JP6803496B1 - 圧力測定方法及び熱陰極電離真空計 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 title description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 30
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 4
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 description 4
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000575 Ir alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100150279 Caenorhabditis elegans srb-6 gene Proteins 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- -1 such ThO 2 Proteins 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Abstract
Description
Claims (3)
- 真空ポンプが接続されると共に、真空計がそのハウジングを介して装着された真空チャンバ内を予め設定される所定の到達圧力まで真空排気する際に真空チャンバ内の圧力を測定するための圧力測定方法において、
真空計として、ハウジング内に第1フィラメントと第2フィラメントが配置された熱陰極電離真空計を用い、第1フィラメントをその表面が無機化合物で被覆されて仕事関数が3eV以下のもの、及び、第2フィラメントをその表面が金属製で仕事関数が4eV以上のものとし、
真空ポンプにより真空チャンバ内を真空排気することで大気圧力以下の真空チャンバ内にて第1の圧力範囲を第1フィラメントに通電し、圧力測定する第1工程と、
第1の圧力範囲より低い第2の圧力範囲を第1フィラメントから第2フィラメントに切り換えて通電し、圧力測定する第2工程と、
第2の圧力範囲より更に低い第3の圧力範囲を第2フィラメントから第1フィラメントに更に切り換えて通電し、圧力測定する第3工程と、を含むことを特徴とする圧力測定方法。 - ハウジング内にフィラメントと筒状の輪郭を有するグリッドとイオンコレクタとを有するセンサ本体と、
真空雰囲気中でフィラメントに通電してこのフィラメントを点灯させて熱電子を放出させ、フィラメントより高い電位をグリッドに付与して、このグリッド周辺で熱電子と衝突して生じた気体原子、分子の正イオンをイオンコレクタで捕集し、このときイオンコレクタを流れるイオン電流をIi、感度をS、フィラメントとグリッドとの間のエミッション電流をIeとして、Ii=Ie×S×Pの関係式から圧力Pを得る制御コントローラと、を備える熱陰極電離真空計において、
フィラメントは、夫々がグリッドの周囲に配置される、表面が無機化合物で被覆されて仕事関数が3eV以下の第1フィラメントと、表面が金属製で仕事関数が4eV以上の第2フィラメントとで構成され、
制御コントローラに、真空ポンプにより真空チャンバ内を真空排気することで大気圧力以下の真空チャンバ内にて第1の圧力範囲では第1フィラメントに通電し、第1の圧力範囲より低い第2の圧力範囲では第2フィラメントに通電し、第2の圧力範囲より更に低い第3の圧力範囲では第1フィラメントに通電するように第1フィラメントと第2フィラメントとの間で通電を切り換える切換手段が設けられることを特徴とする熱陰極電離真空計。 - 前記制御コントローラに、前記関係式から圧力Pを得るときの感度係数が第1フィラメントと第2フィラメント毎に設定されていることを特徴とする請求項2記載の熱陰極電離真空計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020181634A JP6803496B1 (ja) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 圧力測定方法及び熱陰極電離真空計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020181634A JP6803496B1 (ja) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 圧力測定方法及び熱陰極電離真空計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6803496B1 true JP6803496B1 (ja) | 2020-12-23 |
JP2022072279A JP2022072279A (ja) | 2022-05-17 |
Family
ID=73836127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020181634A Active JP6803496B1 (ja) | 2020-10-29 | 2020-10-29 | 圧力測定方法及び熱陰極電離真空計 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6803496B1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116046226A (zh) * | 2023-01-07 | 2023-05-02 | 常州大学怀德学院 | 一种用于深宽比刻蚀的mems压力传感器 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116046226A (zh) * | 2023-01-07 | 2023-05-02 | 常州大学怀德学院 | 一种用于深宽比刻蚀的mems压力传感器 |
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