔らかいものを用いることが好ましい。
投射材の投射エネルギを大きくし過ぎると、摺動面の突出山部高さRpkが0.09μmより大きくなってしまう。一般的なエアブラスト処理で用いられる投射エネルギで表面処理を行うと、摺動面の突出山部高さRpkが0.09μmより大きくなる。突出山部高さRpkを0.09μm未満、または0.08μm未満にするためには、投射材の投射エネルギを、一般的なエアブラスト処理で用いられる投射エネルギよりも小さくすることが好ましい。
上記実施例では、摺動機構の例として滑り軸受を取り上げた。滑り軸受は、相互に対向する摺動面が円筒形状を有する。上述のブラスト処理で作製された摺動面は、その他の摺動機構にも適用することが可能である。例えば、平面状の摺動面を持つ一対の摺動部材が、摺動面同士を対向させて摺動する摺動機構にも適用することが可能である。
次に、図5〜図8を参照して、上述の摺動機構が適用される複数の他の実施例について説明する。
図5に、他の実施例によるショベルの側面図を示す。下部走行体20に上部旋回体21が旋回可能に搭載されている。上部旋回体21に、ブーム22、アーム23、及びバケット24が連結されている。油圧シリンダ25、26、27が、それぞれブーム22、アーム23、及びバケット24を駆動する。油圧シリンダ27とバケット24とは、リンク機構28を介して接続されている。ブーム22と上部旋回体21との関節部31、ブーム22とアーム23との関節部32、アーム23とバケット24との関節部33、各油圧シリンダ25、26、27と、各作業要素との関節部34、及びリンク機構28の関節部に、図1A及び図1Bに示した実施例による滑り軸受用ピン12が用いられる。
上記実施例による滑り軸受用ピン12を、ショベルの関節部に適用することにより、摩擦係数低減、なじみ性の向上という効果が得られる。または、ブッシュ11(図1A、図1B)の摩耗量の低減という効果が得られる。
図6に、さらに他の実施例による成形機の型締装置の概略図を示す。固定プラテン40及びトグルサポート41が、相互に距離をおいてフレームに固定されている。固定プラテン40とトグルサポート41との間に複数のタイバー42が架設されている。
可動プラテン43が、タイバー42に案内されて、固定プラテン40に対して進退可能に支持されている。固定プラテン40の金型取付面と可動プラテン43の金型取付面とが対向している。固定プラテン40の金型取付面に固定金型45が取り付けられており、可動プラテン43の金型取付面に可動金型46が取り付けられている。
可動プラテン43とトグルサポート41との間にトグル機構50が配置されている。トグルサポート41の背面(可動プラテン43とは反対側を向く面)に、駆動装置47が取り付けられている。駆動装置47から、トグルサポート41を貫通して可動プラテン43に向かって連結ロッド51が延びる。駆動装置47は、連結ロッド51を軸方向に移動させる。
連結ロッド51の先端にクロスヘッド52が取り付けられている。クロスヘッド52に、一対の小トグルレバー53の各々の一端が、滑り軸受用ピン61を介して取り付けられている。一対の大トグルレバー54の一端が、滑り軸受用ピン62を介してトグルサポート41に取り付けられている。小トグルレバー53の他端が、滑り軸受用ピン63を介して大トグルレバー54の中間位置に取り付けられている。大トグルレバー54の他端が、滑り軸受用ピン64を介してトグルアーム55の一端に取り付けられている。トグルアーム55の他端は、滑り軸受用ピン65を介して可動プラテン43に取り付けられている。
駆動装置47が連結ロッド51を軸方向に移動させることによって、トグル機構50を動作させることができる。滑り軸受用ピン61、62、63、64、65の摺動面(側面)の加工に、図1A、図1Bに示した滑り軸受用ピン12の摺動面に対するブラスト処理を適用することができる。これにより、摩擦係数低減、なじみ性の向上という効果が得られる。または、滑り軸受用ピン61、62、63、64、65の相手面の摩耗量の低減という効果が得られる。
図7に、さらに他の実施例による射出成形機の概略図を示す。固定プラテン70とトグルサポート71との間にトグル機構72が配置されている。トグル機構72により、固定プラテン70に対してトグルサポート71が上下に移動する。トグルサポート71から上方に向かって延びる3本のタイバー73が、固定プラテン70を貫通して、さらに上方に延びる。図7には、2本のタイバー73が示されている。タイバー73の上端に、固定用ナット76を用いて可動プラテン75が固定されている。トグル機構72を動作させてトグルサポート71を下方に移動させると、可動プラテン75が固定プラテン70に近づく。
固定プラテン70の上に、2枚の滑りプレート80a、80bが固定されている。ロータリテーブル77が、回転軸受78を介して1本のタイバー73に対して回転可能に支持されるとともに、滑りプレート80a、80bにより下方から支持されている。2枚の滑りプレート80a、80bは、ロータリテーブル77の回転中心に関して点対称の位置に配置される。回転駆動機構79がロータリテーブル77を回転させる。
ロータリテーブル77の上に、2つの下側金型82a、82bが支持されている。一方の下側金型82aが一方の滑りプレート80aの真上に位置するとき、他方の下側金型82bは他方の滑りプレート80bの真上に位置する。図7は、下側金型82aが滑りプレート80aの真上に位置する状態を示している。
可動プラテン75の下方を向く面に上側金型83が取り付けられている。上側金型83は、一方の滑りプレート80aの真上に配置されている。ロータリテーブル77を回転させることにより、下側金型82a及び82bの一方を上側金型83の下に配置して成形品を作製し、他方から、作製された成形品を取り出すことができる。
射出成型を行うときには、固定プラテン70と可動プラテン75との間隔が狭まり、ロータリテーブル77の一部、具体的には滑りプレート80aの真上の位置に、下方を向く荷重が加わる。滑りプレート80aは、ロータリテーブル77に加わる荷重を支える。
滑りプレート80a、80bの上面と、ロータリテーブル77の下面とが、一対の摺動面を構成する。ロータリテーブル77が回転すると、ロータリテーブル77の下面(摺動面)と、滑りプレート80a、80bの上面(摺動面)とが摺動する。滑りプレート80a、80bの上面の加工に、図1A及び図1Bに示した滑り軸受用ピン12の摺動面に対するブラスト処理を適用することができる。
滑りプレート80a、80bの上面の加工に、図1A及び図1Bに示した滑り軸受用ピン12の摺動面のブラスト処理を適用することにより、摩擦係数低減、なじみ性の向上という効果が得られる。または、滑りプレート80a、80bの相手面、すなわちロータリテーブル77の下面の摩耗量の低減という効果が得られる。
図8に、さらに他の実施例による鍛造プレス機の概略図を示す。ベッド90の四隅から上方に向かってコラム92が延び、コラム92の上端にクラウン91が固定されている。クラウン91に、水平方向に架け渡された偏心軸95が回転可能に支持されている。駆動源96が偏心軸95を回転させる。偏心軸95の下方に、スライド98がコンロッド97を介して連結されている。
コラム92に、それぞれスライドギブ100が取り付けられている。スライドギブ100は鉛直方向に延びる案内面を含む。スライド98は、被案内面をスライドギブ100の案内面に対向させて、上下方向に案内される。偏心軸95を回転させることにより、スライド98を上下方向に往復運動させることができる。
ベッド90の上に、下側ダイホルダ105が取り付けられている。下側ダイホルダ105に下側金型106が保持される。スライド98の下面に上側ダイホルダ107が取り付けられている。上側ダイホルダ107に上側金型108が保持される。
スライドギブ100の案内面には、例えば銅合金製のライナー材を用いることができる。スライド98の被案内面の加工に、図1A及び図1Bに示した滑り軸受用ピン12の摺動面のブラスト処理を適用することができる。その逆に、スライド98の被案内面に、例えば銅合金製のライナー材を用い、スライドギブ100の案内面の加工に、図1A及び図1Bに示した滑り軸受用ピン12の摺動面のブラスト処理を適用してもよい。
スライドギブ100の案内面、及びスライド98の被案内面の一方の加工に、図1A及び図1Bに示した滑り軸受用ピン12の摺動面のブラスト処理を適用することにより、摩擦係数低減、なじみ性の向上という効果が得られる。または、スライドギブ100の案内面、及びスライド98の被案内面の他方の摩耗量の低減という効果が得られる。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
10 固定部材
11 ブッシュ
12 滑り軸受用ピン
13 可動部材
14 滑り軸受用ピンの端部
20 下部走行体
21 上部旋回体
22 ブーム
23 アーム
24 バケット
25、26、27 油圧シリンダ
28 リンク機構
31、32、33、34 関節部
40 固定プラテン
41 トグルサポート
42 タイバー
43 可動プラテン
45 固定金型
46 可動金型
47 駆動装置
50 トグル機構
51 連結ロッド
52 クロスヘッド
53 小トグルレバー
54 大トグルレバー
55 トグルアーム
61、62、63、64、65 滑り軸受用ピン
70 固定プラテン
71 トグルサポート
72 トグル機構
73 タイバー
75 可動プラテン
76 固定用ナット
77 ロータリテーブル
78 回転軸受
79 回転駆動機構
80a、80b 滑りプレート
82a、82b 下側金型
83 上側金型
90 ベッド
91 クラウン
92 コラム
95 偏心軸
96 駆動源
97 コンロッド
98 スライド
100 スライドギブ
105 下側ダイホルダ
106 下側金型
107 上側ダイホルダ
108 上側金型

Claims (4)

  1. 摺動面同士を対向させて一方が他方に対して摺動する第1の部材及び第2の部材を有し、前記第1の部材及び前記第2の部材が共にクロムモリブデン鋼であり、前記第1の部材と前記第2の部材との硬さが同一であり、前記第2の部材の摺動面の突出山部高さRpkが0.09μm未満であり、
    前記第1の部材がブッシュであり、前記第2の部材が前記ブッシュに挿入されて回転する滑り軸受用ピンである摺動機構。
  2. 摺動面同士を対向させて一方が他方に対して摺動する第1の部材及び第2の部材を有し、前記第1の部材及び前記第2の部材が共にクロムモリブデン鋼であり、前記第1の部材と前記第2の部材との硬さが同一であり、前記第2の部材の摺動面の突出山部高さRpkが0.09μm未満であり、
    前記第1の部材が、垂直な回転軸に対して回転可能に支持され、下方を向く摺動面を持つロータリテーブルであり、
    前記第2の部材が、前記ロータリテーブルの下に配置され、前記ロータリテーブルの摺動面に対向する摺動面を持つ滑りプレートであり、
    前記ロータリテーブルが回転することにより、前記滑りプレートの摺動面に対して前記ロータリテーブルの摺動面が摺動し、
    前記滑りプレートは、前記ロータリテーブルに加わる荷重を支える摺動機構。
  3. 摺動面同士を対向させて一方が他方に対して摺動する第1の部材及び第2の部材を有し、前記第1の部材及び前記第2の部材が共にクロムモリブデン鋼であり、前記第1の部材と前記第2の部材との硬さが同一であり、前記第2の部材の摺動面の突出山部高さRpkが0.09μm未満であり、
    前記第1の部材及び前記第2の部材の一方が、鉛直方向に延びる案内面を含むスライドギブであり、
    前記第1の部材及び前記第2の部材の他方が、前記スライドギブの前記案内面に被案内面を対向させて上下方向に移動するスライドであり、
    前記スライドが上下に移動することにより、前記スライドの前記被案内面が、前記スライドギブの前記案内面に対して摺動する摺動機構。
  4. 前記第2部材の摺動面の突出山部高さRpkが0.02μm以上である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の摺動機構。
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