JP6811572B2 - 窒素ガス分離方法および窒素ガス分離装置 - Google Patents
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Description
製品ガス中の酸素濃度が所定の許容範囲内に収まるように前記吸着塔間のガスの均圧度を前記吸脱着時間に応じて設定し、前記吸脱着時間が長いほど前記均圧度が低くなるように、当該均圧度を変化させる窒素ガス分離方法である。ここで、均圧度とは、吸着工程が終了して均圧工程に切り替わる直前の吸着塔の圧力に対する、均圧工程が終了して吸着工程に切り替わる直前の吸着塔の圧力の割合である。
また、本発明では、均圧工程において、吸着塔の塔中間部からガスを抜くため、酸素濃度の高いガス以外を脱着工程が終了した吸着塔に移動させて回収することができる。このため、製品ガスの窒素が高純度となり、窒素ガス分離方法を用いた窒素ガス分離装置の性能向上が達成される。
上記均圧工程において、吸着工程が終了した吸着塔の塔中間部とは、吸着塔容積の原料ガス入口側に近い20%と製品ガス出口側に近い20%を除いた範囲となる、吸着塔胴体の連通箇所である。脱着工程が終了した吸着塔の塔中間部とは、吸着塔容積の原料ガス入口側に近い20%と製品ガス出口側に近い20%を除いた範囲となる、吸着塔胴体の連通箇所である。また、吸着工程が終了した吸着塔のガスの一部を放出する原料ガス入口付近とは、原料ガス入口または吸着塔容積の原料ガス入口側に近い20%までの範囲となる、吸着塔胴体の放出箇所である。
(i)の工程は、吸着塔1Aが吸着工程に付され、吸着塔1Bが脱着工程に付される工程である。具体的には、(i)の工程では、制御装置20の制御により、バルブCV2、バルブCV3及びバルブCV6〜CV13が閉止され、バルブCV1、バルブCV4、バルブCV5及びバルブCV14が開放される。そのため、窒素ガス分離装置10に供給される原料ガスは、吸着塔1Aに供給される。なお、原料ガスは、空気圧縮機により圧縮されて加圧下で窒素ガス分離装置10に供給される。吸着塔1Aでは、供給された原料ガスのうち、酸素ガスが吸着され、分離された窒素ガスが製品槽2に送られる。吸着塔1A内では、ガスが上に向かうにつれて酸素ガスが次第に吸着されるため、上側ほど窒素ガス濃度が高くなる濃度分布となる。そして、所定の窒素ガス濃度となった製品ガスが出口ラインL1A’及び製品ガス排出路L3を通して製品槽2に送られる。製品槽2は、分離された窒素ガスを製品ガスとして適宜貯留する一次貯留空間を有する箱体である。一方、吸着塔1Bの一部のガスは原料ガス入口から導出されて入口ラインL1B及びガス放出路L2を通して窒素ガス分離装置10の外部(通常は大気中)に放出される。これにより、吸着した酸素ガスが脱着されて吸着塔1B内の分子篩炭素が再生される。また、吸着塔1Aにて分離された窒素ガスの一部は、出口ラインL1A’、洗浄ラインL14及び出口ラインL1B’を通して吸着塔1Bに送られる。そして、脱着工程に付されている吸着塔1B内を洗浄しながら通過し、入口ラインL1B及びガス放出路L2を通して窒素ガス分離装置10の外部(通常は大気中)に放出される。
(ii)の工程は、吸着塔1Aが第1均圧工程に付され、吸着塔1Bが第2均圧工程に付される工程である。具体的には、制御装置20は、バルブCV1〜CV6、バルブCV8、バルブCV12及びバルブCV14を閉止し、バルブCV7、バルブCV9、バルブCV10、バルブCV11及びバルブCV13を開放する均圧制御を行う。そのため、吸着塔1Aの製品ガス出口と吸着塔1Bの製品ガス出口がバルブCV9を介して連通する出口ラインL1A’、出口連通ラインL9及び出口ラインL1B’と、バルブCV10、バルブCV11及びバルブCV13を介して吸着塔1Aの塔中間部から吸着塔1Bの塔中間部と原料ガス入口の2箇所に分岐して連通するラインL10,L15,L13及び入口ラインL1Bにより、吸着工程の終了した吸着塔1Aのガスが、脱着工程の終了した吸着塔1Bに移動する。さらに、吸着塔1Aの一部ガスは、吸着塔1Aの原料ガス入口からバルブCV7のあるガス放出路L7を介して、窒素ガス分離装置11の外部(通常は大気中)に放出される。なお、バルブCV14については開放する均圧制御を行ってもよい。
(iii)の工程は、吸着塔1Aが脱着工程に付され、吸着塔1Bが吸着工程に付される工程である。具体的には、(iii)の工程では、制御装置20の制御により、バルブCV1、バルブCV4、バルブCV5及びバルブCV7〜CV13が閉止され、バルブCV2、バルブCV3、バルブCV6及びバルブCV14が開放される。そのため、窒素ガス分離装置10に供給される原料ガスは、吸着塔1Bに供給される。吸着塔1Bでは、供給された原料ガスのうち、酸素ガスが吸着され、分離された窒素ガスが製品槽2に送られる。吸着塔1B内では、ガスが上に向かうにつれて酸素ガスが次第に吸着されるため、上側ほど窒素ガス濃度が高くなる濃度分布となる。そして、所定の窒素ガス濃度となった製品ガスが出口ラインL1B’及び製品ガス排出路L3を通して製品槽2に送られる。製品槽2は、分離された窒素ガスを製品ガスとして適宜貯留する一次貯留空間を有する箱体である。一方、吸着塔1Aの一部のガスは原料ガス入口から導出されて入口ラインL1A及びガス放出路L2を通して窒素ガス分離装置10の外部(通常は大気中)に放出される。これにより、吸着した酸素ガスが脱着されて吸着塔1B内の分子篩炭素が再生される。また、吸着塔1Bにて分離された窒素ガスの一部は、出口ラインL1B’、洗浄ラインL14及び出口ラインL1A’を通して吸着塔1Aに送られる。そして、脱着工程に付されている吸着塔1A内を洗浄しながら通過し、入口ラインL1A及びガス放出路L2を通して窒素ガス分離装置10の外部(通常は大気中)に放出される。
(iv)の工程は、吸着塔1Aが第2均圧工程に付され、吸着塔1Bが第1均圧工程に付される工程である。具体的には、制御装置20は、バルブCV1〜CV7及びバルブCV13,CV14を閉止し、バルブCV8〜CV12を開放する均圧制御を行う。そのため、吸着塔1Aの製品ガス出口と吸着塔1Bの製品ガス出口がバルブCV9を介して連通する出口ラインL1A’、出口連通ラインL9及び出口ラインL1B’と、バルブCV10〜CV13を介して吸着塔1Aの塔中間部から吸着塔1Bの塔中間部と原料ガス入口の2箇所に分岐して連通するラインL10,L12,L15及び入口ラインL1Aにより、吸着工程の終了した吸着塔1Bのガスが、脱着工程の終了した吸着塔1Aに移動する。さらに、吸着塔1Bの一部ガスは、吸着塔1Bの原料ガス入口からバルブCV8のあるガス放出路L8を介して、窒素ガス分離装置11の外部(通常は大気中)に放出される。なお、バルブCV14については開放する均圧制御を行ってもよい。
図1に示す装置を使って、製品窒素ガスの流量を1.7L/min(製品窒素発生率=100%),1.1L/min(製品窒素発生率=67%),0.85L/min(製品窒素発生率=50%),0.57L/min(製品窒素発生率=33%)と減らしていき、吸脱着時間を80秒、120秒、160秒、240秒と延長した。また、吸脱着工程中は常に洗浄ガス(製品窒素ガス)による脱着工程に付された吸着塔の洗浄を実施した。そしてそれぞれの状態で、表1に示すように吸着塔間のガスの均圧度を変更し、その時の製品ガス中の酸素濃度と原料空気消費率を測定した。なお、吸着塔間のガスの均圧度は、均圧工程実施時間を変化させることにより変化させた。
図1に示す装置を使って、製品窒素ガスの流量を1.7L/min(製品窒素発生率=100%),1.1L/min(製品窒素発生率=67%),0.85L/min(製品窒素発生率=50%),0.57L/min(製品窒素発生率=33%)と減らしていき、吸脱着時間を80秒、120秒、160秒、240秒と延長した。そしてそれぞれの状態で、均圧度を42%で一定とし、その時の製品ガス中の酸素濃度と原料空気消費率を測定した。
図1に示す装置を使って、製品窒素ガスの流量を1.7L/min(製品窒素発生率=100%),0.57L/min(製品窒素発生率=33%)と減らし、吸脱着時間を80秒、240秒と延長した。そしてそれぞれの状態で、表2に示すように均圧度を変更し、吸脱着時間80秒の場合は吸脱着工程中常に脱着工程に付された吸着塔の洗浄を実施するのに対し、吸脱着時間240秒の場合は吸脱着時間が120秒に到達したところで、図1中のバルブCV14を閉止し洗浄ガス(製品窒素ガス)による洗浄を停止した。その時の製品ガス中の酸素濃度と原料空気消費率を測定した。
1A、1B 吸着塔
2 製品槽
18 流量測定装置
20 制御装置
CV1〜CV14 バルブ
L1 原料ガス供給路
L1A、L1B 入口ライン
L1A’、L1B’ 出口ライン
L2 ガス放出路
L3 製品ガス排出路
L7、L8 ガス放出路
L9、L10、L12、L13、L15 均圧ライン
L14 洗浄ライン
Claims (11)
- 分子篩炭素が充填された2基以上の吸着塔に窒素ガスと酸素ガスとを含む原料ガスを加圧下で供給し、各吸着塔が吸着工程、均圧工程、脱着工程、均圧工程を繰り返し、窒素ガスを製品ガスとして分離する窒素ガス分離方法であって、
製品ガスの流量の減少に応じて、各吸着塔において吸着工程と脱着工程を行う吸脱着時間を延長し、
吸着工程が終了した吸着塔での均圧工程において当該吸着塔の塔中間部からガスを導出して、当該ガスを脱着工程が終了して均圧工程にある吸着塔へ移動させるとともに、前記吸着工程が終了した吸着塔の原料ガス入口付近からガスの一部を放出し、
前記均圧工程において、製品ガス中の酸素濃度が所定の許容範囲内に収まるように前記吸着塔間のガスの均圧度を前記吸脱着時間に応じて設定し、前記吸脱着時間が長いほど前記均圧度が低くなるように、当該均圧度を変化させる窒素ガス分離方法。 - 製品ガス流量瞬時値を検出し、各吸着塔において吸着工程と脱着工程を行う吸脱着時間を当該製品ガス流量瞬時値に応じて決定するとともに、吸着工程及び脱着工程中に検出した製品ガス流量瞬時値に対して、当該製品ガス流量瞬時値に対応する吸脱着時間を経過している場合は、吸着工程及び脱着工程を終了し均圧工程へと移行する請求項1に記載の窒素ガス分離方法。
- 前記吸着工程に付されている吸着塔の製品ガス出口より流出してくるガス中の酸素濃度を検出し、各吸着塔において吸着工程と脱着工程を行う吸脱着時間を当該酸素濃度に応じて決定する請求項1に記載の窒素ガス分離方法。
- 前記吸着工程が終了した吸着塔での均圧工程において当該吸着塔の塔中間部からガスを導出して、当該ガスを前記脱着工程が終了して均圧工程にある吸着塔へ移動させる際に、前記吸着工程が終了した吸着塔の塔中間部から導出されたガスを分流して、前記脱着工程が終了した吸着塔の塔中間部と原料ガス入口又はその付近とから当該吸着塔にガスを導入する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の窒素ガス分離方法。
- 前記脱着工程中の吸着塔へ製品ガスを導入することによる当該吸着塔内の洗浄を、脱着工程中に停止する請求項1〜4のいずれか1項に記載の窒素ガス分離方法。
- 前記吸着塔間のガスの均圧度を変化させる際に、均圧度を20〜50%の範囲とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の窒素ガス分離方法。
- 窒素ガスと酸素ガスとを含む原料ガスから窒素ガスを製品ガスとして分離する窒素ガス分離装置であって、
分子篩炭素が充填された第1の吸着塔と、分子篩炭素が充填された第2の吸着塔と、前記第1の吸着塔及び第2の吸着塔において吸着工程、均圧工程、脱着工程、均圧工程を繰り返し行うための制御を行う制御部と、を有し、
前記制御部は、
製品ガスの流量の減少に応じて、各吸着塔において吸着工程と脱着工程を行う吸脱着時間を延長するよう制御を行い、
吸着工程が終了した吸着塔での均圧工程において当該吸着塔の塔中間部からガスを導出して、当該ガスを脱着工程が終了して均圧工程にある吸着塔へ移動させるとともに、前記吸着工程が終了した吸着塔の原料ガス入口付近からガスの一部を放出する均圧制御を行い、
前記均圧制御において、製品ガス中の酸素濃度が所定の許容範囲内に収まるように前記吸着塔間のガスの均圧度を前記吸脱着時間に応じて設定し、前記吸脱着時間が長いほど前記均圧度が低くなるように、当該均圧度を変化させる窒素ガス分離装置。 - 前記制御部は、製品ガス流量瞬時値を検出し、各吸着塔において吸着工程と脱着工程を行う吸脱着時間を当該製品ガス流量瞬時値に応じて決定するとともに、吸着工程及び脱着工程中に検出した製品ガス流量瞬時値に対して、当該製品ガス流量瞬時値に対応する吸脱着時間を経過している場合は、吸着工程及び脱着工程を終了し均圧工程へと移行するよう制御を行う請求項7に記載の窒素ガス分離装置。
- 前記制御部は、前記吸着工程に付されている吸着塔の製品ガス出口より流出してくるガス中の酸素濃度を検出し、各吸着塔において吸着工程と脱着工程を行う吸脱着時間を当該酸素濃度に応じて決定するよう制御を行う請求項7に記載の窒素ガス分離装置。
- 前記制御部は、前記吸着工程が終了した吸着塔での均圧工程において当該吸着塔の塔中間部からガスを導出して、当該ガスを前記脱着工程が終了して均圧工程にある吸着塔へ移動させる際に、前記吸着工程が終了した吸着塔の塔中間部から導出されたガスを分流して、前記脱着工程が終了した吸着塔の塔中間部と原料ガス入口又はその付近とから当該吸着塔にガスを導入するよう制御を行う請求項7〜9のいずれか1項に記載の窒素ガス分離装置。
- 前記制御部は、前記脱着工程中の吸着塔へ製品ガスを導入することによる当該吸着塔内の洗浄を、脱着工程中に停止するよう制御を行う請求項7〜10のいずれか1項に記載の窒素ガス分離装置。
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