JP6813048B2 - 質量分離器 - Google Patents
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 40
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 25
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
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- H01J49/28—Static spectrometers
- H01J49/30—Static spectrometers using magnetic analysers, e.g. Dempster spectrometer
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
- H01F7/20—Electromagnets; Actuators including electromagnets without armatures
- H01F7/202—Electromagnets for high magnetic field strength
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
- H01J37/3007—Electron or ion-optical systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/024—Moving components not otherwise provided for
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- H—ELECTRICITY
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/05—Arrangements for energy or mass analysis
- H01J2237/057—Energy or mass filtering
-
- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/31701—Ion implantation
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- Plasma & Fusion (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Description
このような構成であれば、上部ヨークや下部ヨークが、昇降移動及び回転移動により通常位置と退避位置との間を移動するので、仮に取り外した上部ヨークや下部ヨークをビーム経路の径方向に沿って移動させる場合に比べて、作業者がビーム経路に臨んで作業できるスペースを大きく確保することができる。
これならば、ヨークを構成する少なくとも2つの上部ヨークや下部ヨークを取り外す場合でも、これらを重ね合わせるので、作業スペースを大きく確保することができる。
このような配置であれば、省スペース化を図るとともに、ビーム経路の径方向外側のより広いスペースを作業スペースとして活用することができ、より作業性が良い。
このような構成であれば、通常位置から取り外した上部ヨークや下部ヨークは、ビーム経路に沿って回転移動しながら退避位置に到達するので、この回転移動時や退避位置において、上部ヨークや下部ヨークを、ビーム経路の径方向内側或いは外側に可及的にはみ出さないようにすることができ、安全性や作業性の向上を図れる。
このような構成であれば、移動機構をコンパクトな構成にすることができる。
このような構成であれば、昇降機構や回転軸部材を手動で操作する場合であっても、上部ヨークや下部ヨークを簡単且つ確実に所定の位置に位置決めすることができる。
具体的にこのヨーク13は、図3及び図4に示すように、ビーム経路Lの上方に位置する上部ヨーク13a、ビーム経路Lの下方に位置する下部ヨーク13b、ビーム経路Lの径方向外側に位置する側方ヨーク13c(以下、外側ヨーク13cという)、ビーム経路Lの径方向内側に位置する側方ヨーク13d(以下、内側ヨーク13dという)とから構成されており、ビーム経路Lの少なくも一部分の全周を取り囲んでいる。
この昇降機構32は、上下方向に延びる軸部材321を有するものであり、この軸部材321に沿って固定部材31が昇降移動するように構成されている。
この回転機構33は、固定部材31の回転中心が、ビーム経路Lの曲率中心Oと略一致するように構成されており、具体的には図2に示すように、回転軸部材331が、上方から視てビーム経路Lの曲率中心O上に設けられている。なお、回転軸部材331は、固定部材31とは別体であっても良いし、固定部材31と一体であっても良く、ここでは固定部材31とともに昇降移動する。
具体的に第1位置決め面a1は、回転軸部材331の周囲に設けられており、例えば上方を向く面である。また、昇降機構32は、固定部材31とともに昇降移動して、固定部材31が第1ヨーク131に接触した場合に、第1位置決め面a1に当接する第1当接部b1を有している。
これにより、第1当接部b1が第1位置決め面a1に当接することで、固定部材31が第1ヨーク131の上面に位置決めされる。
具体的に第2位置決め面a2は、回転軸部材331の周囲に設けられており、例えば回転軸部材331に沿って起立した面である。また、回転機構33は、固定部材31とともに回転移動して、第1ヨーク131が第1途中位置M1にある状態から、固定部材31が所定角度回転移動した場合に、第2位置決め面a2に当接する第2当接部b2を有している。
この所定角度が、第1途中位置M1から第2途中位置M2までの回転角度にあたり、第2当接部b2が第2位置決め面a2に当接することで、第1ヨーク131が第2途中位置M2に位置決めされる。
具体的に第3位置決め面a3は、回転軸部材331の周囲に設けられており、例えば上述した第2位置決め面a2に連続する上方を向く面である。また、昇降機構32は、固定部材31とともに昇降移動して、第1ヨーク131が第2途中位置M2にある状態から、固定部材31が所定距離下降した場合に、第3位置決め面a3に当接する第3当接部b3を有している。なお、ここでの第3当接部b3は、上述した第2当接部b2と共通の部材に形成されている。
この所定距離が、第2途中位置M2から第3途中位置M3までの移動距離にあたり、第3当接部b3が第3位置決め面a3に当接することで、第1ヨーク131が第3途中位置M3に位置決めされる。
具体的に第4位置決め面a4は、回転軸部材331の周囲に設けられており、例えば回転軸部材331に沿って起立した面である。また、回転機構33は、固定部材31とともに回転移動して、第1ヨーク131が第4途中位置M4から所定角度回転移動した場合に、第4位置決め面a4に当接する第4当接部b4を有している。なお、ここでの第4当接部b4は、上述した第2当接部b2や第3当接部b3と共通の部材に形成されている。
そして、この所定角度が、上方から視て、第1ヨーク131及び第2ヨーク132が第1ヨーク131の通常位置P及び第2ヨーク132の通常位置Pの双方に重ならないために必要な回転角度以上に設定されており、第4当接部b4が第4位置決め面a4に当接することで、第1ヨーク131が第5途中位置M5に位置決めされる。
具体的に位置決め溝a5は、回転軸部材331の周囲に設けられており、例えば上述した第4位置決め面a4を利用して形成された上向きの凹部である。また、昇降機構32は、固定部材31とともに昇降移動して、第1ヨーク131が第5途中位置M5から所定距離下降した場合に、位置決め溝4aに収容される被収容部b5を有している。なお、ここでの被収容部b5は、上述した第2当接部b2、第3当接部b3、及び第4当接部b4と共通の部材に形成されている。
この所定距離が、第5途中位置M5から退避位置Qまでの移動距離にあたり、被収容部b5が位置決め溝a5に収容されることで、第1ヨーク131が退避位置Qに到達した状態において、固定部材31の回転移動及び固定部材31の下降が規制される。
しかも、通常位置Pから取り外した上部ヨーク13aを回転移動させながら退避位置Qに到達させるので、仮に取り外した上部ヨーク13aをビーム経路Lの径方向に沿ってスライド移動させる場合に比べて、作業者がビーム経路Lに臨んで作業できるスペースを大きく確保することができる。
また、図10に示すように、互いに逆向きの円軌道に沿って回転移動させて退避位置Qに移動させても良い。
10 ・・・質量分離マグネット
20 ・・・分離スリット
L ・・・ビーム経路
11 ・・・真空容器
12 ・・・コイル
13 ・・・ヨーク
13a・・・上部ヨーク
13b・・・下部ヨーク
30 ・・・移動機構
31 ・・・固定部材
32 ・・・昇降機構
33 ・・・回転機構
131・・・第1ヨーク
132・・・第2ヨーク
P ・・・通常位置
Q ・・・退避位置
O ・・・曲率中心
Claims (8)
- イオンビームの進行方向を曲げて、該イオンビームを質量分離する質量分離器であって、
前記イオンビームの進行方向に沿って湾曲したビーム経路の周囲に設けられたコイルと、
前記コイルとともに前記ビーム経路を取り囲む磁性体からなるヨークと、
前記ヨークの構成要素であって、前記ビーム経路の上方、下方、又は側方に位置する上部ヨーク、下部ヨーク、又は側方ヨークの少なくとも何れかを、前記イオンビームの進行中における通常位置と、前記通常位置の少なくとも一部と重なり合わない退避位置との間で移動させるための移動機構とを具備する、質量分離器。 - 前記移動機構が、
前記通常位置にある前記上部ヨーク又は前記下部ヨークに固定される固定部材と、
前記固定部材を昇降させる昇降機構と、
前記固定部材を回転移動させる回転機構とを有し、
前記固定部材が、前記昇降機構により昇降し、前記回転機構により回転移動することで、前記固定部材に固定された前記上部ヨーク又は前記下部ヨークが、前記通常位置と前記退避位置との間を移動する、請求項1記載の質量分離器。 - 前記上部ヨーク又は前記下部ヨークが、前記ビーム経路に沿って少なくとも2つ設けられており、
一方の前記上部ヨーク又は一方の前記下部ヨークが、前記通常位置から前記退避位置に移動する間に、他方の前記上部ヨーク又は他方の前記下部ヨークに重なり合った状態で固定され、他方の前記上部ヨーク又は他方の前記下部ヨークとともに前記退避位置に移動するように構成れている、請求項1又は2記載の質量分離器。 - 前記移動機構が、湾曲した前記ビーム経路の径方向内側に配置されている、請求項1乃至3のうち何れか一項に記載の質量分離器。
- 前記ビーム経路が、所定の曲率を有し、
前記回転機構により回転移動する前記固定部材の回転中心と、前記ビーム経路の曲率中心とが略一致している、請求項1乃至4のうち何れか一項に記載の質量分離器。 - 前記回転機構が、前記固定部材に連結された回転軸部材を有し、
前記回転軸部材が、前記ビーム経路の曲率中心に設けられている、請求項5記載の質量分離器。 - 前記昇降機構が、前記回転軸部材に沿って前記固定部材を昇降移動させる、請求項6記載の質量分離器。
- 前記移動機構が、
前記固定部材に固定された前記上部ヨーク又は前記下部ヨークが昇降移動又は回転移動して、所定の位置に到達した状態において、前記昇降機構による前記固定部材の昇降移動、又は、前記回転機構による前記固定部材の回転移動を規制する位置決め面を有している、請求項1乃至7のうち何れか一項に記載の質量分離器。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019059842A JP6813048B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | 質量分離器 |
CN202010166744.6A CN111755301B (zh) | 2019-03-27 | 2020-03-11 | 质量分离器 |
TW109108009A TWI747194B (zh) | 2019-03-27 | 2020-03-11 | 質量分離器 |
US16/815,048 US11322342B2 (en) | 2019-03-27 | 2020-03-11 | Mass separator using retractable magnetic yoke on a beam bending path |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019059842A JP6813048B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | 質量分離器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020161336A JP2020161336A (ja) | 2020-10-01 |
JP6813048B2 true JP6813048B2 (ja) | 2021-01-13 |
Family
ID=72604663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019059842A Active JP6813048B2 (ja) | 2019-03-27 | 2019-03-27 | 質量分離器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11322342B2 (ja) |
JP (1) | JP6813048B2 (ja) |
CN (1) | CN111755301B (ja) |
TW (1) | TWI747194B (ja) |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB887891A (en) * | 1959-03-26 | 1962-01-24 | Ass Elect Ind | Improvements relating to mass spectrometers |
JPS59134544A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-02 | Hitachi Ltd | イオン打込装置 |
US4847504A (en) * | 1983-08-15 | 1989-07-11 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for ion implantation |
JP2650796B2 (ja) * | 1991-03-15 | 1997-09-03 | テイエチケー株式会社 | ボールナットの製造方法 |
JPH06260133A (ja) * | 1993-03-03 | 1994-09-16 | Hitachi Ltd | イオン打込装置 |
KR20030030174A (ko) * | 2001-10-09 | 2003-04-18 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치 이온주입설비의 질량분석장치 |
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JP4964413B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2012-06-27 | 株式会社Sen | イオンビーム/荷電粒子ビーム照射装置 |
JP4875400B2 (ja) * | 2005-05-06 | 2012-02-15 | アドバンスト イオン ビーム テクノロジー インク | リボンイオンビーム用高アスペクト比、高質量分解能アナライザマグネット及びシステム |
US7358508B2 (en) * | 2005-11-10 | 2008-04-15 | Axcelis Technologies, Inc. | Ion implanter with contaminant collecting surface |
TWI416572B (zh) * | 2006-06-13 | 2013-11-21 | Semequip Inc | 多用途離子佈植器束流線組態 |
JP4345793B2 (ja) | 2006-09-27 | 2009-10-14 | 日新イオン機器株式会社 | 分析電磁石、その制御方法およびイオン注入装置 |
JP4305489B2 (ja) * | 2006-10-11 | 2009-07-29 | 日新イオン機器株式会社 | イオン注入装置 |
JP4240109B2 (ja) * | 2006-10-31 | 2009-03-18 | 日新イオン機器株式会社 | イオン注入装置 |
US8263941B2 (en) * | 2008-11-13 | 2012-09-11 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Mass analysis magnet for a ribbon beam |
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JP6052792B2 (ja) * | 2013-05-15 | 2016-12-27 | 住友重機械工業株式会社 | マイクロ波イオン源及びその運転方法 |
WO2015094382A1 (en) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | White Nicholas R | C-shaped yoke coil mass analyzer apparatus for separating desired ion species from unwanted ion species in ribbon ion beams of arbitrary breadth |
CN104409313B (zh) * | 2014-12-22 | 2016-08-17 | 北京中科信电子装备有限公司 | 一种离子质量分析装置 |
US9711328B2 (en) * | 2014-12-26 | 2017-07-18 | Axcelis Technologies, Inc. | Method of measuring vertical beam profile in an ion implantation system having a vertical beam angle device |
CN108346551B (zh) * | 2017-01-24 | 2020-03-17 | 日新离子机器株式会社 | 质量分析电磁铁及离子注入装置 |
CN206686135U (zh) * | 2017-03-21 | 2017-11-28 | 天津延强科技有限公司 | 一种便携式太阳能电板组件 |
JP6785189B2 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-11-18 | 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 | イオン注入装置およびイオン注入方法 |
-
2019
- 2019-03-27 JP JP2019059842A patent/JP6813048B2/ja active Active
-
2020
- 2020-03-11 CN CN202010166744.6A patent/CN111755301B/zh active Active
- 2020-03-11 US US16/815,048 patent/US11322342B2/en active Active
- 2020-03-11 TW TW109108009A patent/TWI747194B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111755301A (zh) | 2020-10-09 |
JP2020161336A (ja) | 2020-10-01 |
TW202036654A (zh) | 2020-10-01 |
CN111755301B (zh) | 2023-05-30 |
TWI747194B (zh) | 2021-11-21 |
US11322342B2 (en) | 2022-05-03 |
US20200312651A1 (en) | 2020-10-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201130 |
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