JP6792342B2 - リソグラフィ装置およびその制御方法、ならびに物品の製造方法 - Google Patents
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Description
前記原版を保持して移動する原版保持部と、
前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量を計測する計測部と、
前記原版保持部の駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記パターン形成を行う前に、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたときに前記計測部を用いて前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第1位置ずれ量の計測を行い、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてである場合、前記原版が保持された前記原版保持部を往復移動させる予備駆動と前記計測部を用いた前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第2位置ずれ量の計測とを行うことにより、前記予備駆動に伴う前記第2位置ずれ量の収束値を取得し、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が許容範囲内にない場合、前記原版が初めて前記原版保持部に搭載されたときに取得された前記収束値に前記第2位置ずれ量が収束するまで前記予備駆動と前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測とを行う
ことを特徴とするリソグラフィ装置が提供される。
予備走査駆動は不要と判定された場合、処理は終了する。一方、(1)式を満たさず予備走査駆動が必要と判定された場合は、予備走査駆動を複数回実行し(S202)、その後、原版ずれ検出部17を用いて位置ずれ量(第2位置ずれ量)を計測し(S203)、計測回数mの値をインクリメントする(S204)。そして再度、(1)式を満たすかを検査することにより、位置ずれ量が所定の収束値に収束したか否かを判定する(S205)。(1)式を満たす場合には位置ずれ量が収束したと判断し(S205でYES)、処理を終了する。(1)式を満たさない場合には位置ずれ量はまだ収束していないと判断される(S205でNO)。この場合、計測回数mがセット数Mを超えたか否かを判定する(S206)。計測回数mがセット数Mを超えていなければ、処理はS202に戻る。こうして、S202〜S206のセットが最大Mセット分繰り返されるが、各セットで予備走査駆動が終了する都度、位置ずれ量が計測され、その位置ずれ量が収束値に収束したと判断された時点で、制御部16は予備走査駆動を終了させる。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記のリソグラフィ装置(露光装置やインプリント装置、描画装置など)を用いて基板に原版のパターンを転写する工程と、かかる工程でパターンが転写された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
Claims (13)
- 原版のパターンを基板に転写してパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
前記原版を保持して移動する原版保持部と、
前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量を計測する計測部と、
前記原版保持部の駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記パターン形成を行う前に、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたときに前記計測部を用いて前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第1位置ずれ量の計測を行い、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてである場合、前記原版が保持された前記原版保持部を往復移動させる予備駆動と前記計測部を用いた前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第2位置ずれ量の計測とを行うことにより、前記予備駆動に伴う前記第2位置ずれ量の収束値を取得し、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が許容範囲内にない場合、前記原版が初めて前記原版保持部に搭載されたときに取得された前記収束値に前記第2位置ずれ量が収束するまで前記予備駆動と前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測とを行う
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が前記許容範囲内にある場合、前記予備駆動を行わないことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記原版が前記原版保持部に搭載されるのが初めてではなく、前記第1位置ずれ量が前記許容範囲内にない場合に、
前記予備駆動を複数回実行し、
該複数回の前記予備駆動の完了後に、前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測を行い、該計測された第2位置ずれ量と前記収束値との差が前記許容範囲内に収まったか否かを判断する
ことを含むセットを繰り返すことを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記セットを所定回数繰り返し実行する間に前記差が前記許容範囲内に収まらなかったときは、エラー出力を行うことを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてである場合に、前記予備駆動を、前記第2位置ずれ量が前記収束値に収束するのに十分なものとして予め定められた回数繰り返し実行し、その後に前記計測部により計測された前記第2位置ずれ量を、前記収束値として設定することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記収束値は、前記原版保持部によって保持される原版ごとに設定される値であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置は、前記原版および投影光学系を介して前記基板を露光する露光装置であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記露光装置は、前記投影光学系に対して前記原版と前記基板とを走査することにより前記基板を露光する走査露光装置であり、
前記予備駆動は、走査露光時における前記原版保持部の移動範囲内で往復移動させる予備走査駆動である
ことを特徴とする請求項7に記載のリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置は、前記原版を前記基板の上のインプリント材に接触させることで前記パターン形成を行うインプリント装置であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 基板にパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持して移動する基板保持部と、
前記基板保持部に対する前記基板の位置ずれ量を計測する計測部と、
前記基板保持部の駆動を制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記パターン形成を行う前に、
前記基板が前記基板保持部に搭載されたときに前記計測部を用いて前記基板保持部に対する前記基板の位置ずれ量である第1位置ずれ量の計測を行い、
前記基板が前記基板保持部に搭載されたのが初めてである場合、前記基板が保持された前記基板保持部を往復移動させる予備駆動と前記計測部を用いた前記基板保持部に対する前記基板の位置ずれ量である第2位置ずれ量の計測とを行うことにより、前記予備駆動に伴う前記第2位置ずれ量の収束値を取得し、
前記基板が前記基板保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が許容範囲内にない場合、前記基板が初めて前記基板保持部に搭載されたときに取得された前記収束値に前記第2位置ずれ量が収束するまで前記予備駆動と前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測とを行う
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 原版保持部に保持された原版のパターンを基板に転写してパターン形成を行うリソグラフィ装置の制御方法であって、
前記パターン形成を行う前に、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたときに計測部を用いて前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第1位置ずれ量の計測を行う工程と、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてである場合、前記原版が保持された前記原版保持部を往復移動させる予備駆動と前記計測部を用いた前記原版保持部に対する前記原版の位置ずれ量である第2位置ずれ量の計測とを行うことにより、前記予備駆動に伴う前記第2位置ずれ量の収束値を取得する工程と、
前記原版が前記原版保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が許容範囲内にない場合、前記原版が初めて前記原版保持部に搭載されたときに取得された前記収束値に前記第2位置ずれ量が収束するまで前記予備駆動と前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測とを行う工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。 - 基板保持部に保持された基板にパターン形成を行うリソグラフィ装置の制御方法であって、
前記パターン形成を行う前に、
前記基板が前記基板保持部に搭載されたときに計測部を用いて前記基板保持部に対する前記基板の位置ずれ量である第1位置ずれ量の計測を行う工程と、
前記基板が前記基板保持部に搭載されたのが初めてである場合、前記基板が保持された前記基板保持部を往復移動させる予備駆動と前記計測部を用いた前記基板保持部に対する前記基板の位置ずれ量である第2位置ずれ量の計測とを行うことにより、前記予備駆動に伴う前記第2位置ずれ量の収束値を取得する工程と、
前記基板が前記基板保持部に搭載されたのが初めてではなく、かつ、前記第1位置ずれ量が許容範囲内にない場合、前記基板が初めて前記基板保持部に搭載されたときに取得された前記収束値に前記第2位置ずれ量が収束するまで前記予備駆動と前記計測部を用いた前記第2位置ずれ量の計測とを行う工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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