JP6786090B2 - 放熱板材 - Google Patents

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Description

本発明は、放熱板材に関し、より詳細には、高出力素子のパッケージング用に適切に使用することができる放熱板材であって、アルミナ(Al)のようなセラミック素材を含む素子と接合させても、良好な接合が可能となるように、セラミック素材と類似したレベルの熱膨張係数を有し、同時に高出力素子で発生する多量の熱を迅速に外部に排出できる高い熱伝導度を示し、積層構造を形成する各層間の結合力に非常に優れた放熱板材に関する。
最近、情報通信および国防分野の核心技術としてGaN系化合物半導体を利用した高出力増幅素子が注目を集めている。
このような高出力電子素子や光素子では、一般素子に比べて多くの熱が発生し、このように発生した多量の熱を効率的に排出できるパッケージング技術が必要である。
現在、GaN系化合物半導体を活用した高出力半導体素子には、タングステン(W)/銅(Cu)の2層複合素材、銅(Cu)とモリブデン(Mo)の2相(phase)複合素材、銅(Cu)/銅−モリブデン(Cu−Mo)合金/銅(Cu)の3層複合素材、銅(Cu)/モリブデン(Mo)/銅(Cu)/モリブデン(Mo)/銅(Cu)の多層複合素材のように比較的良好な熱伝導度と低い熱膨張係数を有する金属基複合板材が使用されている。
ところが、これらの複合板材の厚さ方向の熱伝導度は、最大200〜300W/mK程度であり、実際にそれ以上の高い熱伝導度を具現しないので、数百ワット級のパワートランジスターのような素子に適用するための新しい放熱素材あるいは放熱基板が市場で至急に要求されている。また、銅(Cu)/モリブデン(Mo)/銅(Cu)/モリブデン(Mo)/銅(Cu)の多層複合素材の場合、各層間の結合力が低いという問題点もある。
一方、半導体素子を製造する工程には、アルミナ(Al)のようなセラミック素材とのブレージング接合工程が必須である。
このようなブレージング接合工程は、約800℃以上の高温で行われるので、金属複合材基板とセラミック素材間の熱膨張係数の差異によって、ブレージング接合過程で反りや破損が発生し、このような反りや破損は、素子の信頼性に致命的な影響を与えるようになる。
このような要求に対応するために、本発明者らは、下記特許文献2に開示されたように、銅(Cu)からなるカバー層(第1層、第5層)と、銅(Cu)とモリブデン(Mo)の合金からなる中間層(第2層、第4層)と、放熱板材の上下面に平行な方向に沿って銅(Cu)層とモリブデン(Mo)層が交互に繰り返される構造を有するコア層からなる放熱板材を提示したが、この構造の放熱板材は、セラミック素材の熱膨張係数と同一または類似しながらも、400W/mK以上の優れた熱伝導度を示すが、複雑な構造によって製造工程数と工程費用が増加する問題点がある。
これに伴い、より簡単な工程で製造できる構造を有し、かつ、層間結合力に優れ、厚さ方向に優れた熱伝導性を示し、同時に前記厚さ方向に垂直な面方向にセラミック素材と類似したレベルの熱膨張係数を具現することができる放熱板材の開発が要求されている。
日本国特許公開第2016−127197号公報 韓国特許公開第2018−0097021号公報
本発明の課題は、積層構造を有する放熱板材であって、厚さ方向に300W/mK以上の優れた熱伝導性と共に、厚さ方向に垂直な面方向に6×10−6/K〜12×10−6/Kのレベルの熱膨張係数を具現することができ、積層構造を構成する各層間に優れた結合力を示す放熱板材を提供することにある。
前記課題を解決するために、本発明は、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第1層と、前記第1層上に形成され、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第2層と、前記第2層上に形成され、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第3層と、前記第3層上に形成され、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第4層と、前記第4層上に形成され、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第5層とを含み、前記第1層、第3層および第5層とこれらの間に配置される第2層および第4層との間の界面には、コバルト(Co)拡散層が形成されている、放熱板材を提供する。
本発明の一実施形態による放熱板材は、銅(Cu)層と、モリブデン(Mo)層またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)の合金層からなる積層構造において、各層の界面に形成されたコバルト(Co)拡散層により、積層構造を成す各層間の結合力が顕著に向上し、結合力の不足による層間剥離を防止することができる。
また、本発明の一実施形態による放熱板材は、従来の5層積層構造で具現しにくい厚さ方向に300W/mK以上(より好ましくは350W/mK以上)の優れた熱伝導度とともに、6〜12×10−6/Kの範囲の面方向の熱膨張係数を具現することができるので、一般素子に比べて多くの熱が発生する高出力電子素子や光素子のパッケージングに適切に使用することができる。
また、本発明の一実施形態による放熱板材は、垂直に立設される格子構造のような複雑な構造を有することなく、単純な積層構造を有するので、工程が単純であり、製造が容易である。
図1は、放熱板材の厚さ方向と面方向を説明するための図である。 図2は、本発明の一実施形態による放熱板材の積層構造を示す図である。 図3は、本発明の実施例1によって製造した放熱板材の界面に対するEDS(Energy Dispersive X−ray Spectrometer)分析結果を示す図である。 図4は、本発明の実施例2によって製造した 放熱板材の界面に対するEDS(Energy Dispersive X−ray Spectrometer)分析結果を示す図である。
以下、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。しかしながら、次に例示する本発明の実施例は、様々な他の形態に変形され得、本発明の範囲が次に詳述する実施例に限定されるものではない。本発明の実施例は、当業界で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。
本発明による放熱板材は、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第1層と、前記第1層上に形成され、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第2層と、前記第2層上に形成され、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第3層と、前記第3層上に形成され、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第4層と、前記第4層上に形成され、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第5層とを含み、前記第1層、第3層および第5層とこれらの間に配置される第2層および第4層との間の界面には、コバルト(Co)拡散層が形成されていることを特徴とする。
本発明において、「厚さ方向」とは、図1に示されたように、放熱板材の面に垂直な方向を意味し、「面方向」とは、板材の面と平行な方向を意味する。
また、「コバルト(Co)拡散層」とは、界面からコバルト(Co)元素の拡散によって、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第1層、第3層および第5層と、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第2層および第4層の基地に固溶されるか、基地を構成する物質との化合物の形態で存在して、前記各層を構成する物質に含まれたコバルト(Co)含量に比べて分析可能なレベルで実質的にさらに高いコバルト(Co)濃度を示す領域を意味する。
本発明による放熱板材は、銅(Cu)層/モリブデン(Mo)層または合金層/銅(Cu)層/モリブデン(Mo)層または合金層/銅(Cu)層の5層構造を含んでなるが、このように少なくとも5層構造を形成することによって、熱膨張係数が小さいモリブデン(Mo)層または合金層を用いて放熱板材の面方向の熱膨張係数を6〜12×10−6/Kのレベルに維持することができる。また、第1層、第3層および第5層とこれらの間に配置される第2層および第4層との間の界面には、所定の厚さを有するコバルト(Co)拡散層が形成されているので、各層間の接合力を顕著に向上させることができる。
一方、本発明では、5層積層構造について説明しているが、5層構造に加えて、他の層を積層したものを含むものと解すべきである。
前記第1層、第3層および第5層は、銅(Cu)99重量%以上の銅(Cu)はもちろん、多様な合金元素を含む銅(Cu)合金からなり得、銅(Cu)合金の場合、放熱特性を考慮するとき、銅(Cu)を80重量%以上、好ましくは90重量%以上、より好ましくは95重量%以上含むことができる。
前記第2層と第4層は、銅(Cu)5〜40重量%と、残部としてモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上と、不可避な不純物を含む合金からなることができる。ここで、不可避な不純物とは、合金の製造過程で意図せずに含まれた不純物を意味する。このように、銅(Cu)を含む合金を使用する場合、銅(Cu)層との接合力を向上させて、低い熱膨張係数を得ることができると共に、厚さ方向の熱伝導度を向上させることができるのでより好ましい。
特に、前記第2層と第4層がモリブデン(Mo)60〜95重量%、銅(Cu)5〜40重量%を含むモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金からなる場合、コバルト(Co)がモリブデン(Mo)および銅(Cu)との固溶度がかなりあるので、コバルト(Co)拡散層を形成するのに有利であるため、層間結合力を高めるのにより好ましい。銅(Cu)含量が5重量%未満なら、厚さ方向の熱伝導度が減少し得、40重量%超過なら、面方向の熱膨張係数を低く維持しにくいこともあるので、前記範囲に維持することが好ましい。
前記放熱板材全体に含まれるコバルト(Co)の含量は、0.003重量%未満の場合、拡散層が十分に形成されないため、結合力を十分に向上させにくく、コバルト(Co)の含量が5重量%を超過する場合、放熱板材の熱膨張係数や熱伝導度を所望のレベルに調整しにくいので、0.003〜5重量%の範囲を維持することが好ましい。
前記コバルト(Co)拡散層の厚さは、一定以上の結合力向上効果を得るためには、0.05μm以上でなければならないことであり、100μmを超過するように形成するためには、多量のコバルト(Co)または工程時間が必要であるのに対し、追加的な接合力向上効果は大きくないので、100μm以下が好ましい。より好ましいコバルト(Co)拡散層の厚さは、0.1〜10μmである。
前記コバルト(Co)拡散層の内部には、コバルト(Co)が単相で存在するコバルト(Co)層が存在し得るが、コバルト(Co)単相は、製造過程でコバルト(Co)成分が完全に拡散されない状態で残存する層である。
前記コバルト(Co)拡散層は、界面の両側に全部形成されることが、結合力の向上に好ましい。
前記第1層、第3層および第5層の厚さは、10〜1,000μmの範囲を維持する場合、放熱板材の面方向の熱膨張係数を6〜12×10−6/Kの範囲に維持し、厚さ方向の熱伝導度を300W/mK以上に具現することができるので、前記範囲に維持することが好ましい。
放熱板材全体の厚さが1100μmの時、 前記第2層と第4層の厚さは、10μm未満の場合、面方向の熱膨張係数を6〜12×10−6/Kの範囲に維持することが難しく、110μm超過の場合、厚さ方向の熱伝導度を300W/mK以上に具現しにくいので、10〜110μmの範囲に維持することが好ましい、放熱板材全体の厚さが違う場合比率に合わせる、つまり全体の厚さが厚くなる場合前記第2層と第4層の厚さも厚く調節、全体の厚さが薄くなる場合前記第2層と第4層の厚さも薄く調節することが好ましい。
前記放熱板材全体において、モリブデン(Mo)の含量は、3重量%未満の場合、面方向の熱膨張係数を12×10−6/K以下に具現しにくく、モリブデン(Mo)の含量が15重量%超過の場合、厚さ方向の熱伝導度を300W/mK以上に具現しにくいので、3〜15重量%の範囲に維持することが好ましく、5〜10重量%の範囲に維持することが、面方向の熱膨張係数および熱伝導度の側面からより好ましい。
前記放熱板材において、放熱板材の面方向の熱膨張係数は、6×10−6/K〜12×10−6/Kであることが好ましいが、この範囲を外れる場合、セラミック素子との接合または使用時に熱膨張係数の差異による不良が発生しやすいためである。
前記放熱板材において、厚さ方向の熱伝導度は、300W/mK以上であり、より好ましくは350W/mK以上であってもよい。
前記放熱板材において、全体厚さが0.5mm未満であるか、5mmを超過する場合、本発明の構造を有する放熱板材を用いて面方向の熱膨張係数は、6×10−6/K〜12×10−6/Kと厚さ方向の熱伝導度300W/mK以上を具現しにくいので、全体厚さは、前記範囲に維持することが好ましい。
前記放熱板材において、前記第2層および第4層の厚さの合計が全体放熱板材の厚さの5%未満である場合、面方向の熱膨張係数は、6×10−6/K〜12×10−6/Kを具現することが容易でなく、35%超過の場合、厚さ方向の熱伝導度を具現することが容易でないので、5〜35%の範囲を維持することが好ましい。
[実施例]
図2は、本発明の一実施形態による放熱板材の積層構造を示す図である。
[実施例1]
図2に示されたように、本発明の実施例による放熱板材1は、銅(Cu)からなる第1層10と、前記第1層10の上面に形成され、モリブデン(Mo)−銅(Cu)合金からなる第2層20と、前記第2層20の上面に形成され、銅(Cu)からなる第3層30と、前記第3層30の上面に形成され、モリブデン(Mo)−銅(Cu)合金からなる第4層40と、前記第4層40の上面に形成され、銅(Cu)からなる第5層50とを含んでなる。
また、前記第1層10と第3層30との間に配置される第2層20との界面には、第1コバルト拡散層60(図面に斜線で表示された領域)が形成されており、前記第3層10と第5層50との間に配置される第4層40との界面には、第2コバルト拡散層70(図面に斜線で表示された領域)がそれぞれ形成されている。
このうち、前記第1層10と第5層50は、銅(Cu)を99重量%以上含有する銅(Cu)からなり、その厚さは、それぞれ約200μmであり、前記第3層30は、銅(Cu)を99重量%以上含有する銅(Cu)からなり、その厚さは、約600μmであり、前記第2層20および第4層40は、それぞれモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金(Mo:80重量%、Cu:20重量%)からなり、その厚さは、約50μmである。前記第1コバルト拡散層60と第2コバルト拡散層70の厚さは、約0.5〜5μmであり、拡散層の厚さは、工程温度、冷却速度のような工程条件によって変わる。
以上のような構造を有する放熱板材1は、次のような工程によって製造した。
まず、厚さ約200μm、長さ100mm、幅100mmの銅(Cu)板材を第1層10および第5層50の素材として準備し、厚さ約600μm、長さ100mm、幅100mmの銅(Cu)板材を第3層30の素材として準備し、厚さ約50μm、長さ100mm、幅100mmのモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金板材(Mo:80重量%、Cu:20重量%)を第2層20および第4層40の素材として用意した。
次に、前記第1層10、第3層30、第5層50の表面にスパッタリング方法を使用してコバルト(Co)層を約500nmの厚さで蒸着して形成した。
前記コバルト(Co)層が形成された部分が前記第2層20および第4層40と接するようにして、図2のような構造を有するように積層した後、加圧焼結方式で接合した。この際、焼結温度は、900℃とし、焼結後には、焼結炉内で冷却させる方式で冷却した。
このように製造された放熱板材の界面状態をEDSを使用して成分マッピッグを行い、その結果は、図3に示された通りである。
図3から確認されるように、銅(Cu)からなる銅(Cu)層とモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層との間の界面には、加圧焼結前に形成したコバルト(Co)層の少なくとも一部が銅(Cu)層とモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層の両方へ、拡散された状態であることが分かる。このように形成されたコバルト(Co)拡散層は、銅(Cu)層とモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層間の結合力を向上させることができる。
本発明の実施例によって製造された放熱板材の層間接合力を評価するために、加圧焼結した放熱板材から縦10mm、横20mmの試験片を切り出し、その両面に銀ロウ(BAg−8)でボルト(M16)の背面を接合し(800℃の水素雰囲気)、万能材料試験機(AG−300kNX)を使用して、ボルトの足部の両側をチャッキングして、界面が破断されるまで一定の変形速度(1mm/min)でテストした結果、接合強度は、352MPaであることがわかった。これにより、本発明の実施例によって製造された放熱板材は、層間結合力に非常に優れていることが確認された。
[実施例2]
蒸着したコバルト(Co)層の厚さが約70nmという点以外は、実施例1と同様の製法で放熱板材を製造した。接合強度は、344MPaであった。前記第1コバルト拡散層60と第2コバルト拡散層70の厚さは、約1μmであった。
このように製造された放熱板材の界面状態をEDSで成分のマッピングを行った結果は図4のようだった。 図4に示されたように、実施例2も実施例1と同様に、銅(Cu)層とモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層との界面には、加圧焼結の前に形成したコバルト(Co)の少なくとも一部が銅(Cu)層とモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層との両側に拡散されていることが確認された。
[実施例3]
前記第1層10と第5層50の厚さが、それぞれ約400μmであり、前記第3層30の厚さが、約200μmである点以外は、実施例2と同様の製法で放熱板材を製造した。接合強度は、321MPaであった。
[実施例4]
前記第2層20および第4層40が、モリブデン(Mo)を99重量%以上含有するモリブデン(Mo)からなり、その厚さが約50μmである点以外は、実施例3と同様の製法で放熱板材を製造した。接合強度は、267MPaであった。
[比較例1]
コバルト(Co)層を蒸着しなかったという点以外は、実施例3と同様の製法で放熱板材を製造した。接合強度は、294MPaであった。
[比較例2]
コバルト(Co)層を蒸着しなかったという点以外は、実施例4と同様の製法で放熱板材を製造した。接合強度は、139MPaであった。
また、本発明の実施例によって製造された放熱板材には、銅(Cu)層とモリブデン(Mo)層、または、モリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層間の熱膨張係数の差異によって、銅(Cu)層に強い引張応力が作用する膨張状態になり、このように引張応力が作用した状態で放熱板材を接合する工程(例えば、ブレージング工程)で放熱板材の温度が上昇すると、応力が解消されることによって、既にある程度膨張した状態の銅(Cu)が追加に膨張する比率を減らして、全体的に放熱板材の熱膨張係数を低減するようになる。また、本発明によって製造された放熱板材において熱伝導度に不利なモリブデン(Mo)−銅(Cu)合金層の厚さは、それぞれ約50μmと薄くなっているので、厚さ方向の熱伝導度を高めることができるようになる。
一方、本発明の実施例では、それぞれの板材を準備した後、加圧焼結方式を使用して接合したが、メッキ、蒸着法のような多様な方法で本発明による積層構造を具現することができることはもちろんである。
下記の表1は、本発明の実施例によって製造した放熱板材の面方向の熱膨張係数と、厚さ方向の熱伝導度(放熱板材において任意の10ヶ所を選定して測定した結果を平均した値)を測定した結果と、純銅板材の熱伝導度と熱膨張係数を測定した結果とを比較したものである。なお、熱伝導度は、LFA467(NETZSCH社製)とDSC200F3( NETZSCH社製 )を使用し、測定温度25℃、窒素雰囲気で実施した。また、熱膨張係数は、DIL402C(NETZSCH社製)を使用し、室温から800℃の温度範囲で測定した。その際の昇温速度は毎分10℃、アルゴン雰囲気で実施した。
前記表1から確認されるように、本発明の実施例による放熱板材の熱膨張係数は、面方向において、6.4〜10.9×10−6/Kの熱膨張係数を示すが、このような値は、半導体素子や光素子のような電子素子を構成するセラミック物質の熱膨張係数と類似しているので、これら素子の実装時に発生する反りや剥離の問題を減らすことができる。
また、本発明の実施例による放熱板材の厚さ方向の熱伝導度は、銅だけからなる板材(比較例)に近接するほど優れていて、発熱量が多い高出力素子の放熱板材用にも適用され得るレベルである。
1 放熱板材
10 第1層(Cu層)
20 第2層(Mo−Cu層)もしくは(Mo層)
30 第3層(Cu層)
40 第4層(Mo−Cu層)もしくは(Mo層)
50 第5層(Cu層)
60 第1コバルト拡散層
70 第2コバルト拡散層

Claims (14)

  1. 銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第1層と、
    前記第1層上に形成され、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第2層と、
    前記第2層上に形成され、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第3層と、
    前記第3層上に形成され、モリブデン(Mo)、またはモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種以上の成分と銅(Cu)を含む合金からなる第4層と、
    前記第4層上に形成され、銅(Cu)または銅(Cu)合金からなる第5層と、を含み、
    前記第1層、第3層および第5層とこれらの間に配置される第2層および第4層との間の界面には、所定の厚さを有するコバルト(Co)拡散層が形成されている、放熱板材。
  2. 前記第1層、第3層および第5層の銅(Cu)含量は、99重量%以上である、請求項1に記載の放熱板材。
  3. 前記第2層および第4層の合金は、銅(Cu)5〜40重量%と、残部としてモリブデン(Mo)、タングステン(W)、カーボン(C)、クロム(Cr)、チタン(Ti)およびベリリウム(Be)の中から選択された1種と、不可避な不純物を含む、請求項1に記載の放熱板材。
  4. 前記放熱板材全体に含まれるコバルト(Co)の含量は、0.003〜5重量%である、請求項1に記載の放熱板材。
  5. 前記第2層と第4層は、銅(Cu)5〜40重量%と、残部としてモリブデン(Mo)と、不可避な不純物を含む合金からなる、請求項1に記載の放熱板材。
  6. 前記放熱板材全体において、モリブデン(Mo)の含量は、3〜15重量%である、請求項5に記載の放熱板材。
  7. 前記コバルト(Co)拡散層の厚さは、50nm〜100μmである、請求項1に記載の放熱板材。
  8. 前記コバルト(Co)拡散層は、前記界面の両側に全部形成される、請求項1に記載の放熱板材。
  9. 前記第2層および第4層の厚さは、10〜110μmである、請求項1に記載の放熱板材。
  10. 前記放熱板材の全体厚さは、0.5〜5mmである、請求項1に記載の放熱板材。
  11. 前記第2層および第4層の厚さの合計は、全体放熱板材の厚さの5〜35%を占める、請求項10に記載の放熱板材。
  12. 前記放熱板材の面方向の熱膨張係数が6〜12×10−6/Kである、請求項1に記載の放熱板材。
  13. 前記放熱板材の厚さ方向の熱伝導度は、200W/mK以上である、請求項12に記載の放熱板材。
  14. 前記放熱板材の厚さ方向の熱伝導度は、300W/mK以上である、請求項12に記載の放熱板材。
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