JP6783098B2 - CHA-type zeolite containing phosphorus and its production method - Google Patents

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Description

本発明は、ＣＨＡ型ゼオライト及びその製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、触媒又はその基材に適した、ＣＨＡ型ゼオライトおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to CHA-type zeolite and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to CHA-type zeolites and methods for producing them, which are suitable for the catalyst or its base material.

ＣＨＡ型ゼオライトは、オレフィン製造用触媒や選択的接触還元触媒などの各種の触媒用途として利用されている結晶性アルミノシリケートである。ＣＨＡ型ゼオライトは天然にも存在するゼオライトであるが、より触媒用途に適したＣＨＡ型ゼオライトとして、各種の構造指向剤を使用した合成ＣＨＡ型ゼオライトが報告されている。
例えば、オレフィン製造用触媒に適したＣＨＡ型ゼオライトとして、Ｎ−メチル−３−キヌクリジノール、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−アダマンタンアンモニウム、又はＮ，Ｎ，Ｎ−トリメチルエキソアミノノルボルネンなどを構造指向剤として得られたＣＨＡ型ゼオライトが報告されている（特許文献１）。
また、ＣＨＡ型ゼオライトに銅を含有させ、窒素酸化物の選択還元触媒として使用することが検討されている（特許文献２）。銅を含有するＣＨＡ型ゼオライトを直接得るため、銅アミン錯体を構造指向剤として使用して得られたＣＨＡ型ゼオライトが報告されている（非特許文献１）。
これら以外にも、オレフィン合成用触媒や脱硝触媒として使用されるＣＨＡ型ゼオライトを目的として、ベンジルトリメチルアンモニウム（非特許文献２）、コリン（非特許文献３）、テトラエチルホスホニウム（非特許文献４）、又はテトラエチルアンモニウム（非特許文献５）を構造指向剤として得られた合成ＣＨＡ型ゼオライトが報告されている。 CHA-type zeolite is a crystalline aluminosilicate used for various catalyst applications such as olefin production catalysts and selective catalytic reduction catalysts. CHA-type zeolite is a naturally occurring zeolite, but synthetic CHA-type zeolite using various structure-directing agents has been reported as a CHA-type zeolite more suitable for catalytic use.
For example, as CHA-type zeolite suitable for catalysts for olefin production, N-methyl-3-quinucridinol, N, N, N-trimethyl-1-adamantanammonium, N, N, N-trimethylexoaminonorbornene and the like are structurally oriented. CHA-type zeolite obtained as an agent has been reported (Patent Document 1).
Further, it has been studied to add copper to CHA-type zeolite and use it as a selective reduction catalyst for nitrogen oxides (Patent Document 2). A CHA-type zeolite obtained by using a copper amine complex as a structure-directing agent has been reported in order to directly obtain a CHA-type zeolite containing copper (Non-Patent Document 1).
In addition to these, benzyltrimethylammonium (Non-Patent Document 2), choline (Non-Patent Document 3), tetraethylphosphonium (Non-Patent Document 4), for the purpose of CHA-type zeolite used as a catalyst for olefin synthesis and a denitration catalyst, Alternatively, a synthetic CHA-type zeolite obtained by using tetraethylammonium (Non-Patent Document 5) as a structure-directing agent has been reported.

ところで、クラッキング触媒や選択還元触媒として使用される場合、ＣＨＡ型ゼオライトは高温での劣化が生じにくいこと、いわゆる耐熱性が必要とされる。しかしながら、これまで報告されてきたＣＨＡ型ゼオライトは、９００℃程度の温度での劣化が進行しやすく、これらの触媒用途で使用する際に十分な耐熱性を有していなかった。 By the way, when used as a cracking catalyst or a selective reduction catalyst, CHA-type zeolite is required to be less likely to deteriorate at high temperatures, that is, so-called heat resistance. However, the CHA-type zeolites that have been reported so far tend to deteriorate at a temperature of about 900 ° C. and do not have sufficient heat resistance when used in these catalyst applications.

米国特許４，５４４，５３８号明細書U.S. Pat. No. 4,544,538 米国特許７，６０１，６６２号明細書U.S. Pat. No. 7,601,662

Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，Ｖｏｌ４７，ｐ．９７８９（２０１１）Chem. Common. , Vol47, p. 9789 (2011) Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，ｐ．９０８（２００８）Chem. Lett. , P. 908 (2008) Ｅｎｖ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈ．，ｐ．１３９０９（２０１４）Env. Sci. Tech. , P. 13909 (2014) 第３０回ゼオライト研究発表会講演予稿集Ａ１１Proceedings of the 30th Zeolite Research Presentation Lecture A11 Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，Ｖｏｌ５１，ｐ．９９６５（２０１５）Chem. Common. , Vol51, p. 9965 (2015)

本発明は、従来のＣＨＡ型ゼオライトと比較して、より耐熱性が高いＣＨＡ型ゼオライトを提供することを目的とする。さらに、本発明は、このようなＣＨＡ型ゼオライトの製造方法を提供することを別の目的とする。 An object of the present invention is to provide a CHA-type zeolite having higher heat resistance as compared with a conventional CHA-type zeolite. Furthermore, another object of the present invention is to provide a method for producing such a CHA-type zeolite.

本発明者等は、ＣＨＡ型ゼオライト及びその製造方法について検討した。その結果、ＣＨＡ型ゼオライトにリンを含有させることで、ＣＨＡ型ゼオライトの耐熱性が向上することを見出した。さらに、このようなＣＨＡ型ゼオライトは、結晶化とリン修飾とを同時に行う製造方法により得られることを見出した。
すなわち、本発明の要旨は、以下のとおりである。
［１］リンを含み、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１６以上５０以下であることを特徴とするＣＨＡ型ゼオライト。
［２］リンを細孔内に含む上記［１］に記載のＣＨＡ型ゼオライト。
［３］骨格金属に対するリンのモル比が０．００１以上、０．０５以下である上記［１］又は［２］に記載のＣＨＡ型ゼオライト。
［４］アルミナに対するシリカのモル比が２０以上、３５以下である上記［１］乃至［３］のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライト。
［５］結晶粒径が４μｍ以下である上記［１］乃至［４］のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライト。
［６］銅又は鉄の少なくともいずれかを含む上記［１］乃至［５］のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライト。
［７］シリカ源、アルミナ源、ホスホニウムカチオン源及びアンモニウムカチオン源を含む組成物を結晶化する結晶化工程、を有する、上記［１］乃至［６］のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライトの製造方法。
［８］上記ホスホニウムカチオン源が、テトラエチルホスホニウム水酸化物、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムクロライド及びテトラエチルホスホニウムヨージドからなる群の少なくとも１種である上記［７］に記載の製造方法。
［９］上記アンモニウムカチオン源が、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウム水酸化物、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムブロミド、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムクロライド及びトリメチル−１−アダマンタンアンモニウムヨージドからなる群の少なくとも１種である上記［７］又は［８］に記載の製造方法。
［１０］上記シリカ源及びアルミナ源が結晶性アルミノシリケートである上記［７］乃至［９］のいずれかに記載の製造方法。
［１１］上記シリカ源及びアルミナ源がＦＡＵ型ゼオライトである上記［７］乃至［１０］のいずれかに記載の製造方法。
［１２］上記［１］乃至［６］のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライトを含む触媒。
［１３］上記［１］乃至［６］のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライトを使用する窒素酸化物の還元方法。 The present inventors have studied CHA-type zeolite and a method for producing the same. As a result, it was found that the heat resistance of the CHA-type zeolite is improved by adding phosphorus to the CHA-type zeolite. Furthermore, they have found that such a CHA-type zeolite can be obtained by a production method in which crystallization and phosphorus modification are performed at the same time.
That is, the gist of the present invention is as follows.
[1] A CHA-type zeolite containing phosphorus and having a SiO 2 / Al 2 O 3 ratio of 16 or more and 50 or less.
[2] The CHA-type zeolite according to the above [1], which contains phosphorus in the pores.
[3] The CHA-type zeolite according to the above [1] or [2], wherein the molar ratio of phosphorus to the skeleton metal is 0.001 or more and 0.05 or less.
[4] The CHA-type zeolite according to any one of [1] to [3] above, wherein the molar ratio of silica to alumina is 20 or more and 35 or less.
[5] The CHA-type zeolite according to any one of the above [1] to [4], which has a crystal grain size of 4 μm or less.
[6] The CHA-type zeolite according to any one of the above [1] to [5], which contains at least one of copper and iron.
[7] Production of the CHA-type zeolite according to any one of the above [1] to [6], which comprises a crystallization step of crystallizing a composition containing a silica source, an alumina source, a phosphonium cation source and an ammonium cation source. Method.
[8] The production method according to the above [7], wherein the phosphonium cation source is at least one of the group consisting of tetraethylphosphonium hydroxide, tetraethylphosphonium bromide, tetraethylphosphonium chloride and tetraethylphosphonium iodide.
[9] The ammonium cation source is at least one of the group consisting of trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide, trimethyl-1-adamantanammonium bromide, trimethyl-1-adamantanammonium chloride and trimethyl-1-adamantanammonium iodide. The production method according to the above [7] or [8].
[10] The production method according to any one of [7] to [9] above, wherein the silica source and the alumina source are crystalline aluminosilicates.
[11] The production method according to any one of the above [7] to [10], wherein the silica source and the alumina source are FAU-type zeolites.
[12] The catalyst containing the CHA-type zeolite according to any one of the above [1] to [6].
[13] The method for reducing nitrogen oxides using the CHA-type zeolite according to any one of [1] to [6] above.

本発明により、従来のＣＨＡ型ゼオライトと比較して、より耐熱性が高いＣＨＡ型ゼオライトを提供することができる。さらに、本発明は、このようなＣＨＡ型ゼオライトの製造方法を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a CHA-type zeolite having higher heat resistance as compared with a conventional CHA-type zeolite. Furthermore, the present invention can provide a method for producing such a CHA-type zeolite.

実施例１のＣＨＡ型ゼオライトのＸＲＤパターンXRD pattern of CHA-type zeolite of Example 1 実施例１のＣＨＡ型ゼオライトの走査型電子顕微鏡観察図Scanning electron microscope observation diagram of CHA-type zeolite of Example 1 実施例５のＣＨＡ型ゼオライトの走査型電子顕微鏡観察図Scanning electron microscope observation diagram of CHA-type zeolite of Example 5 測定例１のＸＲＤパターン［ａ）実施例５、ｂ）比較例１］XRD pattern of measurement example 1 [a) Example 5, b) Comparative example 1]

以下、本発明のチャバザイト（ＣＨＡ）型ゼオライトについて詳細に説明する。
本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、ＣＨＡ構造を有する。ＣＨＡ構造は、国際ゼオライト学会で定義される構造コードでＣＨＡ構造となる結晶構造である。
また、本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、ＣＨＡ構造を有する結晶性アルミノシリケートである。結晶性アルミノシリケートは、骨格金属（以下、「Ｔ原子」ともいう。）がアルミニウム（Ａｌ）とケイ素（Ｓｉ）であり、これら骨格金属と酸素（Ｏ）のネットワークからなる骨格構造を有する。したがって、ＣＨＡ構造を有し、なおかつ、そのＴ原子にリン（Ｐ）を含むネットワークからなる骨格構造を有するアルミノフォスフェートやシリコアルミノホスフェートなどのゼオライト類縁物質と、本発明のＣＨＡ型ゼオライトとは異なる。 Hereinafter, the chabazite (CHA) type zeolite of the present invention will be described in detail.
The CHA-type zeolite of the present invention has a CHA structure. The CHA structure is a crystal structure having a CHA structure with a structure code defined by the International Zeolite Society.
Further, the CHA-type zeolite of the present invention is a crystalline aluminosilicate having a CHA structure. Crystalline aluminosilicate has a skeletal structure in which the skeletal metal (hereinafter, also referred to as "T atom") is aluminum (Al) and silicon (Si), and is composed of a network of these skeletal metals and oxygen (O). Therefore, zeolite-related substances such as aluminophosphate and silicoaluminophosphate having a CHA structure and a skeletal structure consisting of a network containing phosphorus (P) in the T atom are different from the CHA-type zeolite of the present invention. ..

本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、リンを含有する。これにより、骨格アルミニウムの熱安定性が向上し、本発明のＣＨＡ型ゼオライトの耐熱性が高くなる。これに加え、ゼオライト酸点がリンで修飾され、特定の触媒反応に適した酸強度が得られる。リンは、ＣＨＡ型ゼオライトの骨格以外、すなわち、Ｔ原子以外として含有される。例えば、リンはＣＨＡ型ゼオライトの細孔内に含有されており、特に酸素８員環細孔内に含有されていることが好ましい。上記のとおり、本発明のＣＨＡ型ゼオライトにおけるＴ原子とは、その骨格に含まれる金属、即ち、Ｓｉ及びＡｌである。
本発明のＣＨＡ型ゼオライトに含有されるリンの状態は、リン酸イオン又はリン化合物のなくともいずれかであることが挙げられる。 The CHA-type zeolite of the present invention contains phosphorus. As a result, the thermal stability of the skeleton aluminum is improved, and the heat resistance of the CHA-type zeolite of the present invention is increased. In addition to this, the zeolite acid site is modified with phosphorus to obtain an acid strength suitable for a particular catalytic reaction. Phosphorus is contained as a non-skeleton of CHA-type zeolite, that is, other than T atom. For example, phosphorus is contained in the pores of CHA-type zeolite, and it is particularly preferable that phosphorus is contained in the oxygen 8-membered ring pores. As described above, the T atom in the CHA-type zeolite of the present invention is a metal contained in its skeleton, that is, Si and Al.
The state of phosphorus contained in the CHA-type zeolite of the present invention may be either a phosphate ion or a phosphorus compound.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトにおける、アルミナに対するシリカのモル比（以下、「ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比」ともいう。）は１６以上であり、１８以上、更には２０以上であることが好ましい。ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１６未満では、本発明のＣＨＡ型ゼオライトの触媒等の用途における実用的な耐熱性を有さない。一方、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１００以下、更には５０以下、また更には３５以下であれば、本発明のＣＨＡ型ゼオライトが触媒として十分な量の酸点を有する。特に好ましいＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比として、１８以上３０以下、更には２０以上２８以下を挙げることができる。
なお、本発明のＣＨＡ型ゼオライトの組成はＩＣＰ法により測定することができる。 In the CHA-type zeolite of the present invention, the molar ratio of silica to alumina (hereinafter, also referred to as “SiO 2 / Al 2 O 3 ratio”) is 16 or more, preferably 18 or more, and more preferably 20 or more. If the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio is less than 16, the CHA-type zeolite of the present invention does not have practical heat resistance in applications such as catalysts. On the other hand, if the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio is 100 or less, further 50 or less, and further 35 or less, the CHA-type zeolite of the present invention has a sufficient amount of acid points as a catalyst. Particularly preferable SiO 2 / Al 2 O 3 ratios include 18 or more and 30 or less, and further 20 or more and 28 or less.
The composition of the CHA-type zeolite of the present invention can be measured by the ICP method.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、リンを細孔内に含むものが好ましい。すなわち、本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、酸点、即ち、Ｔ原子であるＡｌの近傍にリンを含有することが好ましい。これにより、アルコールやケトンからの低級オレフィン製造用触媒、クラッキング触媒、脱ろう触媒、異性化触媒、及び窒素酸化物還元触媒などの各種の触媒又は、各種触媒の基材として使用することができる。 The CHA-type zeolite of the present invention preferably contains phosphorus in the pores. That is, the CHA-type zeolite of the present invention preferably contains phosphorus in the vicinity of the acid point, that is, Al, which is a T atom. As a result, it can be used as a base material for various catalysts such as catalysts for producing lower olefins from alcohols and ketones, cracking catalysts, dewax catalysts, isomerization catalysts, and nitrogen oxide reduction catalysts, or various catalysts.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトのＴ原子に対するリンのモル比（以下、「Ｐ／Ｔ比」ともいう。）は０．０６以下、更には０．０５以下、また更には０．０４以下である。０．０６を超えるとＣＨＡ型ゼオライトの細孔がリンによって閉塞される。そのため、細孔を触媒反応等に有効に使うことができない。Ｐ／Ｔ比は０．０００５以上、更には０．００１以上であればよい。Ｐ／Ｔ比が０．００１以上であることでＣＨＡ型ゼオライトの耐熱性が高くなる。特に好ましいＰ／Ｔ比として０．００５以上０．０５以下、更には０．００８以上０．０２以下を挙げることができる。 The molar ratio of phosphorus to the T atom of the CHA-type zeolite of the present invention (hereinafter, also referred to as “P / T ratio”) is 0.06 or less, further 0.05 or less, and further 0.04 or less. If it exceeds 0.06, the pores of the CHA-type zeolite are blocked by phosphorus. Therefore, the pores cannot be effectively used for catalytic reactions and the like. The P / T ratio may be 0.0005 or more, and further 0.001 or more. When the P / T ratio is 0.001 or more, the heat resistance of the CHA-type zeolite is increased. Particularly preferable P / T ratios include 0.005 or more and 0.05 or less, and further 0.008 or more and 0.02 or less.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、Ｔ原子としてのＡｌに対するリンのモル比（以下、「Ｐ／Ａｌ比」ともいう。）が０．５５未満、更には０．５以下であることが好ましい。Ｐ／Ａｌが０．５５未満であれば、触媒として必要とされる酸点を有し、なおかつ、触媒用途として実用的な耐熱性を有するＣＨＡ型ゼオライトとなる。また、Ｔ原子としてのＡｌは酸点として機能する。Ｐ／Ａｌ比は０．０１以上、更には０．０２以上であれば、触媒活性を示す酸点としてのＡｌが多いＣＨＡ型ゼオライトとなる。触媒特性及び耐熱性の観点から、Ｐ／Ａｌ比は０．０５以上０．５以下、更には０．１以上０．２以下であることが特に好ましい。 The CHA-type zeolite of the present invention preferably has a molar ratio of phosphorus to Al as a T atom (hereinafter, also referred to as “P / Al ratio”) of less than 0.55, more preferably 0.5 or less. If P / Al is less than 0.55, the CHA-type zeolite has an acidity required as a catalyst and has heat resistance practical for catalyst use. Further, Al as a T atom functions as an acid point. If the P / Al ratio is 0.01 or more, and further 0.02 or more, the CHA-type zeolite has a large amount of Al as an acid point exhibiting catalytic activity. From the viewpoint of catalyst properties and heat resistance, the P / Al ratio is particularly preferably 0.05 or more and 0.5 or less, and further preferably 0.1 or more and 0.2 or less.

なお、本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、フッ素（Ｆ）を実質的に含んでいないこと、すなわちフッ素含有量が０ｐｐｍであることが好ましい。一般的に、ゼオライトに含まれるフッ素は、原料に由来する。原料にフッ素を含む化合物を使用して得られたゼオライトは、その製造コストが高くなりやすい。
ランタン−アリザリンコンプレキソン吸光光度法など、通常の組成分析法により得られる測定値の測定限界を考慮すると、本発明のＣＨＡ型ゼオライトのフッ素含有量は１００ｐｐｍ以下、更には５０ｐｐｍ以下であればよい。 It is preferable that the CHA-type zeolite of the present invention does not substantially contain fluorine (F), that is, the fluorine content is 0 ppm. Generally, the fluorine contained in zeolite is derived from a raw material. Zeolites obtained by using a compound containing fluorine as a raw material tend to have a high production cost.
Considering the measurement limit of the measured value obtained by a usual composition analysis method such as the lanthanum-alizarin complexone absorptiometry, the fluorine content of the CHA-type zeolite of the present invention may be 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、結晶粒径が４μｍ以下、更には３μｍ以下、また更には２μｍ以下であることが好ましい。結晶粒径が４μｍ以下であることで、反応性が改善されるため、触媒性能が向上する。
なお、本発明において結晶粒径は走査型電子顕微鏡（以下、「ＳＥＭ」ともいう。）観察により確認することができる。すなわち、本発明のＣＨＡ型ゼオライトの結晶粒子は、略立方体形状又は略立方体の双晶形状の少なくともいずれかの形状を有する。結晶粒径は、これら結晶粒子の辺の長さを観察することで確認できる。 The CHA-type zeolite of the present invention preferably has a crystal grain size of 4 μm or less, further 3 μm or less, and further preferably 2 μm or less. When the crystal grain size is 4 μm or less, the reactivity is improved and the catalytic performance is improved.
In the present invention, the crystal grain size can be confirmed by observing with a scanning electron microscope (hereinafter, also referred to as "SEM"). That is, the crystal particles of the CHA-type zeolite of the present invention have at least one of a substantially cubic shape and a substantially cubic twin crystal shape. The crystal grain size can be confirmed by observing the side lengths of these crystal particles.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、銅又は鉄の少なくともいずれか、更には銅を含有していてもよい。銅又は鉄の少なくともいずれかを含有するＣＨＡ型ゼオライトは、窒素酸化物還元特性を有する触媒として使用することができる。本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、特に高温高湿雰囲気に晒された後において、２００℃以下、更には１５０℃以下の低温でＳＣＲ触媒として、高い窒素酸化物還元率を示す。
ここで、高温高湿雰囲気として、９００℃で、１０体積％のＨ２Ｏを含む空気を３００ｍＬ／分で流通させた雰囲気を挙げることができる。当該雰囲気に晒される時間が長くなることで、ゼオライトへの熱負荷が大きくなる。一般的には高温高湿下に晒される時間が長くなるほど、脱アルミニウムをはじめとする、ゼオライトの結晶性の低下が生じやすくなる。 The CHA-type zeolite of the present invention may contain at least one of copper and iron, and may contain copper. CHA-type zeolites containing at least one of copper and iron can be used as a catalyst having nitrogen oxide reducing properties. The CHA-type zeolite of the present invention exhibits a high nitrogen oxide reduction rate as an SCR catalyst at a low temperature of 200 ° C. or lower, further 150 ° C. or lower, particularly after being exposed to a high temperature and high humidity atmosphere.
Here, as a high-temperature and high-humidity atmosphere, at 900 ° C., can be mentioned an atmosphere of air containing 10 vol% of H 2 O was passed through at a 300 mL / min. The longer the exposure to the atmosphere, the greater the heat load on the zeolite. Generally, the longer the time of exposure to high temperature and high humidity, the more likely it is that the crystallinity of zeolite, including dealumination, will decrease.

次に、本発明のＣＨＡ型ゼオライトの製造方法について説明する。
本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、シリカ源、アルミナ源、ホスホニウムカチオン源、及びアンモニウムカチオン源を含む組成物（以下、「原料組成物」ともいう。）を結晶化する結晶化工程、を有する製造方法により得られる。 Next, the method for producing the CHA-type zeolite of the present invention will be described.
The CHA-type zeolite of the present invention is a production method comprising a crystallization step of crystallizing a composition containing a silica source, an alumina source, a phosphonium cation source, and an ammonium cation source (hereinafter, also referred to as “raw material composition”). Obtained by

結晶化工程では、ホスホニウムカチオン源を含有する原料組成物を結晶化する。ホスホニウムカチオンは、構造指向剤（以下、「ＳＤＡ」ともいう。）としての機能を有するだけでなく、リンの供給源となる。ＣＨＡ型ゼオライトを結晶化すると同時にリンを含有させることができる。これにより、結晶化工程の後にリンを修飾するための後処理工程を必須とすることがない。 In the crystallization step, a raw material composition containing a phosphonium cation source is crystallized. The phosphonium cation not only functions as a structure-directing agent (hereinafter, also referred to as “SDA”), but also serves as a source of phosphorus. Phosphorus can be contained at the same time as the CHA-type zeolite is crystallized. This eliminates the need for a post-treatment step to modify phosphorus after the crystallization step.

ホスホニウムカチオン源は、ホスホニウムカチオンを含む化合物、更にはホスホニウムカチオンの硫酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物及び水酸化物からなる群の少なくとも１種を挙げることができる。ホスホニウムカチオンは、テトラエチルホスホニウムカチオン（以下、「ＴＥＰ」ともいう。）又はテトラメチルホスホニウムカチオンの少なくともいずれか、更にはＴＥＰであることが好ましい。
特に好ましいホスホニウムカチオン源として、テトラエチルホスホニウム水酸化物（以下、「ＴＥＰＯＨ」ともいう。）、テトラエチルホスホニウムブロミド（以下、「ＴＥＰＢｒ」ともいう。）、テトラエチルホスホニウムクロライド（以下、「ＴＥＰＣｌ」ともいう。）、及びテトラエチルホスホニウムヨージド（以下、「ＴＥＰＩ」ともいう。）からなる群の少なくとも１種、更にはＴＥＰＯＨを挙げることができる。 The phosphonium cation source may include at least one of a compound containing a phosphonium cation, and further a group consisting of sulfates, nitrates, halides and hydroxides of the phosphonium cation. The phosphonium cation is preferably at least one of a tetraethylphosphonium cation (hereinafter, also referred to as “TEP”) or a tetramethylphosphonium cation, and more preferably TEP.
Particularly preferable phosphonium cation sources include tetraethylphosphonium hydroxide (hereinafter, also referred to as “TEPOH”), tetraethylphosphonium bromide (hereinafter, also referred to as “TEPBr”), and tetraethylphosphonium chloride (hereinafter, also referred to as “TEPCl”). , And at least one of the group consisting of tetraethylphosphonium iodide (hereinafter, also referred to as "TEPI"), and TEPOH can be mentioned.

原料組成物は、アンモニウムカチオン源を含有する。原料組成物がアンモニウムカチオン源を含有することで、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比の高いＣＨＡ型ゼオライトが得られる。これに加え、ホスホニウムカチオン源とアンモニウムカチオン源との割合を調整することで、ＣＨＡ型ゼオライトに含まれるリンの量を調整することができる。アンモニウムカチオン源としては、アンモニウムカチオンを含む化合物、更にはアンモニウムカチオンの硫酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物及び水酸化物からなる群の少なくとも１種を挙げることができる。アンモニウムカチオンは、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウム（以下、「ＴＭＡｄａ」ともいう。）、コリン及びトリメチルベンジルアンモニウムからなる群の少なくとも１種、更にはＴＭＡｄａを挙げることができる。 The raw material composition contains an ammonium cation source. When the raw material composition contains an ammonium cation source, a CHA-type zeolite having a high SiO 2 / Al 2 O 3 ratio can be obtained. In addition to this, the amount of phosphorus contained in the CHA-type zeolite can be adjusted by adjusting the ratio of the phosphonium cation source and the ammonium cation source. Examples of the ammonium cation source include compounds containing ammonium cations, and at least one of the group consisting of sulfates, nitrates, halides and hydroxides of ammonium cations. Examples of the ammonium cation include at least one member of the group consisting of trimethyl-1-adamantanammonium (hereinafter, also referred to as “TMada”), choline and trimethylbenzylammonium, and TMAda.

特に好ましいアンモニウムカチオン源として、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウム水酸化物（以下、「ＴＭＡｄａＯＨ」ともいう。）、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムブロミド（以下、「ＴＭＡｄａＢｒ」ともいう。）、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムクロライド（以下、「ＴＭＡｄａＣｌ」ともいう。）、及びトリメチル−１−アダマンタンアンモニウムヨージド（以下、「ＴＭＡｄａＩ」ともいう。）からなる群の少なくとも１種、更にはＴＭＡｄａＯＨを挙げることができる。 Particularly preferred ammonium cation sources include trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide (hereinafter, also referred to as "TMadaOH"), trimethyl-1-adamantanammonium bromide (hereinafter, also referred to as "TMadaBr"), and trimethyl-1-adamantan. At least one member of the group consisting of ammonium chloride (hereinafter, also referred to as “TMadaCl”) and trimethyl-1-adamantanammonium iodide (hereinafter, also referred to as “TMadaI”), and TMAdaOH can be mentioned.

原料組成物に含まれるシリカ源及びアルミナ源は、結晶性アルミノシリケート（ゼオライト）であることが好ましい。結晶性アルミノシリケートは、規則性がある結晶構造をしている。構造指向剤の存在下で結晶性アルミシリケートを処理すると、結晶構造の規則性が適度に維持されながら結晶化が進行すると考えられる。そのため、シリカ源とアルミナ源が個別の化合物である場合、若しくはシリカ源及びアルミナ源が非結晶性の化合物である場合と比べ、シリカ源及びアルミナ源が結晶性アルミノシリケートであることで、ＣＨＡ型ゼオライトがより効率よく結晶化する。 The silica source and alumina source contained in the raw material composition are preferably crystalline aluminosilicate (zeolite). Crystalline aluminosilicates have a regular crystal structure. When crystalline aluminum silicate is treated in the presence of a structure-directing agent, it is considered that crystallization proceeds while the regularity of the crystal structure is appropriately maintained. Therefore, compared to the case where the silica source and the alumina source are separate compounds, or the case where the silica source and the alumina source are non-crystalline compounds, the silica source and the alumina source are crystalline aluminosilicates, so that the CHA type Zeolites crystallize more efficiently.

単一相のＣＨＡ型ゼオライトを得られやすくなるため、結晶性アルミノシリケートはＦＡＵ型ゼオライト、更にはＸ型ゼオライト又はＹ型ゼオライトの少なくともいずれか、また更にはＹ型ゼオライトであることが好ましい。
結晶性アルミノシリケートのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比として１．２５以上、更には１０以上、更には２０以上が挙げられる。一方、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比は１００以下、更には５０以下であればよい。好ましい結晶性アルミノシリケートのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比として１８以上４０以下、更には２０以上４０以下を挙げることができる。 Since it becomes easy to obtain a single-phase CHA-type zeolite, the crystalline aluminosilicate is preferably a FAU-type zeolite, further at least one of an X-type zeolite or a Y-type zeolite, and further preferably a Y-type zeolite.
The SiO 2 / Al 2 O 3 ratio of the crystalline aluminosilicate is 1.25 or more, further 10 or more, and further 20 or more. On the other hand, the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio may be 100 or less, more preferably 50 or less. Preferred crystalline aluminosilicate SiO 2 / Al 2 O 3 ratios are 18 or more and 40 or less, and further 20 or more and 40 or less.

原料組成物が含有する結晶性アルミノシリケートのカチオンタイプは任意である。カチオンタイプとして、ナトリウム型（Ｎａ型）、プロトン型（Ｈ＋型）及びアンモニウム型（ＮＨ４型）からなる群の少なくとも１種、更にはプロトン型であることが好ましい。 The cationic type of crystalline aluminosilicate contained in the raw material composition is arbitrary. As cationic type, sodium type (Na-type), a proton-type (H + form) and ammonium type (NH 4 type) at least one of the group consisting of, and more preferably from proton type.

原料組成物は、結晶性アルミノシリケート以外のシリカ源又はアルミナ源を含有しなくてもよい。ＣＨＡ型ゼオライトの結晶化の効率化の観点から、原料組成物は非晶質のシリカ源及びアルミナ源を含んでいないことが好ましく、シリカ源及びアルミナ源は結晶性アルミノシリケートのみであることがより好ましい。 The raw material composition may not contain a silica source or an alumina source other than the crystalline aluminosilicate. From the viewpoint of improving the efficiency of crystallization of CHA-type zeolite, it is preferable that the raw material composition does not contain an amorphous silica source and an alumina source, and the silica source and the alumina source are only crystalline aluminosilicate. preferable.

原料組成物は、シリカ源、アルミナ源、ホスホニウムカチオン源及びアンモニウムカチオン源に加え、アルカリ源、及び水を含んでいてもよい。
アルカリ源は、アルカリ金属を含む水酸化物を挙げることができる。より具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムの群からなる少なくとも１種を含む水酸化物であり、更にはナトリウム又はカリウムの少なくともいずれかを含む水酸化物であり、また更にはナトリウムを含む水酸化物である。また、シリカ源及びアルミナ源がアルカリ金属を含む場合、当該アルカリ金属もアルカリ源とすることができる。
水は純水を使用してもよいが、各原料を水溶液として使用してもよい。 The raw material composition may contain an alkali source and water in addition to a silica source, an alumina source, a phosphonium cation source and an ammonium cation source.
Examples of the alkali source include hydroxides containing alkali metals. More specifically, it is a hydroxide containing at least one of the group consisting of lithium, sodium, potassium, rubidium and cesium, further a hydroxide containing at least one of sodium or potassium, and further. It is a hydroxide containing sodium. When the silica source and the alumina source contain an alkali metal, the alkali metal can also be an alkali source.
Pure water may be used as the water, but each raw material may be used as an aqueous solution.

原料組成物のアルミナに対するシリカのモル比（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比）は１８以上、更には２０以上であればよい。一方、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比は１００以下、更には５０以下であればよい。好ましいＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比として１８以上４０以下、更には２０以上４０以下を挙げることができる。 The molar ratio of silica to alumina (SiO 2 / Al 2 O 3 ratio) of the raw material composition may be 18 or more, and further 20 or more. On the other hand, the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio may be 100 or less, more preferably 50 or less. Preferred SiO 2 / Al 2 O 3 ratios include 18 or more and 40 or less, and further 20 or more and 40 or less.

原料組成物のシリカに対するホスホニウムカチオンのモル比（以下、「Ｐ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比」ともいう。）は０．０１以上、更には０．０５以上であることが好ましい。Ｐ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比が０．０１以上で得られるＣＨＡ型ゼオライト中にリンが含まれやすくなる。Ｐ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比は０．５以下、更には０．３以下であれば、リン含有による耐熱性向上の効果が得られやすくなる。 The molar ratio of the phosphonium cation to silica in the raw material composition (hereinafter, also referred to as “P-SDA / SiO 2 ratio”) is preferably 0.01 or more, more preferably 0.05 or more. Phosphorus is likely to be contained in the CHA-type zeolite obtained when the P-SDA / SiO 2 ratio is 0.01 or more. If the P-SDA / SiO 2 ratio is 0.5 or less, and further 0.3 or less, the effect of improving heat resistance due to phosphorus content can be easily obtained.

原料組成物のシリカに対するアンモニウムカチオンのモル比（以下、「Ｎ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比」ともいう。）は０．０１以上、更には０．０２以上である。一方、Ｎ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比は０．５以下、更には０．３以下であれば、単一相でＣＨＡ型ゼオライトが得られる。 The molar ratio of ammonium cations to silica in the raw material composition (hereinafter, also referred to as “N—SDA / SiO 2 ratio”) is 0.01 or more, and further 0.02 or more. On the other hand, if the N-SDA / SiO 2 ratio is 0.5 or less, and further 0.3 or less, CHA-type zeolite can be obtained in a single phase.

原料組成物はホスホニウムカチオン及びアンモニウムカチオンを含む。そのため、原料組成物のシリカに対する、ホスホニウムカチオン及びアンモウムカチオンのモル比（以下、「ＳＤＡ／ＳｉＯ２比」ともいう。）は０を超える。さらに、ＳＤＡ／ＳｉＯ２比は０．１５以上、更には０．２１以上であることが好ましい。しかしながら、ホスホニウムカチオン及びアンモウムカチオンが多くなりすぎると、ＣＨＡ型ゼオライトの製造コストが高くなる。そのため、ＳＤＡ／ＳｉＯ２比は０．６以下、更には０．４以下であることが好ましい。 The raw material composition comprises a phosphonium cation and an ammonium cation. Therefore, the molar ratio of the phosphonium cation and the ammoum cation to the silica of the raw material composition (hereinafter, also referred to as “SDA / SiO 2 ratio”) exceeds 0. Further, the SDA / SiO 2 ratio is preferably 0.15 or more, more preferably 0.21 or more. However, if the amount of phosphonium cation and ammoum cation is too large, the production cost of CHA-type zeolite increases. Therefore, the SDA / SiO 2 ratio is preferably 0.6 or less, more preferably 0.4 or less.

原料組成物のホスホニウムカチオン及びアンモニウムカチオンの割合は、目的とするＣＨＡ型ゼオライトのリン含有量により任意の割合とすることができる。ホスホニウムカチオン及びアンモにオウムカチオンの合計に対するアンモニウムカチオンのモル比（以下、「Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比」ともいう。）は０を超え１未満であればよい。本発明の製造方法においては、Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比が０．０１以上０．９以下、更には０．０５以上０．９以下であることが挙げられる。高温高湿雰囲気に晒された後の触媒活性が特に高いＣＨＡ型ゼオライトを得るため、Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比は０．１以上０．４以下を挙げることができる。 The ratio of the phosphonium cation and the ammonium cation in the raw material composition can be any ratio depending on the phosphorus content of the target CHA-type zeolite. The molar ratio of ammonium cation to the total of phosphonium cation and ammo to parrot cation (hereinafter, also referred to as “N-SDA / SDA ratio”) may be more than 0 and less than 1. In the production method of the present invention, the N-SDA / SDA ratio is 0.01 or more and 0.9 or less, and further 0.05 or more and 0.9 or less. In order to obtain CHA-type zeolite having particularly high catalytic activity after being exposed to a high temperature and high humidity atmosphere, the N-SDA / SDA ratio can be 0.1 or more and 0.4 or less.

原料組成物のシリカに対するアルカリ金属のモル比（以下、「アルカリ／ＳｉＯ２比」ともいう。）は０．３以下であることが好ましい。アルカリ／ＳｉＯ２比が０．３以下であることで、高いＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比を有するＣＨＡ型ゼオライトが得られやすくなる。より高いＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比のＣＨＡ型ゼオライトを得るため、アルカリ／ＳｉＯ２比は０．２以下、更には０．１５以下であることが好ましい。 The molar ratio of alkali metal to silica in the raw material composition (hereinafter, also referred to as “alkali / SiO 2 ratio”) is preferably 0.3 or less. When the alkali / SiO 2 ratio is 0.3 or less, CHA-type zeolite having a high SiO 2 / Al 2 O 3 ratio can be easily obtained. In order to obtain a CHA-type zeolite having a higher SiO 2 / Al 2 O 3 ratio, the alkali / SiO 2 ratio is preferably 0.2 or less, more preferably 0.15 or less.

シリカに対するＯＨのモル比（以下、「ＯＨ／ＳｉＯ２比」ともいう。）は０．５以下である。ＯＨ／ＳｉＯ２比が０．５以下であることで、より高い収率でＣＨＡ型ゼオライトを得ることができる。原料組成物のＯＨ／ＳｉＯ２比は、０．１以上、更には０．２６以上であればよい。 The molar ratio of OH to silica (hereinafter, also referred to as “OH / SiO 2 ratio”) is 0.5 or less. When the OH / SiO 2 ratio is 0.5 or less, CHA-type zeolite can be obtained in a higher yield. The OH / SiO 2 ratio of the raw material composition may be 0.1 or more, more preferably 0.26 or more.

シリカに対する水（Ｈ２Ｏ）のモル比（以下、「Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比」ともいう。）は２０以下、更には１５以下であれば、より効率よくＣＨＡ型ゼオライトが得られる。適度な流動性を有する原料組成物とするため、Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比は３以上、更には５以上であればよい。 If the molar ratio of water (H 2 O) to silica (hereinafter, also referred to as “H 2 O / SiO 2 ratio”) is 20 or less, and further 15 or less, CHA type zeolite can be obtained more efficiently. The H 2 O / SiO 2 ratio may be 3 or more, more preferably 5 or more, in order to obtain a raw material composition having appropriate fluidity.

特に好ましい原料組成物の組成として以下のものを挙げることができる。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝１８以上、５０以下
アルカリ／ＳｉＯ２比 ＝０．０１以上、０．３以下
Ｐ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比 ＝０．０１以上、０．５以下
Ｎ−ＳＤＡ／ＳｉＯ２比 ＝０．０１以上、０．５以下
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比＝ ＝０．０１以上、０．９以下
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．１以上、０．５以下
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝３以上、２０以下 The following can be mentioned as a composition of a particularly preferable raw material composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 18 or more, 50 or less Alkaline / SiO 2 ratio = 0.01 or more, 0.3 or less P-SDA / SiO 2 ratio = 0.01 or more, 0.5 or less N-SDA / SiO 2 ratio = 0.01 or more, 0.5 or less N-SDA / SDA ratio = = 0.01 or more, 0.9 or less OH / SiO 2 ratio = 0.1 or more, 0.5 or less H 2 O / SiO 2 ratio = 3 or more, 20 or less

なお、原料組成物にフッ素を含む化合物が含まれると、製造コストが高くなりやすい。そのため、原料組成物はフッ素（Ｆ）を実質的に含んでいないことが好ましい。
なお、本発明の原料組成物の組成は、ＩＣＰ法により測定することができる。 If the raw material composition contains a compound containing fluorine, the production cost tends to be high. Therefore, it is preferable that the raw material composition does not substantially contain fluorine (F).
The composition of the raw material composition of the present invention can be measured by the ICP method.

結晶化工程では、上記の各原料を含む原料組成物を水熱合成することにより、これを結晶化処理する。結晶化処理は、原料組成物を密閉容器に充填し、これを加熱すればよい。
結晶化温度は８０℃以上であれば、原料組成物の結晶化が結晶化する。温度が高いほど、結晶化が促進される。そのため、結晶化温度は１００℃以上、更には１２０℃以上であることが好ましい。原料組成物が結晶化すれば、必要以上に結晶化温度を高くする必要はない。そのため、結晶化温度は２００℃以下、更には１６０℃以下、また更には１５０℃以下であればよい。また、結晶化は原料組成物を攪拌した状態、又は静置した状態のいずれの状態で行うことができる。 In the crystallization step, a raw material composition containing each of the above raw materials is hydrothermally synthesized to carry out a crystallization treatment. For the crystallization treatment, the raw material composition may be filled in a closed container and heated.
If the crystallization temperature is 80 ° C. or higher, the crystallization of the raw material composition will crystallize. The higher the temperature, the faster the crystallization. Therefore, the crystallization temperature is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. Once the raw material composition has crystallized, it is not necessary to raise the crystallization temperature more than necessary. Therefore, the crystallization temperature may be 200 ° C. or lower, further 160 ° C. or lower, and further 150 ° C. or lower. Further, crystallization can be carried out in either a state in which the raw material composition is agitated or a state in which the raw material composition is allowed to stand.

本発明の製造方法は、ホスホニウムカチオンを有する原料組成物からＣＨＡ型ゼオライトを結晶化させる製造方法であるにもかかわらず、従来のＣＨＡ型ゼオライトの工業的な製造方法と同等の高い収率を示す。本発明の製造方法の収率として、例えば、７０％以上、更には８０％以上を挙げることができる。 Although the production method of the present invention is a production method for crystallizing CHA-type zeolite from a raw material composition having a phosphonium cation, it exhibits a high yield equivalent to that of a conventional industrial production method for CHA-type zeolite. .. As the yield of the production method of the present invention, for example, 70% or more, further 80% or more can be mentioned.

なお、本発明において、収率は以下の式から求めればよい。
収率（％） ＝（ＷＣＨＡ／Ｗｒａｗ）×１００
上記式において、ＷＣＨＡは得られたＣＨＡ型ゼオライトの乾燥重量（ｇ）及び、Ｗｒａｗは原料組成物中のＳｉをＳｉＯ２として換算した重量と、ＡｌをＡｌ２Ｏ３として換算した重量との合計重量（ｇ）である。
ＷＣＨＡは、得られたＣＨＡ型ゼオライトを大気中、５０℃以上９０℃以下、６時間以上２４時間以下で乾燥し、その重量を求めることができる。また、Ｗｒａｗは、ＩＣＰ等により原料組成物中のＳｉ及びＡｌを求め、これをそれぞれ換算して求めることができる。
本発明の製造方法では、結晶化工程の後、洗浄工程、乾燥工程及びイオン交換工程の少なくともいずれか（以下、「後処理工程」とする。）を含んでいてもよい。 In the present invention, the yield may be calculated from the following formula.
Yield (%) = (W CHA / Raw ) x 100
In the above formula, W CHA is the dry weight (g) of the obtained CHA-type zeolite, and Raw is the weight of Si in the raw material composition converted to SiO 2 and the weight of Al converted to Al 2 O 3. Is the total weight (g) of.
In W CHA , the obtained CHA-type zeolite is dried in the air at 50 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and 6 hours or longer and 24 hours or shorter, and the weight thereof can be determined. Further, Raw can be obtained by obtaining Si and Al in the raw material composition by ICP or the like and converting them respectively.
The production method of the present invention may include at least one of a washing step, a drying step, and an ion exchange step (hereinafter referred to as “post-treatment step”) after the crystallization step.

洗浄工程は、結晶化後のＣＨＡ型ゼオライトと液相とを固液分離する。洗浄工程は、公知の方法で固液分離をし、固相として得られるＣＨＡ型ゼオライトを純水で洗浄すればよい。 In the washing step, the CHA-type zeolite after crystallization and the liquid phase are solid-liquid separated. In the washing step, solid-liquid separation may be performed by a known method, and the CHA-type zeolite obtained as a solid phase may be washed with pure water.

乾燥工程は、結晶化工程後又は洗浄工程後のＣＨＡ型ゼオライトから水分を除去する。乾燥工程の条件は任意であるが、結晶化工程後又は洗浄工程後のＣＨＡ型ゼオライトを、大気中、５０℃以上、１５０℃以下で２時間以上、静置することが例示できる。 The drying step removes water from the CHA-type zeolite after the crystallization step or the washing step. The conditions of the drying step are arbitrary, but it can be exemplified that the CHA-type zeolite after the crystallization step or the washing step is allowed to stand in the air at 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower for 2 hours or longer.

結晶化後のＣＨＡ型ゼオライトは、そのイオン交換サイト上にアルカリ金属イオン等の金属イオンを有する場合がある。イオン交換工程では、これをアンモニウムイオン（ＮＨ４ ＋）や、プロトン（Ｈ＋）等の非金属カチオンにイオン交換する。アンモニウムイオンへのイオン交換は、ＣＨＡ型ゼオライトを塩化アンモニウム水溶液に混合、攪拌することが挙げられる。また、プロトンへのイオン交換は、ＣＨＡ型ゼオライトをアンモニアでイオン交換した後、これを焼成することが挙げられる。 The CHA-type zeolite after crystallization may have metal ions such as alkali metal ions on its ion exchange site. In the ion exchange step, which ammonium ion (NH 4 +) or ion-exchange non-metallic cations such as protons (H +). Ion exchange to ammonium ions includes mixing CHA-type zeolite with an aqueous solution of ammonium chloride and stirring. Further, for ion exchange to protons, CHA-type zeolite can be ion-exchanged with ammonia and then calcined.

本発明のＣＨＡ型ゼオライトに銅（Ｃｕ）又は鉄（Ｆｅ）を含有させる場合、銅又は鉄の少なくともいずれかを含む化合物（以下、「銅化合物等」ともいう。）と本発明のＣＨＡ型ゼオライトとを接触させる金属含有工程、を有する製造方法により得ることができる。
金属含有工程は、ＣＨＡ型ゼオライトのイオン交換サイト又は細孔の少なくともいずれかに銅又は鉄の少なくともいずれかが含有される方法であればよい。具体的な方法として、イオン交換法、蒸発乾固法及び含浸担持法からなる群の少なくとも１種を挙げることができ、含浸担持法、更には遷移金属化合物を含む水溶液とＣＨＡ型ゼオライトとを混合する方法であることが好ましい。
銅化合物等は、銅又は鉄の少なくともいずれかを含む無機酸塩、更には銅又は鉄の少なくともいずれかを含む硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩及び塩化物からなる群の少なくとも１種を挙げることができる。 When the CHA-type zeolite of the present invention contains copper (Cu) or iron (Fe), a compound containing at least one of copper and iron (hereinafter, also referred to as “copper compound and the like”) and the CHA-type zeolite of the present invention. It can be obtained by a production method having a metal-containing step of contacting with.
The metal-containing step may be a method in which at least one of copper and iron is contained in at least one of the ion exchange sites or pores of the CHA-type zeolite. As a specific method, at least one of the group consisting of an ion exchange method, an evaporative dryness method and an impregnation-supporting method can be mentioned. It is preferable that the method is used.
Examples of the copper compound and the like include at least one of the group consisting of an inorganic acid salt containing at least one of copper and iron, and further a sulfate, a nitrate, an acetate and a chloride containing at least one of copper or iron. it can.

金属含有工程の後、洗浄工程、乾燥工程、又は活性化工程の少なくともいずれか１以上の工程を含んでいてもよい。
洗浄工程は、不純物等が除去されれば、任意の洗浄方法を用いることができる。例えば、金属含有工程後のＣＨＡ型ゼオライトを十分量の純水で洗浄することが挙げられる。
乾燥工程は水分を除去すればよく、大気中で、１００℃以上、２００℃以下で処理することが例示できる。
活性化工程は有機物を除去する。金属含有ＣＨＡ型ゼオライトを、大気中、２００℃を超え、６００℃以下で処理することが例示できる。 After the metal-containing step, at least one or more steps of a washing step, a drying step, and an activation step may be included.
In the cleaning step, any cleaning method can be used as long as impurities and the like are removed. For example, washing the CHA-type zeolite after the metal-containing step with a sufficient amount of pure water can be mentioned.
Moisture may be removed in the drying step, and treatment at 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower in the air can be exemplified.
The activation step removes organic matter. For example, the metal-containing CHA-type zeolite is treated in the air at a temperature of more than 200 ° C and 600 ° C or less.

銅又は鉄の少なくともいずれか、更には銅を含有するＣＨＡ型ゼオライトは、例えば、アルコールやケトンからの低級オレフィン製造用触媒、クラッキング触媒、脱ろう触媒、異性化触媒、及び排気ガスからの窒素酸化物還元触媒として使用することできる。特に、窒素酸化物還元触媒として使用することが好ましい。 CHA-type zeolites containing at least one of copper or iron, and even copper, are, for example, catalysts for producing lower olefins from alcohols and ketones, cracking catalysts, dewax catalysts, isomerization catalysts, and nitrogen oxidation from exhaust gas. It can be used as a material reduction catalyst. In particular, it is preferably used as a nitrogen oxide reduction catalyst.

以下、実施例を挙げて本発明を説明する。しかしながら、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、「比」は特に断らない限り、「モル比」である。
（結晶構造の同定）
一般的なＸ線回折装置（装置名：Ｍｉｎｉ Ｆｌｅｘ、リガク社製）を使用し、試料のＸＲＤ測定をした。線源にはＣｕＫα線（λ＝１．５４０５Å）を用い、測定範囲は２θとして５°から５０°の範囲で測定した。
得られたＸＲＤパターンと、非特許文献１のＦｉｇ．１（ｆ）に記載のＸＲＤパターンとを比較することで、試料の構造を同定した。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. The "ratio" is a "molar ratio" unless otherwise specified.
(Identification of crystal structure)
The XRD measurement of the sample was performed using a general X-ray diffractometer (device name: Mini Flex, manufactured by Rigaku Co., Ltd.). CuKα ray (λ = 1.5405Å) was used as the radiation source, and the measurement range was 2θ, and the measurement was performed in the range of 5 ° to 50 °.
The obtained XRD pattern and Fig. The structure of the sample was identified by comparing with the XRD pattern described in 1 (f).

（組成分析）
フッ酸と硝酸の混合水溶液に試料を溶解して試料溶液を調製した。一般的なＩＣＰ装置（装置名：ＯＰＴＩＭＡ５３００ＤＶ、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製）を使用して、当該試料溶液を誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ−ＡＥＳ）で測定した。
得られたＳｉ、Ａｌ及びＰの測定値から、試料のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比、Ｐ／Ａｌ比を求めた。 (Composition analysis)
A sample solution was prepared by dissolving the sample in a mixed aqueous solution of hydrofluoric acid and nitric acid. The sample solution was measured by inductively coupled plasma emission spectroscopy (ICP-AES) using a general ICP device (device name: OPTIMA5300DV, manufactured by PerkinElmer).
From the obtained measured values of Si, Al and P, the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio and the P / Al ratio of the sample were determined.

（収率）
ＣＨＡ型ゼオライトの収率は、以下の式から求めればよい。
収率（％） ＝（ＷＣＨＡ／Ｗｒａｗ）×１００
ＷＣＨＡは、得られたＣＨＡ型ゼオライトを大気中、７０℃×１２時間で乾燥し、その重量を測定した。また、Ｗｒａｗは、原料組成物に含まれるシリカ源及びアルミナ源であるＦＡＵ型ゼオライトの重量である。 (yield)
The yield of CHA-type zeolite may be calculated from the following formula.
Yield (%) = (W CHA / Raw ) x 100
For W CHA , the obtained CHA-type zeolite was dried in the air at 70 ° C. for 12 hours, and its weight was measured. Further, Raw is the weight of the FAU-type zeolite which is a silica source and an alumina source contained in the raw material composition.

実施例１
純水、水酸化ナトリウム、ＦＡＵ型ゼオライト（Ｙ型、カチオンタイプ：プロトン型、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝３２）及び２５％ＴＭＡｄａＯＨ水溶液を、４０％ＴＥＰＯＨ水溶液に添加し、これを混合して以下の組成を有する原料組成物を得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．０５
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．２５
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０．８３
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
得られた原料組成物を密閉容器内に充填し、この容器を１０ｒｐｍで回転させた状態で１５０℃、７日間の条件で原料組成物を結晶化させた。結晶化後の原料組成物を固液分離し、純水で洗浄した後、７０℃で乾燥して本実施例のゼオライトを得た。当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであり、なおかつ、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２４、Ｐ／Ａｌ比＝０．０２、及びＰ／Ｔ比＝０．０１５であった。また、収率は９０％であった。
原料組成物の主な組成及び本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した。また、本実施例のＣＨＡ型ゼオライトのＸＲＤパターンを図１に、ＳＥＭ写真を図２に示した。図２より、本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの一次粒子は１μｍ以下であることが確認できた。 Example 1
Pure water, sodium hydroxide, FAU type zeolite (Y-type, cation type: proton type, SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32) and 25% TMAdaOH aqueous solution was added to 40% TEPOH solution, mixing it A raw material composition having the following composition was obtained.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.05
TMAda / SiO 2 ratio = 0.25
N-SDA / SDA ratio = 0.83
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The obtained raw material composition was filled in a closed container, and the raw material composition was crystallized under the conditions of 150 ° C. for 7 days in a state where the container was rotated at 10 rpm. The raw material composition after crystallization was solid-liquid separated, washed with pure water, and then dried at 70 ° C. to obtain the zeolite of this example. The zeolite is a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure, and has a SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 24, a P / Al ratio = 0.02, and a P / T ratio = 0.015. there were. The yield was 90%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this example. Further, the XRD pattern of the CHA-type zeolite of this example is shown in FIG. 1, and the SEM photograph is shown in FIG. From FIG. 2, it was confirmed that the primary particles of the CHA-type zeolite of this example were 1 μm or less.

実施例２
原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本実施例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．２
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０．６７
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２２、Ｐ／Ａｌ比＝０．０５、Ｐ／Ｔ比＝０．０４２であった。また、収率は９０％であった。
原料組成物の主な組成及び本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した。 Example 2
The zeolite of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.1
TMAda / SiO 2 ratio = 0.2
N-SDA / SDA ratio = 0.67
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 22, P / Al ratio = 0.05, and P / T ratio = 0.042. The yield was 90%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this example.

実施例３
原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本実施例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．１５
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１５
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０．５０
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２２、Ｐ／Ａｌ比＝０．０６、Ｐ／Ｔ比＝０．００５であった。また、収率は９０％であった。
原料組成物の主な組成及び本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した。 Example 3
The zeolite of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.15
TMAda / SiO 2 ratio = 0.15
N-SDA / SDA ratio = 0.50
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 22, P / Al ratio = 0.06, and P / T ratio = 0.005. The yield was 90%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this example.

実施例４
原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本実施例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．２
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０．３３
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２２、Ｐ／Ａｌ比＝０．１２、Ｐ／Ｔ比＝０．０１０であった。また、収率は９０％であった。
原料組成物の主な組成及び本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した Example 4
The zeolite of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.2
TMAda / SiO 2 ratio = 0.1
N-SDA / SDA ratio = 0.33
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 22, P / Al ratio = 0.12, and P / T ratio = 0.010. The yield was 90%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this example.

実施例５
原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本実施例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．２５
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．０５
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０．１７
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２２、Ｐ／Ａｌ比＝０．１９、Ｐ／Ｔ比＝０．０１６であった。また、収率は８５％であった。
原料組成物の主な組成及び本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した。
また、本実施例のＣＨＡ型ゼオライトのＳＥＭ写真を図３に示した。図３より、本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの一次粒子は１μｍ以下であることが確認できた。 Example 5
The zeolite of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.25
TMAda / SiO 2 ratio = 0.05
N-SDA / SDA ratio = 0.17
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 22, P / Al ratio = 0.19, and P / T ratio = 0.016. The yield was 85%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this example.
In addition, an SEM photograph of the CHA-type zeolite of this example is shown in FIG. From FIG. 3, it was confirmed that the primary particles of the CHA-type zeolite of this example were 1 μm or less.

実施例６
原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本実施例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．２７
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．０３
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０．１
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２２、Ｐ／Ａｌ比＝０．４７、Ｐ／Ｔ比＝０．０３８であった。また、収率は９０％であった。
原料組成物の主な組成及び本実施例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した。 Example 6
The zeolite of this example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.27
TMAda / SiO 2 ratio = 0.03
N-SDA / SDA ratio = 0.1
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 22, P / Al ratio = 0.47, and P / T ratio = 0.038. The yield was 90%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this example.

比較例１
従来のＣＨＡ型ゼオライトの合成として、原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本比較例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０．３
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２４、Ｐ／Ａｌ比＝０、Ｐ／Ｔ比＝０であった。また、収率は１００％であった。
原料組成物の主な組成及び本比較例のＣＨＡ型ゼオライトの評価結果を表１に示した。 Comparative Example 1
As the synthesis of the conventional CHA-type zeolite, the zeolite of this comparative example was obtained by the same method as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0
TMAda / SiO 2 ratio = 0.3
OH / SiO 2 ratio = 0.4
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 24, P / Al ratio = 0, and P / T ratio = 0. The yield was 100%.
Table 1 shows the main composition of the raw material composition and the evaluation results of the CHA-type zeolite of this comparative example.

比較例２
原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本比較例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．１５
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．２５
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＡＥＩ型ゼオライトとＭＦＩ型ゼオライトの混合物であった。本比較例より、ＴＥＰが少ない場合、ＣＨＡ型ゼオライトが得られないことが確認できた。 Comparative Example 2
Zeolites of this Comparative Example were obtained in the same manner as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.15
TMAda / SiO 2 ratio = 0
OH / SiO 2 ratio = 0.25
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a mixture of AEI-type zeolite and MFI-type zeolite. From this comparative example, it was confirmed that CHA-type zeolite cannot be obtained when the amount of TEP is small.

比較例３
非特許文献４を参照し、リンを含有するＣＨＡ型ゼオライトを製造した。すなわち、原料組成物を以下の組成としたこと以外は、実施例１と同様の方法で本比較例のゼオライトを得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝３２
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．４
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．２
ＴＭＡｄａ／ＳｉＯ２比 ＝０
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．６
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
当該ゼオライトは、ＣＨＡ構造の単一相からなるＣＨＡ型ゼオライトであった。組成は、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝１３、Ｐ／Ａｌ比＝０．５５、Ｐ／Ｔ比＝０．０７１であった。また、収率は５０％であった。これより、非特許文献４で開示された製造方法では、得られるＣＨＡ型ゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が低くなる傾向があり、また、本発明の製造方法と比べ、収率が著しく低くなることが確認できた。
なお、本比較例のＣＨＡ型ゼオライトのＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比をＥＤＸ（装置名：Ｓ−４８００、日立製作所製）によって測定したところ、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比は１５．６であった。 Comparative Example 3
A phosphorus-containing CHA-type zeolite was produced with reference to Non-Patent Document 4. That is, the zeolite of this comparative example was obtained by the same method as in Example 1 except that the raw material composition had the following composition.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 32
Na / SiO 2 ratio = 0.4
TEP / SiO 2 ratio = 0.2
TMAda / SiO 2 ratio = 0
OH / SiO 2 ratio = 0.6
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The zeolite was a CHA-type zeolite composed of a single phase having a CHA structure. The composition was SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 13, P / Al ratio = 0.55, and P / T ratio = 0.071. The yield was 50%. From this, in the production method disclosed in Non-Patent Document 4, the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio of the obtained CHA-type zeolite tends to be low, and the yield is significantly higher than that in the production method of the present invention. It was confirmed that it became lower.
When the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio of the CHA-type zeolite of this comparative example was measured by EDX (device name: S-4800, manufactured by Hitachi, Ltd.), the SiO 2 / Al 2 O 3 ratio was 15.6. there were.

表１より、いずれの実施例においてもリンを含有するＣＨＡ型ゼオライトが得られることが確認できた。また、ＴＥＰ量を変化させることでＣＨＡ型ゼオライトのリンを容易に制御することができ、更には、Ｐ／Ｔ比が０．０４以下、更には０．０２以下、また更には０．０１以下である、リン含有量が少ないＣＨＡ型ゼオライトが製造できることが確認できた。さらに、実施例１と比較例１より、本発明ではＴＥＰを含む製造方法であるにもかかわらず、従来のリンを含まないＣＨＡ型ゼオライトの製造方法に匹敵する高い収率を有することが確認できた。
また、比較例２及び３より、ＳＤＡがＴＥＰのみであると、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比の低いＣＨＡ型ゼオライトしか製造できず、また、リン含有量が低いＣＨＡ型ゼオライトが得られないことが分かった。 From Table 1, it was confirmed that a CHA-type zeolite containing phosphorus can be obtained in any of the examples. Further, the phosphorus of CHA-type zeolite can be easily controlled by changing the amount of TEP, and the P / T ratio is 0.04 or less, further 0.02 or less, and further 0.01 or less. It was confirmed that CHA-type zeolite having a low phosphorus content can be produced. Furthermore, from Example 1 and Comparative Example 1, it can be confirmed that the present invention has a high yield comparable to that of the conventional phosphorus-free CHA-type zeolite production method, despite the production method containing TEP. It was.
Further, from Comparative Examples 2 and 3, when SDA is only TEP, only CHA-type zeolite having a low SiO 2 / Al 2 O 3 ratio can be produced, and CHA-type zeolite having a low phosphorus content cannot be obtained. I found out.

測定例１
実施例５のＣＨＡ型ゼオライト、及び、比較例１のＣＨＡ型ゼオライトを、それぞれ、空気中６００℃で６時間焼成してＳＤＡを除いた後、塩化アンモニウム水溶液でイオン交換してアンモニア型とした。その後空気中５５０℃で１時間焼成してプロトン型のＣＨＡ型ゼオライトとした。
得られたプロトン型のＣＨＡ型ゼオライトを空気中１,０５０℃で１時間焼成し、焼成後の粉末Ｘ線回折測定を行った。結果を図４に示す。図４中、ａ）は実施例５のＸＲＤパターンで、ｂ）は比較例１のＸＲＤパターンである。
図４より、実施例５のＣＨＡ型ゼオライトは、１,０５０℃の熱処理後であってもＣＨＡ構造を維持していることが確認できた。一方、比較例１のＣＨＡ型ゼオライトは１,０５０℃の焼成でＣＨＡ型構造が崩壊していることが確認できた。このように、リンを含む本発明のＣＨＡ型ゼオライトは９００℃を超える温度による熱処理後であっても結晶構造が崩壊することがなく、耐熱性が高いことが確認できた。 Measurement example 1
The CHA-type zeolite of Example 5 and the CHA-type zeolite of Comparative Example 1 were each calcined in air at 600 ° C. for 6 hours to remove SDA, and then ion-exchanged with an aqueous ammonium chloride solution to obtain an ammonia type. Then, it was calcined in air at 550 ° C. for 1 hour to obtain a proton type CHA type zeolite.
The obtained proton-type CHA-type zeolite was calcined in air at 1,050 ° C. for 1 hour, and powder X-ray diffraction measurement was performed after calcining. The results are shown in FIG. In FIG. 4, a) is the XRD pattern of Example 5, and b) is the XRD pattern of Comparative Example 1.
From FIG. 4, it was confirmed that the CHA-type zeolite of Example 5 maintained the CHA structure even after the heat treatment at 1,050 ° C. On the other hand, it was confirmed that the CHA-type zeolite of Comparative Example 1 had its CHA-type structure collapsed by calcination at 1,050 ° C. As described above, it was confirmed that the CHA-type zeolite of the present invention containing phosphorus does not collapse its crystal structure even after heat treatment at a temperature exceeding 900 ° C. and has high heat resistance.

実施例７
実施例３のＣＨＡ型ゼオライトを、大気中、６００℃で１０時間焼成した後、塩化アンモニウム水溶液を用いてイオン交換して、ＮＨ４型のゼオライトとした。ＮＨ４型ゼオライト１．３ｇに硝酸銅水溶液を添加し、これを乳鉢で混合した。なお、硝酸銅水溶液は硝酸銅３水和物６０ｍｇを純水０．５ｇに溶解して硝酸銅水溶液を調製したものを使用した。
混合後の試料を１１０℃で一晩乾燥した後、空気中、５５０℃で１時間焼成し、これを本実施例の銅含有ＣＨＡ型ゼオライトとした。評価結果を表２に示す。 Example 7
The CHA-type zeolite of Example 3, in the atmosphere, and baked at 600 ° C. 10 hours, by ion exchange with ammonium chloride solution and a NH 4 type zeolite. It was added copper nitrate aqueous solution NH 4 zeolite 1.3g, which was mixed in a mortar. As the copper nitrate aqueous solution, 60 mg of copper nitrate trihydrate was dissolved in 0.5 g of pure water to prepare a copper nitrate aqueous solution.
The mixed sample was dried at 110 ° C. overnight and then calcined in air at 550 ° C. for 1 hour to obtain the copper-containing CHA-type zeolite of this example. The evaluation results are shown in Table 2.

実施例８
実施例５のＣＨＡ型ゼオライトを使用したこと以外は、実施例７と同様な方法で本比較例の銅含有ＣＨＡ型ゼオライトを得た。評価結果を表２に示す。 Example 8
A copper-containing CHA-type zeolite of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 7 except that the CHA-type zeolite of Example 5 was used. The evaluation results are shown in Table 2.

実施例９
実施例６のＣＨＡ型ゼオライトを使用したこと以外は、実施例７と同様な方法で本比較例の銅含有ＣＨＡ型ゼオライトを得た。評価結果を表２に示す。 Example 9
A copper-containing CHA-type zeolite of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 7 except that the CHA-type zeolite of Example 6 was used. The evaluation results are shown in Table 2.

比較例４
比較例１のＣＨＡ型ゼオライトを使用したこと以外は、実施例７と同様な方法で本比較例の銅含有ＣＨＡ型ゼオライトを得た。評価結果を表２に示す。 Comparative Example 4
A copper-containing CHA-type zeolite of this comparative example was obtained in the same manner as in Example 7 except that the CHA-type zeolite of Comparative Example 1 was used. The evaluation results are shown in Table 2.

比較例５
純水、水酸化ナトリウム、及びＦＡＵ型ゼオライト（Ｙ型、カチオンタイプ：プロトン型、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比＝２３）を４０％ＴＥＰＯＨ水溶液に添加し、これを混合して以下の組成を有する原料組成物を得た。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比 ＝２３
Ｎａ／ＳｉＯ２比 ＝０．１
ＴＥＰ／ＳｉＯ２比 ＝０．２
Ｎ−ＳＤＡ／ＳＤＡ比 ＝０
ＯＨ／ＳｉＯ２比 ＝０．３
Ｈ２Ｏ／ＳｉＯ２比 ＝５
得られた原料組成物を密閉容器内に充填し、この容器を静置した状態で１５０℃、７日間の条件で原料組成物を結晶化させた。結晶化後の原料組成物を固液分離し、純水で洗浄した後、７０℃で乾燥して本実施例のゼオライトを得た。当該ゼオライトは、ＡＥＩ構造の単一相からなるＡＥＩ型ゼオライトであった。
得られたＡＥＩ型ゼオライトをプレス成形後、凝集径１２メッシュ〜２０メッシュの凝集粒子とした。得られた凝集粒子３ｇを常圧固定床流通式反応管に充填し、水素５容量％、窒素９５容量％のガスを５００ｍＬ／分流通下、７５０℃で１時間熱処理してリン量を調整した。熱処理後、空気雰囲気、６００℃で２時間焼成してＳＤＡを除去した。焼成後のＡＥＩ型ゼオライトを２０％塩化アンモニウムで処理した後、大気中１１０℃で１晩乾燥した。これにより、ＮＨ４型のＡＥＩ型ゼオライトとした。
得られたＮＨ４型ＡＥＩ型ゼオライト２ｇに硝酸銅水溶液を添加し、これを乳鉢で混合した。なお、硝酸銅水溶液は硝酸銅３水和物１３９ｍｇを純水０．５ｇに溶解して硝酸銅水溶液を調製したものを使用した。
混合後の試料を１１０℃で一晩乾燥した後、空気中、５５０℃で１時間焼成し、これを本比較例のＡＥＩ型ゼオライトとした。評価結果を表２に示す。 Comparative Example 5
Pure water, sodium hydroxide, and FAU zeolite (Y-type, cation type: proton type, SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 23) was added to 40% TEPOH solution, the following composition by mixing it The raw material composition to have was obtained.
SiO 2 / Al 2 O 3 ratio = 23
Na / SiO 2 ratio = 0.1
TEP / SiO 2 ratio = 0.2
N-SDA / SDA ratio = 0
OH / SiO 2 ratio = 0.3
H 2 O / SiO 2 ratio = 5
The obtained raw material composition was filled in a closed container, and the raw material composition was crystallized under the conditions of 150 ° C. for 7 days while the container was allowed to stand. The raw material composition after crystallization was solid-liquid separated, washed with pure water, and then dried at 70 ° C. to obtain the zeolite of this example. The zeolite was an AEI-type zeolite composed of a single phase having an AEI structure.
The obtained AEI zeolite was press-molded to obtain agglomerated particles having an agglomeration diameter of 12 mesh to 20 mesh. 3 g of the obtained agglomerated particles were filled in a normal pressure fixed bed flow type reaction tube, and a gas of 5% by volume of hydrogen and 95% by volume of nitrogen was heat-treated at 750 ° C. for 1 hour under a flow of 500 mL / min to adjust the phosphorus content. .. After the heat treatment, SDA was removed by firing in an air atmosphere at 600 ° C. for 2 hours. The calcined AEI zeolite was treated with 20% ammonium chloride and then dried in the air at 110 ° C. overnight. This resulted in a NH 4 form AEI-type zeolite.
Copper nitrate aqueous solution NH 4 form AEI-type zeolite 2g obtained was added, which was mixed in a mortar. As the copper nitrate aqueous solution, 139 mg of copper nitrate trihydrate was dissolved in 0.5 g of pure water to prepare a copper nitrate aqueous solution.
The mixed sample was dried at 110 ° C. overnight and then calcined in air at 550 ° C. for 1 hour to obtain the AEI zeolite of this comparative example. The evaluation results are shown in Table 2.

測定例２
実施例８乃至９及び比較例４の銅含有ＣＨＡ型ゼオライトを、それぞれ８時間の水熱耐久処理を施した。水熱耐久処理前後の窒素酸化物還元特性の評価結果を表３に示す。 Measurement example 2
The copper-containing CHA-type zeolites of Examples 8 to 9 and Comparative Example 4 were each subjected to hydrothermal endurance treatment for 8 hours. Table 3 shows the evaluation results of the nitrogen oxide reduction characteristics before and after the hydrothermal endurance treatment.

ここで、本発明のＣＨＡ型ゼオライトに銅を含有させ、選択還元触媒としての窒素酸化物還元特性を評価した際の処理条件及び評価条件は、以下のとおりである（測定例３も同様）。
（水熱耐久処理）
試料をプレス成形後、凝集径１２メッシュ〜２０メッシュの凝集粒子とした。得られた凝集粒子３ｍＬを常圧固定床流通式反応管に充填し、これに１０体積％のＨ２Ｏを含む空気を３００ｍＬ／分で流通させて水熱耐久処理を行った。水熱耐久処理は、９００℃で行った。 Here, the treatment conditions and evaluation conditions when copper is contained in the CHA-type zeolite of the present invention and the nitrogen oxide reduction characteristics as the selective reduction catalyst are evaluated are as follows (the same applies to Measurement Example 3).
(Hydrothermal endurance treatment)
After press molding the sample, agglomerated particles having an agglomeration diameter of 12 mesh to 20 mesh were used. The resulting aggregated particles 3mL filled to normal pressure fixed bed flow type reaction tube, an air containing 10 vol% of H 2 O were hydrothermal durability treatment was circulated at 300 mL / min thereto. The hydrothermal endurance treatment was performed at 900 ° C.

（窒素酸化物還元率の測定）
試料の窒素酸化物還元率は、以下に示すアンモニアＳＣＲ方法により測定した。
すなわち、試料をプレス成形した後、凝集径１２〜２０メッシュの凝集粒子とした。得られた凝集粒子体を１．５ｍＬ量りとり、これを反応管に充填した。その後、１５０℃、２００℃、３００℃、４００℃及び５００℃のいずれかの温度で、窒素酸化物を含む以下の組成からなる処理ガスを当該反応管に流通させた。処理ガスの流量は１．５Ｌ／分、及び空間速度（ＳＶ）は６０，０００ｈ−１として測定を行った。
＜処理ガス組成＞
ＮＯ ：２００ｐｐｍ
ＮＨ３ ：２００ｐｐｍ
Ｏ２ ：１０容量％
Ｈ２Ｏ ：３容量％
残部 ：Ｎ２
反応管に流通させた処理ガス中の窒素酸化物濃度（２００ｐｐｍ）に対する、触媒流通後の処理ガス中の窒素酸化物濃度（ｐｐｍ）を求め、以下の式に従って、窒素酸化物還元率を求めた。
窒素酸化物還元率（％）＝｛１−（接触後の処理ガス中の窒素酸化物濃度／接触前の処理ガス中の窒素酸化物濃度）｝×１００ (Measurement of nitrogen oxide reduction rate)
The nitrogen oxide reduction rate of the sample was measured by the ammonia SCR method shown below.
That is, after the sample was press-molded, it was made into agglomerated particles having an agglomeration diameter of 12 to 20 mesh. The obtained aggregated particles were weighed in 1.5 mL and filled in a reaction tube. Then, at any of the temperatures of 150 ° C., 200 ° C., 300 ° C., 400 ° C. and 500 ° C., a processing gas having the following composition containing nitrogen oxides was circulated through the reaction tube. The flow rate of the processing gas was 1.5 L / min, and the space velocity (SV) was 60,000 h- 1 .
<Processed gas composition>
NO: 200ppm
NH 3 : 200ppm
O 2 : 10% by volume
H 2 O: 3 volumes%
Remaining: N 2
The nitrogen oxide concentration (ppm) in the processing gas after the catalyst flow was determined with respect to the nitrogen oxide concentration (200 ppm) in the processing gas distributed in the reaction tube, and the nitrogen oxide reduction rate was determined according to the following formula. ..
Nitrogen oxide reduction rate (%) = {1- (Nitrogen oxide concentration in the treated gas after contact / Nitrogen oxide concentration in the treated gas before contact)} x 100

表３より、水熱耐久処理前の２００℃以上の窒素酸化物還元率は比較例が実施例と同等であった。これより、本実施例のＣＨＡ型ゼオライトは、従来のＣＨＡ型ゼオライトと同程度の初期活性を有することが確認できた。しかしながら、実施例のＣＨＡ型ゼオライトは、比較例のＣＨＡ型ゼオライトよりもＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が低いにもかかわらず、いずれの温度における水熱耐久処理後の窒素酸化物還元率も、比較例よりも高くなり、低温、特に１５０℃以下における窒素酸化物還元率が顕著に高くなった。これより、本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、耐熱性が高く、高温高湿下に晒された後でも高い窒素酸化物還元特性を示す触媒となることが確認できた。 From Table 3, the nitrogen oxide reduction rate at 200 ° C. or higher before the hydrothermal endurance treatment was the same as that of the examples in the comparative example. From this, it was confirmed that the CHA-type zeolite of this example has the same initial activity as the conventional CHA-type zeolite. However, CHA-type zeolite of Example, although SiO 2 / Al 2 O 3 ratio is lower than CHA-type zeolite of Comparative Example, also nitrogen oxide reduction rate following hydrothermal aging at any temperature, It was higher than that of the comparative example, and the nitrogen oxide reduction rate was significantly higher at low temperatures, especially at 150 ° C. or lower. From this, it was confirmed that the CHA-type zeolite of the present invention is a catalyst having high heat resistance and exhibiting high nitrogen oxide reducing characteristics even after being exposed to high temperature and high humidity.

測定例３
実施例７乃至９の銅含有ＣＨＡ型ゼオライトを、それぞれ４時間の水熱耐久処理を施した。水熱耐久処理後の窒素酸化物還元特性の評価結果を表４に示す。 Measurement example 3
The copper-containing CHA-type zeolites of Examples 7 to 9 were each subjected to hydrothermal durability treatment for 4 hours. Table 4 shows the evaluation results of the nitrogen oxide reduction characteristics after the hydrothermal endurance treatment.

触媒活性を示す銅の含有量は、実施例７及び９と比べ、実施例８が少ない。しかしながら、表４より、実施例８の窒素酸化物還元率はいずれの温度でも高くなり、より低温において窒素酸化物還元率が高くなることが確認できた。 The content of copper exhibiting catalytic activity is less in Example 8 than in Examples 7 and 9. However, from Table 4, it was confirmed that the nitrogen oxide reduction rate of Example 8 was high at any temperature, and that the nitrogen oxide reduction rate was high at a lower temperature.

測定例４
実施例８及び比較例５の銅含有ゼオライトを使用したこと、処理温度を１５０℃としたこと、並びに、処理時間を１、４及び８時間のいずれかとしたこと以外は測定例２と同様な方法で水熱耐久処理を施した。水熱耐久処理前後の窒素酸化物還元特性の評価結果を表５に示す。 Measurement example 4
The same method as in Measurement Example 2 except that the copper-containing zeolites of Example 8 and Comparative Example 5 were used, the treatment temperature was set to 150 ° C., and the treatment time was set to any of 1, 4 and 8 hours. It was treated with water heat durability. Table 5 shows the evaluation results of the nitrogen oxide reduction characteristics before and after the hydrothermal endurance treatment.

実施例８のＣＨＡ型ゼオライトは、比較例５のＡＥＩ型ゼオライトと同程度のＰ／Ｔ比を有し、なおかつ、触媒活性種である銅含有量が少ない。それにも関わらず、実施例８のＣＨＡ型ゼオライトは、比較例５のＡＥＩ型ゼオライトと同等以上の窒素酸化物還元特性を示し、特に初期から水熱耐久処理４時間後の窒素酸化物還元率が比較例５のＡＥＩ型ゼオライトよりも高かった。従来のＣＨＡ型ゼオライトは、ＡＥＩ型ゼオライトよりも窒素酸化物還元特性、特に１５０℃以下における窒素酸化物還元特性が低いことが知られている。これより、本願発明のＣＨＡ型ゼオライトは従来ＣＨＡ型ゼオライトよりも高い窒素酸化物特性を有していることのみならず、ＡＥＩ型ゼオライトと同等以上の窒素酸化物還元特性を有することが確認できた。 The CHA-type zeolite of Example 8 has a P / T ratio similar to that of the AEI-type zeolite of Comparative Example 5, and has a low copper content as a catalytically active species. Nevertheless, the CHA-type zeolite of Example 8 exhibits nitrogen oxide reduction characteristics equal to or higher than those of the AEI-type zeolite of Comparative Example 5, and in particular, the nitrogen oxide reduction rate after 4 hours of hydrothermal endurance treatment from the initial stage is high. It was higher than the AEI zeolite of Comparative Example 5. It is known that the conventional CHA-type zeolite has lower nitrogen oxide reduction characteristics, particularly nitrogen oxide reduction characteristics at 150 ° C. or lower, than the AEI-type zeolite. From this, it was confirmed that the CHA-type zeolite of the present invention not only has higher nitrogen oxide characteristics than the conventional CHA-type zeolite, but also has nitrogen oxide reduction characteristics equal to or higher than those of the AEI-type zeolite. ..

本発明のＣＨＡ型ゼオライトは、例えば、アルコールやケトンからの低級オレフィン製造用触媒、クラッキング触媒、脱ろう触媒、異性化触媒、及び排気ガスからの窒素酸化物還元触媒及びこれらの触媒の基材として使用することできる。さらに、窒素酸化物還元触媒として使用することができる。 The CHA-type zeolite of the present invention can be used, for example, as a catalyst for producing lower olefins from alcohols and ketones, cracking catalysts, dewax catalysts, isomerization catalysts, nitrogen oxide reduction catalysts from exhaust gas, and base materials for these catalysts. Can be used. Furthermore, it can be used as a nitrogen oxide reduction catalyst.

Claims (12)

リンを細孔内に含み、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３比が１６以上５０以下であることを特徴とするＣＨＡ型ゼオライト。 A CHA-type zeolite containing phosphorus in pores and having a SiO 2 / Al 2 O 3 ratio of 16 or more and 50 or less. 骨格金属に対するリンのモル比が０．００１以上、０．０５以下である請求項１に記載のＣＨＡ型ゼオライト。 The CHA-type zeolite according to claim 1, wherein the molar ratio of phosphorus to the skeleton metal is 0.001 or more and 0.05 or less. アルミナに対するシリカのモル比が２０以上、３５以下である請求項１又は２に記載のＣＨＡ型ゼオライト。 The CHA-type zeolite according to claim 1 or 2 , wherein the molar ratio of silica to alumina is 20 or more and 35 or less. 結晶粒径が４μｍ以下である請求項１乃至３のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライト。 The CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 3 , wherein the crystal grain size is 4 μm or less. 銅又は鉄の少なくともいずれかを含む請求項１乃至４のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライト。 The CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 4 , which comprises at least one of copper and iron. シリカ源、アルミナ源、ホスホニウムカチオン源及びアンモニウムカチオン源を含む組成物を結晶化する結晶化工程、を有する、請求項１乃至５のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライトの製造方法。 The method for producing a CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 5 , which comprises a crystallization step of crystallizing a composition containing a silica source, an alumina source, a phosphonium cation source, and an ammonium cation source. 上記ホスホニウムカチオン源が、テトラエチルホスホニウム水酸化物、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムクロライド及びテトラエチルホスホニウムヨージドからなる群の少なくとも１種である請求項６に記載の製造方法。 The production method according to claim 6 , wherein the phosphonium cation source is at least one of the group consisting of tetraethylphosphonium hydroxide, tetraethylphosphonium bromide, tetraethylphosphonium chloride and tetraethylphosphonium iodide. 上記アンモニウムカチオン源が、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウム水酸化物、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムブロミド、トリメチル−１−アダマンタンアンモニウムクロライド及びトリメチル−１−アダマンタンアンモニウムヨージドからなる群の少なくとも１種である請求項６又は７に記載の製造方法。 Claimed that the ammonium cation source is at least one of the group consisting of trimethyl-1-adamantanammonium hydroxide, trimethyl-1-adamantanammonium bromide, trimethyl-1-adamantanammonium chloride and trimethyl-1-adamantanammonium iodide. the process according to claim 6 or 7. 上記シリカ源及びアルミナ源が結晶性アルミノシリケートである請求項６乃至８のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 6 to 8 , wherein the silica source and the alumina source are crystalline aluminosilicates. 上記シリカ源及びアルミナ源がＦＡＵ型ゼオライトである請求項６乃至９のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 6 to 9 , wherein the silica source and the alumina source are FAU-type zeolites. 請求項１乃至５のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライトを含む触媒。 A catalyst containing the CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 5 . 請求項１乃至５のいずれかに記載のＣＨＡ型ゼオライトを使用する窒素酸化物の還元方法。 The method for reducing nitrogen oxides using the CHA-type zeolite according to any one of claims 1 to 5 .
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