JP6798892B2 - プラズマチャンバのための変圧器結合容量性同調回路およびシステム - Google Patents
プラズマチャンバのための変圧器結合容量性同調回路およびシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6798892B2 JP6798892B2 JP2017001256A JP2017001256A JP6798892B2 JP 6798892 B2 JP6798892 B2 JP 6798892B2 JP 2017001256 A JP2017001256 A JP 2017001256A JP 2017001256 A JP2017001256 A JP 2017001256A JP 6798892 B2 JP6798892 B2 JP 6798892B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- terminal
- capacitor
- circuit
- tcct
- switched capacitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000008878 coupling Effects 0.000 title 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 title 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 title 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 254
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 40
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 102000002274 Matrix Metalloproteinases Human genes 0.000 description 1
- 108010000684 Matrix Metalloproteinases Proteins 0.000 description 1
- 230000009118 appropriate response Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 oxides Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
- H01J37/3211—Antennas, e.g. particular shapes of coils
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
- H01J37/32119—Windows
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
- H01J37/32183—Matching circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/48—Networks for connecting several sources or loads, working on the same frequency or frequency band, to a common load or source
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
[適用例1]誘導結合プラズマ(以下、ICPという)チャンバのための変圧器結合容量性同調(以下、TCCTという)回路であって、
第1スイッチドキャパシタ回路および第1インダクタを備えた整合回路であって、前記第1スイッチドキャパシタ回路は、
第1端子と、
第2端子と、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第1キャパシタと、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第2キャパシタと、
前記第1端子と前記第2端子との間の容量値を変更するために、前記第1キャパシタおよび前記第2キャパシタの少なくとも一方と電気的に接続される第1スイッチとを備える整合回路と、
前記整合回路および前記ICPチャンバの誘導コイルと電気的に接続される電力分割器と
を備えるTCCT回路。
[適用例2]適用例1に記載のTCCT回路であって、前記第1キャパシタおよび前記第2キャパシタは、モータ制御された真空キャパシタを含むTCCT回路。
[適用例3]適用例1に記載のTCCT回路であって、前記整合回路は、さらに、第2スイッチドキャパシタ回路を備えるTCCT回路。
[適用例4]適用例1に記載のTCCT回路であって、前記第2スイッチドキャパシタ回路は、
第3端子と、
第4端子と、
前記第3端子および前記第4端子の少なくとも一方に接続された第3キャパシタと、
前記第3端子および前記第4端子の少なくとも一方に接続された第4キャパシタと、
前記第3端子と前記第4端子との間の容量値を変更するために、前記第3キャパシタおよび前記第4キャパシタの少なくとも一方と電気的に接続される第2スイッチと
を備えるTCCT回路。
[適用例5]適用例4に記載のTCCT回路であって、前記第3キャパシタおよび前記第4キャパシタは、モータ制御された真空キャパシタを含むTCCT回路。
[適用例6]適用例4に記載のTCCT回路であって、
前記第1端子は、RF入力信号を受信し、
前記第2端子は、第5キャパシタの第1端子および前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第3端子に接続され、
前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第4端子は、前記第1インダクタの第1端子に接続されているTCCT回路。
[適用例7]適用例1に記載のTCCT回路であって、前記電力分割器は、
前記整合回路の出力に接続された第1端子を有する第3キャパシタと、
前記第3キャパシタの第2端子に接続された第1端子と、第1コイルと電気的に接続される第2端子とを有する第4キャパシタと、
前記整合回路の前記出力に接続された第1端子を有する第5キャパシタと、
前記第5キャパシタの第2端子に接続された第1端子を有する第2インダクタと、
前記第2インダクタの第2端子に接続された第1端子と、第2コイルに接続された第2端子とを有する第6キャパシタと、
前記第1コイルに接続された第7キャパシタと
を備えるTCCT回路。
[適用例8]適用例7に記載のTCCT回路であって、前記第4キャパシタおよび前記第6キャパシタは、スイッチドキャパシタ回路を含むTCCT回路。
[適用例9]適用例1に記載のTCCT回路であって、前記第1スイッチドキャパシタ回路は、
第1端子と、
第2端子であって、
前記第1キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子に接続され、
前記第2キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子に接続され、
前記第1スイッチは、前記第1キャパシタと前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子との間に接続されている第2端子と、
前記第2キャパシタと前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子との間に接続された第2スイッチと
を備えるTCCT回路。
[適用例10]適用例1に記載のTCCT回路であって、前記第1スイッチドキャパシタ回路は、
第1端子と、
第2端子と
を備え、
前記第1キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子に接続され、
前記第2キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子および前記第2端子に接続され、
前記第1スイッチは、前記第1キャパシタと前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子との間に接続されているTCCT回路。
[適用例11]適用例1に記載のTCCT回路であって、さらに、前記容量値を変更するために、前記第1スイッチを第1および第2状態の間で切り替えるよう適合されたコントローラを備えるTCCT回路。
[適用例12]適用例11に記載のTCCT回路であって、前記コントローラは、10Hz〜1kHzの間の速度で前記第1スイッチを切り替えるTCCT回路。
[適用例13]基板を処理するシステムであって、
適用例1の前記TCCT回路と、
前記TCCT回路へのRF入力信号を生成するためのRF発生器と、
前記ICPチャンバ内の基板支持体をバイアスさせるためのRFバイアスを発生するRFバイアス発生器と、
コントローラと
を備え、
前記コントローラは、
第1半サイクル中に、前記第1スイッチドキャパシタ回路から第1容量値を供給すると共に、第1振幅の前記RF入力信号および第2振幅の前記RFバイアスを供給し、
第2半サイクル中に、前記第1スイッチドキャパシタ回路から第2容量値を供給すると共に、第3振幅の前記RF入力信号および第4振幅の前記RFバイアスを供給するよう構成されており、
前記第1容量値は、前記第2容量値と異なり、前記第1振幅は、前記第3振幅と異なり、前記第2振幅は、前記第4振幅と異なるシステム。
[適用例14]適用例13に記載のシステムであって、前記コントローラは、10Hz〜1kHzの間の速度で、前記RF入力信号、前記RFバイアス、および、前記容量値を切り替えるシステム。
Claims (13)
- 誘導結合プラズマチャンバ(以下、ICPチャンバという)のための変圧器結合容量性同調回路(以下、TCCT回路という)であって、
第1スイッチドキャパシタ回路、第2スイッチドキャパシタ回路および第1インダクタを備えた整合回路であって、
前記第1スイッチドキャパシタ回路は、
RF入力に接続された第1端子と、
第2端子と、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第1キャパシタと、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第2キャパシタと、
前記第1端子と前記第2端子との間の容量値を変更するために、前記第1キャパシタおよび前記第2キャパシタの少なくとも一方と電気的に接続される第1スイッチとを備える整合回路と、を備え、
前記第2スイッチドキャパシタ回路は、
前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子に接続された第3端子と、
前記第1インダクタに接続された第4端子と、
前記第3端子および前記第4端子の少なくとも一方に接続された第3キャパシタと、
前記第3端子および前記第4端子の少なくとも一方に接続された第4キャパシタと、
前記第3端子と前記第4端子との間の容量値を変更するために、前記第3キャパシタおよび前記第4キャパシタの少なくとも一方と電気的に接続される第2スイッチとを備え、
当該TCCT回路は、さらに、
第5キャパシタであって、前記第5キャパシタの第1端子は、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子と、前記第2スイッチドキャパシタ回路の第3端子とに接続され、前記第5キャパシタの第2端子は、接地される第5キャパシタと、
前記整合回路および前記ICPチャンバの誘導コイルと電気的に接続される電力分割器と
を備えるTCCT回路。 - 請求項1に記載のTCCT回路であって、前記第1キャパシタおよび前記第2キャパシタは、モータ制御された真空キャパシタを含むTCCT回路。
- 請求項1に記載のTCCT回路であって、前記第3キャパシタおよび前記第4キャパシタは、モータ制御された真空キャパシタを含むTCCT回路。
- 誘導結合プラズマチャンバ(以下、ICPチャンバという)のための変圧器結合容量性同調回路(以下、TCCT回路という)であって、
第1スイッチドキャパシタ回路および第1インダクタを備えた整合回路と、で
前記整合回路および前記ICPチャンバの誘導コイルと電気的に接続される電力分割器と、を備え、
前記第1スイッチドキャパシタ回路は、
第1端子と、
第2端子と、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第1キャパシタと、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第2キャパシタと、
前記第1端子と前記第2端子との間の容量値を変更するために、前記第1キャパシタおよび前記第2キャパシタの少なくとも一方と電気的に接続される第1スイッチと
を備え、
前記電力分割器は、
前記整合回路の出力に接続された第1端子を有する第3キャパシタと、
前記第3キャパシタの第2端子に接続された第1端子と、第1コイルと電気的に接続される第2端子とを有する第4キャパシタと、
前記整合回路の前記出力に接続された第1端子を有する第5キャパシタと、
前記第5キャパシタの第2端子に接続された第1端子を有する第2インダクタと、
前記第2インダクタの第2端子に接続された第1端子と、第2コイルに接続された第2端子とを有する第6キャパシタと、
前記第1コイルに接続された第7キャパシタと
を備えるTCCT回路。 - 請求項4に記載のTCCT回路であって、前記第4キャパシタおよび前記第6キャパシタは、スイッチドキャパシタ回路を含むTCCT回路。
- 請求項1に記載のTCCT回路であって、
前記第1キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子に接続され、
前記第2キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子に接続され、
前記第1スイッチは、前記第1キャパシタと前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子との間に接続され、
前記第1スイッチドキャパシタ回路は、さらに、前記第2キャパシタと前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子との間に接続された第3スイッチと
を備えるTCCT回路。 - 請求項1に記載のTCCT回路であって、
前記第1キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子に接続され、
前記第2キャパシタは、前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第1端子および前記第2端子に接続され、
前記第1スイッチは、前記第1キャパシタと前記第1スイッチドキャパシタ回路の前記第2端子との間に接続されているTCCT回路。 - 請求項1に記載のTCCT回路であって、さらに、前記容量値を変更するために、前記第1スイッチを第1および第2状態の間で切り替えるよう適合されたコントローラを備えるTCCT回路。
- 請求項8に記載のTCCT回路であって、前記コントローラは、10Hz〜1kHzの間の速度で前記第1スイッチを切り替えるTCCT回路。
- 基板を処理するシステムであって、
誘導結合プラズマチャンバ(以下、ICPチャンバという)のための変圧器結合容量性同調回路(以下、TCCT回路という)であって、
第1スイッチドキャパシタ回路および第1インダクタを備えた整合回路と、
前記整合回路および前記ICPチャンバの誘導コイルと電気的に接続される電力分割器と、を備え、
当該前記第1スイッチドキャパシタ回路は、
第1端子と、
第2端子と、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第1キャパシタと、
前記第1端子および前記第2端子の少なくとも一方に接続された第2キャパシタと、
前記第1端子と前記第2端子との間の容量値を変更するために、前記第1キャパシタおよび前記第2キャパシタの少なくとも一方と電気的に接続される第1スイッチとを含み、
前記基板を処理するシステムは、さらに、
前記TCCT回路へのRF入力信号を生成するためのRF発生器と、
前記ICPチャンバ内の基板支持体をバイアスさせるためのRFバイアスを発生するRFバイアス発生器と、
コントローラと
を備え、
前記コントローラは、
第1半サイクル中に、前記第1スイッチドキャパシタ回路から第1容量値を供給すると共に、第1振幅の前記RF入力信号および第2振幅の前記RFバイアスを供給し、
第2半サイクル中に、前記第1スイッチドキャパシタ回路から第2容量値を供給すると共に、第3振幅の前記RF入力信号および第4振幅の前記RFバイアスを供給するよう構成されており、
前記第1容量値は、前記第2容量値と異なり、前記第1振幅は、前記第3振幅と異なり、前記第2振幅は、前記第4振幅と異なるシステム。 - 請求項10に記載のシステムであって、前記コントローラは、10Hz〜1kHzの間の速度で、前記RF入力信号、前記RFバイアス、および、前記容量値を切り替えるシステム。
- 請求項1に記載のTCCT回路であって、
前記第3キャパシタは、前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第4端子に接続され、
前記第4キャパシタは、前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第4端子に接続され、
前記第2スイッチは、前記第3キャパシタと前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第3端子との間に接続され、
前記第2スイッチドキャパシタ回路は、さらに、前記第4キャパシタと前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第3端子との間に接続された第3スイッチを備えるTCCT回路。 - 請求項1に記載のTCCT回路であって、
前記第3キャパシタは、前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第4端子に接続され、
前記第4キャパシタは、前記第4端子および前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第3端子に接続され、
前記第2スイッチは、前記第3キャパシタと前記第2スイッチドキャパシタ回路の前記第3端子との間に接続されるTCCT回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/992,558 | 2016-01-11 | ||
US14/992,558 US9515633B1 (en) | 2016-01-11 | 2016-01-11 | Transformer coupled capacitive tuning circuit with fast impedance switching for plasma etch chambers |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017143059A JP2017143059A (ja) | 2017-08-17 |
JP2017143059A5 JP2017143059A5 (ja) | 2017-09-28 |
JP6798892B2 true JP6798892B2 (ja) | 2020-12-09 |
Family
ID=57400031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017001256A Active JP6798892B2 (ja) | 2016-01-11 | 2017-01-06 | プラズマチャンバのための変圧器結合容量性同調回路およびシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9515633B1 (ja) |
JP (1) | JP6798892B2 (ja) |
KR (1) | KR102688721B1 (ja) |
CN (1) | CN106960776B (ja) |
TW (1) | TWI735503B (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7633231B2 (en) * | 2007-04-23 | 2009-12-15 | Cold Plasma Medical Technologies, Inc. | Harmonic cold plasma device and associated methods |
US9839109B1 (en) * | 2016-05-30 | 2017-12-05 | Applied Materials, Inc. | Dynamic control band for RF plasma current ratio control |
US11430635B2 (en) * | 2018-07-27 | 2022-08-30 | Eagle Harbor Technologies, Inc. | Precise plasma control system |
US11004660B2 (en) | 2018-11-30 | 2021-05-11 | Eagle Harbor Technologies, Inc. | Variable output impedance RF generator |
KR20190038587A (ko) | 2016-08-26 | 2019-04-08 | 누커런트, 인코포레이티드 | 무선 커넥터 시스템 |
US11251019B2 (en) * | 2016-12-15 | 2022-02-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Plasma device |
US10734195B2 (en) | 2017-06-08 | 2020-08-04 | Lam Research Corporation | Systems and methods for transformer coupled plasma pulsing with transformer coupled capacitive tuning switching |
US11615943B2 (en) * | 2017-07-07 | 2023-03-28 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control for passive power distribution of multiple electrode inductive plasma source |
US11651939B2 (en) * | 2017-07-07 | 2023-05-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control system for plasma power delivery system and method of operating same |
EP3616235B1 (en) * | 2017-07-07 | 2024-10-09 | Advanced Energy Industries, Inc. | Inter-period control system for plasma power delivery system and method of operating the same |
JP6863199B2 (ja) | 2017-09-25 | 2021-04-21 | トヨタ自動車株式会社 | プラズマ処理装置 |
KR101981289B1 (ko) * | 2017-10-27 | 2019-08-28 | 주식회사 뉴파워 프라즈마 | 인덕턴스를 이용하여 임피던스 매칭이 가능한 라디칼 발생기 |
US11538666B2 (en) * | 2017-11-15 | 2022-12-27 | Lam Research Corporation | Multi-zone cooling of plasma heated window |
KR102024185B1 (ko) * | 2018-01-11 | 2019-09-23 | (주)이큐글로벌 | 소스 매처 |
US10515781B1 (en) | 2018-06-13 | 2019-12-24 | Lam Research Corporation | Direct drive RF circuit for substrate processing systems |
KR102581650B1 (ko) * | 2018-06-28 | 2023-09-25 | 삼성전자주식회사 | 이산 캐패시턴스 스위칭 회로 및 이를 포함하는 캐패시터 어레이 회로 |
US11532457B2 (en) * | 2018-07-27 | 2022-12-20 | Eagle Harbor Technologies, Inc. | Precise plasma control system |
CN112805920A (zh) | 2018-08-10 | 2021-05-14 | 鹰港科技有限公司 | 用于rf等离子体反应器的等离子体鞘控制 |
CN112534544A (zh) * | 2018-08-30 | 2021-03-19 | 东京毅力科创株式会社 | 控制等离子体加工的系统和方法 |
CN110416053B (zh) | 2019-07-30 | 2021-03-16 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种电感耦合等离子体处理系统 |
CN114424319B (zh) * | 2019-08-19 | 2024-04-30 | 应用材料公司 | 用于在多个频率下控制rf参数的方法及装置 |
KR20230150396A (ko) | 2019-12-24 | 2023-10-30 | 이글 하버 테크놀로지스, 인코포레이티드 | 플라즈마 시스템을 위한 나노초 펄서 rf 절연 |
TW202215481A (zh) * | 2020-03-19 | 2022-04-16 | 美商蘭姆研究公司 | 供給電力以在基板處理系統中產生電漿之直接驅動系統用的射頻基準量測電路 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5401350A (en) | 1993-03-08 | 1995-03-28 | Lsi Logic Corporation | Coil configurations for improved uniformity in inductively coupled plasma systems |
US5589737A (en) | 1994-12-06 | 1996-12-31 | Lam Research Corporation | Plasma processor for large workpieces |
US6054013A (en) | 1996-02-02 | 2000-04-25 | Applied Materials, Inc. | Parallel plate electrode plasma reactor having an inductive antenna and adjustable radial distribution of plasma ion density |
US5770982A (en) | 1996-10-29 | 1998-06-23 | Sematech, Inc. | Self isolating high frequency saturable reactor |
US5952896A (en) | 1997-01-13 | 1999-09-14 | Applied Materials, Inc. | Impedance matching network |
JP2929284B2 (ja) * | 1997-09-10 | 1999-08-03 | 株式会社アドテック | 高周波プラズマ処理装置のためのインピーダンス整合及び電力制御システム |
US6254738B1 (en) * | 1998-03-31 | 2001-07-03 | Applied Materials, Inc. | Use of variable impedance having rotating core to control coil sputter distribution |
US6313584B1 (en) | 1998-09-17 | 2001-11-06 | Tokyo Electron Limited | Electrical impedance matching system and method |
US6879817B1 (en) | 1999-04-16 | 2005-04-12 | Parkervision, Inc. | DC offset, re-radiation, and I/Q solutions using universal frequency translation technology |
US6441555B1 (en) * | 2000-03-31 | 2002-08-27 | Lam Research Corporation | Plasma excitation coil |
US7010286B2 (en) | 2000-04-14 | 2006-03-07 | Parkervision, Inc. | Apparatus, system, and method for down-converting and up-converting electromagnetic signals |
US7480571B2 (en) * | 2002-03-08 | 2009-01-20 | Lam Research Corporation | Apparatus and methods for improving the stability of RF power delivery to a plasma load |
US20040027209A1 (en) * | 2002-08-09 | 2004-02-12 | Applied Materials, Inc. | Fixed matching network with increased match range capabilities |
US7780814B2 (en) | 2005-07-08 | 2010-08-24 | Applied Materials, Inc. | Wafer pre-clean reactor cable termination for selective suppression/reflection of source and bias frequency cross products |
TWI425767B (zh) * | 2005-10-31 | 2014-02-01 | Mks Instr Inc | 無線電頻率電力傳送系統 |
US20080179948A1 (en) * | 2005-10-31 | 2008-07-31 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency power delivery system |
US7811410B2 (en) | 2008-06-19 | 2010-10-12 | Lam Research Corporation | Matching circuit for a complex radio frequency (RF) waveform |
US9305750B2 (en) * | 2009-06-12 | 2016-04-05 | Lam Research Corporation | Adjusting current ratios in inductively coupled plasma processing systems |
US8404598B2 (en) * | 2009-08-07 | 2013-03-26 | Applied Materials, Inc. | Synchronized radio frequency pulsing for plasma etching |
US20110094994A1 (en) | 2009-10-26 | 2011-04-28 | Applied Materials, Inc. | Inductively coupled plasma apparatus |
JP5586286B2 (ja) * | 2010-03-19 | 2014-09-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
TWI455172B (zh) * | 2010-12-30 | 2014-10-01 | Semes Co Ltd | 基板處理設備、電漿阻抗匹配裝置及可變電容器 |
US8416008B2 (en) * | 2011-01-20 | 2013-04-09 | Advanced Energy Industries, Inc. | Impedance-matching network using BJT switches in variable-reactance circuits |
US10056231B2 (en) * | 2011-04-28 | 2018-08-21 | Lam Research Corporation | TCCT match circuit for plasma etch chambers |
US9059678B2 (en) * | 2011-04-28 | 2015-06-16 | Lam Research Corporation | TCCT match circuit for plasma etch chambers |
US8933628B2 (en) | 2011-10-28 | 2015-01-13 | Applied Materials, Inc. | Inductively coupled plasma source with phase control |
US9320126B2 (en) * | 2012-12-17 | 2016-04-19 | Lam Research Corporation | Determining a value of a variable on an RF transmission model |
JP6289860B2 (ja) * | 2012-10-23 | 2018-03-07 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | プラズマエッチングチャンバ用のtcctマッチング回路 |
KR101544975B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2015-08-18 | 주식회사 플라즈마트 | 임피던스 매칭 방법 및 임피던스 매칭 시스템 |
JP6313080B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2018-04-18 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源装置 |
-
2016
- 2016-01-11 US US14/992,558 patent/US9515633B1/en active Active
- 2016-12-29 KR KR1020160182190A patent/KR102688721B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-01-05 CN CN201710006522.6A patent/CN106960776B/zh active Active
- 2017-01-06 JP JP2017001256A patent/JP6798892B2/ja active Active
- 2017-01-09 TW TW106100556A patent/TWI735503B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106960776A (zh) | 2017-07-18 |
TWI735503B (zh) | 2021-08-11 |
CN106960776B (zh) | 2021-06-11 |
JP2017143059A (ja) | 2017-08-17 |
US9515633B1 (en) | 2016-12-06 |
KR20170083959A (ko) | 2017-07-19 |
KR102688721B1 (ko) | 2024-07-25 |
TW201735093A (zh) | 2017-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6798892B2 (ja) | プラズマチャンバのための変圧器結合容量性同調回路およびシステム | |
JP7359789B2 (ja) | 基板処理システムのための直接駆動rf回路 | |
TWI766870B (zh) | 用以調整多電漿處理站範圍之阻抗或功率的結合及分配器 | |
JP7027050B2 (ja) | ギャップ充填時の蒸着およびエッチングのための装置および方法 | |
CN110709961B (zh) | 用变压器耦合电容调谐开关进行变压器耦合等离子体脉冲的系统和方法 | |
KR102537056B1 (ko) | 복수의 출력부 rf 매칭 네트워크의 일 출력부에서 rf 전류 극성을 반전시키기 위한 시스템들 및 방법들 | |
JP7370377B2 (ja) | 基板処理システムにおけるマッチレスプラズマ源のための直接周波数同調 | |
TWI753891B (zh) | 包含線圈及射頻供電法拉第屏蔽之基板處理系統 | |
JP7527361B2 (ja) | 基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路 | |
TWI851593B (zh) | 在基板處理系統中用於無匹配式電漿源的直接頻率調諧 | |
JP2024150639A (ja) | 基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170724 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201014 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201020 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201119 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6798892 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |