JP6805640B2 - 積層装置、薄化装置、露光装置制御装置、プログラム及び積層体の製造方法 - Google Patents
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Description
特許文献1 特開2007−287802号公報
本発明の第6の態様においては、複数の基板を積層した積層体を生成する積層装置及び積層体の厚みを薄くする薄化装置の少なくとも一方から出力された所定情報が入力される入力段階と、所定情報を用いて露光処理に用いられる制御値を決定する決定段階と、制御値を用いて積層体に露光処理を施す露光段階とを有する積層体の製造方法が提供される。
また、出力部232は、制御装置500を介して、又は、制御装置500を介さずに所定情報を薄化装置300に出力してもよい。この場合、薄化装置300は、積層装置200から出力された所定情報を用いて好適な薄化処理を行うことができる。
Claims (14)
- 第1基板と第2基板とを積層した積層体を生成する積層部と、
前記第1基板、前記第2基板および前記積層体の少なくとも1つの計測値を用いて生成された所定情報を外部の装置に出力する出力部と、を有し、
前記所定情報は、第1基板、第2基板、および、積層体の少なくとも1つの、変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む、積層装置。 - 請求項1に記載された積層装置であって、
前記第1基板、前記第2基板および前記積層体の少なくとも1つを計測する計測部を有し、
前記出力部は、前記計測部から出力された前記計測値と、前記計測部により計測された前記第1基板、前記第2基板および前記積層体の少なくとも1つを特定可能な情報とを用いて前記所定情報を生成する生成部を有する積層装置。 - 請求項2に記載された積層装置であって、
前記情報は、前記第1基板、前記第2基板および前記積層体の少なくとも1つの製造ロット番号である積層装置。 - 請求項2又は請求項3に記載の積層装置であって、
前記生成部は、前記積層体が生成される前に計測された前記計測値、前記積層体を生成しているときに計測された前記計測値及び前記積層体が生成された後に計測された前記計測値のうち、少なくとも2つを用いて前記所定情報を生成する積層装置。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の積層装置であって、
前記出力部は、前記積層体の厚みを薄くする薄化処理をする薄化装置、前記積層体に露光処理をする露光装置、及び、前記積層装置、前記薄化装置及び前記露光装置の少なくとも1つを制御する制御装置のうち少なくとも1つに前記所定情報を出力する積層装置。 - 積層体の厚みを薄くする薄化処理をする薄化処理部と、
薄化処理前の前記積層体の計測値、薄化処理中の前記積層体の計測値および薄化処理後の前記積層体の計測値の少なくとも1つを用いて生成された所定情報を外部の装置に出力する出力部と、を有し、
前記所定情報は、積層体の変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む、薄化装置。 - 請求項6に薄化装置であって、
積層体を生成する積層装置が出力した情報が入力される入力部と、
前記情報を用いて薄化処理に用いられる制御値を決定する決定部とを有する薄化装置。 - 積層装置で互いに積層される第1基板と、第2基板と、前記積層装置で生成される積層体との少なくとも1つの、変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む所定情報が入力される入力部と、
前記所定情報を用いて決定された制御値を用いて前記積層体に露光処理を施す露光部と、を有する露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置であって、
前記入力部は、前記積層装置、前記積層体の厚みを薄くする薄化装置及び前記露光装置の少なくとも1つを制御する制御装置を介して前記所定情報が入力される露光装置。 - 請求項8または9に記載の露光装置であって、
前記決定された前記制御値は、露光範囲の広さに対応する値、計測点数に対応する値の少なくとも一方を含む露光装置。 - 積層装置で互いに積層される第1基板と、第2基板と、前記積層装置で生成される積層体との少なくとも1つの、変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む所定情報が入力される入力部と、
前記入力部に入力された前記所定情報を記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された前記所定情報を露光処理をする露光装置に出力する出力部と、を有する制御装置。 - 積層装置で互いに積層される第1基板と、第2基板と、前記積層装置で生成される積層体との少なくとも1つの、変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む所定情報が入力されるステップと、
前記所定情報を用いて決定された制御値を用いて前記積層体に露光処理を施すステップと、を装置に実行させるプログラム。 - 積層装置で互いに積層される第1基板と、第2基板と、前記積層装置で生成される積層体との少なくとも1つの、変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む所定情報が入力される入力段階と、
前記所定情報を用いて決定された制御値を用いて前記積層体に露光処理を施す露光段階と、を有する積層体の製造方法。 - 積層装置で互いに積層される第1基板と、第2基板と、前記積層装置で生成される積層体との少なくとも1つを計測する計測部と、
前記計測部から出力された計測値を用いて生成された所定情報を、露光処理をする露光装置に出力する出力部とを有し、
前記所定情報は、前記第1基板、前記第2基板、および、前記積層体の少なくとも1つの、変形、撓み、反り、および、歪みの少なくとも1つに関する情報を含む装置。
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JP2009010202A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Canon Inc | 露光方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
JP5505118B2 (ja) * | 2010-06-16 | 2014-05-28 | 株式会社ニコン | 半導体デバイスを製造する方法 |
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