JP6812350B2 - ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミック - Google Patents
ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミック Download PDFInfo
- Publication number
- JP6812350B2 JP6812350B2 JP2017538346A JP2017538346A JP6812350B2 JP 6812350 B2 JP6812350 B2 JP 6812350B2 JP 2017538346 A JP2017538346 A JP 2017538346A JP 2017538346 A JP2017538346 A JP 2017538346A JP 6812350 B2 JP6812350 B2 JP 6812350B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass ceramic
- weight
- ceramic according
- diopside
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 title claims description 158
- 229910052637 diopside Inorganic materials 0.000 title claims description 55
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 17
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 title claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 81
- NWXHSRDXUJENGJ-UHFFFAOYSA-N calcium;magnesium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Mg+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O NWXHSRDXUJENGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 37
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 16
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 15
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000005548 dental material Substances 0.000 claims description 9
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 7
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 6
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 5
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 5
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000005313 bioactive glass Substances 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910052634 enstatite Inorganic materials 0.000 description 3
- BBCCCLINBSELLX-UHFFFAOYSA-N magnesium;dihydroxy(oxo)silane Chemical compound [Mg+2].O[Si](O)=O BBCCCLINBSELLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 3
- -1 okelmite Chemical compound 0.000 description 3
- 239000006017 silicate glass-ceramic Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000789 Aluminium-silicon alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018119 Li 3 PO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052612 amphibole Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052661 anorthite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000316 bone substitute Substances 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N dialuminum;calcium;disilicate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[Ca+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GWWPLLOVYSCJIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006136 disilicate glass ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 2
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 2
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003991 Rietveld refinement Methods 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052907 leucite Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/078—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing an oxide of a divalent metal, e.g. an oxide of zinc
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/831—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising non-metallic elements or compounds thereof, e.g. carbon
- A61K6/833—Glass-ceramic composites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
- C03C3/112—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0007—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass
- C03C4/0021—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass for dental use
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/06—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/08—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2205/00—Compositions applicable for the manufacture of vitreous enamels or glazes
- C03C2205/06—Compositions applicable for the manufacture of vitreous enamels or glazes for dental use
Description
成分 重量%
Na2O 0〜3.0、特に0〜2.0
K2O 0〜5.0
Rb2O 0〜3.0、特に0〜2.0
Cs2O 0〜10.0、特に0〜8.0。
成分 重量%
SrO 0〜5.0
ZnO 0〜5.0。
成分 重量%
Al2O3 0〜8.0
Y2O3 0〜5.0
B2O3 0〜4.0
Ga2O3 0〜5.0
In2O3 0〜5.0
La2O3 0〜5.0。
成分 重量%
ZrO2 0〜7.0
TiO2 0〜5.0
SnO2 0〜5.0
GeO2 0〜14.0
CeO2 0〜2.0。
成分 重量%
V2O5 0〜1.0
Ta2O5 0〜3.0
Nb2O5 0〜3.0。
成分 重量%
WO3 0〜5.0
MoO3 0〜5.0。
成分 重量%
SiO2 53.0〜75.0
Li2O 10.0〜23.0
CaO 1.0〜13.0
MgO 1.0〜12.0
P2O5 0〜8.0
MeI 2O 0〜10.0
MeIIO 0〜10.0
MeIII 2O3 0〜10.0
MeIVO2 0〜15.0
MeV 2O5 0〜4.0
MeVIO3 0〜5.0
フッ素 0〜3.0。
ここでMeI 2O、MeIIO、MeIII 2O3、MeIVO2、MeV 2O5、及びMeVIO3は上記で指定される意味を有する。
(a)出発ガラスを細砕し、
(b)細砕出発ガラスを場合によりプレス加工して粉末圧粉体を形成し、及び
(c)細砕出発ガラス又は粉末圧粉体に500℃〜1000℃の範囲の温度、5〜120分の時間で少なくとも1回の熱処理を施す、
本発明によるケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミックの調製方法に関する。
組成及び結晶相
全部で、表Iで指定される組成を有する22種のガラス及びガラスセラミックを調製した。
以下の意味が表Iで適用される:
Tg ガラス転移温度、DSCにより決定される
TS及びtS 出発ガラスの溶融に使用される温度及び時間
TSinter及びtSinter 成形体(Pressling)を熱処理しそれにより結晶化させるのに使用される温度及び時間
TPress及びtPress 結晶化させた成形体をプレス加工するのに使用される温度及び時間
L*a*b値 色を特徴づけるための値
CR値 英国規格BS 5612によるガラスセラミックのコントラスト値
Li2Si2O5 二ケイ酸リチウム
Li2SiO3 メタケイ酸リチウム
CaMgSi2O6 透輝石
SiO2 石英、特に低温型石英、又はクリストバライト
Cs0.809AlSi5O12 アルミノケイ酸セシウム(Caesiumalumosilicat)
実施例1〜9、11〜19、21、及び22にしたがって調製されたガラスフリットを、Retsch GmbH、Haan、ドイツのKM100振動ミル、及びRetsch GmbH、Haan、ドイツのRM31酸化ジルコニウム振動ミルにより、粒子の数に関して90μm未満の平均粒径まで細砕した。細砕ガラス粉末を次いで単軸でプレス加工して小さい円柱状物を形成し、Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)において温度TSinterにてtSinterの時間で結晶化及び焼結させた。調製した試験片についてX線回折分析を行って存在する結晶相を決定し、色測定も行った。
実施例10による組成を有するガラスフリットを、Hosokawa AlpineのAFG 100対向ジェットミルにより、粒子の数に関して20μmの平均粒径まで細砕した。細砕ガラス粉末を次いで単軸でプレス加工し、Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)において温度TSinterにてtSinterの時間で結晶化及び焼結させた。このようにして調製した試験片について色測定及びX線回折分析を行った。生成されたケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミックのCR値は69.95であった。
実施例20による組成を有するガラスフリットを、ボールミルで約20時間、粒子の数に関して10μmの平均粒径まで細砕した。ボールミルは細砕チャンバーとして容積が5lの円筒形の磁器容器を備えていた。以下の磁器細砕ボールの混合物:0.9kgで直径10mm、1.8kgで直径20mm、及び0.9kgで直径30mmを細砕媒体として使用した。細砕ガラス粉末を次いで単軸でプレス加工し、Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)において温度TSinterにてtSinterの時間で結晶化及び焼結させた。このようにして調製した試験片について色測定及びX線回折分析を行って、結晶相を決定した。このガラスセラミック中の透輝石結晶の含量は、変化形A)及びB)にしたがって調製されたガラスセラミック中の含量よりも高かった。
粉砕の影響
実施例10による組成を有するガラスフリットを、実施例20について指定されるのと同じようにボールミルで、粒子の数に関して20μmの平均粒径まで細砕した。細砕ガラス粉末を次いで単軸でプレス加工し、Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)において870℃の温度で5分の時間結晶化及び焼結させた。このようにして調製された試験片について、結晶相を決定するために次いで色測定(Minolta装置)及びX線回折分析を行った。Li2Si2O5はガラスセラミックの主結晶相を形成した。透輝石及びLi3PO4は副結晶相であった。透輝石含量は実施例10における含量よりも高かった。透輝石の割合の増加はより高い度合いの不透明度をもたらし、これはCR値が69.95の代わりに90.00であったことから読み取ることができた。
ホットプレス
実施例1による組成を有するガラスを白金るつぼ中で1500℃の温度で溶融させ、次いで水中に注ぎ入れた。このようにして調製されたガラスフリットを、Retsch GmbH、Haan、ドイツのKM100振動ミルにより、粒子の数に関して90μm未満の平均粒径まで細砕した。得られたガラス粉末から単軸でプレス加工することにより粉末圧粉体を調製した。粉末圧粉体を、Programat型炉において800℃の温度にて5分の保持時間で結晶化及び緻密焼結させた。結晶化及び緻密焼結させた半加工品を、次いでホットプレスにより25分の保持時間で910℃の温度にてプレス加工した。プレス加工した試験片についてX線構造解析を行い、プレス加工した材料の熱膨張係数並びに二軸強度をISO6872にしたがって決定した。二軸強度は230MPaであった。
切削加工性を試験するために、実施例3、7、10、12、16、18、及び23によるガラス粉末を単軸でプレス加工してブロックを形成して、Programat型炉で緻密焼結させた。次いで対応するホルダーをこのようにして調製されたガラスセラミックブロックに接着し、それらをCAD/CAM細砕ユニット(Sirona InLab)で加工した。加工性を試験するために、二軸試験片をブロックから細砕して作った。
本発明の好ましい実施形態においては、例えば、以下が提供される。
(項1)
主結晶相としてのケイ酸リチウム及びさらなる結晶相としての透輝石を含む、ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミック。
(項2)
53.0〜75.0、特に54.0〜74.0、好ましくは58.0〜70.0重量%のSiO 2 を含む、上記項1に記載のガラスセラミック。
(項3)
10.0〜23.0、特に11.0〜20.0、好ましくは11.0〜16.0重量%のLi 2 Oを含む、上記項1又は2に記載のガラスセラミック。
(項4)
1.0〜13.0、特に1.0〜9.0、好ましくは1.0〜6.0重量%のCaO、及び/又は1.0〜12.0、特に2.0〜9.0、好ましくは2.0〜5.0重量%のMgOを含む、上記項1から3のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項5)
CaO対MgOのモル比が特に0.5〜2.0、好ましくは0.8〜1.2、特に好ましくは約1.0である、上記項4に記載のガラスセラミック。
(項6)
0〜8.0、特に2.0〜6.0、好ましくは3.0〜6.0重量%のP 2 O 5 を含む、上記項1から5のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項7)
0〜10.0、好ましくは0.5〜8.0、特に好ましくは1.0〜5.0重量%のさらなるアルカリ金属酸化物Me I 2 Oを含み、Me I 2 Oが特にNa 2 O、K 2 O、Rb 2 O、及び/又はCs 2 Oから選択される、上記項1から6のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項8)
0〜10.0、好ましくは2.0〜7.0重量%の二価元素のさらなる酸化物Me II Oを含み、Me II Oが特にSrO及び/又はZnOから選択される、上記項1から7のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項9)
0〜10.0、好ましくは0〜8.0、特に好ましくは2.0〜5.0重量%の三価元素の酸化物Me III 2 O 3 を含み、Me III 2 O 3 が特にAl 2 O 3 、B 2 O 3 、Y 2 O 3 、La 2 O 3 、Ga 2 O 3 、及び/又はIn 2 O 3 から選択され、特にAl 2 O 3 である、上記項1から8のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項10)
0〜15.0、好ましくは0〜10.0重量%の四価元素のさらなる酸化物Me IV O 2 を含み、Me IV O 2 が特にZrO 2 、GeO 2 、CeO 2 、TiO 2 、及び/又はSnO 2 から選択される、上記項1から9のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項11)
0〜4.0、好ましくは0〜3.0重量%の五価元素のさらなる酸化物Me V 2 O 5 を含み、Me V 2 O 5 が特にV 2 O 5 、Ta 2 O 5 、及び/又はNb 2 O 5 から選択される、上記項1から10のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項12)
0〜5.0重量%の六価元素の酸化物Me VI O 3 を含み、Me VI O 3 が特にWO 3 及び/又はMoO 3 から選択される、上記項1から11のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項13)
以下の成分:
成分 重量%
SiO 2 53.0〜75.0
Li 2 O 10.0〜23.0
CaO 1.0〜13.0
MgO 1.0〜12.0
P 2 O 5 0〜8.0
Me I 2 O 0〜10.0
Me II O 0〜10.0
Me III 2 O 3 0〜10.0
Me IV O 2 0〜15.0
Me V 2 O 5 0〜4.0
Me VI O 3 0〜5.0
フッ素 0〜3.0
の少なくとも1つ、好ましくはすべてを含む、上記項1から12のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項14)
10.0〜75.0重量%、好ましくは20.0〜75.0重量%のケイ酸リチウム結晶を有する、上記項1から13のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項15)
二ケイ酸リチウム及び/又はメタケイ酸リチウムの形態であるケイ酸リチウムを含む、上記項1から14のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項16)
20.0〜75.0重量%、特に25.0〜60.0重量%の二ケイ酸リチウム結晶を含む、上記項15に記載のガラスセラミック。
(項17)
10.0〜60.0重量%、特に20.0〜50.0重量%のメタケイ酸リチウム結晶を含む、上記項15又は16に記載のガラスセラミック。
(項18)
0.1〜50.0、特に0.1〜25.0、好ましくは0.1〜7.0、非常に特に好ましくは0.1〜5.0重量%の透輝石結晶を有する、上記項1から17のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項19)
半加工品又は歯科用修復物の形態で存在する、上記項1から18のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
(項20)
上記項1から13のいずれか一項に記載のガラスセラミックの成分を含み、特にメタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウム、及び/又は透輝石の結晶化のための核を含む、出発ガラス。
(項21)
細砕粉末又は細砕粉末から作られた成形体の形態で存在する、上記項20に記載の出発ガラス。
(項22)
(a)上記項20に記載の出発ガラスを細砕し、
(b)前記細砕出発ガラスを場合によりプレス加工して粉末圧粉体を形成し、及び
(c)前記細砕出発ガラス又は前記粉末圧粉体に500℃〜1000℃の範囲の温度、5〜120分の時間で少なくとも1回の熱処理を施す、
上記項1から19のいずれか一項に記載のガラスセラミックの調製方法。
(項23)
上記項1から19のいずれか一項に記載のガラスセラミック又は上記項20若しくは21に記載の出発ガラスの、歯科用材料としての、特に歯科用修復物の調製のための使用。
(項24)
前記ガラスセラミックが、所望の歯科用修復物、特にブリッジ、インレー、アンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウン、クラウン、又はシェルの形状を、プレス加工によって又は機械加工によって与えられる、上記項23に記載の歯科用修復物の調製における使用。
Claims (25)
- 主結晶相としてのケイ酸リチウム及びさらなる結晶相としての透輝石を含む、歯科材料として使用するためのケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミックであって、ここで、前記ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミックは、以下の成分:
成分 重量%
SiO2 53.0〜75.0
Li2O 10.0〜23.0
CaO 1.0〜13.0
MgO 1.0〜12.0
を含む、
ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミック。 - 54.0〜74.0、好ましくは58.0〜70.0重量%のSiO2を含む、請求項1に記載のガラスセラミック。
- 11.0〜20.0、好ましくは11.0〜16.0重量%のLi2Oを含む、請求項1又は2に記載のガラスセラミック。
- 1.0〜9.0、好ましくは1.0〜6.0重量%のCaO、及び/又は2.0〜9.0、好ましくは2.0〜5.0重量%のMgOを含む、請求項1から3のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- CaO対MgOのモル比が特に0.5〜2.0、好ましくは0.8〜1.2、特に好ましくは約1.0である、請求項1から4のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 0〜8.0、特に2.0〜6.0、好ましくは3.0〜6.0重量%のP2O5を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 0〜10.0、好ましくは0.5〜8.0、特に好ましくは1.0〜5.0重量%のさらなるアルカリ金属酸化物MeI 2Oを含み、MeI 2OがNa2O、K2O、Rb2O、及びCs2Oから選択される、請求項1から6のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 0〜10.0、好ましくは2.0〜7.0重量%の二価元素のさらなる酸化物MeIIOを含み、MeIIOがSrO及びZnOから選択される、請求項1から7のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 0〜10.0、好ましくは0〜8.0、特に好ましくは2.0〜5.0重量%の三価元素の酸化物MeIII 2O3を含み、MeIII 2O3がAl2O3、B2O3、Y2O3、La2O3、Ga2O3、及びIn2O3から選択される、請求項1から8のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- MeIII 2O3がAl2O3である、請求項9に記載のガラスセラミック。
- 0〜15.0、好ましくは0〜10.0重量%の四価元素のさらなる酸化物MeIVO2を含み、MeIVO2がZrO2、GeO2、CeO2、TiO2、及びSnO2から選択される、請求項1から10のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 0〜4.0、好ましくは0〜3.0重量%の五価元素のさらなる酸化物MeV 2O5を含み、MeV 2O5がV2O5、Ta2O5、及びNb2O5から選択される、請求項1から11のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 0〜5.0重量%の六価元素の酸化物MeVIO3を含み、MeVIO3がWO3及びMoO3から選択される、請求項1から12のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 以下の成分:
成分 重量%
P2O5 0〜8.0
MeI 2O 0〜10.0
MeIIO 0〜10.0
MeIII 2O3 0〜10.0
MeIVO2 0〜15.0
MeV 2O5 0〜4.0
MeVIO3 0〜5.0
フッ素 0〜3.0
を含み、ここで、
MeI 2OがNa2O、K2O、Rb2O及びCs2Oから選択され、
MeIIOがSrO及びZnOから選択され、
MeIII 2O3がAl2O3、B2O3、Y2O3、La2O3、Ga2O3及びIn2O3から選択され、
MeIVO2がZrO2、GeO2、CeO2、TiO2及びSnO2から選択され、
MeV 2O5がV2O5、Ta2O5及びNb2O5から選択され、そして
MeVIO3がWO3及びMoO3から選択される、
請求項1から13のいずれか一項に記載のガラスセラミック。 - 10.0〜75.0重量%、好ましくは20.0〜75.0重量%のケイ酸リチウム結晶を有する、請求項1から14のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 二ケイ酸リチウム及び/又はメタケイ酸リチウムの形態であるケイ酸リチウムを含む、請求項1から15のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 20.0〜75.0重量%、特に25.0〜60.0重量%の二ケイ酸リチウム結晶を含む、請求項16に記載のガラスセラミック。
- 10.0〜60.0重量%、特に20.0〜50.0重量%のメタケイ酸リチウム結晶を含む、請求項16又は17に記載のガラスセラミック。
- 0.1〜50.0、特に0.1〜25.0、好ましくは0.1〜7.0、非常に特に好ましくは0.1〜5.0重量%の透輝石結晶を有する、請求項1から18のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 半加工品又は歯科用修復物の形態で存在する、請求項1から19のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
- 歯科材料として使用するためのガラスセラミックの調製において使用するための出発ガラスであって、請求項1から14のいずれか一項に記載のガラスセラミックの成分を含み、特にメタケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウム、及び/又は透輝石の結晶化のための核を含む、出発ガラス。
- 細砕粉末又は細砕粉末から作られた成形体の形態で存在する、請求項21に記載の出発ガラス。
- (a)請求項21に記載の出発ガラスを細砕し、
(b)前記細砕出発ガラスを場合によりプレス加工して粉末圧粉体を形成し、及び
(c)前記細砕出発ガラス又は前記粉末圧粉体に500℃〜1000℃の範囲の温度、5〜120分の時間で少なくとも1回の熱処理を施す、
請求項1から20のいずれか一項に記載のガラスセラミックの調製方法。 - 請求項1から20のいずれか一項に記載のガラスセラミック又は請求項21又は22に記載の出発ガラスの、歯科用材料としての、特に歯科用修復物の調製のための使用。
- 前記ガラスセラミックが、所望の歯科用修復物、特にブリッジ、インレー、アンレー、ベニア、アバットメント、部分クラウン、クラウン、又はシェルの形状を、プレス加工によって又は機械加工によって与えられる、請求項24に記載の歯科用修復物の調製のための使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP15153296.7 | 2015-01-30 | ||
EP15153296.7A EP3050856B1 (de) | 2015-01-30 | 2015-01-30 | Lithiumsilikat-Diopsid-Glaskeramik |
PCT/EP2016/051204 WO2016120146A1 (de) | 2015-01-30 | 2016-01-21 | Lithiumsilikat-diopsid-glaskeramik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018510109A JP2018510109A (ja) | 2018-04-12 |
JP6812350B2 true JP6812350B2 (ja) | 2021-01-13 |
Family
ID=52432732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017538346A Active JP6812350B2 (ja) | 2015-01-30 | 2016-01-21 | ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミック |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10457589B2 (ja) |
EP (1) | EP3050856B1 (ja) |
JP (1) | JP6812350B2 (ja) |
CN (1) | CN107108341A (ja) |
WO (1) | WO2016120146A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3135641A1 (de) * | 2015-08-25 | 2017-03-01 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-tiefquarz-glaskeramik |
US11414340B2 (en) | 2017-10-02 | 2022-08-16 | Shofu Inc. | High strength lithium silicate glass ceramic having high shielding property |
CN108751721A (zh) * | 2018-06-15 | 2018-11-06 | 中国人民解放军第四军医大学 | 一种用于牙科氧化锆表面饰瓷的二硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法和应用 |
EP3696149A1 (de) | 2019-02-14 | 2020-08-19 | Ivoclar Vivadent AG | Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an cer und zinn |
EP3696150A1 (de) | 2019-02-14 | 2020-08-19 | Ivoclar Vivadent AG | Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an europium |
CN109851226A (zh) * | 2019-03-27 | 2019-06-07 | 苏州新吴光电科技有限公司 | 一种微晶玻璃及其制备方法 |
US11446116B2 (en) | 2020-07-06 | 2022-09-20 | Perfect Fit Crowns, Llc | Method and apparatus for dental crown restorations using prefabricated sleeve-crown pairs |
WO2023122933A1 (zh) * | 2021-12-28 | 2023-07-06 | 海南大学 | 一种透辉石微晶玻璃及其制备方法 |
CN114149179A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-03-08 | 海南大学 | 一种透辉石微晶玻璃及其制备方法 |
Family Cites Families (102)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE513836A (ja) | 1951-08-30 | |||
BE526937A (ja) | 1953-03-05 | 1954-09-03 | ||
US3006775A (en) | 1959-09-23 | 1961-10-31 | Gen Electric | Ceramic material and method of making the same |
US3022180A (en) | 1959-09-23 | 1962-02-20 | Gen Electric | Ceramic material and method of making the same |
BE638175A (ja) | 1962-10-03 | |||
US3252778A (en) | 1964-02-26 | 1966-05-24 | Goodman Philip | Method of making a high strength semicrystalline article |
GB1374605A (en) | 1971-05-24 | 1974-11-20 | Pilkington Brothers Ltd | Method of manufacturing glass ceramic material |
US3816704A (en) | 1972-03-20 | 1974-06-11 | Gen Electric | Surface heating apparatus |
US3977857A (en) | 1973-10-29 | 1976-08-31 | Westinghouse Electric Corporation | Metal bonding glass-ceramic compositions having improved hardness |
DE2451121A1 (de) | 1973-10-31 | 1975-05-07 | Gen Electric | Verfahren zum herstellen von glaskeramiken |
US4155888A (en) | 1978-04-17 | 1979-05-22 | A. E. Staley Manufacturing Company | Water-absorbent starches |
US4189325A (en) | 1979-01-09 | 1980-02-19 | The Board of Regents, State of Florida, University of Florida | Glass-ceramic dental restorations |
US4414282A (en) | 1982-04-19 | 1983-11-08 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Glass ceramic seals to inconel |
US4473653A (en) | 1982-08-16 | 1984-09-25 | Rudoi Boris L | Ballistic-resistant glass-ceramic and method of preparation |
US4515634A (en) | 1983-10-17 | 1985-05-07 | Johnson & Johnson Dental Products Company | Castable glass-ceramic composition useful as dental restorative |
US4560666A (en) | 1983-12-20 | 1985-12-24 | Hoya Corporation | High strength glass-ceramic containing apatite and alkaline earth metal silicate crystals and process for producing the same |
US4480044A (en) | 1984-02-01 | 1984-10-30 | Corning Glass Works | High expansion glass-ceramic articles |
US4671770A (en) | 1984-04-03 | 1987-06-09 | Denpac Corp. | High strength porcelain dental prosthetic device |
US4643982A (en) | 1984-12-05 | 1987-02-17 | Hoya Corporation | High-strength glass-ceramic containing anorthite crystals and process for producing the same |
JPS63139050A (ja) | 1986-11-28 | 1988-06-10 | 住友化学工業株式会社 | ジルコニア質セラミツクス |
JPS63270061A (ja) | 1987-04-28 | 1988-11-08 | Hoya Corp | 無機生体材料の表面改質方法 |
JPH0815669B2 (ja) | 1988-07-06 | 1996-02-21 | 日本電装株式会社 | 抵抗溶接用制御装置 |
US5344456A (en) | 1989-06-06 | 1994-09-06 | Tdk Corporation | Materials for living hard tissue replacements |
US5232878A (en) | 1989-06-30 | 1993-08-03 | Hoya Corporation | Process for producing inorganic biomaterial |
US5066619A (en) | 1989-09-05 | 1991-11-19 | Hoya Corporation | Glass-ceramics, process of producing the glass-ceramics and dental crown using the glass-ceramics |
WO1992014422A1 (en) | 1991-02-20 | 1992-09-03 | Tdk Corporation | Composite bio-implant and production method therefor |
JPH05306141A (ja) | 1991-03-07 | 1993-11-19 | Hoya Corp | ガラスセラミックス及びそれを用いた人工歯冠 |
JP2764771B2 (ja) | 1991-10-01 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US5219799A (en) | 1991-10-07 | 1993-06-15 | Corning Incorporated | Lithium disilicate-containing glass-ceramics some of which are self-glazing |
US5176961A (en) | 1991-10-07 | 1993-01-05 | Corning Incorporated | Colored, textured glass-ceramic articles |
DE4303458C1 (de) | 1993-02-08 | 1994-01-27 | Hinterberger Dr Karl | Brennofen |
SE501333C2 (sv) | 1993-05-27 | 1995-01-16 | Sandvik Ab | Metod för framställning av keramiska tandrestaurationer |
GB9319450D0 (en) | 1993-09-21 | 1995-03-08 | Gec Alsthom Ltd | Transparent glass ceramic |
EP0678489A1 (de) | 1994-04-19 | 1995-10-25 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Alumina-Sinterprodukt und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE4414391C2 (de) | 1994-04-26 | 2001-02-01 | Steag Rtp Systems Gmbh | Verfahren für wellenvektorselektive Pyrometrie in Schnellheizsystemen |
US6818573B2 (en) | 1994-05-31 | 2004-11-16 | Tec Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations and related apparatus |
US5507981A (en) | 1994-05-31 | 1996-04-16 | Tel Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations |
US6485849B2 (en) | 1994-05-31 | 2002-11-26 | Tec Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations and related apparatus |
DE4423794C1 (de) | 1994-07-01 | 1996-02-08 | Ivoclar Ag | Zr0¶2¶-haltige Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
DE19511396A1 (de) | 1995-03-28 | 1996-10-02 | Arnold Wohlwend | Verfahren zur Herstellung eines prothetischen Zahninlays bzw. einer prothetischen Zahnkrone |
US6086977A (en) | 1995-06-21 | 2000-07-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Substrates for magnetic discs, magnetic discs and process for producing magnetic discs |
US5691256A (en) | 1995-12-28 | 1997-11-25 | Yamamura Glass Co., Ltd. | Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate |
ATE186286T1 (de) | 1996-09-05 | 1999-11-15 | Ivoclar Ag | Sinterbare lithiumdisilikat-glaskeramik |
US5968856A (en) | 1996-09-05 | 1999-10-19 | Ivoclar Ag | Sinterable lithium disilicate glass ceramic |
US6027791A (en) * | 1996-09-30 | 2000-02-22 | Kyocera Corporation | Structure for mounting a wiring board |
JP3140702B2 (ja) | 1996-12-20 | 2001-03-05 | 日本碍子株式会社 | 磁気ディスク基板用結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク |
DE19700141A1 (de) | 1997-01-04 | 1998-07-09 | Gero Hochtemperaturoefen Gmbh | Brennofen für die Hochtemperaturbehandlung von Materialien mit niedrigem dielektrischem Verlustfaktor |
JPH10323354A (ja) | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Noritake Co Ltd | 歯科用結晶化陶材フレームコア及びその製造方法 |
US6121175A (en) | 1997-06-12 | 2000-09-19 | Ivoclar Ag | Alkali silicate glass |
JP3426926B2 (ja) | 1997-08-29 | 2003-07-14 | 京セラ株式会社 | 配線基板およびその実装構造 |
ATE234049T1 (de) | 1997-10-31 | 2003-03-15 | Dcs Forschungs & Entwicklungs | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines zahnersatzteiles |
US6420288B2 (en) | 1997-11-10 | 2002-07-16 | Ivoclar Ag | Process for the preparation of shaped translucent lithium disilicate glass ceramic products |
DE19750794A1 (de) | 1997-11-10 | 1999-06-17 | Ivoclar Ag | Verfahren zur Herstellung von geformten transluzenten Lithiumdisilikat-Glaskeramik-Produkten |
JP4187329B2 (ja) | 1997-11-21 | 2008-11-26 | オメガ エンジニアリング,インコーポレイテッド | 片手持ち型の計器を用いた放射率の表示方法及び放射率の表示手段を備える片手持ち型の計器 |
US6252202B1 (en) | 1998-02-10 | 2001-06-26 | Jeneric/Pentron, Inc. | Furnace for heat treatment of dental materials |
US6383645B1 (en) | 1998-03-23 | 2002-05-07 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for an information storage medium |
US5938959A (en) | 1998-04-07 | 1999-08-17 | Testrite Baparoma International Llc | Oven with automatically movable shelf |
US6517623B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-02-11 | Jeneric/Pentron, Inc. | Lithium disilicate glass ceramics |
US20050127544A1 (en) | 1998-06-12 | 2005-06-16 | Dmitri Brodkin | High-strength dental restorations |
US6455451B1 (en) | 1998-12-11 | 2002-09-24 | Jeneric/Pentron, Inc. | Pressable lithium disilicate glass ceramics |
US6802894B2 (en) | 1998-12-11 | 2004-10-12 | Jeneric/Pentron Incorporated | Lithium disilicate glass-ceramics |
US7655586B1 (en) | 2003-05-29 | 2010-02-02 | Pentron Ceramics, Inc. | Dental restorations using nanocrystalline materials and methods of manufacture |
JP2000143290A (ja) | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび結晶化ガラスの製造方法 |
DE19904523B4 (de) | 1999-02-04 | 2012-03-15 | 3M Espe Ag | Verfahren zum dimensionstreuen Sintern von Keramik und keramisches Zahnersatzteil |
DE19916336C2 (de) | 1999-04-12 | 2001-03-01 | Edenta Ag, Au | Rotierendes Werkzeug zur spanabhebenden Bearbeitung von Werkstücken |
JP4337176B2 (ja) | 1999-07-06 | 2009-09-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
EP1132056B1 (en) | 1999-09-20 | 2007-03-21 | Tokuyama Corporation | Method of producing ceramic crowns and production kit used therefor |
US6157004A (en) | 1999-09-29 | 2000-12-05 | Peacock Limited L.C. | Electric heating or preheating furnace particularly for lining cylinders and/or for firing metal-ceramic |
ATE296067T1 (de) | 1999-12-07 | 2005-06-15 | Inocermic Ges Fuer Innovative | Verfahren zur herstellung keramischen zahnersatzes |
EP1249156A4 (en) | 1999-12-28 | 2004-11-17 | Corning Inc | HYBRID METHOD FOR BURNING CERAMIC PRODUCTS |
DE10021528A1 (de) | 2000-05-03 | 2001-11-22 | Pueschner Gmbh & Co Kg | Mikrowellenofen zum Aufheizen von Brenngut |
US6620747B2 (en) | 2000-06-28 | 2003-09-16 | Ivoclar Vivadent Ag | Low temperature-sintering apatite glass ceramic |
US6626986B2 (en) | 2000-06-28 | 2003-09-30 | Ivoclar Vivadent Ag | Low-temperature-sintering potassium-zinc-silicate glass |
DE10031430A1 (de) * | 2000-06-28 | 2002-01-17 | Ivoclar Vivadent Ag | Tiefsinternde Apatit-Glaskeramik |
EP1332194B1 (en) | 2000-10-06 | 2007-01-03 | 3M Innovative Properties Company | Ceramic aggregate particles |
US6441346B1 (en) | 2001-09-04 | 2002-08-27 | Jeneric/Pentron, Inc. | Burn-out furnace |
DE10303124B3 (de) | 2003-01-27 | 2004-10-28 | BEGO Bremer Goldschlägerei Wilh. Herbst GmbH & Co. | Vorrichtung und Verfahren zur Durchführung eines Schmelz- und Gießvorgangs |
JP2005062832A (ja) | 2003-07-28 | 2005-03-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | マイクロレンズ及びマイクロレンズアレイ |
DE10336913C9 (de) | 2003-08-07 | 2019-02-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Verwendung eines Lithiumsilicatmaterials |
US8444756B2 (en) | 2003-08-07 | 2013-05-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate materials |
JP3793532B2 (ja) | 2003-10-14 | 2006-07-05 | ペンタックス株式会社 | CaO−MgO−SiO2系生体活性ガラス及びそれを用いたリン酸カルシウム焼結体 |
US20070023971A1 (en) | 2004-09-01 | 2007-02-01 | Subrata Saha | Method of microwave processing ceramics and microwave hybrid heating system for same |
US7248108B2 (en) | 2004-12-29 | 2007-07-24 | Agere Systems Inc. | Power amplifier employing thin film ferroelectric phase shift element |
ES2489523T3 (es) | 2005-02-08 | 2014-09-02 | Ivoclar Vivadent Ag | Material vitrocerámico de silicato de litio |
DE102005023105B4 (de) | 2005-05-13 | 2012-09-06 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Zahnersatzteils und ein derart hergestelltes Zahnersatzteil |
DE102005023106A1 (de) | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Zahnersatzteils, Zahnersatzteil, Bauteil und Rohling hierzu |
DE102005026269A1 (de) | 2005-06-08 | 2006-12-14 | Ivoclar Vivadent Ag | Dentalglaskeramiken |
WO2007028787A1 (de) | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Ivoclar Vivadent Ag | Keramischer zahnersatz und verfahren zu dessen herstellung |
US20090042166A1 (en) | 2005-12-29 | 2009-02-12 | Craig Bradley D | Abrasive tool including agglomerate particles and an elastomer, and related methods |
DE202007008520U1 (de) | 2007-02-21 | 2008-07-03 | Dekema Dental-Keramiköfen GmbH | Brenngutträger |
US20090258778A1 (en) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
US9241879B2 (en) | 2008-04-11 | 2016-01-26 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
US20100083706A1 (en) | 2008-04-11 | 2010-04-08 | James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
US7892995B2 (en) | 2008-04-11 | 2011-02-22 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances |
US20110076693A1 (en) | 2008-05-16 | 2011-03-31 | The U.S.A. as Represented by the Secretary , Dept.of Health and Human Services (the Gov.) | Method for detection and quantification of plk1 expression and activity |
DE102009060274A1 (de) | 2009-12-23 | 2011-06-30 | DeguDent GmbH, 63457 | Lithiumdisilikat-Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
ES2581452T3 (es) | 2010-04-16 | 2016-09-05 | Ivoclar Vivadent Ag | Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido de metal de transición |
US20120148988A1 (en) | 2010-12-14 | 2012-06-14 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Indirect restoration technology |
WO2012143137A1 (en) | 2011-04-20 | 2012-10-26 | Straumann Holding Ag | Process for preparing a glass-ceramic body |
GB201109812D0 (en) | 2011-06-11 | 2011-07-27 | Univ Sheffield | Ceramic dental restoration material |
ES2568249T3 (es) * | 2011-10-14 | 2016-04-28 | Ivoclar Vivadent Ag | Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido metálico divalente |
ES2930664T3 (es) * | 2014-05-16 | 2022-12-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Uso de vitrocerámica con cuarzo alfa como fase cristalina principal de un material dental |
-
2015
- 2015-01-30 EP EP15153296.7A patent/EP3050856B1/de active Active
-
2016
- 2016-01-21 CN CN201680006097.4A patent/CN107108341A/zh active Pending
- 2016-01-21 US US15/546,455 patent/US10457589B2/en active Active
- 2016-01-21 WO PCT/EP2016/051204 patent/WO2016120146A1/de active Application Filing
- 2016-01-21 JP JP2017538346A patent/JP6812350B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180009701A1 (en) | 2018-01-11 |
EP3050856A1 (de) | 2016-08-03 |
US10457589B2 (en) | 2019-10-29 |
WO2016120146A1 (de) | 2016-08-04 |
JP2018510109A (ja) | 2018-04-12 |
EP3050856B1 (de) | 2019-05-29 |
CN107108341A (zh) | 2017-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6812350B2 (ja) | ケイ酸リチウム−透輝石ガラスセラミック | |
US11091388B2 (en) | Glass ceramic having SiO2 as main crystal phase | |
JP6907192B2 (ja) | ケイ酸リチウム低温型石英ガラスセラミック | |
US9764982B2 (en) | Lithium disilicate apatite glass-ceramic | |
JP6571076B2 (ja) | 遷移金属酸化物を含む二ケイ酸リチウム−アパタイトガラスセラミック | |
JP6470793B2 (ja) | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
US9878939B2 (en) | Lithium silicate glass ceramic and glass with monovalent metal oxide | |
JP6681659B2 (ja) | 二価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびケイ酸リチウムガラス | |
US9402699B2 (en) | Lithium silicate glass ceramic and lithium silicate glass comprising a trivalent metal oxide | |
JP6518063B2 (ja) | 五価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
US10098716B2 (en) | Lithium silicate glass ceramic and glass with hexavalent metal oxide | |
US10590028B2 (en) | Lithium silicate-wollastonite glass ceramic |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190918 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200217 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200515 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200716 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200817 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6812350 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |