JP6289860B2 - プラズマエッチングチャンバ用のtcctマッチング回路 - Google Patents

プラズマエッチングチャンバ用のtcctマッチング回路 Download PDF

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Description

[優先権の主張]
本出願は、2012年12月31日出願の「TCCT Match Circuit for Plasma Etch Chambers」という名称の米国仮特許出願第61/747,919号の優先権を主張する。本出願は、2012年10月23日出願の「Faraday Shield Having Plasma Density Decoupling Structure Between TCP Coiling Zones」という名称の米国特許出願第13/658,652号の一部継続出願としての優先権を主張する。上記の米国特許出願は、2011年8月4日出願の「Internal Faraday Shield Having Distributed Chevron Patterns and Correlated Positioning Relative to External Inner and Outer TCP Coil」という名称の米国特許出願第13/198,683号の一部継続出願としての優先権を主張する。上記の米国特許出願は、2011年4月28日出願の「Internal Faraday Shield Having Distributed Chevron Patterns and Correlated Positioning Relative to External Inner and outer TCP Coil」という名称の米国仮特許出願第61/480,314号の優先権を主張する。これらの出願の開示の全体をあらゆる目的のため参照により本明細書に組み込む。
本発明は、一般に半導体製造に関し、より詳細には、プラズマエッチングチャンバ用のTCCTマッチング回路に関する。
半導体製造において、エッチングプロセスは、一般的に繰り返し行われている。当業者によく知られているように、2つのタイプのエッチングプロセス、すなわちウェットエッチングとドライエッチングとがある。1タイプのドライエッチングは、誘導結合プラズマエッチング装置を使用して行われるプラズマエッチングである。
プラズマは、様々なタイプのラジカル、ならびに正イオンおよび負イオンを含む。様々なラジカル、正イオン、および負イオンの化学反応が、ウェハのフィーチャ、表面、および材料をエッチングするために使用される。エッチングプロセス中、チャンバコイルは、変換器での一次コイルの機能に類似した機能を行い、プラズマは、変換器での二次コイルの機能に類似した機能を行う。
既存の変換器結合型容量同調(TCCT)マッチング設計は、特に磁気抵抗ランダムアクセスメモリ(MRAM)のための製造プロセスを行うために利用されるとき、いくつかの問題がある。そのような問題には、制限されたTCCT範囲、制限された変換器結合型プラズマ(TCP)電力、高いコイル電圧、およびコイルのアーキングが含まれる。その結果、リアクタチャンバのプロセス窓がかなり制限されることがあり、これは、様々なレシピに対処することができないことを意味する。プロセス窓外のレシピが強制的に実行される場合、過電圧および/または過電流インターロックによりレシピが打ち切られることがあり、さらに悪い場合には、TPCコイルのアーキング、ならびにセラミック窓およびセラミッククロスの破壊が生じることがある。さらに、端子電圧のバランスがよく取れていないときには、時間の経過と共に、TCPコイルによる容量結合に起因するセラミック窓のスパッタリングの影響が生じることがある。その結果、セラミック窓から、ウェハ上にその後堆積される粒子のスパッタリングが生じ、これは、歩留まりの損失をもたらすことがある。この効果は、例えば、リアクタの動作寿命を500時間のRF動作に制限することがある。
前述したことに鑑みて、プラズマエッチングチャンバのためのTCCTマッチング回路の改良が必要である。
半導体デバイスの製造において半導体基板および半導体基板の上に形成される層をエッチングする際に使用される装置が開示される。この装置は、エッチングが内部で行われるプラズマ処理チャンバのTCPコイルの動作を制御するTCCTマッチング回路によって画定される。
一実施形態では、RF源とプラズマチャンバの間に結合されたマッチング回路であって、RF源に結合された電力入力回路と、電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを含み、内側コイル入力回路が、インダクタと、インダクタに直列に結合されたコンデンサとを含み、インダクタが、電力入力回路に接続し、コンデンサが、内側コイルの入力端子に接続し、第1のノードが、電力入力回路と内側コイル入力回路との間に画定され、内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路と、外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路とを含むマッチング回路が提供される。
一実施形態では、コンデンサが、約150pF〜約1500pFの間の値を有する可変コンデンサであり、インダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有する。
一実施形態では、外側コイル入力回路が、第2のコンデンサを含む。
一実施形態では、第2のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサである。
一実施形態では、外側コイル出力回路が、第2のコンデンサを含む。一実施形態では、第2のコンデンサが、約80pF〜約120pFの値を有する。別の実施形態では、第2のコンデンサが、約100pF±約1%の値を有する。
一実施形態では、電力入力回路が、RF源に結合された第2のコンデンサと、内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、第2のコンデンサと第2のインダクタとの間に結合された第3のコンデンサと、第2のコンデンサと第3のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、第2のノードと接地点との間に結合された第4のコンデンサとを含む。一実施形態では、第2のコンデンサが、約5pF〜約500pFの定格を有し、第3のコンデンサが、約50pF〜約500pFの定格を有し、第2のインダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有し、第4のコンデンサが、約200pF〜約300pFの値を有する。一実施形態では、第4のコンデンサが、約250pF±約1%の値を有する。
別の実施形態では、RF源に結合された電力入力回路と、電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを含み、内側コイル入力回路が、インダクタと、インダクタに直列に結合された第1のコンデンサとを含み、インダクタが、電力入力回路に接続し、第1のコンデンサが、内側コイルの入力端子に接続し、第1のノードが、電力入力回路と内側コイル入力回路との間に画定され、内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路と、外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路であって、約100pFよりも大きい値を有する第2のコンデンサを含む外側コイル出力回路とを含むマッチング回路が提供される。
一実施形態では、第1のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの間の値を有する可変コンデンサであり、インダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有する。
一実施形態では、外側コイル入力回路が、第3のコンデンサを含む。一実施形態では、第3のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサである。
一実施形態では、電力入力回路が、RF源に結合された第3のコンデンサと、内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、第3のコンデンサと第2のインダクタとの間に結合された第4のコンデンサと、第3のコンデンサと第4のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、第2のノードと接地点との間に結合された第5のコンデンサとを含む。一実施形態では、第3のコンデンサが、約5pF〜約500pFの定格を有し、第4のコンデンサが、約50pF〜約500pFの定格を有し、第2のインダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有し、第5のコンデンサが、約200pF〜約300pFの値を有する。一実施形態では、第5のコンデンサが、約250pF±約1%の値を有する。
別の実施形態では、RF源に結合された電力入力回路と、電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを含み、内側コイル入力回路が、インダクタと、インダクタに直列に結合された第1のコンデンサとを含み、インダクタが、電力入力回路に接続し、第1のコンデンサが、内側コイルの入力端子に接続し、第1のノードが、電力入力回路と内側コイル入力回路との間に画定され、内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路であって、第2のコンデンサを含む外側コイル入力回路と、外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路であって、第3のコンデンサを含む外側コイル出力回路とを含むマッチング回路が提供される。
一実施形態では、第1のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサであり、インダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有する。
一実施形態では、第2のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサである。
一実施形態では、第3のコンデンサが、約80pF〜約120pFの値を有する。一実施形態では、第3のコンデンサが、約100pF±約1%の値を有する。
一実施形態では、電力入力回路が、RF源に結合された第4のコンデンサと、内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、第4のコンデンサと第2のインダクタとの間に結合された第5のコンデンサと、第4のコンデンサと第5のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、第2のノードと接地点との間に結合された第6のコンデンサとを含む。一実施形態では、第4のコンデンサが、約5pF〜約500pFの定格を有し、第5のコンデンサが、約50pF〜約500pFの定格を有し、第2のインダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有し、第6のコンデンサが、約200pF〜約300pFの値を有する。一実施形態では、第6のコンデンサが、約250pF±約1%の値を有する。
本発明、ならびに本発明のさらなる利点は、添付図面に関連して述べる以下の説明を参照することによって最良に理解することができる。
本発明の一実施形態による、エッチング操作のために利用されるプラズマ処理システムを示す図である。
本発明の一実施形態によるプラズマ処理チャンバの断面図である。
本発明の一実施形態による内側コイルと外側コイルを概略的に表す上面図である。
本発明の一実施形態によるTCCTマッチング回路の回路トポロジーを示す概略図である。
本発明の一実施形態によるTCCTマッチング回路の構成要素を示す簡略概略図である。
本発明のいくつかの実施形態による様々な上端部構成に関する、TCP電力に対するイオン密度を示すグラフである。
本発明のいくつかの実施形態によるイオン密度と半径方向距離の関係をそれぞれ示す4つのグラフを示す図である。
半導体デバイスの製造中に半導体基板および半導体基板上に形成された層をエッチングする際に使用するためのTCCTマッチング回路を開示する。TCCTマッチング回路は、エッチングが内部で行われるチャンバの誘電体窓の上に設けられたTCPコイルの動作を制御する。
以下の説明では、本発明を完全に理解できるように、いくつかの具体的な詳細を記載する。しかし、これらの具体的な詳細のいくつかを用いなくても本発明を実施することができることは、当業者には明らかであろう。なお、本発明を不要に曖昧にするのを避けるために、よく知られているプロセス操作および実施の詳細は、詳しくは説明していない。
図1は、本発明の一実施形態による、エッチング操作のために利用されるプラズマ処理システムを示す。このシステムは、チャック104と誘電体窓106とを含むチャンバ102を含む。チャック104は、存在するときには基板を支持するための静電チャックでよい。
さらに、バイアスRF発生器160が図示されており、バイアスRF発生器160は、1つまたは複数の発生器から画定することができる。複数の発生器が提供される場合、様々な周波数を使用して様々な同調特性を実現することができる。バイアスマッチング162が、RF発生器160と、チャック104を画定するアセンブリの導電性プレートとの間に結合される。また、チャック104は、ウェハのチャッキングおよびデチャッキングを可能にするために静電電極を含む。広範には、フィルタおよびDCクランプ電源を提供することができる。チャック104からウェハを持ち上げるための他の制御システムを提供することもできる。図示していないが、ポンプがチャンバ102に接続されて、作動時のプラズマ処理中に、真空制御、およびチャンバからの気体状副生成物の除去を可能にする。
誘電体窓106は、セラミックタイプの材料から画定することができる。半導体エッチングチャンバの条件に耐えることができる限り、他の誘電体材料も可能である。典型的には、チャンバは、約50℃〜約120℃の間の範囲内の高温で動作する。温度は、エッチングプロセス操作および具体的なレシピに依存する。また、チャンバ102は、約1mTorr(mT)〜約100mTorr(mT)の間の範囲内の真空条件で動作する。図示していないが、チャンバ102は、典型的には、クリーンルームまたは製造設備内にいくつかの設備が設置されているときには、それらに結合される。設備は、処理ガス、真空、温度制御、および環境粒子制御を行う配管を含む。
これらの設備は、ターゲット製造設備内に設置されているときには、チャンバ102に結合される。さらに、チャンバ102は、移送チャンバに結合することができ、移送チャンバは、典型的な自動化を使用してロボット工学機構がチャンバ102の内外に半導体ウェハを移送することを可能にする。
図2は、本発明の一実施形態によるプラズマ処理チャンバの断面図である。TCPコイルは、内側コイル(IC)122と外側コイル(OC)120とを含むものとして図示されている。TCPコイルは、誘電体窓106の上に配置および構成されている。
TCCTマッチング回路124は、内側コイルと外側コイルに提供される電力の動的同調を可能にする。TCPコイルは、TCCTマッチング回路124に結合され、TCCTマッチング回路124は、内側コイル120および外側コイル122への接続端子を含む。一実施形態では、TCCTマッチング回路124は、外側コイル120よりも内側コイル122に大きな電力を提供するようにTCPコイルを同調するように構成される。別の実施形態では、TCCTマッチング回路124は、外側コイル120よりも内側コイル122に小さな電力を提供するようにTCPコイルを同調するように構成される。別の実施形態では、内側コイルと外側コイルに提供される電力は、電力の均等な分散を提供するため、および/または基板(すなわち、存在するときにはウェハ)にわたる半径方向分布でのイオン密度を制御するためのものである。さらに別の実施形態では、外側コイルと内側コイルの電力の同調は、チャック104の上に設けられた半導体ウェハに対して行われるエッチングに関して画定された処理パラメータに基づいて調節される。
一実装形態では、可変コンデンサ(以下にさらに詳細に論じる)を有するTCCTマッチング回路は、2つのコイルでの所定の電流比を実現するために自動的に調節されるように構成することができる。本明細書で説明する回路は、所望の電流比の同調および調節を可能にすることを理解されたい。一実施形態では、電流比は、0.1〜1.5の範囲内でよい。一般に、この比は、変換器結合型容量同調(TCCT)比と呼ばれる。しかし、TCCT比の設定は、特定のウェハに関して望まれるプロセスに基づく。
同調可能なTCPコイルを提供することによって、チャンバ102は、行われる処理操作に応じて、TCP電力に対するイオン密度、および半径方向イオン密度プロファイルを制御する融通性を提供することができることを理解すべきである。
さらに、本開示を通してTCCTマッチング回路に言及するが、この用語の使用は、望ましいマッチング機能を実現するため、および同調を可能にするために画定される回路の範囲を限定しないことに留意すべきである。他の実施形態では、本明細書で述べる原理および実施形態によるマッチング回路を、TCCT機能を有さないプラズマ処理システムまたは一定のTCCT比を有するプラズマ処理システムに関する望ましいマッチング機能を実現するために適用することができることが企図される。
図3は、本発明の一実施形態による内側コイル122と外側コイル120を概略的に表す上面図である。示される上面図は、前述したようなコイルへの接続を表し、一例として外側コイル120と内側コイル122を含む。内側コイル122は、内側コイル1(IC1)と内側コイル2(IC2)とを含む。外側コイル120は、外側コイル1(OC1)と外側コイル2(OC2)とを含む。コイルの端部間の接続が、TCCTマッチング回路124内に提供される回路に関して図示されている。図3における図示は、本発明の一実施形態に従って、チャンバ102で利用されるTCPコイルの内側コイルと外側コイルそれぞれに関連付けられる環状巻線を示すためのものである。図示されるように、内側コイルIC1とIC2は、交互に配置された平行な螺旋として配置される。図示されるように、IC1とIC2は、実質的に同じ形状であるが、軸の周りで一方が他方に対して約180度回転された、1対の代数螺旋またはアルキメデスの螺旋に類似する。IC1の入力端子300は、IC2の入力端子302と直径を挟んで対置される。さらに、IC1の出力端子304は、IC2の出力端子306と直径を挟んで対置される。外側コイルOC1とOC2の構成は、内側コイルIC1とIC2の構成と同様であり、交互に配置されて、互いに約180度回転された、実質的に同様の平行な螺旋を画定する。OC1の入力端子308は、OC2の入力端子310と直径を挟んで対置しており、OC1の出力端子312は、OC2の出力端子314と直径を挟んで対置している。一実施形態では、内側コイルと外側コイルの入力端子と出力端子は、実質的に直線上に配置される。他のタイプのコイル構成も可能であることを理解されたい。例えば、ドーム型の構造を成す3次元コイル、および平坦なコイル分布以外の他のコイルタイプ構造を有することが可能である。
上述したように、TCPコイルは、TCCTマッチング回路124に結合され、TCCTマッチング回路124は、内側コイル120および外側コイル122への接続端子を含む。図示されるように、外側コイル120の入力端子308および310は、ノード146に結合され、ノード146はさらに、TCCT入力回路320に接続する。外側コイル120の出力端子は、ノード142に接続され、ノード142は、TCCT出力回路324に接続する。内側コイル122は、その入力端子300および302がノード140に接続され、ノード140はさらに、TCCT入力回路320に接続する。内側コイル122の出力端子304および306はノード148に接続され、ノード148は、TCCT出力回路324に接続する。TCCT入力回路は、RF電源322から電力を受け取る。TCCT出力回路は接地される。
図4Aは、本発明の一実施形態によるTCCTマッチング回路の回路トポロジーを示す概略図である。RF源322が、電力入力回路400に電力を提供する。可変コンデンサC1が、RF源322とノード410の間に結合される。ノード410はコンデンサC2に接続し、コンデンサC2はさらに、接地される。また、ノード410は、可変コンデンサC3に接続し、可変コンデンサC3はさらに、インダクタL5に接続する。インダクタL5は、ノード412に結合される。一実施形態では、電力入力回路400は、説明したように配置された可変コンデンサC1と、ノード410と、接地されたコンデンサC2と、可変コンデンサC3と、インダクタL5とによって画定される。
ノード412は、内側コイル入力回路402と外側コイル入力回路404のそれぞれに結合される。一実施形態では、内側コイル入力回路402は、互いに結合されたインダクタL3と可変コンデンサC5によって画定される。インダクタL3は、ノード412と可変コンデンサC5の間に結合される。可変コンデンサC5はノード140(図3に示される)に接続し、ノード140はさらに、内側コイルの入力端子に接続する。
引き続き図4Aを参照すると、ノード412は、外側コイル入力回路404にも接続する。一実施形態では、外側コイル入力回路404は、ノード412に結合する可変コンデンサC4によって画定される。また、可変コンデンサC4は、ノード146(図3に示される)にも接続し、ノード146はさらに、外側コイルの入力端子に接続する。
さらに、図4Aに、TCCT出力回路324が示されており、TCCT出力回路324は、内側コイル出力回路406と外側コイル出力回路408によって画定される。内側コイル出力回路406はノード148(図3に示される)に接続され、ノード148はさらに、内側コイルの出力端子に接続する。一実施形態では、内側コイル出力回路406は、接地パススルーによって画定される。外側コイル出力回路408はノード142(図3に示される)に接続し、ノード142はさらに、外側コイルの出力端子に接続する。一実施形態では、外側コイル出力回路は、ノード142と接地点との間に結合されたコンデンサC7によって画定される。
一実施形態では、可変コンデンサC1は、約5〜500pFに定格を定められる。一実施形態では、コンデンサC2は、約250pFに定格を定められる。一実施形態では、可変コンデンサC3は、約5〜500pFに定格を定められる。一実施形態では、インダクタL5は、約0.3μHに定格を定められる。一実施形態では、可変コンデンサC4は、約150〜1500pFに定格を定められる。一実施形態では、インダクタL3は、約0.55μHに定格を定められる。一実施形態では、可変コンデンサC5は、約150〜1500pFに定格を定められる。一実施形態では、コンデンサC7は、約100pFに定格を定められる。
TCCTマッチング回路124は、内側コイルと外側コイルに提供される電力を同調するために、可変コンデンサC1、C3、C4、およびC5の動的同調を可能にする。一実施形態では、可変コンデンサC1、C3、C4、およびC5は、チャンバ102のエレクトロニクスパネルに接続された処理制御装置によって制御される。エレクトロニクスパネルは、ネットワーキングシステムに結合させることができ、ネットワーキングシステムが、特定のサイクル中に望まれる処理操作に応じた特定の処理ルーチンを動作させる。したがって、エレクトロニクスパネルは、チャンバ102内で行われるエッチング操作を制御することができ、また、可変コンデンサC1、C3、C4、およびC5の特定の設定を制御することができる。
図4Bは、本発明の一実施形態によるTCCTマッチング回路の構成要素を示す簡略概略図である。図示されるように、電力入力回路400が、RF電源322から電力を受け取る。電力入力回路400は、ノード412に接続する。内側コイル入力回路402は、ノード412と内側コイル122の間に結合される。外側コイル入力回路404は、ノード412と外側コイル120の間に結合される。内側コイル122は内側コイル出力回路406に接続し、内側コイル出力回路406は接地される。外側コイル120は外側コイル出力回路408に接続し、外側コイル出力回路408は接地される。
広く言うと、本明細書で説明するTCCTマッチング回路設計は、電力効率を改良する。これは、設計の最適化により、プラズマに対するコイルでの迷走キャパシタンスの影響を最小限にするためと考えられる。RF電力効率に対する迷走キャパシタンスの影響は、Maolin Longによる「Power Efficiency Oriented Optimal Design of High Density CCP and ICP Sources for Semiconductor RF Plasma Processing Equipment」IEEE Transactions on Plasma Science, Vol.34, No.2, April 2006において研究されて述べられており、上記文献を参照により本明細書に組み込む。
内側コイルに関して、従来のTCCTマッチング回路設計は、出力側インダクタを含んでいる。出力側インダクタは、迷走キャパシタンスを増加させ、したがって電力効率を低下させる。しかし、本出願で提示する実施形態では、内側コイル出力回路は接地パススルーとして構成され、一方、内側コイル入力回路がインダクタL3を含むように構成される。これは、迷走キャパシタンスを減少させ、したがって電力効率を改良し、内側コイルでの電圧をより低くしやすくする。
外側コイルに関して、従来のTCCTマッチング回路設計では、出力側キャパシタンスが比較的低い。しかし、本出願で提示する実施形態では、外側コイル出力回路がより高いキャパシタンスを提供するように構成され、これは、所与の周波数に関してインピーダンスを減少させ、電圧降下をより低くする。
以下に示す表1は、元の上端部RF設計と、本発明の実施形態による修正された上端部RF設計とを比較するRF特徴付けデータを提供する。
表1のデータによって実証されるように、修正された上端部に関する無負荷時(プラズマなし)の内側コイルのQ値は、元の上端部よりも改良される。したがって、RF電力効率も改良される。したがって、無負荷時、TCPコイルの全体的なQ値は、より高いTCCTで改良される。これは、外側コイルがより低いTCCTで優位であるからである。さらに、負荷時(プラズマあり)の全体的なRF電力効率の増加が顕著であることをデータが実証している。
広く言うと、本出願で開示するTCCTマッチング回路は、高い電力効率を実現し、これは、所与の量の電力に関して、より高密度のプラズマが実現されることを意味する。さらに、高い電力効率を実現することによって、開示するTCCTマッチング回路は、コイル端子での電圧レベルを比較的低くできるようにする。コイル端子での電圧をより低くして動作させることができることにより、誘電体窓の表面に当たることがあるイオンの加速が減少される。その結果、誘電体窓からの粒子のスパッタリングによって引き起こされる粒子発生が減少される。以下の表2は、既存のTCCTマッチング回路設計と本発明のいくつかの実施形態によるTCCTマッチング回路設計との端子電圧の比較を示す。
表2のデータは、本発明のいくつかの実施形態によるTCCTマッチング回路と、既存のTCCTマッチング回路との測定RF電圧の比較を示す。電圧V3(図4Aに示される)は、可変コンデンサC5とノード140の間で測定され、内側コイルの入力端子での電圧を示す。電圧V4(やはり図4Aに示される)は、外側コイルの出力端子とコンデンサC7の間で測定され、外側コイルの出力端子での電圧を示す。
表2に示されるデータが実証するように、コイル端子電圧は、本発明の実施形態によるTCCTマッチング回路設計において大幅に減少される。コイル端子電圧が減少されるので、本発明の実施形態は、様々な導体エッチングチャンバに利用することができ、誘電体窓スパッタリングを最小限にし、端子/接地間の過電圧によって引き起こされるコイルのアーキングもなくす。
図5は、本発明のいくつかの実施形態による様々な上端部構成に関する、TCP電力に対するイオン密度を示すグラフである。このグラフでは、様々な上端部構成に関するプロットが、様々な形状で表されている。丸印は、0.1インチのコイル窓ギャップを有する元の上端部のプロットに対応する。実験条件は、以下のようである。TCCT=1、SF6=50sccm、Ar=200sccm、Ch.P=9mT、先端=160mm。菱形印は、本明細書で述べる実施形態によるTCCTマッチング回路を備え、やはり0.1インチのコイル窓ギャップを有する修正された上端部のプロットに対応する。四角印は、0.4インチのコイル窓ギャップを有する元の上端部のプロットに対応する。三角印は、ファラデー遮蔽を有さず、やはり0.4インチのコイル窓ギャップを有する元の上端部のプロットに対応する。
0.1インチコイル窓ギャップを有する元の上端部に関するプロット(丸印で表される)と、0.1インチコイル窓ギャップを有する修正された上端部に関するプロット(菱形印で表される)とを比較すると、修正された上端部RF設計が、元の上端部RF設計よりもかなり高い電力効率を実現することが分かる。すなわち、所与のTCP電力に関して、修正された上端部は、かなり高いイオン密度を実現する。より高い電力効率を実現することによって、従来の上端部TCCTマッチング設計と等量のプラズマ密度を、より低い電力で実現することができる。この機能により、構成要素が受ける電力がより低いので、TCCTマッチング回路の寿命が改良され、また、前述したような誘電体窓のスパッタリングによる粒子発生が減少される。
図6は、イオン密度と半径方向距離の関係をそれぞれ示す4つのグラフを示す。図6の右上に示されるグラフでは、プロットは、0.1インチのコイル窓ギャップを有する元の上端部に適用した場合の、様々なTCCT値に関するプロットが示されている。各プロットに関して、TCP電力=1000Wである。菱形印で示されるプロットは、TCCT=1に対応する。四角印で示されるプロットは、TCCT=0.5に対応する。三角印で示されるプロットは、TCCT=1.3に対応する。
図6の左上に示されるグラフでは、本発明の実施形態によるTCCTマッチング回路を備え、0.1インチのコイル窓ギャップを有する修正された上端部に適用した場合の、様々なTCCT値に関するプロットが示されている。各プロットに関して、TCP電力=1000Wである。菱形印で示されるプロットは、TCCT=1に対応する。四角印で示されるプロットは、TCCT=0.5に対応する。三角印で示されるプロットは、TCCT=1.3に対応する。
図6の右下に示されるグラフでは、0.4インチのコイル窓ギャップを有する元の上端部に適用した場合の、様々なTCCT値に関するプロットが示されている。菱形印で示されるプロットは、TCCT=1に対応する。四角印で示されるプロットは、TCCT=0.5に対応する。三角印で示されるプロットは、TCCT=1.3に対応する。
図6の左下に示されるグラフでは、ファラデー遮蔽を有さず、0.4インチのコイル窓ギャップを有するベースライン上端部に適用した場合の、様々なTCCT値に関するプロットが示されている。菱形印で示されるプロットは、TCCT=1に対応する。四角印で示されるプロットは、TCCT=0.5に対応する。三角印で示されるプロットは、TCCT=1.3に対応する。
図6に示されるプロットは、本発明の実施形態によるTCCTマッチング回路の組込みにより得られた増加したプラズマ密度がウェハにわたってより均一に分散されることを実証している。
本発明をいくつかの実施形態に関して説明してきたが、上記の本明細書を読み、図面を検討すれば、様々な変形、追加、並べ替え、およびそれらの均等形態が当業者に認識されることを理解されたい。したがって、本発明が、本発明の真の精神および範囲内にあるすべてのそのような変更、追加、並べ替え、および均等形態を含むことが意図される。本発明は、以下の適用例としての実施可能である。
[適用例1]RF源とプラズマチャンバの間に結合されたマッチング回路であって、
RF源に結合された電力入力回路と、
前記電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを備え、前記内側コイル入力回路が、インダクタと、前記インダクタに直列に結合されたコンデンサとを含み、前記インダクタが、前記電力入力回路に接続し、前記コンデンサが、前記内側コイルの前記入力端子に接続し、第1のノードが、前記電力入力回路と前記内側コイル入力回路との間に画定され、
前記内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、
前記第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路と、
前記外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路と
を備えるマッチング回路。
[適用例2]前記コンデンサが、約150pF〜約1500pFの間の定格を有する可変コンデンサであり、
前記インダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有する
適用例1に記載のマッチング回路。
[適用例3]前記外側コイル入力回路が、第2のコンデンサを含む適用例1に記載のマッチング回路。
[適用例4]前記第2のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサである適用例3に記載のマッチング回路。
[適用例5]前記外側コイル出力回路が、第2のコンデンサを含む適用例1に記載のマッチング回路。
[適用例6]前記第2のコンデンサが、約80pF〜約120pFの値を有する適用例5に記載のマッチング回路。
[適用例7]前記電力入力回路が、前記RF源に結合された第2のコンデンサと、前記内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、前記第2のコンデンサと前記第2のインダクタとの間に結合された第3のコンデンサと、前記第2のコンデンサと前記第3のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、前記第2のノードと接地点との間に結合された第4のコンデンサとを含む適用例1に記載のマッチング回路。
[適用例8]前記第2のコンデンサが、約5pF〜約500pFの定格を有し、
前記第3のコンデンサが、約50pF〜約500pFの定格を有し、
前記第2のインダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有し、
前記第4のコンデンサが、約200pF〜約300pFの値を有する
適用例7に記載のマッチング回路。
[適用例9]RF源に結合された電力入力回路と、
前記電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを備え、前記内側コイル入力回路が、インダクタと、前記インダクタに直列に結合された第1のコンデンサとを含み、前記インダクタが、前記電力入力回路に接続し、前記第1のコンデンサが、前記内側コイルの前記入力端子に接続し、第1のノードが、前記電力入力回路と前記内側コイル入力回路との間に画定され、
前記内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、
前記第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路と、
前記外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路であって、85pFよりも大きい値を有する第2のコンデンサを含む外側コイル出力回路と
を備えるマッチング回路。
[適用例10]前記第1のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの間の定格を有し、
前記インダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有する
適用例9に記載のマッチング回路。
[適用例11]前記外側コイル入力回路が、第3のコンデンサを含む適用例9に記載のマッチング回路。
[適用例12]前記第3のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサである適用例11に記載のマッチング回路。
[適用例13]前記電力入力回路が、前記RF源に結合された第3のコンデンサと、前記内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、前記第3のコンデンサと前記第2のインダクタとの間に結合された第4のコンデンサと、前記第3のコンデンサと前記第4のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、前記第2のノードと接地点との間に結合された第5のコンデンサとを含む適用例9に記載のマッチング回路。
[適用例14]前記第3のコンデンサが、約5pF〜約500pFの定格を有し、
前記第4のコンデンサが、約50pF〜約500pFの定格を有し、
前記第2のインダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有し、
前記第5のコンデンサが、約200pF〜約300pFの値を有する
適用例13に記載のマッチング回路。
[適用例15]RF源に結合された電力入力回路と、
前記電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを備え、前記内側コイル入力回路が、インダクタと、前記インダクタに直列に結合された第1のコンデンサとを含み、前記インダクタが、前記電力入力回路に接続し、前記第1のコンデンサが、前記内側コイルの前記入力端子に接続し、第1のノードが、前記電力入力回路と前記内側コイル入力回路との間に画定され、
前記内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、
前記第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路であって、第2のコンデンサを含む外側コイル入力回路と、
前記外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路であって、第3のコンデンサを含む外側コイル出力回路と
を備えるマッチング回路。
[適用例16]前記第1のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの間の定格を有し、
前記インダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有する
適用例15に記載のマッチング回路。
[適用例17]前記第2のコンデンサが、約150pF〜約1500pFの定格を有する可変コンデンサである適用例15に記載のマッチング回路。
[適用例18]前記第3のコンデンサが、約80pF〜約120pFの値を有する適用例15に記載のマッチング回路。
[適用例19]前記電力入力回路が、前記RF源に結合された第4のコンデンサと、前記内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、前記第4のコンデンサと前記第2のインダクタとの間に結合された第5のコンデンサと、前記第4のコンデンサと前記第5のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、前記第2のノードと接地点との間に結合された第6のコンデンサとを含む適用例15に記載のマッチング回路。
[適用例20]前記第4のコンデンサが、約5pF〜約500pFの定格を有し、
前記第5のコンデンサが、約50pF〜約500pFの定格を有し、
前記第2のインダクタが、約0.3μH〜約0.5μHの値を有し、
前記第6のコンデンサが、約200pF〜約300pFの値を有する
適用例19に記載のマッチング回路。

Claims (20)

  1. RF源とプラズマチャンバの間に結合されたマッチング回路であって、
    RF源に結合された電力入力回路と、
    前記電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを備え、前記内側コイル入力回路が、インダクタと、前記インダクタに直列に結合されたコンデンサとを含み、前記インダクタが、前記電力入力回路に接続し、前記コンデンサが、前記内側コイルの前記入力端子に接続し、第1のノードが、前記電力入力回路と前記内側コイル入力回路との間に画定され、
    前記内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、
    前記第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路と、
    前記外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路と
    を備えるマッチング回路。
  2. 前記コンデンサが、150pF〜1500pFの間の定格を有する可変コンデンサであり、
    前記インダクタが、0.3μH〜0.5μHの値を有する
    請求項1に記載のマッチング回路。
  3. 前記外側コイル入力回路が、第2のコンデンサを含む請求項1に記載のマッチング回路。
  4. 前記第2のコンデンサが、150pF〜1500pFの定格を有する可変コンデンサである請求項3に記載のマッチング回路。
  5. 前記外側コイル出力回路が、第2のコンデンサを含む請求項1に記載のマッチング回路。
  6. 前記第2のコンデンサが、80pF〜120pFの値を有する請求項5に記載のマッチング回路。
  7. 前記電力入力回路が、前記RF源に結合された第2のコンデンサと、前記内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、前記第2のコンデンサと前記第2のインダクタとの間に結合された第3のコンデンサと、前記第2のコンデンサと前記第3のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、前記第2のノードと接地点との間に結合された第4のコンデンサとを含む請求項1に記載のマッチング回路。
  8. 前記第2のコンデンサが、5pF〜500pFの定格を有し、
    前記第3のコンデンサが、50pF〜500pFの定格を有し、
    前記第2のインダクタが、0.3μH〜0.5μHの値を有し、
    前記第4のコンデンサが、200pF〜300pFの値を有する
    請求項7に記載のマッチング回路。
  9. RF源に結合された電力入力回路と、
    前記電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを備え、前記内側コイル入力回路が、インダクタと、前記インダクタに直列に結合された第1のコンデンサとを含み、前記インダクタが、前記電力入力回路に接続し、前記第1のコンデンサが、前記内側コイルの前記入力端子に接続し、第1のノードが、前記電力入力回路と前記内側コイル入力回路との間に画定され、
    前記内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、
    前記第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路と、
    前記外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路であって、85pFよりも大きい値を有する第2のコンデンサを含む外側コイル出力回路と
    を備えるマッチング回路。
  10. 前記第1のコンデンサが、150pF〜1500pFの間の定格を有し、
    前記インダクタが、0.3μH〜0.5μHの値を有する
    請求項9に記載のマッチング回路。
  11. 前記外側コイル入力回路が、第3のコンデンサを含む請求項9に記載のマッチング回路。
  12. 前記第3のコンデンサが、150pF〜1500pFの定格を有する可変コンデンサである請求項11に記載のマッチング回路。
  13. 前記電力入力回路が、前記RF源に結合された第3のコンデンサと、前記内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、前記第3のコンデンサと前記第2のインダクタとの間に結合された第4のコンデンサと、前記第3のコンデンサと前記第4のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、前記第2のノードと接地点との間に結合された第5のコンデンサとを含む請求項9に記載のマッチング回路。
  14. 前記第3のコンデンサが、5pF〜500pFの定格を有し、
    前記第4のコンデンサが、50pF〜500pFの定格を有し、
    前記第2のインダクタが、0.3μH〜0.5μHの値を有し、
    前記第5のコンデンサが、200pF〜300pFの値を有する
    請求項13に記載のマッチング回路。
  15. RF源に結合された電力入力回路と、
    前記電力入力回路と内側コイルの入力端子との間に結合された内側コイル入力回路とを備え、前記内側コイル入力回路が、インダクタと、前記インダクタに直列に結合された第1のコンデンサとを含み、前記インダクタが、前記電力入力回路に接続し、前記第1のコンデンサが、前記内側コイルの前記入力端子に接続し、第1のノードが、前記電力入力回路と前記内側コイル入力回路との間に画定され、
    前記内側コイルの出力端子と接地点との間に結合された内側コイル出力回路であって、接地への直接のパススルー接続を画定する内側コイル出力回路と、
    前記第1のノードと外側コイルの入力端子との間に結合された外側コイル入力回路であって、第2のコンデンサを含む外側コイル入力回路と、
    前記外側コイルの出力端子と接地点との間に結合された外側コイル出力回路であって、第3のコンデンサを含む外側コイル出力回路と
    を備えるマッチング回路。
  16. 前記第1のコンデンサが、150pF〜1500pFの間の定格を有し、
    前記インダクタが、0.3μH〜0.5μHの値を有する
    請求項15に記載のマッチング回路。
  17. 前記第2のコンデンサが、150pF〜1500pFの定格を有する可変コンデンサである請求項15に記載のマッチング回路。
  18. 前記第3のコンデンサが、80pF〜120pFの値を有する請求項15に記載のマッチング回路。
  19. 前記電力入力回路が、前記RF源に結合された第4のコンデンサと、前記内側コイル入力回路に結合された第2のインダクタと、前記第4のコンデンサと前記第2のインダクタとの間に結合された第5のコンデンサと、前記第4のコンデンサと前記第5のコンデンサとの間に画定された第2のノードと、前記第2のノードと接地点との間に結合された第6のコンデンサとを含む請求項15に記載のマッチング回路。
  20. 前記第4のコンデンサが、5pF〜500pFの定格を有し、
    前記第5のコンデンサが、50pF〜500pFの定格を有し、
    前記第2のインダクタが、0.3μH〜0.5μHの値を有し、
    前記第6のコンデンサが、200pF〜300pFの値を有する
    請求項19に記載のマッチング回路。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10332725B2 (en) * 2015-03-30 2019-06-25 Lam Research Corporation Systems and methods for reversing RF current polarity at one output of a multiple output RF matching network
US9515633B1 (en) * 2016-01-11 2016-12-06 Lam Research Corporation Transformer coupled capacitive tuning circuit with fast impedance switching for plasma etch chambers
CN108271307B (zh) * 2016-12-30 2019-11-05 中微半导体设备(上海)股份有限公司 电感耦合等离子体处理装置与等离子体产生装置
KR102432857B1 (ko) * 2017-09-01 2022-08-16 삼성전자주식회사 플라즈마 처리 장치 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법
JP7002268B2 (ja) * 2017-09-28 2022-01-20 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
CN108519559A (zh) * 2018-03-27 2018-09-11 上海尼诺电子设备有限公司 射频电源检测装置
CN110536533A (zh) * 2018-06-07 2019-12-03 北京北方华创微电子装备有限公司 上电极系统、等离子体腔室及等离子体产生方法
CN113972125B (zh) * 2020-07-24 2022-07-29 江苏鲁汶仪器有限公司 一种等离子体处理系统及其多段式法拉第屏蔽装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5187454A (en) * 1992-01-23 1993-02-16 Applied Materials, Inc. Electronically tuned matching network using predictor-corrector control system
US5907221A (en) * 1995-08-16 1999-05-25 Applied Materials, Inc. Inductively coupled plasma reactor with an inductive coil antenna having independent loops
US6054013A (en) * 1996-02-02 2000-04-25 Applied Materials, Inc. Parallel plate electrode plasma reactor having an inductive antenna and adjustable radial distribution of plasma ion density
KR100383257B1 (ko) * 2000-10-25 2003-05-09 주식회사 래디언테크 반도체 식각 용 진공 챔버의 하부전극 정합장치
KR100396214B1 (ko) * 2001-06-19 2003-09-02 주성엔지니어링(주) 초단파 병렬 공명 안테나를 구비하는 플라즈마 공정장치
US7480571B2 (en) * 2002-03-08 2009-01-20 Lam Research Corporation Apparatus and methods for improving the stability of RF power delivery to a plasma load
US20040027209A1 (en) * 2002-08-09 2004-02-12 Applied Materials, Inc. Fixed matching network with increased match range capabilities
US6876155B2 (en) * 2002-12-31 2005-04-05 Lam Research Corporation Plasma processor apparatus and method, and antenna
CN100362619C (zh) * 2005-08-05 2008-01-16 中微半导体设备(上海)有限公司 真空反应室的射频匹配耦合网络及其配置方法
JP4876641B2 (ja) * 2006-03-09 2012-02-15 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP4882824B2 (ja) * 2007-03-27 2012-02-22 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体
JP5586286B2 (ja) * 2010-03-19 2014-09-10 株式会社日立ハイテクノロジーズ プラズマ処理装置
JP5800532B2 (ja) * 2011-03-03 2015-10-28 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

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