JP6815297B2 - 磁気メモリ - Google Patents
磁気メモリ Download PDFInfo
- Publication number
- JP6815297B2 JP6815297B2 JP2017178264A JP2017178264A JP6815297B2 JP 6815297 B2 JP6815297 B2 JP 6815297B2 JP 2017178264 A JP2017178264 A JP 2017178264A JP 2017178264 A JP2017178264 A JP 2017178264A JP 6815297 B2 JP6815297 B2 JP 6815297B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- region
- terminal
- magnetic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1675—Writing or programming circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/161—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect details concerning the memory cell structure, e.g. the layers of the ferromagnetic memory cell
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1659—Cell access
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1673—Reading or sensing circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/18—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using Hall-effect devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B61/00—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices
- H10B61/20—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices comprising components having three or more electrodes, e.g. transistors
- H10B61/22—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices comprising components having three or more electrodes, e.g. transistors of the field-effect transistor [FET] type
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/10—Magnetoresistive devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
- H10N50/85—Magnetic active materials
Description
Jc ∝ |ΘSH|
にある。このため、例えば、SO層の厚さtTaを10nmから6nmで薄膜化すると、書込み電流の平均値Icは1/2.8倍となり、小さくなる。したがって、書き込み電流を低減するためには導電層の厚さを薄くしたほうがよい。しかし、図1で説明したように、導電層の厚さを6nmまで薄膜化すると導電層の、MTJ素子が形成された領域以外の領域の厚さは1.6(=6−4.4)nmとなってしまう。このため、導電層が高抵抗化してしまい、もはや電極としての役割を果たさないという問題点がある。
第1実施形態による磁気メモリについて図4を参照して説明する。第1実施形態の磁気メモリは、SOT−MRAMであって、少なくとも1つのメモリセルを有し、このメモリセル10を図4に示す。このメモリセル10は、非磁性の導電層(以下、SO層とも云う)12a、12bと、導電層12a上に配置されたメモリ素子となる磁気抵抗素子(例えば、MTJ素子)20と、スイッチ素子30と、配線40と、を備えている。導電層12bは導電層12aに接続されている。導電層12aは端子(第1端子)13aを有し、導電層12bは端子(第2端子)13bを有している。なお、導電層12bは削除してもよい。この場合、端子13bは、導電層12aに配置され、MTJ素子20は、端子13aと端子13bとの間の導電層12aの領域に配置される。導電層12a、12bは導電性の非磁性層であり、電流を流したときにスピン流を発生し、磁気抵抗素子の記憶層にスピントルク(SOT(Spin Obit Torque))を与える。すなわち、導電層12aはスピン軌道相互作用を担う導電性の非磁性層となる。なお、図4では、スイッチ素子30としてトランジスタを用いたが、制御信号に基づいてオン/オフするトランジスタ以外のスイッチ素子を用いても良い。
第1実施形態の変形例による磁気メモリについて図5を参照して説明する。この変形例の磁気メモリは、図4に示す第1実施形態の磁気メモリにおいて、導電層12aが導電層12a1および導電層12a2の積層構造を有している(図5)。導電層12a1上にMTJ素子20が配置される。導電層12a1は第1実施形態と同様に、Ir1−xTax(x=0.05〜0.4)、Ir1−xVx(x=0.05〜0.35)、Au1−xVx(x=0.05〜0.5)、Au1−xNbx(x=0.05〜0.35)、Pt1−xVx(x=0.05〜0.35)で観測される。なお、Ir1−xTax(x=0.05〜0.4)、Ir1−xVx(x=0.05〜0.35)、Au1−xVx(x=0.05〜0.5)、Au1−xNbx(x=0.05〜0.35)、またはPt1−xVx(x=0.05〜0.35)であるか、またはこれら合金のうちの少なくとも2つを合金化した材料が用いられる。
第1実施形態およびその変形例において、記憶層21、参照層23の磁性材料としては、特に制限は無く、Ni−Fe合金、Co−Fe合金、Co−Fe−Ni合金、または、(Co,Fe)−(B)、(Co,Fe,Ni)−(B)、(Co,Fe,Ni)−(B)−(P,Al,Mo,Nb,Mn)系またはCo−(Zr,Hf,Nb,Ta,Ti)系などのアモルファス材料、Co−Fe−Al系、Co−Fe−Si系、Co−Mn−Si系、Co−Mn−Alなどのホイスラー材料からなる群より選ばれる少なくとも1種の材料を用いることが好ましい。より好ましくは、積層構造を取ることが好ましい。
第2実施形態による磁気メモリについて図7を参照して説明する。第2実施形態の磁気メモリは、少なくとも1つのメモリセルを有し、このメモリセルを図7に示す。このメモリセルは、導電層12と、端子13a、13b1、13b2と、磁気抵抗素子201、202と、スイッチ251、252と、スイッチ301、302と、を備えている。
第2実施形態の変形例による磁気メモリについて図8を参照して説明する。この変形例の磁気メモリは、図7に示す第2実施形態の磁気メモリにおいて、導電層12を、図5に示す第1実施形態の変形例と同様に、2層構造にした構成を有している。すなわち、導電層12は、図8に示すように、導電層121と導電層122の積層構造を有している。導電層層121上に磁気抵抗素子201、202が配置され、導電層122に端子13a、13b1、13b2が接続される。なお、導電層121に端子13a、13b1、13b2が接続されてもよい。導電層121は第1実施形態と同様に、Ir1−xTax(x=0.05〜0.4)、Ir1−xVx(x=0.05〜0.35)、Au1−xVx(x=0.05〜0.5)、Au1−xNbx(x=0.05〜0.35)、Pt1−xVx(x=0.05〜0.35)で観測される。なお、Ir1−xTax(x=0.05〜0.4)、Ir1−xVx(x=0.05〜0.35)、Au1−xVx(x=0.05〜0.5)、Au1−xNbx(x=0.05〜0.35)、またはPt1−xVx(x=0.05〜0.35)であるか、またはこれら合金のうちの少なくとも2つを合金化した材料が用いられる。
次に、第3実施形態による磁気メモリを図10に示す。第3実施形態による磁気メモリを図10乃至図12を参照して説明する。この実施形態の磁気メモリは、少なくとも1つのメモリセルを有し、このメモリセルの構成を図10に示す。
この安定性を(長軸方向の)一軸磁気異方性と呼ぶ。一軸磁気異方性は、矩形のアスペクト比と記憶層の厚さ、磁性層の磁化に依存し、後述する書き込み電流閾値Icoはこの一軸磁気異方性に比例する。各磁気抵抗素子20i(i=1,・・・,8)は、1ビットの記憶素子となり、メモリセル10は、例えば1バイトが8ビットからなる1バイトセルとなる。
Ich〜Ico/2 (1)
程度となるように記憶層21等のパラメータを設定する。
次に、図11および図12を参照して図10に示すメモリセル10への書き込み方法について説明する。本実施形態においては、メモリセル10への書き込みは2段階で行う。図11および図12においては、メモリセル10への書き込みは、1バイト情報として、(0,1,1,0,0,0,0,1)を書き込む場合を示す。
Iw0〜1.5Ich (2)
となる。
Iw1〜1.5Ich (3)
となる。この結果、2回の書き込み動作で、1バイトの情報(0,1,1,0,0,0,0,1)を書き込むことができる。なお、上記2回の書き込み動作は、制御回路110と制御回路120が連携動作を行うことにより可能となる。すなわち、上記2段階のうち第1段階の書き込みを行う第1書き込み回路と、第2段階の書き込みを行う第2書き込み回路はともに、制御回路110と制御回路120に跨がって構成される。
第3実施形態の変形例による磁気メモリについて説明する。この変形例の磁気メモリは、図5に示す第1実施形態の変形例と同様に、図10に示す第3実施形態の磁気メモリにおいて、導電層12を2層積層した構造を有している。導電層12は、第1導電層と、第2導電層との積層構造を有し、第1導電層上に磁気抵抗素子201〜208が配置される。第1導電層は導電層12と同じ材料から形成される。すなわち、第1導電層としては、fcc(face-centered cubic)構造を有するIr−Ta、Ir−V、Au−V、Au−Nb、Pt−Vのいずれか、または、またはこれら合金を少なくとも2つを選択して合金化した材料が用いられる。第2導電層は、Ta、W等の周知のSO層の材料が用いられる。
第4実施形態による磁気メモリについて図15を参照して説明する。この第4実施形態の磁気メモリは、図15に示すように、メモリセル1000、1001、1010、1011と、ワード線WL00,WL10と、ビット線BL00〜BL70,BL01〜BL71と、書込みビット線WBL0,WBL1と、ソース線SL0,SL1と、を備えている。
また、第4実施形態の変形例による磁気メモリは、第4実施形態の磁気メモリにおいて、導電層12が、第3実施形態の変形例のように、第1導電層と、第2導電層との積層構造を有し、第1導電層上に磁気抵抗素子200〜207が配置される構造を有している。第1導電層は導電層12と同じ材料から形成される。すなわち、第1導電層としては、fcc(face-centered cubic)構造を有するIr−Ta、Ir−V、Au−V、Au−Nb、Pt−Vのいずれか、または、またはこれら合金を少なくとも2つを選択して合金化した材料が用いられる。第2導電層は、Ta、W等の周知のSO層の材料が用いられる。
Claims (7)
- 第1乃至第3端子と、
第1乃至第3領域を有し、前記第2領域は前記第1領域と前記第3領域との間に位置し、前記第1領域は前記第1端子に電気的に接続され、前記第3領域は前記第2端子に電気的に接続された非磁性の導電層と、
前記第2領域に対応して配置された磁気抵抗素子であって、前記第3端子に電気的に接続された第1磁性層と、前記第1磁性層と前記第2領域との間に配置された第2磁性層と、前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に配置された非磁性層と、を有する磁気抵抗素子と、
を備え、前記導電層はfcc構造を有する合金を含み、前記合金は、IrとTaとを含む合金、IrとVとを含む合金、AuとVとを含む合金、AuとNbとを含む合金、およびPtとVとを含む合金からなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記導電層の前記第2領域は第1層および第2層を有し、前記第1層は前記磁気抵抗素子と前記第2層との間に位置し、前記第1層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上である磁気メモリ。 - 第1乃至第5端子と、
第1乃至第5領域を有し、前記第2領域は前記第1領域と前記第5領域との間に位置し、前記第3領域は前記第2領域と前記第5領域との間に位置し、前記第4領域は前記第3領域と前記第5領域との間に位置し、前記第1領域は前記第1端子に電気的に接続され、前記第5領域は前記第2端子に電気的に接続され、前記第3領域は前記第3端子に電気的に接続された非磁性の導電層と、
前記第2領域に対応して配置された第1磁気抵抗素子であって、前記第4端子に電気的に接続された第1磁性層と、前記第1磁性層と前記第2領域との間に配置された第2磁性層と、前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に配置された第1非磁性層と、を有する第1磁気抵抗素子と、
前記第4領域に対応して配置された第2磁気抵抗素子であって、前記第5端子に電気的に接続された第3磁性層と、前記第3磁性層と前記第4領域との間に配置された第4磁性層と、前記第3磁性層と前記第4磁性層との間に配置された第2非磁性層と、を有する第2磁気抵抗素子と、
を備え、前記導電層はfcc構造を有する合金を含み、前記合金は、IrとTaとを含む合金、IrとVとを含む合金、AuとVとを含む合金、AuとNbとを含む合金、およびPtとVとを含む合金からなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記導電層の前記第2領域は第1層および第2層を有し、前記第4領域は第3層および第4層を有し、前記第1層は前記2磁性層と前記第2層との間に位置し、前記第1層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上であり、前記第3層は前記第4磁性層と前記第4層との間に位置し、前記第3層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上である磁気メモリ。 - 第1乃至第4端子と、
第1乃至第4領域を有し、前記第2領域は前記第1領域と前記第4領域との間に位置し、前記第3領域は前記第2領域と前記第4領域との間に位置し、前記第1領域は前記第1端子に電気的に接続され、前記第4領域は前記第2端子に電気的に接続された非磁性の導電層と、
前記第2領域に対応して配置された第1磁気抵抗素子であって、前記第3端子に電気的に接続された第1磁性層と、前記第1磁性層と前記第2領域との間に配置された第2磁性層と、前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に配置された第1非磁性層と、を有する第1磁気抵抗素子と、
前記第3領域に対応して配置された第2磁気抵抗素子であって、前記第4端子に電気的に接続された第3磁性層と、前記第3磁性層と前記第3領域との間に配置された第4磁性層と、前記第3磁性層と前記第4磁性層との間に配置された第2非磁性層と、を有する第2磁気抵抗素子と、
を備え、前記導電層はfcc構造を有する合金を含み、前記合金は、IrとTaとを含む合金、IrとVとを含む合金、AuとVとを含む合金、AuとNbとを含む合金、およびPtとVとを含む合金からなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記導電層の前記第2領域は第1層および第2層を有し、前記第3領域は第3層および第4層を有し、前記第1層は前記第2磁性層と前記第2層との間に位置し、前記第1層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上であり、前記第3層は前記第4磁性層と前記第4層との間に位置し、前記第3層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上である磁気メモリ。 - 第1乃至第5配線と、
第1端子、前記第5配線に電気的に接続された第2端子、第3端子、および前記第5配線に電気的に接続された第4端子と、
第1乃至第3領域を有し、前記第2領域は前記第1領域と前記第3領域との間に位置し、前記第1領域は前記第1端子に電気的に接続され、前記第3領域は前記第2端子に電気的に接続された第1導電層と、
第4乃至第6領域を有し、前記第5領域は前記第4領域と前記第6領域との間に位置し、前記第4領域は前記第3端子に電気的に接続され、前記第6領域は前記第4端子に電気的に接続された第2導電層と、
前記第2領域に対応して配置され、第1磁性層と、前記第1磁性層と前記第2領域との間に配置された第2磁性層と、前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に配置された第1非磁性層と、を有する第1磁気抵抗素子と、
前記第5領域に対応して配置され、第3磁性層と、前記第3磁性層と前記第5領域との間に配置された第4磁性層と、前記第3磁性層と前記第4磁性層との間に配置された第2非磁性層と、を有する第2磁気抵抗素子と、
前記第1磁性層に電気的に接続された第5端子と、前記第3配線に電気的に接続された第6端子と、前記第1配線に電気的に接続された第1制御端子と、を有する第1トランジスタと、
前記第1端子に電気的に接続された第7端子と、前記第2配線に電気的に接続された第8端子と、前記第1配線に電気的に接続された第2制御端子と、を有する第2トランジスタと、
前記第3磁性層に電気的に接続された第9端子と、前記第3配線に電気的に接続された第10端子と、前記第4配線に電気的に接続された第3制御端子と、を有する第3トランジスタと、
前記第3端子に電気的に接続された第11端子と、前記第2配線に電気的に接続された第12端子と、前記第4配線に電気的に接続された第4制御端子と、を有する第4トランジスタと、
を備え、
前記第1乃至第4配線と、前記第1乃至第4トランジスタとが第1階層に配置され、前記第1導電層および前記第1磁気抵抗素子が前記第1階層の上方の第2階層に配置され、前記第5配線が前記第2階層の上方の第3階層に配置され、前記第2導電層および前記第2磁気抵抗素子が前記第3階層の上方の第4階層に配置され、
前記第1および第2導電層は、fcc構造を有する合金を含み、前記合金は、IrとTaとを含む合金、IrとVとを含む合金、AuとVとを含む合金、AuとNbとを含む合金、およびPtとVとを含む合金からなる群から選択された少なくとも1つを含む磁気メモリ。 - 前記第1導電層の第2領域は第1層および第2層を有し、前記第1層は前記第2磁性層と前記第2層との間に位置し、前記第1層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上であり、
前記第2導電層の第5領域は第3層および第4層を有し、前記第3層は前記第4磁性層と前記第4層との間に位置し、前記第3層は前記合金を含みかつ厚さが3nm以上である請求項4記載の磁気メモリ。 - 前記第1磁気抵抗素子は前記第1導電層の上方に配置され、前記第2磁気抵抗素子は前記第2導電層の上方に配置される請求項4または5記載の磁気メモリ。
- 前記合金は、Ir1−xTax(x=0.05〜0.4)、Ir1−xVx(x=0.05〜0.35)、Au1−xVx(x=0.05〜0.5)、Au1−xNbx(x=0.05〜0.35)、およびPt1−xVx(x=0.05〜0.35)からなる群から選択された少なくとも1つを含む請求項1乃至6のいずれかに記載の磁気メモリ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017178264A JP6815297B2 (ja) | 2017-09-15 | 2017-09-15 | 磁気メモリ |
US15/913,377 US10490736B2 (en) | 2017-09-15 | 2018-03-06 | Magnetic memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017178264A JP6815297B2 (ja) | 2017-09-15 | 2017-09-15 | 磁気メモリ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019054154A JP2019054154A (ja) | 2019-04-04 |
JP6815297B2 true JP6815297B2 (ja) | 2021-01-20 |
Family
ID=65720660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017178264A Active JP6815297B2 (ja) | 2017-09-15 | 2017-09-15 | 磁気メモリ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10490736B2 (ja) |
JP (1) | JP6815297B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10460785B1 (en) * | 2018-06-19 | 2019-10-29 | Qualcomm Incorporated | Parallel write scheme utilizing spin hall effect-assisted spin transfer torque random access memory |
JP6952672B2 (ja) | 2018-11-28 | 2021-10-20 | 株式会社東芝 | 磁気記憶装置 |
US10916282B2 (en) * | 2019-06-20 | 2021-02-09 | International Business Machines Corporation | Control of switching trajectory in spin orbit torque devices by micromagnetic configuration |
TWI707468B (zh) * | 2019-07-17 | 2020-10-11 | 財團法人工業技術研究院 | 磁性記憶體結構 |
JP2021022711A (ja) * | 2019-07-30 | 2021-02-18 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR20210145564A (ko) | 2020-05-25 | 2021-12-02 | 삼성전자주식회사 | 자기 기억 소자 |
US11963462B2 (en) | 2022-03-18 | 2024-04-16 | Honeywell International Inc. | Magneto-resistive random access memory magnetic tunnel junction and cell with voltage-controlled writing |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5545532A (en) | 1978-09-25 | 1980-03-31 | Nippon Steel Corp | Roll screw-down position setting method of six-high rolling mill |
JP2007035139A (ja) | 2005-07-26 | 2007-02-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
JP5545532B2 (ja) | 2010-03-26 | 2014-07-09 | 日本電気株式会社 | 磁気メモリ及びその製造方法 |
US9230626B2 (en) * | 2012-08-06 | 2016-01-05 | Cornell University | Electrically gated three-terminal circuits and devices based on spin hall torque effects in magnetic nanostructures apparatus, methods and applications |
US9105830B2 (en) | 2012-08-26 | 2015-08-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and system for providing dual magnetic tunneling junctions using spin-orbit interaction-based switching and memories utilizing the dual magnetic tunneling junctions |
US9076537B2 (en) * | 2012-08-26 | 2015-07-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and system for providing a magnetic tunneling junction using spin-orbit interaction based switching and memories utilizing the magnetic tunneling junction |
US9076541B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-07-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Architecture for magnetic memories including magnetic tunneling junctions using spin-orbit interaction based switching |
KR102060419B1 (ko) * | 2014-10-02 | 2019-12-30 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 다층 자성 박막 스택 및 이를 포함하는 비휘발성 메모리 소자 |
JP5985728B1 (ja) * | 2015-09-15 | 2016-09-06 | 株式会社東芝 | 磁気メモリ |
JP6130886B2 (ja) | 2015-09-16 | 2017-05-17 | 株式会社東芝 | 磁気素子及び記憶装置 |
JP6270934B2 (ja) * | 2015-12-14 | 2018-01-31 | 株式会社東芝 | 磁気メモリ |
US9881660B2 (en) | 2015-12-14 | 2018-01-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic memory |
-
2017
- 2017-09-15 JP JP2017178264A patent/JP6815297B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-06 US US15/913,377 patent/US10490736B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019054154A (ja) | 2019-04-04 |
US10490736B2 (en) | 2019-11-26 |
US20190088860A1 (en) | 2019-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI633542B (zh) | Magnetic memory | |
JP6815297B2 (ja) | 磁気メモリ | |
US10262711B2 (en) | Magnetic memory | |
JP4682998B2 (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP5040105B2 (ja) | 記憶素子、メモリ | |
US20130059168A1 (en) | Magnetoresistance Device | |
JP6495980B2 (ja) | 磁気メモリ | |
JP4951858B2 (ja) | メモリ | |
JP2008147522A (ja) | 記憶素子、メモリ | |
JP2007103471A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2007305882A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2006190838A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2007287923A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2006165059A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2006295000A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2006295001A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP4187021B2 (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP5034317B2 (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2012074716A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2006165265A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2003110167A (ja) | 磁気抵抗効果膜、その製造方法およびそれを用いたメモリ | |
JP2012186303A (ja) | 磁気メモリ及び磁気メモリ装置 | |
JP2007053143A (ja) | 記憶素子、メモリ | |
JP2006108316A (ja) | 記憶素子及びメモリ | |
JP2011253884A (ja) | 磁気記憶装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201124 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201222 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6815297 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |